JP5637221B2 - 多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型及びその製造方法並びに多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型の離型材用窒化珪素粉末及びそれを含有したスラリー - Google Patents
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Description
まず、本発明に必要なシリコンジイミドを、四塩化珪素濃度が30vol%のトルエンの溶液を液体アンモニアと反応させ、液体アンモニアを用いて洗浄し、乾燥して調製した。
シリコンジイミドの熱分解法によって得られた平均短軸粒子径が0.22μmの窒化珪素粉末(宇部興産(株)SN−E10)を、大気雰囲気流通下、バッチ式電気炉で1075℃×3hr加熱処理を行うことによって酸素含有量7.5wt%の窒化珪素粉末(C1)を得た。また、0.65μmの窒化珪素粉末(宇部興産(株)SN−E03)を、大気雰囲気下、バッチ式電気炉で950℃×3hr加熱処理を行うことによって酸素含有量3.1wt%の窒化珪素粉末(C2)を得た。酸素濃度はLECO社製TC−136型酸素窒素同時分析装置を用いて測定した。この窒化珪素粉末(C1)または(C2)10gと蒸留水40gおよび10φmm窒化珪素ボール100gを、100ccのポリエチレン製の瓶に入れ密栓し、振幅5mm、振動数1780spmの振動ミル上に固定して、5分間混合することで20wt%水スラリーを調製した。
前記シリコンジイミド粉末を、粉末1kg当たり70リッター/時の空気−窒素混合ガス(混合ガスの酸素濃度は0.001〜2vol%)下、400〜700℃で加熱分解して窒化珪素粉末(D)を調製するための非晶質窒化珪素粉末を得た。この非晶質窒化珪素粉末を、金属球をナイロンでコーティングした材質のボールを充填した連続式振動ミルを用いて壊砕後、炭素製の坩堝に入れて、室温から1100℃までを4時間、1100℃から1250℃までを10〜50℃/hr、1250℃から1550℃まで4時間で昇温し、1550℃で1時間保持後、冷却した後に取り出し、金属球をナイロンでコーティングした材質のボール、または窒化珪素焼結体製のボールを充填した連続式振動ミルを用いて凝集の軽壊砕を行ない、平均短軸粒子径が0.66〜12.9μmであり、酸素含有量が0.20〜2.1wt%の窒化珪素粉末(D)を得た。
2 粗大な窒化珪素粒子
3 微細な窒化珪素粒子
Claims (5)
- 平均短軸粒子径が0.6〜13μmであり酸素含有量が0.3〜1.0wt%である窒化珪素粉末(A)と、平均短軸粒子径が0.1〜0.3μmであり酸素含有量が1.3〜20wt%である窒化珪素粉末(B)とを、重量割合で5:5〜9:1に配合した窒化珪素粉末を水に混合してスラリーを形成するスラリー形成工程と、
該スラリーを鋳型表面に塗布するスラリー塗布工程と、
該スラリー塗布工程後、酸素を含む雰囲気下400〜800℃で、鋳型を加熱する加熱工程と、
を備えることを特徴とする離型層を有する多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型の製造方法。 - 前記鋳型表面に塗布されたスラリーの水分を鋳型内に浸透させる水分浸透工程を更に備え、
前記加熱工程は、該水分浸透工程後に行なうことを特徴とする請求項2記載の離型層を有する多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型の製造方法。 - 平均短軸粒子径が0.6〜13μmであり酸素含有量が0.3〜1.0wt%である窒化珪素粉末(A)と、平均短軸粒子径が0.1〜0.3μmであり酸素含有量が1.3〜20wt%である窒化珪素粉末(B)とが重量割合5:5〜9:1で含まれていることを特徴とする多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型の離型材用窒化珪素粉末。
- 請求項3記載の窒化珪素粉末を水に混合させることを特徴とする多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型の離型材用窒化珪素粉末含有スラリー。
- 請求項3記載の窒化珪素粉末を用いて離型層が鋳型内面に形成されたことを特徴とする多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012550748A JP5637221B2 (ja) | 2010-12-28 | 2011-07-27 | 多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型及びその製造方法並びに多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型の離型材用窒化珪素粉末及びそれを含有したスラリー |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010293061 | 2010-12-28 | ||
JP2010293061 | 2010-12-28 | ||
PCT/JP2011/067108 WO2012090542A1 (ja) | 2010-12-28 | 2011-07-27 | 多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型及びその製造方法並びに多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型の離型材用窒化珪素粉末及びそれを含有したスラリー |
JP2012550748A JP5637221B2 (ja) | 2010-12-28 | 2011-07-27 | 多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型及びその製造方法並びに多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型の離型材用窒化珪素粉末及びそれを含有したスラリー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012090542A1 JPWO2012090542A1 (ja) | 2014-06-05 |
JP5637221B2 true JP5637221B2 (ja) | 2014-12-10 |
Family
ID=46382667
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012550748A Expired - Fee Related JP5637221B2 (ja) | 2010-12-28 | 2011-07-27 | 多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型及びその製造方法並びに多結晶シリコンインゴット鋳造用鋳型の離型材用窒化珪素粉末及びそれを含有したスラリー |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8973888B2 (ja) |
EP (1) | EP2660200B1 (ja) |
JP (1) | JP5637221B2 (ja) |
KR (1) | KR20130133822A (ja) |
CN (1) | CN103347814B (ja) |
SG (1) | SG191391A1 (ja) |
WO (1) | WO2012090542A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG11201510759WA (en) * | 2013-07-11 | 2016-02-26 | Ube Industries | Silicon nitride powder for mold release agent of casting mold for casting polycrystalline silicon ingot and method for manufacturing said silicon nitride powder, slurry containing said silicon nitride powder, casting mold for casting polycrystalline silicon ingot and method for manufacturing same, and method for manufacturing polycrystalline silicon ingot using said casting mold |
JP6179288B2 (ja) * | 2013-09-10 | 2017-08-16 | 宇部興産株式会社 | 窒化ケイ素粉末の製造方法 |
WO2015122388A1 (ja) * | 2014-02-12 | 2015-08-20 | 宇部興産株式会社 | スラリー用窒化珪素粉末とその製造方法、離型材用窒化珪素粉末スラリーとその製造方法、離型材用窒化珪素粉末、離型材、および多結晶シリコン鋳造用鋳型とその製造方法 |
WO2018003386A1 (ja) * | 2016-06-29 | 2018-01-04 | 株式会社クリスタルシステム | 単結晶製造装置および単結晶製造方法 |
KR102655038B1 (ko) * | 2016-10-14 | 2024-04-05 | 오씨아이 주식회사 | 실리카 도가니 내벽에 질화규소를 코팅하는 방법 |
JP6607652B1 (ja) | 2018-03-29 | 2019-11-20 | 株式会社クリスタルシステム | 単結晶製造装置 |
CN109179347A (zh) * | 2018-09-28 | 2019-01-11 | 镇江环太硅科技有限公司 | 一种氮化硅粉回收再利用的方法 |
CN109550623B (zh) * | 2018-12-29 | 2021-01-22 | 中材江苏太阳能新材料有限公司 | 一种提高多晶硅铸锭用坩埚内表面粗糙度的方法 |
WO2020241739A1 (ja) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | 国立大学法人大阪大学 | 接合構造体の製造方法、及び接合構造体 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5001091A (en) * | 1987-11-02 | 1991-03-19 | Norton Company | Readily moldable or castable ceramic powders |
US5047186A (en) * | 1989-12-28 | 1991-09-10 | Gte Laboratories Incorporated | Process for producing silicon nitride based articles of high fracture toughness and strength |
JPH0699192B2 (ja) * | 1990-04-09 | 1994-12-07 | 科学技術庁無機材質研究所長 | 高靭性窒化けい素焼結体の製造法 |
JP2907367B2 (ja) | 1993-05-18 | 1999-06-21 | 宇部興産株式会社 | 結晶質窒化珪素粉末の製造法 |
JP2907366B2 (ja) | 1993-05-18 | 1999-06-21 | 宇部興産株式会社 | 結晶質窒化珪素粉末の製造法 |
US5571760A (en) * | 1993-08-27 | 1996-11-05 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corporation | Silicon nitride having a high tensile strength |
US5759481A (en) * | 1994-10-18 | 1998-06-02 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. | Silicon nitride having a high tensile strength |
JP3282456B2 (ja) | 1995-07-27 | 2002-05-13 | 宇部興産株式会社 | 窒化珪素粉末及びその製造方法 |
JP3450109B2 (ja) * | 1995-12-27 | 2003-09-22 | 京セラ株式会社 | シリコンの鋳造法 |
WO1998035075A1 (de) * | 1997-02-06 | 1998-08-13 | Bayer Aktiengesellschaft | Mit siliciumschutzschichten versehene schmelztiegel, ein verfahren zum aufbringen der siliciumschutzschicht und deren verwendung |
JP3900589B2 (ja) * | 1997-05-16 | 2007-04-04 | 宇部興産株式会社 | 珪窒化マグネシウム粉末及びその製造方法 |
JP3931322B2 (ja) | 2000-01-11 | 2007-06-13 | 三菱マテリアル株式会社 | シリコンインゴット鋳造用鋳型およびその製造方法 |
JP3565425B2 (ja) * | 2000-09-20 | 2004-09-15 | 日立金属株式会社 | 窒化ケイ素質粉末の製造方法および窒化ケイ素質焼結体の製造方法 |
DE10146227B4 (de) * | 2000-09-20 | 2015-01-29 | Hitachi Metals, Ltd. | Siliciumnitrid-Sinterkörper, Leiterplatte und thermoelektrisches Modul |
JP2004091243A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Kyocera Corp | 窒化珪素質焼結体の製造方法および窒化珪素質焼結体 |
JP2004202813A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Hitachi Metals Ltd | 櫛歯状通路を有するセラミック焼結体の製造方法 |
JP4116914B2 (ja) * | 2003-03-27 | 2008-07-09 | 京セラ株式会社 | シリコン鋳造用鋳型の製造方法、シリコンインゴットの製造方法 |
JP4328161B2 (ja) | 2003-09-24 | 2009-09-09 | 京セラ株式会社 | シリコン鋳造用鋳型 |
JP4089974B2 (ja) * | 2004-04-27 | 2008-05-28 | 日立金属株式会社 | 窒化ケイ素質粉末、窒化ケイ素質焼結体及びこれを用いた電子部品用回路基板 |
TWI400369B (zh) * | 2005-10-06 | 2013-07-01 | Vesuvius Crucible Co | 用於矽結晶的坩堝及其製造方法 |
JP2007261832A (ja) | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Sumco Solar Corp | 窒化珪素離型材粉末、離型材の作製方法及び焼成方法 |
JP5153636B2 (ja) * | 2006-08-30 | 2013-02-27 | 京セラ株式会社 | シリコンインゴット製造用鋳型の形成方法、太陽電池素子用基板の製造方法、および太陽電池素子の製造方法 |
DE102007053284A1 (de) * | 2007-11-08 | 2009-05-20 | Esk Ceramics Gmbh & Co. Kg | Fest haftende siliciumnitridhaltige Trennschicht |
EP2116637A3 (en) * | 2008-05-07 | 2012-03-21 | Covalent Materials Corporation | Crucible for melting silicon and release agent used to the same |
-
2011
- 2011-07-27 JP JP2012550748A patent/JP5637221B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-07-27 SG SG2013050042A patent/SG191391A1/en unknown
- 2011-07-27 CN CN201180062815.7A patent/CN103347814B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-07-27 EP EP11853695.2A patent/EP2660200B1/en not_active Not-in-force
- 2011-07-27 WO PCT/JP2011/067108 patent/WO2012090542A1/ja active Application Filing
- 2011-07-27 KR KR1020137020023A patent/KR20130133822A/ko not_active Application Discontinuation
-
2013
- 2013-06-26 US US13/927,716 patent/US8973888B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103347814B (zh) | 2015-07-15 |
CN103347814A (zh) | 2013-10-09 |
WO2012090542A1 (ja) | 2012-07-05 |
US20140158858A1 (en) | 2014-06-12 |
KR20130133822A (ko) | 2013-12-09 |
JPWO2012090542A1 (ja) | 2014-06-05 |
EP2660200A4 (en) | 2014-10-29 |
EP2660200B1 (en) | 2018-07-18 |
US8973888B2 (en) | 2015-03-10 |
SG191391A1 (en) | 2013-08-30 |
EP2660200A1 (en) | 2013-11-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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