JP5614401B2 - プロピレンの製造方法 - Google Patents
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Description
そこで、エチレンだけを原料として高収率でプロピレンを製造する技術が望まれていた。
すなわち、本発明の要旨は、下記に存する。
<1>
エチレンと触媒とを接触させる工程を含み、
前記触媒の活性成分としてゼオライトを含み、
前記ゼオライトの骨格構造がCHA型構造であり、
前記ゼオライトの外表面の酸量が、ゼオライト全体の酸量に対して5%以下であることを特徴とするプロピレンの製造方法。
<2>
前記ゼオライトの外表面の酸量が、下記(I)により定義されるピリジン脱離量で表されることを特徴とする上記<1>に記載のプロピレンの製造方法。
(I)前処理としてゼオライトを真空下500℃で1時間乾燥させた後、前処理したゼオライトを150℃でピリジン蒸気と接触させてゼオライトにピリジンを吸着させ、150℃で減圧排気及びヘリウムフローにより該ゼオライトから余剰ピリジンを除いて得られた、ピリジンを吸着したゼオライトの、昇温速度10℃/分の昇温脱離法による150〜800℃におけるゼオライト単位重量当たりのピリジンの脱離量。
<3>
前記ゼオライトの全体の酸量が、下記(II)により定義されるアンモニア脱離量で表されることを特徴とする上記<1>又は<2>に記載のプロピレンの製造方法。
(II)前処理としてゼオライトをヘリウムフロー下500℃で1時間乾燥させた後、前処理したゼオライトを100℃で5体積%アンモニア/ヘリウムと接触させてゼオライトにアンモニアを吸着させ、得られたゼオライトを100℃で水蒸気と接触させ該ゼオライトから余剰アンモニアを除いて得られた、アンモニアを吸着したゼオライトの、昇温速度10℃/分の昇温脱離法による100〜800℃におけるゼオライト単位重量当たりのアンモニアの脱離量。
<4>
前記ゼオライトの外表面がシリル化されていることを特徴とする上記<1>から<3>のいずれか1に記載のプロピレンの製造方法。
<5>
前記ゼオライトが水蒸気処理されていることを特徴とする上記<1>から<3>のいずれか1に記載のプロピレンの製造方法。
<6>
前記水蒸気処理の温度が400〜700℃であることを特徴とする上記<5>に記載のプロピレンの製造方法。
<7>
前記ゼオライトがアルカリ土類金属を含む化合物と混合後に水蒸気処理されていることを特徴とする上記<5>又は<6>に記載のプロピレンの製造方法。
<8>
上記<1>から<7>のいずれか1に記載の製造方法により得られたプロピレンを重合する工程を含むことを特徴とするポリプロピレンの製造方法。
<9>
CHA型構造の骨格構造を有し、外表面の酸量が、全体の酸量に対して5%以下であり、シリル化された外表面を有することを特徴とするゼオライト。
<10>
アルミノシリケートである上記<9>に記載のゼオライト。
<11>
上記<9>または<10>に記載のゼオライトを含む触媒。
<12>
上記<9>または<10>に記載のゼオライトを含むオレフィン製造用触媒。
以下、本発明における構成成分について説明する。
まず本発明に使用する触媒について説明する。本発明で用いる触媒は、ゼオライトを触媒活性成分として含むものであり、ゼオライトを触媒活性成分とするものが好ましい。
<ゼオライト>
ゼオライトとは四面体構造をもつTO4単位(Tは中心原子)がO原子を共有して三次元的に連結し、開かれた規則的なミクロ細孔を形成している結晶性物質を指す。具体的には国際ゼオライト学会(International Zeolite Association, (IZA))の構造委員会データ集に記載のあるケイ酸塩、リン酸塩、ゲルマニウム塩、およびヒ酸塩が含まれる。
本発明におけるゼオライトの外表面の酸量(以下、単に外表面酸量ということがある。)とは、ゼオライトの外表面に存在する酸点の総量を表す。
外表面酸量は、ゼオライトの酸点に選択的に吸着させることができ、且つゼオライトの細孔内部に入ることができない物質を、ゼオライトに吸着させ、その吸着量を定量することにより測定することができる。前記の物質は、特に限定されるものではないが、具体的にはピリジンを用いることができる。
ピリジン吸着量の定量方法は特に限定されないが、通常以下の手順により測定することができる。前処理としてゼオライトを乾燥させた後、ピリジン蒸気と接触吸着させる。引き続き余剰ピリジンを除き、ピリジンを吸着させたゼオライトを得る。前記ピリジンを吸着させたゼオライトの、単位重量当たりのピリジンの脱離量を、昇温脱離法(以下「TPD」とも称する)により測定し、外表面酸量を求めることができる。
ゼオライトの全体の酸量は、ゼオライトの酸点に選択的に吸着させることができ且つ細孔内部にも入ることができる物質を、ゼオライトに吸着させ、その吸着量を定量することにより測定することができる。前記の物質は、特に限定されるものではないが、具体的には、アンモニアを用いることができる。
本発明で用いるゼオライトは通常、細孔(チャネル)を有する。
本発明で用いるゼオライトの細孔径は、特に限定されるものではないが、小さい方が好ましく、通常細孔径の長さが0.5nm未満であり、好ましくは0.4nm以下である。
ゼオライトの細孔径の長さが前記上限以上では、プロピレン以外の副生成物(ブテン、ペンテン等)が多くなるという不都合が生じ、エチレンから高い選択率でプロピレンを製造することはできない場合がある。
ここで言う細孔径とは、International Zeolite Association(IZA)が定める結晶学的なチャネル直径(Crystallographic free diameter of the channels)を示す。細孔径が0.5nm未満とは、細孔(チャネル)の形状が真円形の場合は、その直径が0.5nm未満であることを意味し、細孔の形状が楕円形の場合は、短径が0.5nm未満であることを意味する。
細孔径が前記下限未満ではエチレンもプロピレンも通り抜けられなくなり、エチレンと活性点との作用が起こりにくくなり反応速度が低下する場合が考えられる。
酸素8員環構造または9員環構造とは、ゼオライトのもつ細孔がTO4単位(TはSi、P、Ge、Al、Ga等)8個または9個からなる環構造を意味する。酸素8員環構造または酸素9員環構造であれば、好ましい細孔径となり、高いプロピレン選択率が得られる。
なかでも細孔が酸素の8員環のみで構成されているゼオライトが好ましい。
酸素9員環を含みかつ酸素9員環以下の細孔だけを有するゼオライトとしては、具体的にInternational Zeolite Association(IZA)が規定するコードで表すと、NAT、RSN、STT等が挙げられる。
ここでフレームワーク密度(単位:T/nm3)とは、ゼオライトの単位体積(1nm3)当たりに存在するT原子(ゼオライトの骨格を構成する原子のうち、酸素以外の原子)の個数を意味し、この値はゼオライトの構造により決まるものである。
本発明のゼオライトの製造方法は、特に限定はなく、例えば米国特許第4544538号明細書に記載の製造方法のような公知の方法で製造することができる。一般的に水熱合成法により調製することが可能である。また水熱合成後にイオン交換、脱アルミニウム処理、含浸等で組成を変えたものも使用できる。
本発明において用いられるゼオライトは、ゼオライトの外表面の酸量が、ゼオライト全体の酸量に対して5%以下のゼオライトであり、通常ゼオライトの外表面酸量の割合を低下させて得ることができる。
全体酸量に対する外表面酸量の割合を低下させる方法としては、特に限定はないが、1)ゼオライトの外表面をシリル化する方法、2)ゼオライトに水蒸気処理(スチーミング)を行う方法、3)ゼオライトをジカルボン酸で処理する方法が挙げられる。
ゼオライトの外表面をシリル化する方法とは、触媒の活性成分のゼオライトに対して外表面のシリル化を行うことにより、外表面酸量を低下させる方法である。シリル化の方法は特に限定されるものではなく、公知の方法を適宜用いることができ、具体的にはアルコキシシランを用いた液相シリル化、またはクロロシランを用いた気相シリル化等で行うことができる。
気相シリル化の温度はシリル化剤によって適宜調整することができ、限定されるものではないが、通常20℃以上、好ましくは100℃以上である。また通常500℃以下で好ましくは400℃以下である。前記上限超過ではシリル化剤の分解、ゼオライトの骨格の崩壊等が起こる場合があり、前記下限未満ではシリル化反応が進行しない場合がある。
ゼオライトにスチーミングを行う方法は、特に限定はないが、スチーミング温度は通常400℃以上であり、好ましくは500℃以上である。又、通常700℃以下であり、好ましくは650℃以下である。前記下限未満ではスチーミングの効果が小さく、前記上限超過ではゼオライトの構造崩壊が起こる場合がある。
スチームはヘリウム、窒素等の不活性ガスで希釈して使用することもできる。スチーム濃度は特に限定されないが通常3体積%以上、好ましくは5体積%以上であり、上限はなく100%水蒸気で処理が可能である。
アルカリ土類金属を含む化合物の量はゼオライトに対して0.5重量%から45重量%が好ましい。さらに好ましくは3重量%から40重量%である。
又、スチーミングは、外表面の酸量を脱アルミニウムにより選択的に低減する目的で細孔内部に有機物が存在している状態で行ってもよい。有機物とは、特に限定はないが、ゼオライト合成時に使用する構造規定剤、及び反応によって生成するコークが挙げられる。これらの有機物のうち、構造規定剤は合成された状態でゼオライトの細孔内に存在している。また、コークは炭化水素を200℃以上の温度で触媒に流通させるといった方法で、細孔内部に存在させることができる。
ゼオライトをジカルボン酸で処理する方法としては、本願目的を達成する範囲においては特に限定はされない。ジカルボン酸は、ゼオライトの脱アルミニウムなど骨格中の金属の骨格からの脱離を促進することで、酸量を低減させると考えられるが、分子の大きさがゼオライト細孔に比較して大きいため、細孔に入り込むことが出来ず、外表面の酸量を選択的に低減することができる。
ジカルボン酸としてはシュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、フタル酸、イソフタル酸、フマル酸、酒石酸などが挙げられ、これらを混合して使用してもよい。この中ではシュウ酸が好ましい。
また、ジカルボン酸の処理は、外表面の酸量を脱アルミニウムにより選択的に低減する目的で細孔内部に有機物が存在している状態で行ってもよい。有機物とは、特に限定はないが、ゼオライト合成時に使用する構造規定剤、及び反応によって生成するコークが挙げられる。これらの有機物のうち、構造規定剤は合成された状態でゼオライトの細孔内に存在している。また、コークは炭化水素を200℃以上の温度で触媒に流通させるといった方法で、細孔内部に存在させることができる。
(1)反応方法
<反応原料>
原料となるエチレンは特に限定されるものではない。例えば、石油供給源から接触分解法または蒸気分解法等により製造されるエチレン、石炭のガス化により得られる水素/CO混合ガスを原料としてフィッシャートロプシュ合成を行うことにより得られるエチレン、エタンの脱水素または酸化脱水素で得られたものプロピレンのメタセシス反応およびホモロゲーション反応により得られるエチレン、MTO(Methanol to Olefin)反応によって得られるエチレン、エタノールの脱水反応から得られるエチレン、メタンの酸化カップリングで得られるエチレン等、公知の各種方法により得られるエチレンを任意に用いることができる。このとき各種製造方法に起因するエチレン以外の化合物を任意に混合した状態のものをそのまま用いてもよいし、精製したエチレンを用いてもよいが、好ましくは精製したエチレンである。
リサイクルするオレフィンとしては、通常エチレンだが、その他のオレフィンをリサイクルしても良い。原料となるオレフィンは低級オレフィンが好ましく、分岐鎖オレフィンはその分子の大きさからゼオライト細孔内への進入が困難であるため好ましくない。オレフィンとしては好ましくはエチレン、直鎖ブテンであり、最も好ましくはエチレンである。
本発明のエチレンは、反応器中で触媒と接触させ、プロピレンを製造することが好ましい。用いる反応器の形態に特に制限はないが、通常連続式の固定床反応器や流動床反応器が選ばれる。好ましくは流動床反応器である。
なお、流動床反応器に前述の触媒を充填する際、触媒層の温度分布を小さく抑えるために、石英砂、アルミナ、シリカ、シリカ−アルミナ等の、反応に不活性な粒状物を、触媒と混合して充填しても良い。この場合、石英砂等の反応に不活性な粒状物の使用量は特に制限はない。なお、この粒状物は、触媒との均一混合性の面から、触媒と同程度の粒径であることが好ましい。
反応器内には、エチレンの他に、ヘリウム、アルゴン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、水素、水、パラフィン類、メタン等の炭化水素類、芳香族化合物類、および、それらの混合物など、反応に不活性な気体を存在させることができるが、この中でも水(水蒸気)が共存しているのが好ましい。
<基質濃度>
反応器に供給する全供給成分中のエチレンの濃度(即ち、基質濃度)に関して特に制限はないが、通常エチレンは全供給成分中、90モル%以下である。好ましくは70モル%以下である。また通常5モル%以上である。基質濃度が前記上限超過では、芳香族化合物やパラフィン類の生成が顕著になり、プロピレンの選択率が低下する傾向がある。基質濃度が前記下限未満では、反応速度が遅くなるため、多量の触媒が必要となり、反応器が大きくなりすぎる傾向がある。
従って、このような基質濃度となるように、必要に応じて以下に記載する希釈剤でエチレンを希釈することが好ましい。
ここで言う空間速度とは、触媒(触媒活性成分)の重量当たりの反応原料であるエチレンの流量(重量/時間)である。ここで触媒の重量とは触媒の造粒・成型に使用する不活性成分やバインダーを含まない触媒活性成分の重量である。
反応温度は、エチレンが触媒と接触してプロピレンが製造されれば特に制限されるものではないが、通常約200℃以上、好ましくは300℃以上であり、通常700℃以下、好ましくは600℃以下である。反応温度が前記下限未満では、反応速度が低く、未反応原料が多く残る傾向となり、さらにプロピレンの収率も低下する傾向がある。一方で反応温度が前記上限超過ではプロピレンの収率が著しく低下する場合がある。
反応圧力は特に制限されるものではないが、通常2MPa(絶対圧、以下同様)以下、好ましくは1MPa以下であり、より好ましくは0.7MPa以下である。また、通常1kPa以上、好ましくは50kPa以上である。反応圧力が前記上限超過ではパラフィン類等の好ましくない副生成物の生成量が増え、プロピレンの選択率が低下する傾向がある。反応圧力が前記下限未満では反応速度が遅くなる傾向がある。
本発明においては、転化率は特に制限されるものではないが、通常エチレンの転化率が20%以上、好ましくは40%以上、より好ましくは50%以上、また通常95%以下、好ましくは90%以下となるような条件で反応を行うことが好ましい。
この転化率が前記下限値未満では、未反応のエチレンが多く、プロピレン収率が低いため好ましくないことがある。一方、前記上限値以上では、パラフィン類等の望ましくない副生成物が増え、プロピレン選択率が低下するため好ましくないことがある。
流動床反応器で反応を行う場合には、触媒の反応器内の滞留時間と再生器内での滞留時間を調整することにより、好ましい転化率で運転することができる。
なお、転化率は次の式により算出される値である。
エチレン転化率(%)=〔[反応器入口エチレン(mol)−反応器出口エチレン(mol)]/反応器入口エチレン(mol)〕×100
本明細における選択率とは、以下の各式により算出される値である。下記の各式において、プロピレン、ブテン、C5+、パラフィンまたは芳香族化合物由来カーボン(mol)とは、各成分を構成する炭素原子のモル数を意味する。尚、パラフィンは炭素数1から3のパラフィンの合計、芳香族化合物はベンゼン、トルエン、キシレンの合計、C5+は前記芳香族化合物を除いたC5以上の炭化水素の合計値である。
プロピレン選択率(%)=〔反応器出口プロピレン由来カーボン(mol)/[反応器出口総カーボン(mol)−反応器出口エチレン由来カーボン(mol)]〕×100
ブテン選択率(%)=〔反応器出口ブテン由来カーボン(mol)/[反応器出口総カーボン(mol)−反応器出口エチレン由来カーボン(mol)]〕×100
C5+選択率(%)=〔反応器出口C5+由来カーボン(mol)/[反応器出口総カーボン(mol)−反応器出口エチレン由来カーボン(mol)]〕×100
パラフィン選択率(%)=〔反応器出口パラフィン由来カーボン(mol)/[反応器出口総カーボン(mol)−反応器出口エチレン由来カーボン(mol)]〕×100
芳香族化合物選択率(%)=〔反応器出口芳香族化合物由来カーボン(mol)/[反応器出口総カーボン(mol)−反応器出口エチレン由来カーボン(mol)]〕×100
なお本明細における収率とは、前記エチレン転化率と、生成した各成分の選択率との積により求められ、例えば具体的にプロピレン収率は、次の式で表される値である。
プロピレン収率(%)=(エチレン転化率(%)×プロピレン選択率(%))/100
反応器出口ガス(反応器流出物)としては、反応生成物であるプロピレン、未反応のエチレン、副生成物および希釈剤を含む混合ガスが得られる。該混合ガス中のプロピレン濃度は通常1重量%以上、好ましくは2重量%以上であり、通常95重量%以下、好ましくは80重量%以下である。
この混合ガス中には通常エチレンが含まれるが、この混合ガス中のエチレンはその少なくとも一部を反応器にリサイクルして反応原料として再利用することが好ましい。
なお、副生成物としては炭素数が4以上のオレフィン類およびパラフィン類が挙げられる。
(調製例1)
CHA構造を有するプロトン型のアルミノシリケート(SiO2/Al2O3=37(モル比)、細孔径0.38nm)に対してテトラエトキシシランでシリル化を行った。アルミノシリケート1gに対して、溶媒のヘキサメチルジシロキサン10ml、シリル化剤のテトラエトキシシラン5mlを加えて100℃で撹拌条件下、6時間のリフラックス処理を行った。処理後、濾過によって固液を分離し、得られたアルミノシリケートを100℃で2時間乾燥した。
CHA構造を有するプロトン型のアルミノシリケート(SiO2/Al2O3=37(モル比)、細孔径0.38nm)に対してジメトキシジメチルシランでシリル化を行った。アルミノシリケート1gに対して、溶媒のヘキサメチルジシロキサン10ml、シリル化剤のジメトキシジメチルシラン5mlを加えて100℃で撹拌条件下、6時間のリフラックス処理を行った。処理後、濾過によって固液を分離し、得られたアルミノシリケートを100℃で2時間乾燥した。
CHA構造を有するプロトン型のアルミノシリケート(SiO2/Al2O3=37(モル比)、細孔径0.38nm)に対してスチーミングを行った。アルミノシリケートに対して600℃で30体積%のスチーム及び70体積%の窒素の組成のガスを6時間流通させた。
CHA構造を有するプロトン型のアルミノシリケート(SiO2/Al2O3=37(モル比)、細孔径0.38nm)と炭酸カルシウムを物理混合してスチーミングを行った。炭酸カルシウムはゼオライトに対して36重量%の比率で混合した。アルミノシリケートと炭酸カルシウムの物理混合物に600℃で30体積%のスチーム及び70体積%の窒素の組成のガスを6時間流通させた。
調製例1〜4との比較として、未処理の触媒CHA構造を有するプロトン型のアルミノシリケート(SiO2/Al2O3=37(モル比)、細孔径0.38nm)を用意した。
<酸量測定>
調製例1〜5のアルミノシリケートについて、全体酸量、外表面酸量をそれぞれ、NH3−TPD、Pyridine−TPDにて測定した。測定には日本ベル社製 自動昇温脱離分析装置TP5500を用い、以下の通りに行った。
(全体酸量)
試料のアルミノシリケート30〜50mgを、ヘリウム雰囲気下500℃で1時間放置乾燥して有機物、水などの吸着物を脱離させた。その後、100℃にて5体積%アンモニア/ヘリウム下で15分間保持し、試料にアンモニアを吸着させた。引き続き100℃で水蒸気に接触させて余剰アンモニアを除き、アンモニアを吸着させたアルミノシリケートを得た。次いでアンモニアを吸着させたアルミノシリケートを、ヘリウム雰囲気下、10℃/分で昇温して、100〜800℃で脱離したアンモニア量を質量分析法によって検出した。単位重量当たりのアンモニア脱離量をアルミノシリケート試料の全体酸量として表1に示した。
(外表面酸量)
試料のアルミノシリケート30mgを、真空下500℃で1時間放置乾燥して有機物、水などの吸着物を脱離させた。その後、150℃にて100%ピリジン蒸気下で15分間保持し、試料にピリジンを吸着させた。引き続き、減圧排気及びヘリウムフローで(ゼオライトの酸点に吸着させたピリジンが脱離しない程度の減圧条件下で排気しながら、かつヘリウムを流通しながら)余剰ピリジンを除き、ピリジンを吸着させたアルミノシリケートを得た。次いでピリジンを吸着させたアルミノシリケートを、ヘリウム雰囲気下、10℃/分で昇温して、150〜800℃で脱離したピリジンの量を質量分析法によって検出した。単位重量当たりのピリジン脱離量をアルミノシリケート試料の外表面酸量として表1に示した。また、全体酸量に対する、外表面酸量の割合を表1に示した。
(実施例1〜4、比較例1)
反応には、常圧固定床流通反応装置を用い、内径6mmの石英製反応管に、調製例1から5のアルミノシリケート100mgと石英砂400mgの混合物を充填した。エチレン30体積%、窒素70体積%の混合ガスをエチレンの重量空間速度が0.73Hr−1なるように反応器に供給し、400℃、0.1MPaで反応を行った。反応開始後、未修飾触媒(比較例1)は2.75時間後、修飾触媒(実施例1〜4)は1.92時間後にガスクロマトグラフィーで生成物の分析を行った。結果を表1に示した。
反応には、常圧固定床流通反応装置を用い、内径6mmの石英製反応管に、調製例1のアルミノシリケート100mgと石英砂400mgの混合物を充填した。エチレン30体積%、窒素70体積%の混合ガスをエチレンの重量空間速度が0.36Hr−1なるように反応器に供給し、350℃、0.1MPaで反応を行った。反応開始後、1.92時間後および3.17時間後にガスクロマトグラフィーで生成物の分析を行った。結果を表1に示した。
また、表1の結果より、実施例5及び6の触媒は、50%以上の高いエチレン転化率にも関わらず、80%以上の高いプロピレン選択率が得られることが分かる。
Claims (12)
- エチレンと触媒とを接触させる工程を含み、
前記触媒の活性成分としてゼオライトを含み、
前記ゼオライトの骨格構造がCHA型構造であり、
前記ゼオライトの外表面の酸量が、ゼオライト全体の酸量に対して5%以下であることを特徴とするプロピレンの製造方法。 - 前記ゼオライトの外表面の酸量が、下記(I)により定義されるピリジン脱離量で表されることを特徴とする請求項1に記載のプロピレンの製造方法。
(I)前処理としてゼオライトを真空下500℃で1時間乾燥させた後、前処理したゼオライトを150℃でピリジン蒸気と接触させてゼオライトにピリジンを吸着させ、150℃で減圧排気及びヘリウムフローにより該ゼオライトから余剰ピリジンを除いて得られた、ピリジンを吸着したゼオライトの、昇温速度10℃/分の昇温脱離法による150〜800℃におけるゼオライト単位重量当たりのピリジンの脱離量。 - 前記ゼオライトの全体の酸量が、下記(II)により定義されるアンモニア脱離量で表されることを特徴とする請求項1又は2に記載のプロピレンの製造方法。
(II)前処理としてゼオライトをヘリウムフロー下500℃で1時間乾燥させた後、前処理したゼオライトを100℃で5体積%アンモニア/ヘリウムと接触させてゼオライトにアンモニアを吸着させ、得られたゼオライトを100℃で水蒸気と接触させ該ゼオライトから余剰アンモニアを除いて得られた、アンモニアを吸着したゼオライトの、昇温速度10℃/分の昇温脱離法による100〜800℃におけるゼオライト単位重量当たりのアンモニアの脱離量。 - 前記ゼオライトの外表面がシリル化されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のプロピレンの製造方法。
- 前記ゼオライトが水蒸気処理されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のプロピレンの製造方法。
- 前記水蒸気処理の温度が400〜700℃であることを特徴とする請求項5に記載のプロピレンの製造方法。
- 前記ゼオライトがアルカリ土類金属を含む化合物と混合後に水蒸気処理されていることを特徴とする請求項5又は6に記載のプロピレンの製造方法。
- 請求項1から7のいずれか1項に記載の製造方法により得られたプロピレンを重合する工程を含むことを特徴とするポリプロピレンの製造方法。
- CHA型構造の骨格構造を有し、外表面の酸量が、全体の酸量に対して5%以下であり、シリル化された外表面を有することを特徴とするゼオライト。
- アルミノシリケートである請求項9に記載のゼオライト。
- 請求項9又は10に記載のゼオライトを含む触媒。
- 請求項9又は10に記載のゼオライトを含むオレフィン製造用触媒。
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