JP5587314B2 - 含フッ素化合物、含フッ素界面活性剤およびその組成物 - Google Patents
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Description
本発明は、含フッ素化合物、含フッ素界面活性剤およびその組成物に関する。
界面活性剤は組成物として配合することにより、界面に集まることで表面張力を低下させ、これにより、その組成物の塗り広げ易さ、浸透性を向上させることができる。
従来、フッ素系界面活性剤の表面張力低下能力は、対応構造の炭化水素系界面活性剤あるいはシリコーン系界面活性剤よりも優れていることが知られている。このため、フッ素系界面活性剤は、広範な分野で使用されてきた（特許文献１〜３等参照）。
従来、フッ素系界面活性剤の表面張力低下能力は、対応構造の炭化水素系界面活性剤あるいはシリコーン系界面活性剤よりも優れていることが知られている。このため、フッ素系界面活性剤は、広範な分野で使用されてきた（特許文献１〜３等参照）。
フッ素系界面活性剤としてはパーフルオロオクタンスルホン酸（ＰＦＯＳ）、パーフルオロオクタン酸（ＰＦＯＡ）またはそれらをベースとしたフッ素系界面活性剤が広く使用されている。ＰＦＯＳはパーフルオロアルキル基にスルホニル基が直結した構造であり、ＰＦＯＡはパーフルオロアルキル基にカルボキシ基が直結した構造である。従来はその性能の高さから、鎖長が８以上のパーフルオロアルキル基を有するものが好んで使用されている。
しかし、ＰＦＯＳおよびＰＦＯＡは極めて分解されにくく、また生物蓄積性も高いことから、近年は地球規模での環境汚染が懸念されている。このＰＦＯＳ・ＰＦＯＡ問題では、鎖長が８以上のパーフルオロアルキル基を有する化合物が問題とされ、各国で法規制や各企業で自主規制の動きがあり、鎖長が８以上のパーフルオロアルキル基を有する化合物の入手及び使用が困難になりつつある。
ＰＦＯＳ・ＰＦＯＡ問題の解決方法としては、フッ素系界面活性剤として鎖長が８よりも短いパーフルオロアルキル基を有する化合物を用いる方法が挙げられる。しかし、鎖長が８以上のパーフルオロアルキル基が好んで使われていた理由は表面張力低下能力やレベリング性が高いためであり、パーフルオロアルキル基の鎖長が短いと著しく表面張力低下能やレベリング性が低くなるという問題があった。
本発明は、ＰＦＯＳ・ＰＦＯＡ問題の要因となる鎖長８以上のパーフルオロアルキル基を有さず環境負荷の低いフッ素系材料を用いるにも関わらず、優れた表面張力低下能を有する含フッ素化合物、含フッ素界面活性剤およびその組成物を提供する。更に、該含フッ素界面活性剤を含有し、高いレベリング性を有する水性樹脂エマルジョンおよびフロアポリッシュ組成物も提供する。
本発明は、下式（１）で表される含フッ素化合物を提供する。
Ｒｆ１−ＣｐＨ２ｐ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣｑＨ２ｑ−ＮＲ−ＣｒＨ２ｒ−（Ｏ）ｎ−ＳＯ３Ｍ（１）
式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒｆ１：炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基。
ｐ、ｑおよびｒ：相互に独立して、１〜６の整数。
Ｍ：陽イオン性の原子または原子団。
ｎ：０または１。
Ｒ：水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、または下式（２）で表される基。
Ｒｆ２−ＣｓＨ２ｓ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣｔＨ２ｔ− （２）
式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒｆ２：炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基。
ｓおよびｔ：相互に独立して、１〜６の整数。
Ｒｆ１−ＣｐＨ２ｐ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣｑＨ２ｑ−ＮＲ−ＣｒＨ２ｒ−（Ｏ）ｎ−ＳＯ３Ｍ（１）
式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒｆ１：炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基。
ｐ、ｑおよびｒ：相互に独立して、１〜６の整数。
Ｍ：陽イオン性の原子または原子団。
ｎ：０または１。
Ｒ：水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、または下式（２）で表される基。
Ｒｆ２−ＣｓＨ２ｓ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣｔＨ２ｔ− （２）
式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒｆ２：炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基。
ｓおよびｔ：相互に独立して、１〜６の整数。
前記式（１）において、ｎが０である含フッ素化合物が好ましい。
また、前記式（１）において、Ｒｆ１が炭素数６のパーフルオロアルキル基である含フッ素化合物が好ましい。
また、前記式（１）において、Ｒが前記式（２）で表される基である含フッ素化合物が好ましく、Ｒｆ２が炭素数６のパーフルオロアルキル基である含フッ素化合物がより好ましい。
また、前記式（１）において、Ｒｆ１が炭素数６のパーフルオロアルキル基である含フッ素化合物が好ましい。
また、前記式（１）において、Ｒが前記式（２）で表される基である含フッ素化合物が好ましく、Ｒｆ２が炭素数６のパーフルオロアルキル基である含フッ素化合物がより好ましい。
また、本発明は、前記式（１）で表される化合物からなる含フッ素界面活性剤を提供する。
また、本発明は、前記含フッ素界面活性剤と、水系媒体とを含有する界面活性剤組成物を提供する。
また、本発明は、前記含フッ素界面活性剤を含有する水性樹脂エマルジョンを提供する。
また、本発明は、前記含フッ素界面活性剤を含有するフロアポリッシュ組成物を提供する。
また、本発明は、前記含フッ素界面活性剤と、水系媒体とを含有する界面活性剤組成物を提供する。
また、本発明は、前記含フッ素界面活性剤を含有する水性樹脂エマルジョンを提供する。
また、本発明は、前記含フッ素界面活性剤を含有するフロアポリッシュ組成物を提供する。
本発明によれば、低い濃度においても十分に高い表面張力低下能を有する界面活性剤となる新規含フッ素化合物が提供される。また、界面活性剤が配合された組成物は、作業上の取り扱いの容易さ、安全性、また環境上の問題から、近年特に水を主成分とする水性媒体により構成されることが多くなったが、本発明の界面活性剤はこのような水系媒体において特に有効に作用するものである。
また、本発明の界面活性剤組成物は、本発明の含フッ素界面活性剤を含有することにより、使用時の界面活性剤濃度が低い場合でも、十分に高い表面張力低下能力を有するため、各種用途に用いることができる。
また、本発明の含フッ素界面活性剤は、水性樹脂エマルジョンの表面張力を下げることができるため、本発明の樹脂エマルジョンの表面張力を低くすることができる。これにより、本発明の水性樹脂エマルジョンはレベリング性が良好であり、床等の被処理物が優れた外観を有する。同様に、本発明の含フッ素界面活性剤を含有する本発明のフロアポリッシュ組成物は、レベリング性が良好であり、床に優れた外観を付与することができる。
また、本発明の界面活性剤組成物は、本発明の含フッ素界面活性剤を含有することにより、使用時の界面活性剤濃度が低い場合でも、十分に高い表面張力低下能力を有するため、各種用途に用いることができる。
また、本発明の含フッ素界面活性剤は、水性樹脂エマルジョンの表面張力を下げることができるため、本発明の樹脂エマルジョンの表面張力を低くすることができる。これにより、本発明の水性樹脂エマルジョンはレベリング性が良好であり、床等の被処理物が優れた外観を有する。同様に、本発明の含フッ素界面活性剤を含有する本発明のフロアポリッシュ組成物は、レベリング性が良好であり、床に優れた外観を付与することができる。
本明細書においては、式（１）で表される化合物を化合物（１）とも記す。他の式で示される化合物および基についても同様に記す。また、本明細書において％で表示されるものは、特にことわりの無い限り質量％を表す。
本発明の化合物（１）において、Ｒｆ１は炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基である。パーフルオロアルキル基は直鎖状でも分岐状でも構わないが直鎖状が好ましい。合成の容易さや表面張力低下能力が良好であることから、Ｒｆ１としては、炭素数４〜６の直鎖のパーフルオロアルキル基が好ましく、中でも原料が入手しやすいことから炭素数４または６の直鎖のパーフルオロアルキル基がより好ましく、中でも特に表面張力低下能力が良好であることから炭素数６の直鎖のパーフルオロアルキル基が特に好ましい。
本発明の化合物（１）において、ｐ、ｑおよびｒは１〜６の整数である。ｐ、ｑおよびｒの炭素数で決定する各アルキレン基は直鎖状でも分岐状でも構わないが直鎖状が好ましい。中でも、炭素数１〜３の直鎖のアルキレン基が好ましく、とりわけｐおよびｑは１、すなわち−ＣｐＨ２ｐ−および−ＣｑＨ２ｑ−はメチレン、ｒは１〜２、すなわち−ＣｒＨ２ｒ−はメチレンまたはエチレンが好ましい。アルキレン基の鎖長が短いと、水への溶解性が良好になりやすいとともに、混合物中で使用したとき他のハイドロカーボン系の有機溶媒や界面活性剤との併用時に、界面活性能の阻害がされにくい。
本発明の化合物（１）において、Ｍは陽イオン性の原子もしくは原子団である。これらの原子および原子団としては、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはアンモニウム基またはその水素原子の一部または全部がアルキル基またはヒドロキシアルキル基（アルキル基の炭素数は１または２）で置換されたアンモニウム基が挙げられる。合成の反応後に副生成物が少ないことや、溶媒への溶解のしやすさから、Ｍとしてはアルカリ金属が好ましく、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉが特に好ましい。
本発明の化合物（１）において、ｎは０または１である。化合物（１）の、熱やアルカリに対する安定性、表面張力低下能などを考慮するとｎは０が好ましい。
本発明の化合物（１）において、Ｒは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基または下式（２）で表される基である。
Ｒｆ２−ＣｓＨ２ｓ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣｔＨ２ｔ− （２）
Ｒｆ２の定義および好ましい態様は、前記Ｒｆ１と同じである。また、ｓおよびｔの定義および好ましい態様は、前記ｐおよびｑと同じである。
混合物中で使用したとき他のハイドロカーボン系の有機溶媒や界面活性剤との相互作用を持たせて相溶性の向上を求める場合にはアルキル基の導入が効果的であるが、単に表面張力低下能を求める場合Ｒは、式（２）で表される基または水素原子が好ましく、中でも、水性樹脂エマルジョンに添加したときの表面張力低下能力に優れることから式（２）で表される基が特に好ましい。
Ｒｆ２−ＣｓＨ２ｓ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣｔＨ２ｔ− （２）
Ｒｆ２の定義および好ましい態様は、前記Ｒｆ１と同じである。また、ｓおよびｔの定義および好ましい態様は、前記ｐおよびｑと同じである。
混合物中で使用したとき他のハイドロカーボン系の有機溶媒や界面活性剤との相互作用を持たせて相溶性の向上を求める場合にはアルキル基の導入が効果的であるが、単に表面張力低下能を求める場合Ｒは、式（２）で表される基または水素原子が好ましく、中でも、水性樹脂エマルジョンに添加したときの表面張力低下能力に優れることから式（２）で表される基が特に好ましい。
本発明の好ましい化合物（１）としては、以下のような化合物が例示される。特に好ましいものは、ｎ＝０、Ｒが式（２）、かつＲｆ１及びＲｆ２が炭素数６のパーフルオロアルキル基である化合物（１Ａ−６６ａ）〜（１Ａ−６６ｃ）である。
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｌｉ （１Ａ−６０ａ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｎａ （１Ａ−６０ｂ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｋ （１Ａ−６０ｃ）
Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｌｉ （１Ａ−４０ａ）
Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｎａ （１Ａ−４０ｂ）
Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｋ （１Ａ−４０ｃ）
（Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｌｉ （１Ａ−６６ａ）
（Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｎａ （１Ａ−６６ｂ）
（Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｋ （１Ａ−６６ｃ）
（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｌｉ （１Ａ−４４ａ）
（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｎａ （１Ａ−４４ｂ）
（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｋ （１Ａ−４４ｃ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｌｉ （１Ａ−６４ａ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｎａ （１Ａ−６４ｂ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｋ （１Ａ−６４ｃ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｌｉ （１Ｂ−６０ａ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｎａ （１Ｂ−６０ｂ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｋ （１Ｂ−６０ｃ）
Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｌｉ （１Ｂ−４０ａ）
Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｎａ （１Ｂ−４０ｂ）
Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｋ （１Ｂ−４０ｃ）
（Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｌｉ （１Ｂ−６６ａ）
（Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｎａ （１Ｂ−６６ｂ）
（Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｋ （１Ｂ−６６ｃ）
（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｌｉ （１Ｂ−４４ａ）
（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｎａ （１Ｂ−４４ｂ）
（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｋ （１Ｂ−４４ｃ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｌｉ （１Ｂ−６４ａ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｎａ （１Ｂ−６４ｂ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｋ （１Ｂ−６４ｃ）
（式中のｍは１〜３の整数である）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｌｉ （１Ａ−６０ａ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｎａ （１Ａ−６０ｂ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｋ （１Ａ−６０ｃ）
Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｌｉ （１Ａ−４０ａ）
Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｎａ （１Ａ−４０ｂ）
Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｋ （１Ａ−４０ｃ）
（Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｌｉ （１Ａ−６６ａ）
（Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｎａ （１Ａ−６６ｂ）
（Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｋ （１Ａ−６６ｃ）
（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｌｉ （１Ａ−４４ａ）
（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｎａ （１Ａ−４４ｂ）
（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｋ （１Ａ−４４ｃ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｌｉ （１Ａ−６４ａ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｎａ （１Ａ−６４ｂ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）Ｎ（ＣＨ２）ｍＳＯ３Ｋ （１Ａ−６４ｃ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｌｉ （１Ｂ−６０ａ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｎａ （１Ｂ−６０ｂ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｋ （１Ｂ−６０ｃ）
Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｌｉ （１Ｂ−４０ａ）
Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｎａ （１Ｂ−４０ｂ）
Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＮＨ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｋ （１Ｂ−４０ｃ）
（Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｌｉ （１Ｂ−６６ａ）
（Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｎａ （１Ｂ−６６ｂ）
（Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｋ （１Ｂ−６６ｃ）
（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｌｉ （１Ｂ−４４ａ）
（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｎａ （１Ｂ−４４ｂ）
（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）２Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｋ （１Ｂ−４４ｃ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｌｉ （１Ｂ−６４ａ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｎａ （１Ｂ−６４ｂ）
Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２（Ｃ４Ｆ９−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２）Ｎ（ＣＨ２）ｍＯＳＯ３Ｋ （１Ｂ−６４ｃ）
（式中のｍは１〜３の整数である）
本発明の化合物（１）は、特にその製法について限定されるものではなく、目的に応じて公知の有機化学反応、公知の設備を適用して製造することができる。
本発明の化合物（１）の製造例としては、ｎが０でかつｑが１である場合は、炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基を有するＲｆエポキシド（３）を塩基性下でアミノスルホン酸（４）と反応させることが挙げられる。Ｒｆエポキシド（３）は１種類だけ用いてもよく、２種以上混合して用いても良い。Ｒｆエポキシド（３）は、市販品としてはダイキン化成品販売株式会社などから入手できる。アミノスルホン酸（４）としては入手が容易であることからタウリン、アミノメタンスルホン酸、３−アミノプロパンスルホン酸、Ｎ−メチルタウリンが好ましい。アミノスルホン酸（４）は、市販品としては和光純薬工業株式会社、東京化成工業株式会社、シグマアルドリッチジャパン株式会社、本荘ケミカル株式会社などから入手できる。なお、アミノスルホン酸（４）のＲがＨの場合はアミノスルホン酸（４）を１モルに対して、Ｒｆエポキシド（３）を２倍量用いると、化合物（１）において、Ｒが式（２）で表される基である構造が多く得られる。
ＮＨＲ−ＣｒＨ２ｒ−ＳＯ３Ｍ （４）
式中の記号は、前記と同じ意味を示す。
式中の記号は、前記と同じ意味を示す。
本発明の化合物（１）の製造例としては、ｎが１でかつｑが１である場合は、炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基を有するＲｆエポキシド（３）を塩基性下でアミノ硫酸エステル（５）と反応させ合成することが挙げられる。Ｒｆエポキシド（３）は１種類だけ用いてもよく、２種以上混合して用いても良い。アミノ硫酸エステル（５）としては入手が容易であることから硫酸水素２−アミノエチルが好ましい。アミノ硫酸エステル（５）は、市販品としては和光純薬工業株式会社や東京化成工業株式会社などから入手できる。
なお、アミノ硫酸エステル（５）のＲがＨの場合はアミノ硫酸エステル（５）を１モルに対して、Ｒｆエポキシド（３）を２倍量用いると、化合物（１）において、Ｒが式（２）で表される基である構造が多く得られる。
ＮＨＲ−ＣｒＨ２ｒ−Ｏ−ＳＯ３Ｍ （５）
式中の記号は、前記と同じ意味を示す。
なお、アミノ硫酸エステル（５）のＲがＨの場合はアミノ硫酸エステル（５）を１モルに対して、Ｒｆエポキシド（３）を２倍量用いると、化合物（１）において、Ｒが式（２）で表される基である構造が多く得られる。
ＮＨＲ−ＣｒＨ２ｒ−Ｏ−ＳＯ３Ｍ （５）
式中の記号は、前記と同じ意味を示す。
反応溶媒について特に制限はされないが、溶解性や作業性、コストの面から、水、アルコール系の溶媒の使用が好ましく、特に水、メタノール、エタノール、プロピルアルコールの単独または、２種以上の混合が好ましい。
反応の温度については特に制限されないが、０℃〜１５０℃が好ましく、温度が低いと反応が遅く、温度が高いと副生成物も発生しやすいことから特に５０℃〜１００℃が好ましい。圧力についても特に制限はなく、大気圧〜１ＭＰａが好ましく、取り扱いの面で特に大気圧が好ましい。
反応は前記のとおり塩基性条件下で行われる。塩基としては特に限定されないが、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物が好ましい。また、本発明の化合物（１）のＭは、合成後に置き換えてもよいが、工程数を少なくすることを考えると、前記アルカリ金属水酸化物等を用いて、塩基に含まれる原子等をそのまま用いることが好ましい。
本発明の含フッ素界面活性剤は、化合物（１）が１種だけからなるものでもよく、化合物（１）が２種以上からなるものでもよい。具体的には、パーフルオロアルキル基の鎖長の異なるもの同士の組み合わせや、Ｒが水素原子のものと式（２）で表される基のものとの組み合わせが挙げられる。
本発明の界面活性剤組成物は、前記本発明の含フッ素界面活性剤と水系媒体のみからなるものでもよく、他の界面活性剤を含有するものでもよい。他の界面活性剤として、フッ素系、シリコーン系あるいは炭化水素系の界面活性剤と併用することができる。その含有比率は目的に応じて適宜設定されうる。
また、本発明の界面活性剤組成物は、化合物（１）を１種だけ含むものであってもよく、２種以上含むものであってもよい。
また、本発明の界面活性剤組成物は、化合物（１）を１種だけ含むものであってもよく、２種以上含むものであってもよい。
本発明の界面活性剤組成物に用いる水系媒体は、水、水溶性有機溶媒、または水と水溶性有機溶媒を混合したものが挙げられる。水溶性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ターシャリーブチルアルコールといったアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンといったケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、といったエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン、Ｎ−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類が挙げられる。
本発明の界面活性剤組成物中の本発明の含フッ素界面活性剤濃度は、特に限定しないが、１０〜７０％が好ましく、１５〜６０％が特に好ましい。
この範囲であると、本発明の界面活性剤組成物中の溶媒の量が少ないため、適正な量を添加しやすいとともに、輸送時の含フッ素界面活性剤質量当たりの費用が安くなる。
また、この範囲であると、粘度も高くなり過ぎずハンドリング性が良好であり、保管時に析出しにくい。
この範囲であると、本発明の界面活性剤組成物中の溶媒の量が少ないため、適正な量を添加しやすいとともに、輸送時の含フッ素界面活性剤質量当たりの費用が安くなる。
また、この範囲であると、粘度も高くなり過ぎずハンドリング性が良好であり、保管時に析出しにくい。
本発明の含フッ素界面活性剤および界面活性剤組成物は、各種液体に添加することにより、該液体の表面張力を溶媒組成に制限されずに下げることができる。添加量としては、目的、使用条件により適宜設定されるものであるが、実際に使用される状態で化合物（１）を０．０００１〜５％の量で含むことが好ましい。この濃度は、０．００１〜１％であることがより好ましい。この範囲内であると、表面張力低下能力を十分に発揮するとともに、主剤の機能性を打ち消さずに済む。化合物（１）を２種以上含む場合は、その合計量が前記範囲内であることが好ましい。また、その表面張力低下能により、添加した液体にレベリング性、浸透性、起泡性、洗浄性、乳化性等の機能を付与できる。
また、本発明の界面活性剤組成物は、低濃度でも充分な表面張力低下能を発揮できるため、各種用途に好適に用いることができる。本発明の界面活性剤組成物は、ワックス等のレベリング剤、発泡助剤、泡消火のための安定な泡沫生成および消火性能向上を目的とした添加剤、洗浄剤、離型剤、乳化剤、防錆剤、ラテックス安定剤、農業用フィルムの防霧剤、顔料分散剤、インク・塗料・レジスト等の濡れ性・浸透性改良、硬化性樹脂への撥水撥油性付与、農業フィルムの防霧剤、防汚剤、浮遊選鉱剤、平滑剤、脱墨剤などにおいてその効果を発揮するものであり、洗浄、グラビア印刷など、幅広い用途に用いることもできる。
また、本発明の界面活性剤組成物は、低濃度でも充分な表面張力低下能を発揮できるため、各種用途に好適に用いることができる。本発明の界面活性剤組成物は、ワックス等のレベリング剤、発泡助剤、泡消火のための安定な泡沫生成および消火性能向上を目的とした添加剤、洗浄剤、離型剤、乳化剤、防錆剤、ラテックス安定剤、農業用フィルムの防霧剤、顔料分散剤、インク・塗料・レジスト等の濡れ性・浸透性改良、硬化性樹脂への撥水撥油性付与、農業フィルムの防霧剤、防汚剤、浮遊選鉱剤、平滑剤、脱墨剤などにおいてその効果を発揮するものであり、洗浄、グラビア印刷など、幅広い用途に用いることもできる。
本発明の水性樹脂エマルジョンは、化合物（１）を０．１％以下含むのが好ましく、０．００１〜０．０５％の範囲がより好ましく、０．００３〜０．０５％の範囲が特に好ましい。前記含有量が０．００１％以上であれば、レベリング性が発現しやすい。前記含有量が０．１％以下であれば、他の構成成分の発現する機能に悪影響を与えにくい。
本発明の水性樹脂エマルジョンに使用される樹脂は、水性樹脂エマルジョンに通常用いられる樹脂であれば特に限定されない。例えば、（メタ）アクリル系、スチレン系、ウレタン系の樹脂が挙げられる。これらの樹脂は単独の重合体であってもよく、アクリル−スチレン共重合体等の複数種の組み合わせによる共重合体であってもよい。
市販の樹脂エマルジョンとしては、例えば、デュラプラス２、プライマルＥ−２４０９、プライマルＢ−９２４、デュラプラス３Ｌ０、プライマルＪＰ−３０８（いずれもロームアンドハース社製）、ＡＥ−６１０Ｈ、ＡＥ−９４５Ｈ、ＡＥ−９８１Ｈ（いずれもＪＳＲ社製）が挙げられる。
また、樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂を使用してもよい。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、プライマルＢ−６４４、プライマル１５３１Ｂ（いずれもロームアンドハース社製）が挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、プライマルＢ−６４４、プライマル１５３１Ｂ（いずれもロームアンドハース社製）が挙げられる。
本発明のフロアポリッシュ組成物は、前述の本発明の含フッ素界面活性剤を含有する組成物である。
本発明のフロアポリッシュ組成物は、樹脂として、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、または、アクリル−スチレン樹脂等の前記樹脂を組み合わせた樹脂が含有されていることが好ましい。また、樹脂として前記樹脂とアルカリ可溶性樹脂が含有され、さらにポリオレフィンワックスが含有されていることがより好ましい。
ポリオレフィンワックスとしては、例えば、ハイテックＥ−４Ｂ、ハイテックＥ−８０００（いずれも東邦化学工業社製）が挙げられる。
なお、本発明のフロアポリッシュ組成物は、前記市販の樹脂エマルジョンに、本発明の含フッ素界面活性剤を添加してもよい。
以下、アクリル樹脂等とアルカリ可溶性樹脂を含む樹脂およびポリオレフィンワックスを合わせて便宜上「成分（Ｐ）」という。
ポリオレフィンワックスとしては、例えば、ハイテックＥ−４Ｂ、ハイテックＥ−８０００（いずれも東邦化学工業社製）が挙げられる。
なお、本発明のフロアポリッシュ組成物は、前記市販の樹脂エマルジョンに、本発明の含フッ素界面活性剤を添加してもよい。
以下、アクリル樹脂等とアルカリ可溶性樹脂を含む樹脂およびポリオレフィンワックスを合わせて便宜上「成分（Ｐ）」という。
本発明のフロアポリッシュ組成物（１００％）中の成分（Ｐ）の含有量は、５〜４０％が好ましく、１０〜３５％がより好ましい。成分（Ｐ）の含有量が５％以上であれば、耐水性、光沢度といったフロアポリッシュ組成物に求められる機能を発現しやすい。成分（Ｐ）の含有量が４０％以下であれば、床等への塗布が容易になる。
なお、成分（Ｐ）の含有量は、固形分を意味する。
なお、成分（Ｐ）の含有量は、固形分を意味する。
また、本発明のフロアポリッシュ組成物は、可塑剤、レベリング助剤、防腐剤、消泡剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、クエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、２，２，４−トリブチル、１，３−ペンタンジオールモノイソブチレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジイソブチレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール モノイソブチレートが挙げられる。中でも、フタル酸系以外のものが好ましい。
レベリング助剤としては、例えば、トリブトキシエチルフォスフェートが挙げられる。
防腐剤としては、例えば、ケーソンＣＧ（ロームアンドハース社製）が挙げられる。
消泡剤としては、例えば、ＦＳ−アンチフォーム０１３Ａ、ＦＳ−アンチフォーム１２７７（いずれも東レダウコーニング社製）、ＳＥ−２１、ＳＥ−３９（旭化成ワッカーシリコーン社製）が挙げられる。
その他、紫外線吸収剤、色素、香料、殺ダニ剤、ｐＨ調整剤等が含有されていてもよい。
可塑剤としては、例えば、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、クエン酸トリブチル、アセチルクエン酸トリブチル、２，２，４−トリブチル、１，３−ペンタンジオールモノイソブチレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジイソブチレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール モノイソブチレートが挙げられる。中でも、フタル酸系以外のものが好ましい。
レベリング助剤としては、例えば、トリブトキシエチルフォスフェートが挙げられる。
防腐剤としては、例えば、ケーソンＣＧ（ロームアンドハース社製）が挙げられる。
消泡剤としては、例えば、ＦＳ−アンチフォーム０１３Ａ、ＦＳ−アンチフォーム１２７７（いずれも東レダウコーニング社製）、ＳＥ−２１、ＳＥ−３９（旭化成ワッカーシリコーン社製）が挙げられる。
その他、紫外線吸収剤、色素、香料、殺ダニ剤、ｐＨ調整剤等が含有されていてもよい。
本発明のフロアポリッシュ組成物は、レベリング性が向上することから、化合物（１）を０．１％以下含むのが好ましく、０．００１〜０．０５％の範囲がより好ましく、０．００３〜０．０５％の範囲が特に好ましい。前記含有量が０．００１％以上であれば、レベリング性が発現しやすい。前記含有量が０．１％以下であれば、他の構成成分の発現する機能に悪影響を与えにくい。
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されない。なお、実施例中の各化合物の構造を表１に示す。
［実施例１］化合物（１−１）の合成
ガラス製１００ｍｌフラスコに、水酸化ナトリウム１．５ｇ、イオン交換水２４ｇ、メタノール１２ｇ、イソプロピルアルコール１２ｇ、タウリン（和光純薬工業株式会社製）５．０ｇ（０．０４モル）を仕込み６５℃まで昇温した。そこに、公知の方法で合成した化合物（３−１）１５．０ｇ（０．０４モル）を２時間かけて滴下後、そのままの温度で２１時間反応させ化合物（１−１）を主とする反応生成物を３０％含む水／メタノール／イソプロピルアルコール溶液を得た。反応液のガスクロマトグラフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は、９９％以上であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を１２０℃で２時間乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−１）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：２．０５〜２．４５（２Ｈ）、２．５０〜２．６４（２Ｈ）、２．８６〜３．０６（６Ｈ）、４．１０（１Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：３７．１（ｔ）、４６．０、５１．５、５６．２、６４．７
ガスクロマトグラフィー分析およびＮＭＲスペクトルデータから、未反応の化合物（３−１）はほとんど無く、大半が目的物へ転化していると考えられる。
ガラス製１００ｍｌフラスコに、水酸化ナトリウム１．５ｇ、イオン交換水２４ｇ、メタノール１２ｇ、イソプロピルアルコール１２ｇ、タウリン（和光純薬工業株式会社製）５．０ｇ（０．０４モル）を仕込み６５℃まで昇温した。そこに、公知の方法で合成した化合物（３−１）１５．０ｇ（０．０４モル）を２時間かけて滴下後、そのままの温度で２１時間反応させ化合物（１−１）を主とする反応生成物を３０％含む水／メタノール／イソプロピルアルコール溶液を得た。反応液のガスクロマトグラフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は、９９％以上であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を１２０℃で２時間乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−１）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：２．０５〜２．４５（２Ｈ）、２．５０〜２．６４（２Ｈ）、２．８６〜３．０６（６Ｈ）、４．１０（１Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：３７．１（ｔ）、４６．０、５１．５、５６．２、６４．７
ガスクロマトグラフィー分析およびＮＭＲスペクトルデータから、未反応の化合物（３−１）はほとんど無く、大半が目的物へ転化していると考えられる。
［実施例２］化合物（１−２）の合成
１００ｍＬのガラス容器に２０％水酸化カリウム水溶液２．２ｇ、イオン交換水４．８ｇ、メタノール２．４ｇ、イソプロピルアルコール２．４ｇ、タウリン（本荘ケミカル株式会社製）１．０ｇ（０．００８モル）、公知の方法で合成した化合物（３−１）３．０ｇ（０．００８モル）を仕込み密閉してウォーターバスシェーカーにセットしで６５℃で１５時間反応させ化合物（１−２）を主とする反応生成物２６％含む水／メタノール／イソプロピルアルコール溶液を得た。反応液のガスクロマトグラフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は、９９％以上であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を１２０℃で２時間乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−２）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：２．０５〜２．４５（２Ｈ）、２．５０〜２．６４（２Ｈ）、２．８６〜３．０６（６Ｈ）、４．１０（１Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：３７．１（ｔ）、４６．０、５１．５、５６．２、６４．６
ガスクロマトグラフィー分析およびＮＭＲスペクトルデータから、未反応の化合物（３−１）はほとんど無く、大半が目的物へ転化していると考えられる。
１００ｍＬのガラス容器に２０％水酸化カリウム水溶液２．２ｇ、イオン交換水４．８ｇ、メタノール２．４ｇ、イソプロピルアルコール２．４ｇ、タウリン（本荘ケミカル株式会社製）１．０ｇ（０．００８モル）、公知の方法で合成した化合物（３−１）３．０ｇ（０．００８モル）を仕込み密閉してウォーターバスシェーカーにセットしで６５℃で１５時間反応させ化合物（１−２）を主とする反応生成物２６％含む水／メタノール／イソプロピルアルコール溶液を得た。反応液のガスクロマトグラフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は、９９％以上であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を１２０℃で２時間乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−２）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：２．０５〜２．４５（２Ｈ）、２．５０〜２．６４（２Ｈ）、２．８６〜３．０６（６Ｈ）、４．１０（１Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：３７．１（ｔ）、４６．０、５１．５、５６．２、６４．６
ガスクロマトグラフィー分析およびＮＭＲスペクトルデータから、未反応の化合物（３−１）はほとんど無く、大半が目的物へ転化していると考えられる。
［実施例３］化合物（１−３）の合成
３００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム３．２ｇ、イオン交換水５６．８ｇ、メタノール３０ｇ、イソプロピルアルコール３０ｇ、タウリン（和光純薬工業株式会社製）１０．０ｇ（０．０８モル）、公知の方法で合成した化合物（３−１）６０．１ｇ（０．１６モル）を仕込み６０℃で４８時間反応させ化合物（１−３）を主とする反応生成物を３６％含む水／メタノール／イソプロピルアルコール溶液を得た。反応液のガスクロマトグラフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は、９７％であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を１２０℃で２時間乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−３）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：２．１〜２．５（４Ｈ）、２．５〜２．７（４Ｈ）、２．８〜３．３（６Ｈ）、４．１（２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：３６．４（ｔ）、３６．６（ｔ）、５１、６、５２．２、６２．２、６３．０、６３．６、６４．７
ガスクロマトグラフィー分析およびＮＭＲスペクトルデータから、未反応の化合物（３−１）はほとんど無く、大半が目的物へ転化していると考えられる。
３００ｍＬのフラスコに水酸化ナトリウム３．２ｇ、イオン交換水５６．８ｇ、メタノール３０ｇ、イソプロピルアルコール３０ｇ、タウリン（和光純薬工業株式会社製）１０．０ｇ（０．０８モル）、公知の方法で合成した化合物（３−１）６０．１ｇ（０．１６モル）を仕込み６０℃で４８時間反応させ化合物（１−３）を主とする反応生成物を３６％含む水／メタノール／イソプロピルアルコール溶液を得た。反応液のガスクロマトグラフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は、９７％であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を１２０℃で２時間乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−３）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：２．１〜２．５（４Ｈ）、２．５〜２．７（４Ｈ）、２．８〜３．３（６Ｈ）、４．１（２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：３６．４（ｔ）、３６．６（ｔ）、５１、６、５２．２、６２．２、６３．０、６３．６、６４．７
ガスクロマトグラフィー分析およびＮＭＲスペクトルデータから、未反応の化合物（３−１）はほとんど無く、大半が目的物へ転化していると考えられる。
［実施例４］化合物（１−４）の合成
１００ｍＬのガラス容器に２０％水酸化ナトリウム水溶液１．７ｇ、イオン交換水４．６ｇ、イソプロピルアルコール６ｇ、硫酸水素２−アミノエチル（東京化成工業株式会社製）１．０ｇ（０．００７モル）、公知の方法で合成した化合物（３−１）５．３ｇ（０．０１４モル）を仕込み密閉してウォーターバスシェーカーにセットしで６５℃で１５時間反応させ化合物（１−４）を主とする反応生成物を得た。一部、固体の析出、および透明液体の沈降分離があったため、上層を回収し、０．４５μｍのフィルターでろ過をし、化合物（１−４）を主とする反応生成物を２８％含む水／イソプロピルアルコール溶液を得た。収率は７８％であった。反応液のガスクロマトグラフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は９６％であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を４０℃で４時間１０ｍｍＨｇで減圧乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−４）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：２．０〜２．５（４Ｈ）、２．５〜２．７（４Ｈ）、２．７〜３．０（２Ｈ）、４．０−４．３（６Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：３６．６（ｔ）、３６．８（ｔ）、５５．１、５５．５、６３．４、６４．０、６４．８、６６．９
１００ｍＬのガラス容器に２０％水酸化ナトリウム水溶液１．７ｇ、イオン交換水４．６ｇ、イソプロピルアルコール６ｇ、硫酸水素２−アミノエチル（東京化成工業株式会社製）１．０ｇ（０．００７モル）、公知の方法で合成した化合物（３−１）５．３ｇ（０．０１４モル）を仕込み密閉してウォーターバスシェーカーにセットしで６５℃で１５時間反応させ化合物（１−４）を主とする反応生成物を得た。一部、固体の析出、および透明液体の沈降分離があったため、上層を回収し、０．４５μｍのフィルターでろ過をし、化合物（１−４）を主とする反応生成物を２８％含む水／イソプロピルアルコール溶液を得た。収率は７８％であった。反応液のガスクロマトグラフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は９６％であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を４０℃で４時間１０ｍｍＨｇで減圧乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−４）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：２．０〜２．５（４Ｈ）、２．５〜２．７（４Ｈ）、２．７〜３．０（２Ｈ）、４．０−４．３（６Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：３６．６（ｔ）、３６．８（ｔ）、５５．１、５５．５、６３．４、６４．０、６４．８、６６．９
［実施例５］化合物（１−５）合成
１００ｍＬのガラス容器に水酸化ナトリウム０．８０ｇ、イオン交換水１８．２ｇ、イソプロピルアルコール１８．２ｇ、３−アミノプロパンスルホン酸 ２．８７ｇ（０．０２モル）（シグマアルドリッチジャパン社製）を仕込みリフラックス温度まで昇温させた。そこに、化合物（３−１）１５．３３ｇ（０．０４モル）を２．５時間かけて滴下し３６時間反応させて、化合物(１−５)を主とする反応生成物を３２．７％含む水／イソプロピルアルコール溶液を得た。反応液のガスクロマトグラフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は９９．６％であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を１１０℃で２時間乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−５）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ(３００ＭＨｚ 溶媒：ＣＤ３ＯＤ 標準物質：ヘキサメチルジシロキサン) σ（ｐｐｍ）：１．８〜１．９（２Ｈ）、２．０〜２．４（２Ｈ）、２．４〜２．８（１０Ｈ）、４．０〜４．１（２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ 溶媒：ＣＤ３ＯＤ 標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）σ（ｐｐｍ）：２３．２、３６．４〜３７．０（ｔ）、５０．３、５５．４、５５．７、６２．１、６３．０、６３．８、６４．８
ガスクロマトフィー分析およびＮＭＲスペクトルデータから、未反応の化合物（３−１）はほとんどなく、大半が目的物へ転化していると考えられる。
１００ｍＬのガラス容器に水酸化ナトリウム０．８０ｇ、イオン交換水１８．２ｇ、イソプロピルアルコール１８．２ｇ、３−アミノプロパンスルホン酸 ２．８７ｇ（０．０２モル）（シグマアルドリッチジャパン社製）を仕込みリフラックス温度まで昇温させた。そこに、化合物（３−１）１５．３３ｇ（０．０４モル）を２．５時間かけて滴下し３６時間反応させて、化合物(１−５)を主とする反応生成物を３２．７％含む水／イソプロピルアルコール溶液を得た。反応液のガスクロマトグラフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は９９．６％であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を１１０℃で２時間乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−５）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ(３００ＭＨｚ 溶媒：ＣＤ３ＯＤ 標準物質：ヘキサメチルジシロキサン) σ（ｐｐｍ）：１．８〜１．９（２Ｈ）、２．０〜２．４（２Ｈ）、２．４〜２．８（１０Ｈ）、４．０〜４．１（２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ 溶媒：ＣＤ３ＯＤ 標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）σ（ｐｐｍ）：２３．２、３６．４〜３７．０（ｔ）、５０．３、５５．４、５５．７、６２．１、６３．０、６３．８、６４．８
ガスクロマトフィー分析およびＮＭＲスペクトルデータから、未反応の化合物（３−１）はほとんどなく、大半が目的物へ転化していると考えられる。
［実施例６］化合物１−６の合成
１００ｍＬガラスフラスコに水酸化リチウム・一水和物(和光純薬工業製)１．２６ｇ、イオン交換水２６．７５ｇ、イソプロピルアルコール２６．７５ｇ、タウリン(和光純薬工業社製)３．７５ｇ（０．０３モル）を仕込み７８℃まで昇温した。そこに、化合物（３−１）２３．００ｇ（０．０６モル）を２時間かけて滴下し、５４時間反応させて化合物（１−６）を主とする反応生成物を３３．０％含む水／イソプロピルアルコール溶液を得た。反応後のガスクロマトフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は９９．５％であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を１１０℃で２時間乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−６）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：２．１〜２．５（４Ｈ）、２．５〜２．７（４Ｈ）、２．８〜３．３（６Ｈ）、４．１（２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：３６．４（ｔ）、３６．６（ｔ）、５１、６、５２．２、６２．２、６３．０、６３．６、６４．７
ガスクロマトグラフィー分析およびＮＭＲスペクトルデータから、未反応の化合物（３−１）はほとんど無く、大半が目的物へ転化していると考えられる。
１００ｍＬガラスフラスコに水酸化リチウム・一水和物(和光純薬工業製)１．２６ｇ、イオン交換水２６．７５ｇ、イソプロピルアルコール２６．７５ｇ、タウリン(和光純薬工業社製)３．７５ｇ（０．０３モル）を仕込み７８℃まで昇温した。そこに、化合物（３−１）２３．００ｇ（０．０６モル）を２時間かけて滴下し、５４時間反応させて化合物（１−６）を主とする反応生成物を３３．０％含む水／イソプロピルアルコール溶液を得た。反応後のガスクロマトフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は９９．５％であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を１１０℃で２時間乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−６）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：２．１〜２．５（４Ｈ）、２．５〜２．７（４Ｈ）、２．８〜３．３（６Ｈ）、４．１（２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：３６．４（ｔ）、３６．６（ｔ）、５１、６、５２．２、６２．２、６３．０、６３．６、６４．７
ガスクロマトグラフィー分析およびＮＭＲスペクトルデータから、未反応の化合物（３−１）はほとんど無く、大半が目的物へ転化していると考えられる。
［実施例７］化合物１−７の合成
１００ｍＬガラスフラスコに水酸化リチウム・一水和物(和光純薬工業製)０．８４ｇ、イオン交換水１８．２１ｇ、イソプロピルアルコール１８．２１ｇ、３−アミノプロパンスルホン酸（シグマアルドリッチジャパン社製）２．８７ｇ（０．０２モル）を仕込み７８℃まで昇温した。そこに、化合物（３−１）１５．３４ｇ（０．０４モル）を２時間かけて滴下し、２４時間反応させて化合物（１−７）を主とする反応生成物を３３．７％含む水／イソプロピルアルコール溶液を得た。反応後のガスクロマトフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は９９．１％であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を１１０℃で２時間乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−７）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：１．８〜１．９（２Ｈ）、２．０〜２．４（２Ｈ）、２．４〜２．８（１０Ｈ）、４．０〜４．１（２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ 溶媒：ＣＤ３ＯＤ 標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）σ（ｐｐｍ）：２３．２、３６．４〜３７．０（ｔ）、５０．３、５５．４、５５．７、６２．１、６３．０、６３．８、６４．８
ガスクロマトフィー分析およびＮＭＲスペクトルデータから、未反応の化合物（３−１）はほとんどなく、大半が目的物へ転化していると考えられる。
１００ｍＬガラスフラスコに水酸化リチウム・一水和物(和光純薬工業製)０．８４ｇ、イオン交換水１８．２１ｇ、イソプロピルアルコール１８．２１ｇ、３−アミノプロパンスルホン酸（シグマアルドリッチジャパン社製）２．８７ｇ（０．０２モル）を仕込み７８℃まで昇温した。そこに、化合物（３−１）１５．３４ｇ（０．０４モル）を２時間かけて滴下し、２４時間反応させて化合物（１−７）を主とする反応生成物を３３．７％含む水／イソプロピルアルコール溶液を得た。反応後のガスクロマトフィー分析から、化合物（３−１）の反応率は９９．１％であった。
目的物の確認のために、溶液の一部を１１０℃で２時間乾燥させて固形物を得て、ＮＭＲ測定を行った。化合物（１−７）の１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルデータは以下のとおりである。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、溶媒：ＣＤ３ＯＤ、標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）、σ（ｐｐｍ）：１．８〜１．９（２Ｈ）、２．０〜２．４（２Ｈ）、２．４〜２．８（１０Ｈ）、４．０〜４．１（２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ 溶媒：ＣＤ３ＯＤ 標準物質：ヘキサメチルジシロキサン）σ（ｐｐｍ）：２３．２、３６．４〜３７．０（ｔ）、５０．３、５５．４、５５．７、６２．１、６３．０、６３．８、６４．８
ガスクロマトフィー分析およびＮＭＲスペクトルデータから、未反応の化合物（３−１）はほとんどなく、大半が目的物へ転化していると考えられる。
＜評価＞
実施例１〜７で得られた各化合物（１−１）〜（１−７）をそれぞれ水に溶かして所定の固形分濃度（％）に調整した水溶液について、自動表面張力計ＣＢＶＰ−Ａ３型（協和界面科学製）を用いて、ウィルヘルミー法にて２５℃における静的表面張力を測定した。測定結果を表２に示す。
化合物（１−１）〜（１−７）は、各実施例で得られた反応液を１２０℃で２時間乾燥させ、溶媒を除去した乾燥残分（ｇ）を測定して求めた固形分濃度をもとに水で希釈した。
実施例１〜７で得られた各化合物（１−１）〜（１−７）をそれぞれ水に溶かして所定の固形分濃度（％）に調整した水溶液について、自動表面張力計ＣＢＶＰ−Ａ３型（協和界面科学製）を用いて、ウィルヘルミー法にて２５℃における静的表面張力を測定した。測定結果を表２に示す。
化合物（１−１）〜（１−７）は、各実施例で得られた反応液を１２０℃で２時間乾燥させ、溶媒を除去した乾燥残分（ｇ）を測定して求めた固形分濃度をもとに水で希釈した。
［比較例１］
デュポン社の市販フッ素系界面活性剤「Forafac １１５７」（固形分濃度２５％）を水で所定濃度に希釈して実施例と同様に評価した。
「Forafac１１５７」の化学構造は、特開平０７−１７３０３４号公報を参照すれば下記のとおりである。なお、該公報中にはAtochem社Forafac１１５７として記載される。
Ｃ６Ｆ１３−Ｃ２Ｈ４−ＳＯ２ＮＨ（ＣＨ２）３−Ｎ＋（ＣＨ３）２−ＣＨ２ＣＯＯ−
デュポン社の市販フッ素系界面活性剤「Forafac １１５７」（固形分濃度２５％）を水で所定濃度に希釈して実施例と同様に評価した。
「Forafac１１５７」の化学構造は、特開平０７−１７３０３４号公報を参照すれば下記のとおりである。なお、該公報中にはAtochem社Forafac１１５７として記載される。
Ｃ６Ｆ１３−Ｃ２Ｈ４−ＳＯ２ＮＨ（ＣＨ２）３−Ｎ＋（ＣＨ３）２−ＣＨ２ＣＯＯ−
［比較例２］
市販の炭素数６のフッ素系界面活性剤として、デュポン社のアニオン性界面活性剤「Capstone ＦＳ−１０」（パーフルオロアルキルスルホン酸）のカタログに掲載された２５℃における表面張力の値を表２に示す。
市販の炭素数６のフッ素系界面活性剤として、デュポン社のアニオン性界面活性剤「Capstone ＦＳ−１０」（パーフルオロアルキルスルホン酸）のカタログに掲載された２５℃における表面張力の値を表２に示す。
表２より、本発明の化合物（１−１）〜（１−７）は、濃度を低下させても表面張力低下能力があまり低下しないことが分った。また、鎖長が６のパーフルオロアルキル基含有で、一般的に表面張力低下能が高いとされるベタイン化合物である比較例１の化合物と比べて、特に０．０１％の低濃度において優れた表面張力低下能力を有することが分った。
また、市販品である比較例２の鎖長が６のパーフルオロアルキルスルホン酸と比べても、優れた表面張力低下能力を有することが分った。
また、市販品である比較例２の鎖長が６のパーフルオロアルキルスルホン酸と比べても、優れた表面張力低下能力を有することが分った。
次に、本発明の化合物または以下に示す比較化合物を用いて、水性樹脂エマルジョンおよびフロアポリッシュ組成物を調製し、性能を評価した。
比較化合物は市販の原料を用いて、公知の方法で合成した。
比較化合物３ Ｒｆ−ＣＯＯＮＨ４ （Ｒｆは炭素数の平均が９の直鎖パーフルオロアルキル基）
比較化合物４ Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ
比較化合物５ Ｃ４Ｆ９−ＳＯ３Ｎａ
比較化合物は市販の原料を用いて、公知の方法で合成した。
比較化合物３ Ｒｆ−ＣＯＯＮＨ４ （Ｒｆは炭素数の平均が９の直鎖パーフルオロアルキル基）
比較化合物４ Ｃ６Ｆ１３−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ
比較化合物５ Ｃ４Ｆ９−ＳＯ３Ｎａ
［実施例８］水性樹脂エマルジョン
スチレン−ブタジエン系樹脂エマルジョン０５６９（ＪＳＲ株式会社製）を水で５倍に希釈し、そこに、予め１％に調製した表３に示す本発明の化合物の水溶液を、化合物量が全体に対して０．０１２％になるように添加し、水性樹脂エマルジョンを調製した。
調製した各水性樹脂エマルジョンについて、上記＜評価＞と同様にして静的表面張力を測定した。結果を表３に示す。
なお、ブランクは、化合物を加える前の上記樹脂エマルジョンの５倍希釈液である。
スチレン−ブタジエン系樹脂エマルジョン０５６９（ＪＳＲ株式会社製）を水で５倍に希釈し、そこに、予め１％に調製した表３に示す本発明の化合物の水溶液を、化合物量が全体に対して０．０１２％になるように添加し、水性樹脂エマルジョンを調製した。
調製した各水性樹脂エマルジョンについて、上記＜評価＞と同様にして静的表面張力を測定した。結果を表３に示す。
なお、ブランクは、化合物を加える前の上記樹脂エマルジョンの５倍希釈液である。
［比較例３］
本発明の化合物を表３に示す比較化合物に代えた以外は、実施例８と同様にして水性樹脂エマルジョンを調製し、評価した。結果を表３に示す。
本発明の化合物を表３に示す比較化合物に代えた以外は、実施例８と同様にして水性樹脂エマルジョンを調製し、評価した。結果を表３に示す。
［実施例９］フロアポリッシュ組成物
表４に示す各成分を混合してフロアポリッシュ組成物を調製した。化合物（１−１）〜（１−７）は、それぞれ、予め調製した濃度１％の水溶液を用いて表４に示す量を満たすよう混合し、組成例１〜１０を得た。なお、表４中の各成分の量の単位は「質量部」である。
表４に示す各成分を混合してフロアポリッシュ組成物を調製した。化合物（１−１）〜（１−７）は、それぞれ、予め調製した濃度１％の水溶液を用いて表４に示す量を満たすよう混合し、組成例１〜１０を得た。なお、表４中の各成分の量の単位は「質量部」である。
［比較例４］
化合物（１−１）〜（１−７）の代わりに、前記比較化合物３〜５を用いた以外は、実施例９と同様にしてフロアポリッシュ組成物を調製した。これを比較組成例１〜５とする。
化合物（１−１）〜（１−７）の代わりに、前記比較化合物３〜５を用いた以外は、実施例９と同様にしてフロアポリッシュ組成物を調製した。これを比較組成例１〜５とする。
上記で得られたフロアポリッシュ組成物のレベリング性を以下のように評価した。結果を表４に示す。
＜レベリング性の評価＞
ＪＩＳ Ｋ−３９２０に準じてレベリング性試験を行った。なお、塗布用具は絵筆を使用し、床タイルにはホモジニアスビニル床タイル（商品名「ＭＳ−５６０８」、東リ社製）を使用した。また、試験は５℃、湿度６０％の条件下で行った。性能評価は下記基準で行った。なお、レベリング性が良好であるフロアポリッシュ組成物は、平滑性が良好で、塗布した床タイルが優れた外観を有する。
◎：塗りスジおよびムラが全く見られなかった。
○：塗りスジおよびムラのどちらかもしくは両方がわずかに確認された。
△：塗りスジおよびムラのどちらかもしくは両方がはっきりと確認された。
×：ブランクと比べて外観に有意な差が見られるが、著しい塗りスジおよびムラが確認された。
××：外観がブランクと同等であった。
「ブランク」は、本発明の化合物または比較化合物を含まない組成物である。ブランク１は組成例１〜８および比較組成例１〜５に対するブランクであり、ブランク２は組成例９、１０に対するブランクである。
＜レベリング性の評価＞
ＪＩＳ Ｋ−３９２０に準じてレベリング性試験を行った。なお、塗布用具は絵筆を使用し、床タイルにはホモジニアスビニル床タイル（商品名「ＭＳ−５６０８」、東リ社製）を使用した。また、試験は５℃、湿度６０％の条件下で行った。性能評価は下記基準で行った。なお、レベリング性が良好であるフロアポリッシュ組成物は、平滑性が良好で、塗布した床タイルが優れた外観を有する。
◎：塗りスジおよびムラが全く見られなかった。
○：塗りスジおよびムラのどちらかもしくは両方がわずかに確認された。
△：塗りスジおよびムラのどちらかもしくは両方がはっきりと確認された。
×：ブランクと比べて外観に有意な差が見られるが、著しい塗りスジおよびムラが確認された。
××：外観がブランクと同等であった。
「ブランク」は、本発明の化合物または比較化合物を含まない組成物である。ブランク１は組成例１〜８および比較組成例１〜５に対するブランクであり、ブランク２は組成例９、１０に対するブランクである。
表４中の本発明の化合物または比較化合物以外の成分は以下のとおりである。
＜水系媒体＞
水系媒体１：水
水系媒体２：ジエチレングリコールモノエチルエーテル（和光純薬工業社製）
水系媒体３：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業社製）
＜樹脂＞
樹脂１：プライマル１５３１Ｂ（商品名、アクリル樹脂エマルジョン、固形分３８質量％、ロームアンドハース社製）
樹脂２：デュラプラス２（商品名、アクリル樹脂エマルジョン、固形分３８質量％、ロームアンドハース社製）
樹脂３：プライマルＪＰ−３０８（商品名、アクリル樹脂エマルジョン、固形分３９質量％、ロームアンドハース社製）
＜その他の成分＞
ワックス：ハイテックＥ−４０００（商品名、ポリエチレンワックス、固形分４０質量％、東邦化学工業社製）
可塑剤：テキサノール（商品名、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールモノイソブチレート、イーストマンケミカル社製）
助剤（レベリング助剤）：トリブトキシエチルフォスフェート（大八化学工業社製）
＜水系媒体＞
水系媒体１：水
水系媒体２：ジエチレングリコールモノエチルエーテル（和光純薬工業社製）
水系媒体３：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（和光純薬工業社製）
＜樹脂＞
樹脂１：プライマル１５３１Ｂ（商品名、アクリル樹脂エマルジョン、固形分３８質量％、ロームアンドハース社製）
樹脂２：デュラプラス２（商品名、アクリル樹脂エマルジョン、固形分３８質量％、ロームアンドハース社製）
樹脂３：プライマルＪＰ−３０８（商品名、アクリル樹脂エマルジョン、固形分３９質量％、ロームアンドハース社製）
＜その他の成分＞
ワックス：ハイテックＥ−４０００（商品名、ポリエチレンワックス、固形分４０質量％、東邦化学工業社製）
可塑剤：テキサノール（商品名、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールモノイソブチレート、イーストマンケミカル社製）
助剤（レベリング助剤）：トリブトキシエチルフォスフェート（大八化学工業社製）
表３〜４より、本発明の化合物は水性樹脂エマルジョンに添加した際に、従来から一般的に使用されている比較化合物３や、本発明の化合物と類似な構造を持つ比較化合物４といったものと比べて、ぬれ性、レベリング性を発現させるための表面張力低下能力が高く、実際に使用した際にも、同じ濃度、あるいはより低い濃度で性能を発揮することが出来ることがわかった。
Claims (9)
- 下式（１）で表される含フッ素化合物。
Ｒｆ１−ＣｐＨ２ｐ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣｑＨ２ｑ−ＮＲ−ＣｒＨ２ｒ−（Ｏ）ｎ−ＳＯ３Ｍ（１）
式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒｆ１：炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基。
ｐ、ｑおよびｒ：相互に独立して、１〜６の整数。
Ｍ：陽イオン性の原子または原子団。
ｎ：０または１。
Ｒ：水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、または下式（２）で表される基。
Ｒｆ２−ＣｓＨ２ｓ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣｔＨ２ｔ− （２）
式中の記号は以下の意味を示す。
Ｒｆ２：炭素数１〜６のパーフルオロアルキル基。
ｓおよびｔ：相互に独立して、１〜６の整数。 - 前記式（１）において、ｎが０である請求項１に記載の含フッ素化合物。
- 前記式（１）において、Ｒｆ１が炭素数６のパーフルオロアルキル基である請求項１または２に記載の含フッ素化合物。
- 前記式（１）において、Ｒが前記式（２）で表される基である請求項１〜３のいずれかに記載の含フッ素化合物。
- 前記式（２）中のＲｆ２が炭素数６のパーフルオロアルキル基である請求項４に記載の含フッ素化合物。
- 請求項１〜５のいずれかに記載の含フッ素化合物からなる含フッ素界面活性剤。
- 請求項６に記載の含フッ素界面活性剤と、水系媒体とを含有する界面活性剤組成物。
- 請求項６に記載の含フッ素界面活性剤を含有する水性樹脂エマルジョン。
- 請求項６に記載の含フッ素界面活性剤を含有するフロアポリッシュ組成物。
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