JP5581046B2 - ノボラック樹脂の製造方法およびノボラック樹脂 - Google Patents
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Description
例えば、エポキシ樹脂の硬化剤として用いた場合、耐熱性、密着性、電気絶縁性等に優れ、プリント基板用樹脂組成物、プリント基板および樹脂付き銅箔に使用する層間絶縁材料用樹脂組成物、電子部品の封止材用樹脂組成物、レジストインキ、導電ペースト、塗料、接着剤、複合材料等に用いられている。
近年の技術革新に伴い、エポキシ樹脂組成物の更なる耐熱性、耐湿性、難燃性等の向上が求められている。
その解決手段の一つとして充填剤の使用量増加がある。
充填剤量を多くすることにより成形品の線膨張係数の低減や吸湿率の低減、難燃性の向上が可能となるが、一方で充填量が多くなることにより配合物の流動性が低下し、成形性が悪くなるという問題が生じるため、樹脂成分の低溶融粘度化が必要となる。
ノボラック樹脂は、フェノール類とアルデヒド類とを酸性触媒の存在下に付加縮合して製造される。
通常、フェノール類に対するアルデヒド類のモル比が0.3〜0.9モルの範囲で使用され、モル比を調整することで得られる樹脂の分子量を制御している。
樹脂の溶融粘度を低くするには高分子量成分をできるだけ少なくする必要があるが、分子量の低いノボラック樹脂を得るためにはモル比を小さくしなければならず、その場合未反応のフェノールモノマーが多く残存することになる。
樹脂中の未反応フェノール類モノマーは減圧下で蒸留することにより低減することができるが、モル比の低い樹脂ほど大量のフェノール類モノマーが蒸留により除去されることになるため、収率の低下が避けられない。
一方、樹脂中にフェノール類モノマーが残存した場合、成型物の寸法安定性の低下、ボイドの発生などを引き起こすことから、樹脂中のフェノールモノマーはできるだけ少ない方が好ましい。
このような背景から、ノボラック樹脂の高収率化が検討されてきた(特許文献1、2を参照)。
特許文献1ではフェノール類とパラホルムアルデヒドとをリン酸触媒の存在下で不均一化反応する方法が示されている。
この方法によるとフェノール類の反応率は向上するものの、触媒がリン酸に限定されるため、パラホルムアルデヒドよりも反応性の低いアルデヒド、例えばアセトアルデヒドやブチルアルデヒドなどの脂肪族アルデヒド、ベンズアルデヒドやサリチルアルデヒドなどの芳香族アルデヒドと反応させる場合には十分な反応性が得られない。
特許文献2ではフェノール類とアルデヒド類とを有機ホスホン酸触媒の存在下で反応する方法が示されている。
触媒の存在する水相と樹脂の溶解しやすい有機相を形成することによりモノマー反応率を向上させている。
しかし、この方法でも触媒が有機ホスホン酸に限定されるため、前述のホルムアルデヒドよりも反応性の低いアルデヒドと反応させる場合には十分な反応性が得られない。
また、触媒効率向上には110℃以上の温度が必要であることから、高分子量体の生成は避けられず、低分子量のノボラック樹脂を得るには好ましくない。
アセトアルデヒドやブチルアルデヒドなどの脂肪族アルデヒド、ベンズアルデヒドやサリチルアルデヒドなどの芳香族アルデヒドとフェノール類とを反応する場合は、ハロゲン化水素やスルホン酸系化合物など、リン酸や有機ホスホン酸よりも更に強い酸を大量に使用し、かつ高い反応温度が必要となる。
このような条件下では高分子量成分が生成しやすくなるため、低分子量のノボラック樹脂を得るのは困難である。
このように、ホルムアルデヒドやパラホルムアルデヒドよりも反応性の低いアルデヒド類を使用して低分子量ノボラック樹脂を高収率で得ようとする場合、これまでに有効な製造手段はなかった。
即ち、本発明は以下を要旨とする。
B−(OR)3 (I)
(式中、Rは、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基を示す。)
で表されるホウ素化合物およびpKaが5.0以下の酸を含む触媒の存在下、フェノール類とアルデヒド類とを反応させることを特徴とするノボラック樹脂の製造方法、
2.前記酸のpKaが0.0〜4.0の範囲である上記1に記載のノボラック樹脂の製造方法、
3.式(I)で表されるホウ素化合物が、ホウ酸である上記1に記載のノボラック樹脂の製造方法、
4.フェノール類がフェノールまたはクレゾールで、アルデヒド類がベンズアルデヒドであり、式(I)で表されるホウ素化合物がホウ酸である上記1に記載の製造方法によって得られるノボラック樹脂の数平均分子量が、300〜600であり、分散度(重量平均分子量/数平均分子量)が1.3以下で、かつ150℃における溶融粘度が300mPa・s以下であるノボラック樹脂
本発明のノボラック樹脂の製造方法においては、pKaが5.0以下の酸の他に、式(I)
B−(OR)3 (I)
(式中、Rは、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基を示す。)
で表されるホウ素化合物が必須成分として使用される。
Rである炭素数1〜10のアルキル基としては、直鎖状でも分岐状でもよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソへキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。
これらのうち、ホウ酸が実用上好ましい。
前記ホウ素化合物の使用量は、フェノール類100質量部に対して0.3〜20質量部、好ましくは1.0〜10重量部の割合で用いるのがよい。
ホウ素化合物の使用量が0.3質量部未満では、フェノール類とアルデヒド類の反応率が低下するため好ましくなく、10質量部を越えると反応率向上の効果が殆ど変わらなくなるため、実用的でない。
pKaが5.0を超える酸では触媒としての効果が乏しく実用的でない。
反応設備への腐食およびノボラック樹脂の収率などを考慮すると、pKaが0.0〜4.0である酸が好ましく、例えばシュウ酸、リン酸、サリチル酸、酒石酸などが挙げられる。
前記pKaが5.0以下の酸の使用量は、フェノール類100質量部に対して0.1〜20質量部、好ましくは0.1〜10重量部、更に好ましくは0.2〜5重量部の割合で用いるのが好ましい。
本発明方法に使用されるフェノール類としては、一般的なフェノール樹脂の製造に使用されるものであれば良く、例えばフェノール、各種クレゾール、各種エチルフェノール、各種キシレノール、各種ブチルフェノール、各種オクチルフェノール、各種ノニルフェノール、各種フェニルフェノール、各種シクロヘキシルフェノール、各種トリメチルフェノール、ビスフェノールA、カテコール、レゾシノール、ハイドロキノン、各種ナフトール、ピロガロールなどを、単独又は2種以上混合して使用することができる。
これらのうち、フェノールや各種クレゾールが実用上好ましい。
例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、パラホルムアルデヒド、各種プロピルアルデヒド、各種ブチルアルデヒド、各種バレルアルデヒド、各種ヘキシルアルデヒド、グリオキザール、クロトンアルデヒド、グルタルアルデヒド、各種ヒドロキシベンズアルデヒド、各種ジヒドロキシベンズアルデヒド、各種ヒドロキシメチルベンズアルデヒドなどを単独もしくは2種以上混合して使用することができる。
上記アルデヒド類の使用量は、フェノール類の合計量1モルに対して、0.3〜1.0モル、好ましくは0.4〜0.9モルの割合で用いるのが望ましい。
このアルデヒド類の使用量が0.3モル未満であると、残存するフェノール類モノマーが多くなるため効率的でない。
一方、アルデヒド類が1.0モルを超えると、得られるノボラック樹脂の分子量が高くなるため好ましくない。
得られるノボラック樹脂の数平均分子量が上記範囲内であると、ノボラック樹脂の溶融粘度を低くすることができ、エポキシ樹脂の硬化剤として十分な効果を発揮する。
分散度が1.3以下であることは、ノボラック樹脂中の高分子量の多核体が少ないことを意味する。
また、分散度は、好ましくは1.2以下である。
溶融粘度が300mPa・s以下であると、エポキシ樹脂の硬化剤として使用した場合、配合物の流動性が向上するため成形性に優れた配合物が得られる。
更に、150℃における溶融粘度は、好ましくは250mPa・s以下である。
ノボラック樹脂の溶融粘度を低くするためには、多核体の含有量をできるだけ少なくする必要がある。
このとき、反応温度は30〜120℃の範囲で行うとよい。
30℃未満であると反応の進行が遅く、かつ未反応のフェノール類が残存するため好ましくなく、また120℃を超える温度では高分子量成分の生成が促進されるため好ましくない。
反応時間は特に制限はなく、アルデヒド類および触媒の量、反応温度により調整すればよい。
反応の際、有機溶剤を使用することももちろん可能である。
このような有機溶媒としては、プロピルアルコール、ブタノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ブチレングリコールモノメチルエーテル、ブチレングリコールモノエチルエーテル、ブチレングリコールモノプロピルエーテル等のグリコールエーテル類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類、1,4−ジオキサン等のエーテル類等が単独で、若しくは二種以上を併用して使用できる。
前記有機溶媒は、フェノール類100質量部に対して、0〜1,000質量部、好ましくは10〜100質量部程度となるように使用することができる。
反応後は蒸留により縮合水を除去したり、また必要に応じて水洗して残存触媒を除去してもよい。
更に、減圧蒸留或いは水蒸気蒸留を行って未反応のフェノール類や未反応アルデヒド類を除去してもよい。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、オルソクレゾール100g、ベンズアルデヒド49g、ホウ酸1g、シュウ酸(pKa=1.04)1gを仕込み、100℃で8時間反応させた。
次いで、純水100gで2回洗浄を行い、触媒を除去した。
次いで、180℃、50mmHgの減圧下で溜出分を除去し、ノボラック樹脂A94gを得た。
図1に、樹脂Aのゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)チャートを示す。なお、横軸は溶出時間(分)を示す。
図1から樹脂Aは、低分子量の2核体が主生成物であることが分かる。
フェノール類としてメタクレゾールを使用した以外は実施例1と同様に行い、ノボラック樹脂B98gを得た。
アルデヒド類としてサリチルアルデヒド56gを使用した以外は実施例1と同様に行い、ノボラック樹脂C92gを得た。
アルデヒド類としてメタヒドロキシベンズアルデヒド56gを使用した以外は実施例1と同様に行い、ノボラック樹脂D94gを得た。
ホウ酸の代わりにホウ酸トリメチル1.7gを使用し、反応を50℃で10時間行った以外は実施例1と同様に反応を行い、ノボラック樹脂E97gを得た。
シュウ酸の代わりにリン酸(pKa=2.12)1gを使用した以外は実施例1と同様に反応を行い、ノボラック樹脂F90gを得た。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、オルソクレゾール100g、ベンズアルデヒド49g、ホウ酸ナトリウム12g、シュウ酸1gを仕込み、100℃で8時間反応させたが、反応が進行せず樹脂は得られなかった。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、オルソクレゾール100g、ベンズアルデヒド49g、シュウ酸1gを仕込み、100℃で8時間反応させたが、反応が進行せず樹脂は得られなかった。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、オルソクレゾール100g、ベンズアルデヒド49g、ホウ酸1g、吉草酸(pKa=5.17)1gを仕込み、100℃で8時間反応させたが、反応が進行せず樹脂は得られなかった。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、オルソクレゾール100g、ベンズアルデヒド49g、パラトルエンスルホン酸10gを仕込み、100℃で8時間反応させた。
次いで、水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、純水100gで5回洗浄を行い塩を除去した。
次いで180℃、50mmHgの減圧下で溜出分を除去し、ノボラック樹脂G77gを得た。
図2に樹脂Gのゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)チャートを示す。なお、横軸は溶出時間(分)を示す。
図2から樹脂Gは、2核体以外に相当量の多核体が生成していることが分かる。
フェノール類としてメタクレゾールを使用した以外は比較例4と同様に行い、ノボラック樹脂H82gを得た。
樹脂の分析方法は以下の通りである。
(1)数平均分子量、重量平均分子量、分散度
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定した。
カラム構成は昭和電工(株)製のKF−804を2本用い、溶媒としてテトラヒドロフランを使用し、流量1ml/分で測定した。
分子量はポリスチレン換算、含有率は全ピーク面積中の百分率で算出した。
分散度は重量平均分子量/数平均分子量で算出した。
(2)軟化点(℃)
エレックス科学製気相軟化点測定装置EX−719PDを用いて昇温速度2.5℃/分で測定した。
(3)溶融粘度(mPa・s)
リサーチ・イクウィップ社製ICI粘度計を用い、150℃で測定した。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、オルソクレゾール100g、ベンズアルデヒド49g、サリチルアルデヒド2g、ホウ酸1g及びシュウ酸1gを仕込み、100℃で8時間反応させた。
次いで、純水100gで2回洗浄を行い、ホウ酸及びシュウ酸を除去した。
次いで、180℃、50mmHgの減圧下で溜出分を除去し、ノボラック樹脂I92gを得た。
フェノール類としてメタクレゾールを使用した以外は実施例7と同様に反応を行い、ノボラック樹脂J97gを得た。
フェノール類としてオルソクレゾール50g、パラクレゾール50gを使用した以外は実施例7と同様に反応を行い、ノボラック樹脂K94gを得た。
サリチルアルデヒドの代わりに2,4−ジヒドロキシベンズアルデヒド2gを使用した以外は実施例7と同様に反応を行い、ノボラック樹脂L93gを得た。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、オルソクレゾール100g、ベンズアルデヒド49g、サリチルアルデヒド2g及びシュウ酸1gを仕込み、100℃で8時間反応させたところ、反応が進行せず樹脂は得られなかった。
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、オルソクレゾール100g、ベンズアルデヒド49g、サリチルアルデヒド2g及びホウ酸1gを仕込み、100℃で8時間反応させたところ、反応が進行せず樹脂は得られなかった。
本発明のノボラック樹脂を半導体封止材用として使用した場合、充填剤量を多くすることにより成形品の線膨張係数の低減や吸湿率の低減、難燃性の向上が可能となる。
また、その硬化物は、良好な耐熱性、耐湿性、機械的特性、電気絶縁性、金属との接着性などを有し、従って、高信頼性を必要とする電子材料用途に非常に有効である。
具体的には、電子部品の封止材用樹脂組成物、プリント基板用樹脂組成物、プリント基板および樹脂付き銅箔に使用する層間絶縁材料用樹脂組成物、レジストインキ、導電ペースト(導電性充填剤含有)、塗料、接着剤、複合材料等に利用可能である。
Claims (3)
- 式(I)
B−(OR)3 (I)
(式中、Rは、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基を示す。)
で表されるホウ素化合物およびpKaが5.0以下の酸を含む触媒の存在下、フェノール類とアルデヒド類とを反応させることを特徴とするノボラック樹脂の製造方法。 - 前記酸のpKaが0.0〜4.0の範囲である請求項1に記載のノボラック樹脂の製造方法。
- 式(I)で表されるホウ素化合物が、ホウ酸である請求項1に記載のノボラック樹脂の製造方法。
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