JP5570458B2 - 半導体廃水から金属イオンを沈殿させ、同時にマイクロフィルターの運転を向上させる組成物および方法 - Google Patents
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Description
を有する。
ポリジアリルアミンジチオカルバミン酸塩(ポリ(DAADTC))の製造
24.25gの濃HCl水溶液を24.25gの冷却されたジアリルアミンに添加した。この混合物を0.6にpH調節し、l1.62gの水と0.25mLのギ酸を添加した。この溶液を撹拌し、窒素で掃気し、次に80℃まで温めた。3.71gの過硫酸ナトリウムと5.7gの脱イオン水からなる開始剤溶液を調整し、注射器ポンプを用いて、1時間の時間にわたって連続して添加した。反応が開始して約5分間後、この溶液は発熱を開始し、還流(106℃)させられた。発熱は1/2時間後おさまり始めた。開始剤の添加の完了に続いて、反応物を80℃でもう1時間温め、次に冷却した。10.3gの水とpHを7.5に調節するために、数滴のNaOHを冷却した混合物に添加した。最終のポリジアリルアミン製品は金色であり、80cpsの粘度を有していた。理論的なポリマー固体(遊離アミンとして)は30%であった。
NALCO(登録商標)603、高分子量の二塩化エチレン−アンモニア縮合ポリマー(NALCO(登録商標)603はNalco Chemical Companyから市販されている)を使用し、それがほぼ35%のDTC官能基の量を包含するように変性することにより、以下のポリマー製品(8702−1)を製造した。得られた製品は、本質的にNALMET(登録商標)8702(NALMET(登録商標)8702はNalco Chemical Companyから市販されている)の高分子量バージョンであった。150mLのNALCO(登録商標)603ポリマーの試料を50%のNaOHを用いて9.1にpH調節した。123.54gのpH調節したポリマーを還流コンデンサーと磁気撹拌棒を備えたフラスコに添加した。35mLの脱イオン(D.I.)水、36.5gの50%NaOHおよび0.24gのDowfax 2A1界面活性剤を次に添加した。この溶液を34℃まで温め、20.72gの二硫化炭素を注射器により少量ずつ1時間の時間にわたって添加した。添加が完了した後、反応温度を45℃まで上げ、混合物を撹拌し、追加で3時間加熱した。得られた透明な、金色の溶液は、12.3のpHと28%の理論ポリマー固体値(ナトリウム塩として)を有していた。
NALCO(登録商標)634(若干高分子量バージョンのNALCO(登録商標)603)を使用し、それがほぼ35%のDTC官能基(NALCO(登録商標)634はNalco Chemical Companyから市販されている)を包含するように変性することにより、以下のポリマー製品(8702−2)を製造した。得られた製品は、本質的にNALMET(登録商標)8702の高分子量バージョンであった。8702−2の分子量は8702−1の分子量よりも高かった。150mLのNALCO(登録商標)634ポリマーの試料を50%のNaOHを用いて9.0にpH調節した。100.0gのpH調節したポリマーを還流コンデンサーと磁気撹拌棒を備えたフラスコに添加した。23.9mLのD.I.水、27.35gの50%NaOHおよび0.18gのDowfax 2A1界面活性剤を次に添加した。この溶液を34℃まで温め、l5.54gの二硫化炭素を注射器により少量ずつ1時間の時間にわたって添加した。添加が完了した後、反応温度を45℃まで上げ、混合物を撹拌し、追加で3時間加熱した。得られた透明な、金色の溶液は、12.3のpHと27%の理論ポリマー固体値(ナトリウム塩として)を有していた。
以下のマイクロフィルター実験(実施例4−9)のすべてにおいて、ガロン/ft2/日(GFD)での膜流束またはGFDBでの透過性を使用して、性能データを比較した。膜透過性は、バール(B)で表わした膜間圧力(TMP)で割った流束(GFDでの)として定義される。
指定された間隔で短い逆パルスを印加する連続逆パルス装置が備えられたT1−70卓上型セラミック膜ミクロ濾過パイロットユニット(U.S.Filter、ワレンダール、ペンシルベニア州)を次の実施例のすべてにおいて使用した。逆パルスは、ほぼ2分間毎に動作するように設定され、2−3秒の継続時間を有していた。特記しない限り、「連続再循環モード」でマイクロフィルターを動作した。4リットルの供給液を毎日新しく調製し、処理に添加するのに先立ち、特記しない限りpHを7.0と7.5の間で調節した。次に、これを処理液と一緒に合わせ、へらにより静かに撹拌して、混合(約30秒)し、必要ならばpH調節し、マイクロフィルタータンク中に入れた。試験は通常4−8時間の間継続した。連続再循環モードにおいては、濃縮液と透過液の流れをマイクロフィルタータンク中で一緒に合わせ、一定組成の供給液を与えた。
温度:24℃から30℃
P入口:10−25psig
P出口:10−25psig(TMP=0.6から1.7バール)
流量:2.5gpm
実験的な圧力とTMPはいくつかの実験時に広く変わったために、セラミックマイクロフィルターのすべての実験結果(流束)を温度補正した透過性の形で示す。
清浄な水の透過性が450−500GFDB範囲以下に低下した場合に、膜をクリーニングした。脱イオン水はセラミック膜の孔を汚染するのに充分な溶解物を含んでいるために、Milli−Q精製水を用いて、すべての清浄な水の流束を得た。Milli−Q水は、脱イオンされ、活性炭、UV光および粒子濾過により処理した水道水から製造された、18メガオームの高純度水である。
一連の実験において、標準試験溶液を用いて、膜を通る流束をモニターした。ジメチルジチオカルバミン酸塩(DMDTC)により、あるいはジチオカルバミン酸塩官能基を含有するように誘導化されたポリマーにより、この溶液を処理した。ベンチマークとしてDMDTCをこの試験に含めた。すべてのポリマー製品を200ppmの添加量で供給した。下記の表2は、種々の化学薬品に対する結果を要約する。
標準スラリー溶液(1000ppmSiO2、10ppmCu)を用いて、NALMET(登録商標)8702を試験した。この製品を200ppmの添加量で供給した。7と11の間のpH値で性能を試験した。以下の表3は、試験結果を要約する。流束の増大はpH7と9で良好であり、pH11で劣っていた(未処理の溶液の値に近づく)。Cuは、すべての試料の透過液において<0.5ppmであった。
2000ppmのSiO2と10ppmのCuを含む実験溶液を種々の添加量のNALMET(登録商標)8702により処理した。これらの条件下でCu除去に必要とされる理論量のNALMET(登録商標)8702は、200ppmである(20:1製品/Cu比)。表4に示すように、Cuを1ppmCu未満まで除去するのに必要とされるよりも少ない添加量で流束の増大が認められた。添加量を増加した結果、約500ppmの製品まで流束の増大が得られた。この濃度以上では、更なる性能の向上は見られなかった。理論的最小値あるいはそれ以上で、Cuは1ppm未満まで除去された。
実施例1で製造したポリ(DAADTC)製品を標準条件下(1000ppmのSiO2、10ppmのCu、pH7)、種々の添加量で試験した。下記の表5に示すように、300から600ppmの範囲の添加量で、未処理の溶液に比べて流束の増大が見られた。最終銅濃度はすべての場合において0.1ppm未満であった。
研磨固体を含む溶液における流束の増大とCu除去について、NALMET(登録商標)8702を試験した。試験した固体は、アルミナスラリー(MSW1500−Rodel,Inc.、ニューアーク、デラウェア州から市販)とヒュームドシリカスラリー(Semi−Sperse 12−Cabot Corporation、ボストン、マサチューセッツ州から市販)であった。試験を1000ppmの固体と10ppmのCuで行った。加えて、600−800ppmの重亜硫酸塩によりこのアルミナスラリーを前処理して、スラリー中に存在する過剰の酸化剤を除去した。すべての場合に、このポリマーを200ppmで添加した。以下の表6および7に示すように、未処理(ブランク)溶液に比べて、良好な流束の増大が見られた。この実験の間、透過液中のCu濃度は、1ppm(アルミナスラリー)未満であり、0.1ppm(ヒュームドシリカスラリー)未満であった。
2000ppmのヒュームドシリカ固体と10ppmのCuを含む試験溶液をNALMET(登録商標)8702により200および400ppmの添加量で処理した。未処理のヒュームドシリカスラリーに比べて、200ppmの処理物の添加は、表8に示すように、流束の増大を生じた。さらに高添加量のNALMET(登録商標)8702は、流束をさらに向上させなかった。透過液試料中のCu濃度は検出限界以下であった。
Claims (6)
- さらに、アクリレート、アクリルアミドまたはビニル含有モノマーのうち少なくとも1つを含む請求項1に記載の化合物。
- 研磨固体を含有する半導体廃水から重金属イオンを沈殿させ、同時にマイクロフィルターの運転を向上させる方法であって、
(a)請求項1に記載の、有効量のジチオカルバミン酸塩化合物を、少なくとも200ppmの量で研磨固体を含有する半導体廃水に添加する工程であって、
前記重金属イオンが、銅、ニッケル、亜鉛、鉛、水銀、カドミウム、銀、鉄、マンガンおよびこれらの混合物からなる群から選ばれ、
前記研磨固体が、アルミナ、シリカ、セリア、ゲルマニア、チタニア、ジルコニアおよびこれらの混合物からなる群から選ばれ、
前記マイクロフィルターが0.1から5ミクロンの範囲の分画分子サイズを有しており、
請求項1に記載の式中のRの合計単位の35%から50%がCS2である
ところの工程と、
(b)前記重金属イオンを沈殿させ、そして、前記廃水をマイクロフィルターを通過させて、研磨固体および沈殿した重金属イオンを除去し、マイクロフィルターの運転を向上し、前記運転によって、1日に、1フィート平方当り少なくとも48ガロン(GFD)(1平方メートル当たり少なくとも2.2637×10−5m3)の増加量をもって、平均流束の量を増加させる工程と
を含む方法。 - 前記ジチオカルバミン酸塩化合物を廃水に添加するのに先立ち、半導体廃水のpHを4と12の間で調節する工程をさらに含む請求項3に記載の方法。
- 前記半導体廃水がさらに酸化剤を含む請求項3に記載の方法。
- 前記酸化剤がヨウ素酸カリウム、フェリシアン化カリウム、過酸化水素、硝酸酸化鉄、硝酸銀、硝酸、硫酸、次亜塩素酸カリウム、過マンガン酸カリウム、過硫酸アンモニウム、アンモニウムペルオキシ二硫酸塩、過酢酸、過ヨウ素酸、ペルオキシモノ硫酸、カリウムペルオキシモノ硫酸、ペルオキシモノ硫酸、マロンアミド、尿素−過酸化水素、重クロム酸カリウム、臭素酸カリウム、三酸化バナジウム、酸素飽和水、オゾン化水およびこれらの混合物からなる群から選ばれる請求項5に記載の方法。
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