JP2002534564A - 半導体廃水から金属イオンを沈殿させ、同時にマイクロフィルターの運転を向上させる組成物および方法 - Google Patents

半導体廃水から金属イオンを沈殿させ、同時にマイクロフィルターの運転を向上させる組成物および方法

Info

Publication number
JP2002534564A
JP2002534564A JP2000593549A JP2000593549A JP2002534564A JP 2002534564 A JP2002534564 A JP 2002534564A JP 2000593549 A JP2000593549 A JP 2000593549A JP 2000593549 A JP2000593549 A JP 2000593549A JP 2002534564 A JP2002534564 A JP 2002534564A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wastewater
water
soluble polymer
microfilter
potassium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000593549A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002534564A5 (ja
Inventor
ソルメン，クリスティン，エス．
コワルスキー，アンジェラ，エス．
ツァイハー，イー．，エイチ．，ケレ
ワード，ウィリアム，ジェイ．
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ChampionX LLC
Original Assignee
Nalco Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nalco Chemical Co filed Critical Nalco Chemical Co
Publication of JP2002534564A publication Critical patent/JP2002534564A/ja
Publication of JP2002534564A5 publication Critical patent/JP2002534564A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
    • C02F1/54—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities using organic material
    • C02F1/56—Macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00—Nature of the contaminant
    • C02F2101/10—Inorganic compounds
    • C02F2101/20—Heavy metals or heavy metal compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/34—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32
    • C02F2103/346—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32 from semiconductor processing, e.g. waste water from polishing of wafers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S210/00—Liquid purification or separation
    • Y10S210/902—Materials removed
    • Y10S210/911—Cumulative poison
    • Y10S210/912—Heavy metal

Landscapes

  • Organic Chemistry (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Removal Of Specific Substances (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
  • Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)

Abstract

(57)【要約】 ジチオカルバミン酸塩官能基を含有する有効量の水溶性ポリマーを排水に添加することにより、研磨固体を含む半導体廃水からの可溶性重金属イオンの沈殿と同時にマイクロフィルター運転の向上が達成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 （発明の分野） 本発明は、全般的には廃水処理に関し、特に、半導体廃水から金属イオンを沈
殿させ、同時にマイクロフィルター運転を向上させる組成物と方法に関する。
【０００２】 （発明の背景） 銅接続技術の進展まで、半導体工業による多層マイクロチップの製造からの廃
水に銅が見出されることはなかった。銅は、低電気抵抗のためにいまではアルミ
ニウムおよびタングステンの代替物として使用される。多層チップの製造過程に
おいて、誘電層（ケイ素二酸化物または低−ｋポリマー）の堆積、接続パターン
（トレンチおよびバイア）の誘電層へのエッチング、トレンチおよびバイアへの
銅金属の堆積、およびチップの次層の作製に先立ち、過剰の銅を除去し、平らな
表面を作るために化学機械的研磨（ＣＭＰ）を含む、多数の工程が存在する。Ｃ
ＭＰ工程は、研磨パッドおよびアルミナ等の研磨固体、過酸化物等の酸化剤、ク
エン酸塩等のキレート化剤、および腐食防止剤等の他の添加剤を含む独自の研磨
スラリーを使用することにより行われる。それゆえ、生成する廃水はキレート化
された銅、酸化剤、添加剤および研磨固体を含む。２００−５０００ｍｇ／Ｌの
濃度での研磨固体の存在により、この廃水は、電気メッキからの通常の金属含有
廃水と異なる。
【０００３】 マイクロチップ製造の金属−ＣＭＰ工程からの廃水は、元のスラリー組成物お
よびＣＭＰツールの設計および運転パラメータに依って広く変わり得る。スラリ
ーは、研磨時のリンス水により希釈される。リンス水の使用量は、廃水中の金属
と研磨固体のレベルを決定する。
【０００４】 金属−ポリマー固体の沈殿を生じる、銅−エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤ
ＴＡ）等の遷移金属錯体を含有するいくつかのポリマー化学薬品が廃水処理に使
用されてきた。これらのポリマー化学薬品は、アミン官能基を含有し、二硫化炭
素と反応されて、ポリマー骨格上にジチオカルバミン酸塩（ＤＴＣ）官能基を形
成することができる。このようなポリマーの一つは、米国特許第５，１６４，０
９５号に記載されているような、二硫化炭素変性の二塩化エチレン−アンモニア
縮合ポリマーである。この’０９５特許に開示されているポリマーは、低分子量
の、高分岐性の材料である。二硫化炭素による変性に好適な他のポリマー骨格は
、米国特許第５，３８７，３６５に記載されているポリエチレンイミン（ＰＥＩ
）ポリマーを含み、エピクロロヒドリンと多官能基アミンの縮合ポリマーは米国
特許第４，６７０，１６０号と第５，５００，１３３号に開示され、ポリアリル
アミンポリマーはＥＰ０ ５８１ １６４ Ａ１に教示されている。しかしなが
ら、これらの公知のポリマー化学薬品にも拘らず、廃水を効率的に処理し、低レ
ベルの製品不純物（例えば、毒性で、悪臭のある硫化ナトリウム）、製造の相対
的な容易さ（例えば、二塩化エチレンにおけるガス状アンモニアとＰＥＩにおけ
るアゼリジンを回避すること）および改善された固体／液体分離性能等の他の望
ましい属性を保有する、ＤＴＣ官能基を含有する新しいポリマーに対するニーズ
がなお存在する。
【０００５】 米国特許第５，３４６，６２７号は、可溶性金属の処理と、マイクロフィルタ
ーを含む濾過装置での沈殿した固体の除去にＤＴＣ官能基を含有するポリマーを
使用することを述べている。しかしながら、’６２７特許は、半導体廃水からの
金属イオンの沈殿と同時にマイクロフィルター運転を向上させるのにこのような
ポリマーを使用することは述べていない。
【０００６】 マイクロフィルター運転時に問題になる２つのパラメータがある。一つは、膜
面積で割った精製した水の流量として定義される流束である。ミクロ濾過におい
て、これを表わす一つの方法は、１日当たり１平方フィートの膜面積当たりの純
水のガロンあるいはＧＦＤとしてである。これを表わすもう一つの方法は、膜間
圧力（ＴＭＰ）により割った流束である透過性である。透過性は、基本的には系
圧力の変化を考慮に入れた「正規化された」流束である。流束および透過性の双
方は、膜の水の通過を記載するために使用されるが、互換性はない。問題になる
もう一つのパラメータは、固体の通過である。一般的に言って、マイクロフィル
ターの目的は、バルク液中で液体から固体を分離することである。マイクロフィ
ルターは画然とした分画サイズ（製造方法に依ってほぼ０．１から５．０ミクロ
ンの範囲）を持つために、理論的には、分画より大きい粒子のみが保持される。
しかしながら、すべての膜工程の場合がそうであるように、全固体のあるパーセ
ンテージが膜を通過する。それゆえ、供給水の初期濃度が増加するに従って、透
過液の固体含量の絶対値も増加する。しかしながら、フィルターを通過する材料
のパーセンテージは、膜の損傷が起こらない限りほぼ同一である。
【０００７】 多数の運転においては、清澄器と媒体フィルターの機能を果たすために、ミク
ロ濾過が使用される。これは、ミクロ濾過が小さい足跡を有し、慣用の技術より
も急速にこれらの機能を果たすためである。それゆえ、マイクロフィルターを良
好な運転条件に維持することは重要である。ミクロ濾過についての主要な問題は
、このフィルターが微細な固体により汚染を起こすか、あるいは詰まる可能性が
あるということである。これは、ユニット中で流束を減少させ、フィルターをク
リーニングのためにラインから取り外さなければならない。マイクロフィルター
運転は、流束の値を増大し、汚染発生の間の時間を延長する結果をもたらす添加
剤を使用することにより向上され得る。流束の増大は、装置が休止する時間を減
少させ、それにより全体の効率を増大させるために望ましい。
【０００８】 それゆえ、金属で汚染した廃水を効率的に処理し、低レベルの製品不純物、製
造の相対的な容易さおよび改善された固体／液体分離性能等の他の望ましい性質
を保有するＤＴＣ官能基を含有する新しい水溶性ポリマーを提供することは望ま
しいことである。研磨固体を含む半導体廃水から金属イオンを沈殿させるのと同
時にマイクロフィルター運転を向上させるのにこのようなポリマーを使用する方
法を提供することも望ましい。
【０００９】 （発明の要約） 本発明は、ＤＴＣ官能基を含有する新しい水溶性ポリマーおよび研磨固体を含
む半導体廃水から金属イオンを沈殿させると同時にマイクロフィルター運転を向
上させる方法にこのようなポリマーを使用することを指向する。
【００１０】 ＤＴＣ官能基を含有するこの新しい水溶性ポリマーは、半導体廃水を効率的に
処理し、低レベルの製品不純物を含み、比較的容易に製造され、そして改善され
た固体／液体分離性能を示す。ＤＴＣ官能基を含有する有効量のこのポリマーま
たは類似のポリマーを半導体廃水に添加する場合、廃水から可溶性重金属イオン
を沈殿させるのと同時にマイクロフィルター運転を向上させることが達成される
。
【００１１】 （発明の詳細な説明） 本発明は、研磨固体を含む半導体廃水からの金属イオンを沈殿させ、同時にマ
イクロフィルター運転を向上させる組成物と方法を指向する。
【００１２】 本発明の組成物は、ＤＴＣ官能基を含有する水溶性ポリマーであり、下式
【００１３】
【化２】
【００１４】 （式中、ＲはＨまたはＣＳ2Ｘ+であり、Ｘ+はアルカリ金属（ナトリウムまたは
カリウム等の）、アルカリ土類金属またはアンモニウムであり、ｎはこのポリマ
ーが約３０００から約１００，０００の範囲の合計分子量となるような繰り返し
単位の数を持つ） を有する。
【００１５】 新しい組成物は、ジアリルアミンを重合し、次に引き続いてそれをＣＳ2と反
応させて、ポリマー骨格上にＤＴＣ官能基を形成することにより製造される。ジ
アリルアミンは、また、好適なモノマーと共重合されてもよい。例えば、この好
適なモノマーは、アニオン、カチオンあるいは中性電荷を有してよく、アクリレ
ート、アクリルアミドまたはビニル含有モノマーを含んでよい。この合成は下記
に示される。
【００１６】
【化３】
【００１７】
【化４】
【００１８】 ポリマー上のＤＴＣ官能基（すなわち、ＣＳ- 2Ｘ+としてのＲのパーセント）
の量は制御可能であり、少なくとも約５％、好ましくは約２０から約７０％であ
るべきである。ＤＴＣ官能基を含有する生成水溶性ポリマーは、ポリエチレンイ
ミン型骨格を用いる他の既知のＤＴＣポリマーよりもさらに線状である、すなわ
ち分岐が少なく、環状アミンを含む。また、本発明のポリマーは、ポリマー骨格
中に２級アミン基のみを含み、不安定なナトリウムジチオカルバミン酸塩の形成
と引き続いての硫化ナトリウムへの分解が除外される。
【００１９】 本発明の方法によれば、ＤＴＣ官能基を含有する新しい水溶性ポリマーまたは
既知の水溶性ポリマーが使用されて、研磨固体を含む半導体廃水からの金属イオ
ンを沈殿させ、同時にマイクロフィルター運転を向上させる。
【００２０】 水溶性ポリマーはＤＴＣ官能基を含有し、式Ｒ’2Ｎ−Ｒを有する。式中、Ｒ
’はアルキル基、アリール基またはこれらの置換誘導体であり、ＲはＨまたはＣ
Ｓ2Ｘ+であり、Ｘ+はアルカリ金属（ナトリウムまたはカリウム等の）、アルカ
リ土類金属またはアンモニウムである。当業者ならば、Ｒ’2Ｎ−Ｒはポリマー
中の繰り返し単位であることを認識するであろう。本発明の実施で使用され得る
水溶性ポリマーは、参照としてここに組み込まれている、好ましくは場合によっ
ては米国特許第５，３８７，３６５号のポリジアリルアミン、ポリエチレンイミ
ンとエピクロロヒドリンおよび多官能基のアミン縮合ポリマーのジチオカルバミ
ン酸塩誘導体を含む。ここで使用されるように、「ポリエチレンイミン」は、二
塩化エチレンとアンモニアから製造される縮合ポリマーを含む意味である。変性
されて、ジチオカルバミン酸塩官能基を形成することができる、第一級あるいは
第二級アミン基を含むいかなる好適なポリマーも本発明の実施で使用されてよい
。
【００２１】 半導体廃水から沈殿され得る可溶性重金属イオンは、銅、ニッケル、亜鉛、鉛
、水銀、カドミウム、銀、鉄、マンガンおよびこれらの混合物を含む。
【００２２】 半導体廃水中に存在し得る研磨固体は、アルミナ、シリカ、セリア、ゲルマニ
ア、チタニア、ジルコニアおよびこれらの混合物を含む。
【００２３】 酸化剤も半導体廃水中に存在してもよい。これらの酸化剤は、ヨウ素酸カリウ
ム、フェリシアン化カリウム、過酸化水素、硝酸酸化鉄、硝酸銀、硝酸、硫酸、
次亜塩素酸カリウム、過マンガン酸カリウム、過硫酸アンモニウム、アンモニウ
ムペルオキシ二硫酸塩、過酢酸、過ヨウ素酸、ペルオキシモノ硫酸、カリウムペ
ルオキシモノ硫酸、ペルオキシモノ硫酸、マロンアミド、尿素−過酸化水素、重
クロム酸カリウム、臭素酸カリウム、三酸化バナジウム、酸素飽和水、オゾン化
水およびこれらの混合物を含む。
【００２４】 本発明の必須要件ではないが、この酸化剤は、場合によっては廃水から除去さ
れてよい。これらの酸化剤を除去する方法は、当業者には概ね知られている（例
えば、米国特許第５，４６４，６０５号を参照）。しかしながら、この酸化剤が
廃水から除去されない場合、あるいはいかなる酸化剤も残存する場合には、これ
らは、本発明の方法により還元されてよい。
【００２５】 ＤＴＣ官能基を含有する水溶性ポリマーは、研磨固体を含む半導体廃水からの
金属イオンを効率的に沈殿させ、マイクロフィルター運転を同時に向上させる量
で添加される。ＤＴＣポリマーは、少なくとも廃水から重金属イオンを沈殿する
のに有効な量で廃水に添加されることが好ましい。このような有効量の添加は、
マイクロフィルター運転を同時に向上させる。マイクロフィルターを通る透過液
の流束をさらに増加させることが望ましい場合には、金属を沈殿させる量よりも
多い量を廃水に添加することができる。添加量の調節は、マイクロフィルター運
転の業者により手動で、あるいはポリマー−特異的センサーの使用により自動で
行われ得る。
【００２６】 ＤＴＣポリマーは、好ましくはマイクロフィルターの前にいかなる慣用の方法
によっても、半導体廃水に添加され得る。また、ＤＴＣポリマーの半導体廃水へ
の添加に先立ち、廃水のｐＨは、好ましくは４と１２の間に調節されてよい。さ
らに好ましくは、ｐＨは、６と１０の間に調節されてよく、７と９の間が最も好
ましい。
【００２７】 本発明の実施での使用に好適なマイクロフィルターの形は、当業者には概ね知
られている。このようなマイクロフィルターは、それぞれ、Ｕ．Ｓ．Ｆｉｌｔｅ
ｒ Ｍｅｍｂｒａｌｏｘ（登録商標）およびＵ．Ｓ．Ｆｉｌｔｅｒ Ｍｅｍｔｅ
ｋユニット等のセラミック膜および合成膜ユニットを含む。このマイクロフィル
ターは約０．１から約５ミクロンの範囲、さらに好ましくは、約０．１から約１
ミクロンの範囲の分画分子サイズを有することが好ましい。
【００２８】 本発明者らは、ＤＴＣ官能基を含有する新しい水溶性ポリマーは、半導体廃水
を効率的に処理し、低レベルの製品不純物を含み、比較的容易に製造され、改善
された固体／液体分離特性を示すことを見出した。さらには、ＤＴＣ官能基を含
有する有効量の本発明のポリマーまたは類似のポリマーを半導体廃水に添加する
場合、廃水からの可溶性重金属イオンの沈殿とマイクロフィルター運転の向上が
同時に達成されることが見出された。ＤＴＣ官能基を含有するポリマーは処理ｐ
Ｈで負に帯電し、カチオン性ポリマーは流束の増大の用途等で通常使用される（
Ｗａｔｅｒ Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ Ｍｅｍｂｒａｎｅ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ、Ａ
ｍｅｒｉｃａｎ Ｗａｔｅｒ Ｗｏｒｋｓ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ Ｒｅｓｅ
ａｒｃｈ Ｆｏｕｎｄａｔｉｏｎ、Ｌｙｏｎｎａｉｓｅｄｅｓ ｄｅｓ Ｅａｕ
ｘ、Ｗａｔｅｒ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ ｏｆ Ｓｏｕｔｈ
Ａｆｒｉｃａ、ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ、１９９６、Ｃｈａｐ．１６、Ｃｏａ
ｇｕｌａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｍｅｍｂｒａｎｅ Ｓｅｐａｒａｔｉｏｎを参照と
）ので、これは驚くべきことである。
【００２９】 小分子沈殿剤のナトリウムジメチルジチオカルバミン酸塩（ＤＭＤＴＣ）をカ
チオン性凝固剤と共に使用することは、金属イオンの沈殿およびマイクロフィル
ター装置を用いての廃水からの除去についての当業者には知られている。しかし
ながら、その場合には、分散性と金属含有量の変化するレベルにより凝固剤と沈
殿剤について適切な添加量の個別の決定を行わなければならない。凝固剤製品は
流束を改善するかもしれないが、性能の一貫性が劣り、すなわち、透過液流束と
品質が低減するという事は起こる。ＤＴＣ官能基を含有するポリマーを使用する
利点は、透過液の流束と透過液の品質に対する膜ユニットの増大した性能、並び
に変化する廃水組成物に対する性能の一貫性である。また、使用される薬品と最
終的には、生成する薬品スラッジの量はＤＭＤＴＣと凝固剤に比べてＤＴＣポリ
マーにより大いに低減される。
【００３０】 （実施例） 次の実施例は、本発明を例示し、当業者に本発明を使用する方法を教示するこ
とを意図している。これらの実施例は本発明を限定すること、またはいかなる方
法であれその保護を意図したものではない。
【００３１】 実施例１ ポリジアリルアミンジチオカルバミン酸塩（ポリ（ＤＡＡＤＴＣ））の製造 ２４．２５ｇの濃ＨＣｌ水溶液を２４．２５ｇの冷却されたジアリルアミンに
添加した。この混合物を０．６にｐＨ調節し、ｌ１．６２ｇの水と０．２５ｍＬ
のギ酸を添加した。この溶液を撹拌し、窒素で掃気し、次に８０℃まで温めた。
３．７１ｇの過硫酸ナトリウムと５．７ｇの脱イオン水からなる開始剤溶液を調
整し、注射器ポンプを用いて、１時間の時間にわたって連続して添加した。反応
が開始して約５分間後、この溶液は発熱を開始し、還流（１０６℃）させられた
。発熱は１／２時間後おさまり始めた。開始剤の添加の完了に続いて、反応物を
８０℃でもう１時間温め、次に冷却した。１０．３ｇの水とｐＨを７．５に調節
するために、数滴のＮａＯＨを冷却した混合物に添加した。最終のポリジアリル
アミン製品は金色であり、８０ｃｐｓの粘度を有していた。理論的なポリマー固
体（遊離アミンとして）は３０％であった。
【００３２】 ポリ（ＤＡＡＤＴＣ）化合物を製造するのに次の方法を使用した。すなわち、
５０％のアミン基をＣＳ2により官能基化し、上記で製造した２５．０ｇのポリ
ジアリルアミン製品を９．０ｇの２５％ＮａＯＨ溶液と混合し、次に、１２．０
ｍＬのメタノールを添加して、いかなる不溶性ポリマーも溶解させた。引き続き
、追加の６．２ｇの２５％ＮａＯＨ溶液を１滴のＤｏｗｆａｘ ２Ａ１界面活性
剤と共にこの混合物に添加した。次に、この混合物を反応フラスコに入れ、３５
℃まで温めた。次に、この反応物に２．９４ｇのＣＳ2を注射器により少量ずつ
１時間の時間にわたって添加した。ＣＳ2添加の過程で、この溶液を均質に保つ
ために、小量（合計５．７ｇ）の２５％ＮａＯＨを添加した。ＣＳ2添加が完了
した後、この溶液温度を４５℃まで上げ、撹拌しながら２時間保った。得られた
透明な、金褐色の溶液は１２．２のｐＨと、１９％の理論ポリマー固体値（ナト
リウム塩として）を有していた。
【００３３】 実施例２ ＮＡＬＣＯ（登録商標）６０３、高分子量の二塩化エチレン−アンモニア縮合
ポリマー（ＮＡＬＣＯ（登録商標）６０３はＮａｌｃｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃ
ｏｍｐａｎｙから市販されている）を使用し、それがほぼ３５％のＤＴＣ官能基
の量を包含するように変性することにより、以下のポリマー製品（８７０２−１
）を製造した。得られた製品は、本質的にＮＡＬＭＥＴ（登録商標）８７０２（
ＮＡＬＭＥＴ（登録商標）８７０２はＮａｌｃｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐ
ａｎｙから市販されている）の高分子量バージョンであった。１５０ｍＬのＮＡ
ＬＣＯ（登録商標）６０３ポリマーの試料を５０％のＮａＯＨを用いて９．１に
ｐＨ調節した。１２３．５４ｇのｐＨ調節したポリマーを還流コンデンサーと磁
気撹拌棒を備えたフラスコに添加した。３５ｍＬの脱イオン（Ｄ．Ｉ．）水、３
６．５ｇの５０％ＮａＯＨおよび０．２４ｇのＤｏｗｆａｘ ２Ａ１界面活性剤
を次に添加した。この溶液を３４℃まで温め、２０．７２ｇの二硫化炭素を注射
器により少量ずつ１時間の時間にわたって添加した。添加が完了した後、反応温
度を４５℃まで上げ、混合物を撹拌し、追加で３時間加熱した。得られた透明な
、金色の溶液は、１２．３のｐＨと２８％の理論ポリマー固体値（ナトリウム塩
として）を有していた。
【００３４】 実施例３ ＮＡＬＣＯ（登録商標）６３４（若干高分子量バージョンのＮＡＬＣＯ（登録
商標）６０３）を使用し、それがほぼ３５％のＤＴＣ官能基（ＮＡＬＣＯ（登録
商標）６３４はＮａｌｃｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙから市販されて
いる）を包含するように変性することにより、以下のポリマー製品（８７０２−
２）を製造した。得られた製品は、本質的にＮＡＬＭＥＴ（登録商標）８７０２
の高分子量バージョンであった。８７０２−２の分子量は８７０２−１の分子量
よりも高かった。１５０ｍＬのＮＡＬＣＯ（登録商標）６３４ポリマーの試料を
５０％のＮａＯＨを用いて９．０にｐＨ調節した。１００．０ｇのｐＨ調節した
ポリマーを還流コンデンサーと磁気撹拌棒を備えたフラスコに添加した。２３．
９ｍＬのＤ．Ｉ．水、２７．３５ｇの５０％ＮａＯＨおよび０．１８ｇのＤｏｗ
ｆａｘ ２Ａ１界面活性剤を次に添加した。この溶液を３４℃まで温め、ｌ５．
５４ｇの二硫化炭素を注射器により少量ずつ１時間の時間にわたって添加した。
添加が完了した後、反応温度を４５℃まで上げ、混合物を撹拌し、追加で３時間
加熱した。得られた透明な、金色の溶液は、１２．３のｐＨと２７％の理論ポリ
マー固体値（ナトリウム塩として）を有していた。
【００３５】 一般的な実験条件 以下のマイクロフィルター実験（実施例４−９）のすべてにおいて、ガロン／
ｆｔ2／日（ＧＦＤ）での膜流束またはＧＦＤＢでの透過性を使用して、性能デ
ータを比較した。膜透過性は、バール（Ｂ）で表わした膜間圧力（ＴＭＰ）で割
った流束（ＧＦＤでの）として定義される。
【００３６】
【式１】
【００３７】 標準温度で、透過性（Ｐ0）は
【００３８】
【式２】
【００３９】 と表わされる。
【００４０】 種々の温度下での運転に対しては、適切な補正を行わなければならない。実験
において可能な場合には、温度を一定あるいはほぼ一定に保って、温度による流
束の変化を最小にした。きっちりとした制御が可能でない場合には、補正を行っ
て、温度で誘起された流束変化を計算に入れた。
【００４１】 セラミックマイクロフィルターの方法 指定された間隔で短い逆パルスを印加する連続逆パルス装置が備えられたＴ１
−７０卓上型セラミック膜ミクロ濾過パイロットユニット（Ｕ．Ｓ．Ｆｉｌｔｅ
ｒ、ワレンダール、ペンシルベニア州）を次の実施例のすべてにおいて使用した
。逆パルスは、ほぼ２分間毎に動作するように設定され、２−３秒の継続時間を
有していた。特記しない限り、「連続再循環モード」でマイクロフィルターを動
作した。４リットルの供給液を毎日新しく調製し、処理に添加するのに先立ち、
特記しない限りｐＨを７．０と７．５の間で調節した。次に、これを処理液と一
緒に合わせ、へらにより静かに撹拌して、混合（約３０秒）し、必要ならばｐＨ
調節し、マイクロフィルタータンク中に入れた。試験は通常４−８時間の間継続
した。連続再循環モードにおいては、濃縮液と透過液の流れをマイクロフィルタ
ータンク中で一緒に合わせ、一定組成の供給液を与えた。
【００４２】 ウェハー加工で使用される通常のスラリー組成物は、５０ｎｍから３００ｎｍ
もの大きなサイズの範囲の研磨粒子を含むことがあり得る。この研究群において
見られる種々の試料に基づいて、Ｎａｌｃｏ標準試験溶液は、１０００ｐｐｍの
７５ｎｍ（０．０７５μ）のコロイド状ＳｉＯ2粒子（ＮＡＬＣＯ（登録商標）
２３２９、４０％シリカ混合物）からなると決められた。この溶液にクエン酸銅
アンモニウムを添加して、０から１０ｐｐｍの最終Ｃｕ濃度を得た。
【００４３】 以下の実施例においてある場合に見ることができるように、スラリー固体の濃
度、スラリー固体の内容、Ｃｕの濃度および標準混合物のｐＨを変えた。マイク
ロフィルターの運転条件を次のパラメータ内に保った。 温度：２４℃から３０℃ Ｐ入口：１０−２５ｐｓｉｇ Ｐ出口：１０−２５ｐｓｉｇ（ＴＭＰ＝０．６から１．７バール） 流量：２．５ｇｐｍ 実験的な圧力とＴＭＰはいくつかの実験時に広く変わったために、セラミック
マイクロフィルターのすべての実験結果（流束）を温度補正した透過性の形で示
す。
【００４４】 セラミック膜のクリーニング方法 清浄な水の透過性が４５０−５００ＧＦＤＢ範囲以下に低下した場合に、膜を
クリーニングした。脱イオン水はセラミック膜の孔を汚染するのに充分な溶解物
を含んでいるために、Ｍｉｌｌｉ−Ｑ精製水を用いて、すべての清浄な水の流束
を得た。Ｍｉｌｌｉ−Ｑ水は、脱イオンされ、活性炭、ＵＶ光および粒子濾過に
より処理した水道水から製造された、１８メガオームの高純度水である。
【００４５】 クリーニング溶液は、２％ＮａＯＨと１０００ｐｐｍの漂白剤からなっていた
。この溶液を約７０℃まで加熱し、膜を通してほぼ１時間再循環した。冷却後、
ユニットを排水し、Ｍｉｌｌｉ−Ｑ水によりリンスした。
【００４６】 以下の表１に示したポリマーを次の実施例で使用した。
【００４７】
【表１】
【００４８】 ＮＡＬＭＥＴ（登録商標）８７０２とＮＡＬＭＥＴ（登録商標）１６８９（Ｎ
ａｌｃｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ、ネーパービル、イリノイ州から
市販）およびポリマー８７０２−１と８７０２−２（それぞれ実施例２および３
で製造された）は、すべて二塩化エチレンとアンモニアから製造された縮合ポリ
マーからのポリエチレンイミンのＤＴＣ誘導体である。Ｂｅｔｚ１７２２−１５
０（ＢｅｔｚＤｅａｒｂｏｒｎ、トレボース、ペンシルベニア州から市販）は、
ポリエチレンイミン（ＰＥＩ）のＤＴＣ誘導体である。ポリジアリルアミンのＤ
ＴＣ誘導体を（ポリ（ＤＡＡＤＴＣ）実施例１で製造した。
【００４９】 実施例４ 一連の実験において、標準試験溶液を用いて、膜を通る流束をモニターした。
ジメチルジチオカルバミン酸塩（ＤＭＤＴＣ）により、あるいはジチオカルバミ
ン酸塩官能基を含有するように誘導化されたポリマーにより、この溶液を処理し
た。ベンチマークとしてＤＭＤＴＣをこの試験に含めた。すべてのポリマー製品
を２００ｐｐｍの添加量で供給した。下記の表２は、種々の化学薬品に対する結
果を要約する。
【００５０】 このポリマー製品のすべて（Ｂｅｔｚ１７２２−１５０を除く）は、未処理溶
液に対して、またＤＭＤＴＣにより処理された溶液に対して増大した流束（向上
）を示した。Ｂｅｔａ１７２２−１５０とＮＡＬＭＥＴ（登録商標）１６８９等
の高パーセントでＣＳ2包含する製品は、このマトリックス中で他よりも低性能
であった。それにも拘らず、これらの製品は、金属濃度、固体濃度、ｐＨ、添加
量などの最適化された条件下でマイクロフィルターを通しての流束を向上させる
と期待される。最終銅濃度は、すべての場合において１ｐｐｍ未満であった。
【００５１】
【表２】
【００５２】 実施例５ 標準スラリー溶液（１０００ｐｐｍＳｉＯ2、１０ｐｐｍＣｕ）を用いて、Ｎ
ＡＬＭＥＴ（登録商標）８７０２を試験した。この製品を２００ｐｐｍの添加量
で供給した。７と１１の間のｐＨ値で性能を試験した。以下の表３は、試験結果
を要約する。流束の増大はｐＨ７と９で良好であり、ｐＨ１１で劣っていた（未
処理の溶液の値に近づく）。Ｃｕは、すべての試料の透過液において＜０．５ｐ
ｐｍであった。
【００５３】
【表３】
【００５４】 実施例６ ２０００ｐｐｍのＳｉＯ2と１０ｐｐｍのＣｕを含む実験溶液を種々の添加量
のＮＡＬＭＥＴ（登録商標）７０２により処理した。これらの条件下でＣｕ除去
に必要とされる理論量のＮＡＬＭＥＴ（登録商標）８７０２は、２００ｐｐｍで
ある（２０：１製品／Ｃｕ比）。表４に示すように、Ｃｕを１ｐｐｍＣｕ未満ま
で除去するのに必要とされるよりも少ない添加量で流束の増大が認められた。添
加量を増加した結果、約５００ｐｐｍの製品まで流束の増大が得られた。この濃
度以上では、更なる性能の向上は見られなかった。理論的最少値あるいはそれ以
上で、Ｃｕは１ｐｐｍ未満まで除去された。
【００５５】
【表４】
【００５６】 実施例７ 実施例１で製造したポリ（ＤＡＡＤＴＣ）製品を標準条件下（１０００ｐｐｍ
のＳｉＯ2、１０ｐｐｍのＣｕ、ｐＨ７）、種々の添加量で試験した。下記の表
５に示すように、３００から６００ｐｐｍの範囲の添加量で、未処理の溶液に比
べて流束の増大が見られた。最終銅濃度はすべての場合において０．１ｐｐｍ未
満であった。
【００５７】
【表５】
【００５８】 実施例８ 研磨固体を含む溶液における流束の増大とＣｕ除去について、ＮＡＬＭＥＴ（
登録商標）８７０２を試験した。試験した固体は、アルミナスラリー（ＭＳＷ１
５００−Ｒｏｄｅｌ，Ｉｎｃ．、ニューアーク、デラウェア州から市販）とヒュ
ームドシリカスラリー（Ｓｅｍｉ−Ｓｐｅｒｓｅ １２−Ｃａｂｏｔ Ｃｏｒｐ
ｏｒａｔｉｏｎ、ボストン、マサチューセッツ州から市販）であった。試験を１
０００ｐｐｍの固体と１０ｐｐｍのＣｕで行った。加えて、６００−８００ｐｐ
ｍの重亜硫酸塩によりこのアルミナスラリーを前処理して、スラリー中に存在す
る過剰の酸化剤を除去した。すべての場合に、このポリマーを２００ｐｐｍで添
加した。以下の表６および７に示すように、未処理（ブランク）溶液に比べて、
良好な流束の増大が見られた。この実験の間、透過液中のＣｕ濃度は、１ｐｐｍ
（アルミナスラリー）未満であり、０．１ｐｐｍ（ヒュームドシリカスラリー）
未満であった。
【００５９】
【表６】
【００６０】
【表７】
【００６１】 実施例９ ２０００ｐｐｍのヒュームドシリカ固体と１０ｐｐｍのＣｕを含む試験溶液を
ＮＡＬＭＥＴ（登録商標）８７０２により２００および４００ｐｐｍの添加量で
処理した。未処理のヒュームドシリカスラリーに比べて、２００ｐｐｍの処理物
の添加は、表８に示すように、流束の増大を生じた。さらに高添加量のＮＡＬＭ
ＥＴ（登録商標）８７０２は、流束をさらに向上させなかった。透過液試料中の
Ｃｕ濃度は検出限界以下であった。
【００６２】
【表８】
【００６３】 本発明は、好ましい実施形態または例示の実施形態と関連して上述されている
が、これらの態様は、本発明を網羅するもの、あるいは限定するものとして意図
されていない。むしろ、本発明は、添付の特許請求に規定されているような、精
神と範囲に含まれているすべての代替、修正および同等物を含むとして意図され
ている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０２Ｆ 1/44 Ｃ０２Ｆ 1/44 Ｅ 1/62 1/62 Ｃ Ｄ Ｅ Ｚ 1/64 1/64 Ｚ Ｃ０８Ｆ 8/34 Ｃ０８Ｆ 8/34 Ｃ０８Ｇ 73/06 Ｃ０８Ｇ 73/06 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｕ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ， ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，Ｌ Ｋ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ， ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，Ｔ Ｊ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 コワルスキー，アンジェラ，エス． アメリカ合衆国，60614 イリノイ州，シ カゴ，ノース シェフィールド ＃２ 2435 (72)発明者 ツァイハー，イー．，エイチ．，ケレ アメリカ合衆国，60540 イリノイ州，ナ パヴィル，ダブリュー．ベントン アヴェ ニュー 213 (72)発明者 ワード，ウィリアム，ジェイ． アメリカ合衆国，60137 イリノイ州，グ レン エリン，エッジウッド コート 23 ダブリュー305 Ｆターム(参考） 4D006 GA07 KA03 KB13 KB30 KC15 KC16 KD17 KD24 KD30 KE15R MA22 MC03 PA01 PB23 PB27 PB70 PC01 4D025 AA09 AB21 AB22 AB23 AB25 AB27 AB28 AB29 BA17 BB01 DA01 4D038 AA08 AB66 AB67 AB68 AB69 AB71 AB73 AB74 AB76 AB87 BB09 4J043 PA02 QB15 QB51 RA33 SA02 SB01 TA43 TB01 UA761 UA762 YA05 YB08 YB37 ZA22 ZB34 4J100 AN14P BA54 CA01 CA31 DA38 HA44 HA61 HB25 HC69 JA11

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下式 【化１】 （式中、ＲはＨまたはＣＳ- 2Ｘ+であり、Ｘ+はアルカリ金属、アルカリ土類金属
    またはアンモニウムであり、ｎはこの化合物が３０００から１００，０００の範
    囲の合計分子量を有するような繰り返し単位の数である） の化合物。
  2. 【請求項２】 ＲがＣＳ- 2Ｘ+であり、５％から７０％の範囲である請求項
    １に記載の化合物。
  3. 【請求項３】 ジチオカルバミン酸塩官能基を含有する有効量の水溶性ポリ
    マーを廃水に添加する工程を含む、研磨固体を含有する半導体廃水から重金属イ
    オンを沈殿させ、同時にマイクロフィルター運転を向上させる方法。
  4. 【請求項４】 前記重金属イオンが銅、ニッケル、亜鉛、鉛、水銀、カドミ
    ウム、銀、鉄、マンガンおよびこれらの混合物からなる群から選ばれ、研磨固体
    がアルミナ、シリカ、セリア、ゲルマニア、チタニア、ジルコニアおよびこれら
    の混合物からなる群から選ばれる請求項３に記載の方法。
  5. 【請求項５】 前記水溶性ポリマーがジチオカルバミン酸塩官能基を含有し
    、式Ｒ’2Ｎ−Ｒ（式中、Ｒ’はアルキル基、アリール基またはこれらの置換誘
    導体であり、ＲはＨまたはＣＳ- 2Ｘ+であり、Ｘ+はアルカリ金属、アルカリ土類
    金属またはアンモニウムである）を有する請求項３に記載の方法。
  6. 【請求項６】 前記水溶性ポリマーがポリジアリルアミン、ポリエチレンイ
    ミンとエピクロロヒドリンおよび多官能基アミン縮合ポリマーのジチオカルバミ
    ン酸塩誘導体からなる群から選ばれる請求項５に記載の方法。
  7. 【請求項７】 ジチオカルバミン酸塩官能基を含有する前記水溶性ポリマー
    が少なくとも廃水から重金属イオンを沈殿させるのに有効な量で廃水に添加され
    る請求項３に記載の方法。
  8. 【請求項８】 前記マイクロフィルターが０．１から５ミクロンの範囲の分
    画分子サイズを持つ請求項３に記載の方法。
  9. 【請求項９】 ジチオカルバミン酸塩官能基を含有する水溶性ポリマーを廃
    水に添加するのに先立ち、半導体廃水のｐＨを４と１２の間で調節する工程をさ
    らに含む請求項３に記載の方法。
  10. 【請求項１０】 ジチオカルバミン酸塩官能基を含有する水溶性ポリマーが
    マイクロフィルターの前に廃水に添加される請求項３に記載の方法。
  11. 【請求項１１】 前記半導体廃水が酸化剤をさらに含む請求項３に記載の方
    法。
  12. 【請求項１２】 前記酸化剤がヨウ素酸カリウム、フェリシアン化カリウム
    、過酸化水素、硝酸酸化鉄、硝酸銀、硝酸、硫酸、次亜塩素酸カリウム、過マン
    ガン酸カリウム、過硫酸アンモニウム、アンモニウムペルオキシ二硫酸塩、過酢
    酸、過ヨウ素酸、ペルオキシモノ硫酸、カリウムペルオキシモノ硫酸、ペルオキ
    シモノ硫酸、マロンアミド、尿素−過酸化水素、重クロム酸カリウム、臭素酸カ
    リウム、三酸化バナジウム、酸素飽和水、オゾン化水およびこれらの混合物から
    なる群から選ばれる請求項１１に記載の方法。
  13. 【請求項１３】 少なくとも廃水から重金属イオンを沈殿させるのに有効で
    ある量でジチオカルバミン酸塩官能基を含有する有効量の水溶性ポリマーを排水
    に添加する工程を含むことを特徴とする、研磨固体を含む半導体廃水からの可溶
    性金属イオンを沈殿させ、同時に０．１から５ミクロンの範囲の分画分子サイズ
    を持つマイクロフィルターの運転を向上させる方法。
JP2000593549A 1999-01-15 1999-12-02 半導体廃水から金属イオンを沈殿させ、同時にマイクロフィルターの運転を向上させる組成物および方法 Pending JP2002534564A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US23248599A 1999-01-15 1999-01-15
US09/232,485 1999-01-15
PCT/US1999/028477 WO2000041974A1 (en) 1999-01-15 1999-12-02 Composition and method for simultaneously precipitating metal ions from semiconductor wastewater and enhancing microfilter operation

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011050504A Division JP5570458B2 (ja) 1999-01-15 2011-03-08 半導体廃水から金属イオンを沈殿させ、同時にマイクロフィルターの運転を向上させる組成物および方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002534564A true JP2002534564A (ja) 2002-10-15
JP2002534564A5 JP2002534564A5 (ja) 2006-10-05

Family

ID=22873309

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000593549A Pending JP2002534564A (ja) 1999-01-15 1999-12-02 半導体廃水から金属イオンを沈殿させ、同時にマイクロフィルターの運転を向上させる組成物および方法
JP2011050504A Expired - Lifetime JP5570458B2 (ja) 1999-01-15 2011-03-08 半導体廃水から金属イオンを沈殿させ、同時にマイクロフィルターの運転を向上させる組成物および方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011050504A Expired - Lifetime JP5570458B2 (ja) 1999-01-15 2011-03-08 半導体廃水から金属イオンを沈殿させ、同時にマイクロフィルターの運転を向上させる組成物および方法

Country Status (10)

Country Link
US (2) US6258277B1 (ja)
EP (1) EP1171389B1 (ja)
JP (2) JP2002534564A (ja)
KR (1) KR20010101520A (ja)
CN (2) CN1337923A (ja)
AU (1) AU1929600A (ja)
DE (1) DE69941160D1 (ja)
MY (1) MY123469A (ja)
TW (1) TW508344B (ja)
WO (1) WO2000041974A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010502436A (ja) * 2006-09-07 2010-01-28 ナルコ カンパニー 浸漬限外ろ過膜又は精密ろ過膜を使用して産業廃水から重金属を除去するための方法
JP2012501244A (ja) * 2008-08-29 2012-01-19 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 廃水その他の液体流から水銀を除去する方法
JP2020082003A (ja) * 2018-11-29 2020-06-04 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 ジチオカルバミン酸基を有する金属吸着材とその製造方法及び金属抽出方法

Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6797195B1 (en) * 1995-05-19 2004-09-28 Lawrence Kreisler Method for recovering and separating metals from waste streams
US6203705B1 (en) * 1999-10-22 2001-03-20 Koch Microelectronic Service Company, Inc. Process for treating waste water containing copper
US20020003112A1 (en) * 2000-07-07 2002-01-10 Golden Josh H. Process and apparatus for removal of heavy metals from wastewater
WO2002004360A1 (en) * 2000-07-07 2002-01-17 Microbar Inc. Method of treating semiconductor waste waters
US6627087B1 (en) * 2001-08-24 2003-09-30 Ondeo Nalco Company Method of removing lead from water using a high molecular weight cationic dispersion polymer
JP3557197B2 (ja) * 2002-05-17 2004-08-25 三洋電機株式会社 コロイド溶液の濾過方法
US20050045852A1 (en) * 2003-08-29 2005-03-03 Ameen Joseph G. Particle-free polishing fluid for nickel-based coating planarization
US7041222B1 (en) * 2004-06-07 2006-05-09 Rainer Norman B Process for the removal of toxic metals from water
US7297278B2 (en) * 2004-10-20 2007-11-20 Baker Hughes Incorporated Methods for removing metals from water
US7531105B2 (en) * 2004-11-05 2009-05-12 Cabot Microelectronics Corporation Polishing composition and method for high silicon nitride to silicon oxide removal rate ratios
US7504044B2 (en) * 2004-11-05 2009-03-17 Cabot Microelectronics Corporation Polishing composition and method for high silicon nitride to silicon oxide removal rate ratios
CN101218179B (zh) * 2005-08-24 2010-12-08 株式会社德山 含热解硅石的废水的处理方法
WO2007023872A1 (ja) * 2005-08-24 2007-03-01 Tokuyama Corporation シリコン粉含有排水の処理方法
US7381331B2 (en) * 2005-09-30 2008-06-03 General Electric Company Hydrophilic membrane and associated method
US7291696B2 (en) * 2005-11-04 2007-11-06 General Electric Company Composition and associated method
US7631768B2 (en) * 2005-11-04 2009-12-15 General Electric Company Membrane and associated method
US7722841B2 (en) * 2006-04-25 2010-05-25 General Electric Company Polymeric chelant and coagulant to treat metal-containing wastewater
US8585994B2 (en) 2007-12-07 2013-11-19 Nalco Company Corrosion control in and selenium removal from flue gas wet scrubber systems
US9328003B2 (en) 2006-09-07 2016-05-03 Nalco Company Method of heavy metal removal from water streams
US20080197075A1 (en) * 2006-09-07 2008-08-21 Musale Deepak A Removing mercury and other heavy metals from industrial wastewater
US20080060997A1 (en) * 2006-09-07 2008-03-13 Musale Deepak A Method of heavy metals removal from municipal wastewater
US8211389B2 (en) * 2010-04-06 2012-07-03 Nalco Company Metal scavenging polymers and uses thereof
EP2190967A4 (en) * 2007-08-20 2010-10-13 Advanced Tech Materials COMPOSITION AND METHOD FOR REMOVING AN ION IMPLANTATION PHOTORESIST
US8632742B2 (en) 2007-12-07 2014-01-21 Nalco Company Methods of controlling mercury emission
US8609050B2 (en) * 2007-12-07 2013-12-17 Nalco Company Corrosion control in and selenium removal from flue gas wet scrubber systems
US8753599B2 (en) * 2007-12-07 2014-06-17 Nalco Company Corrosion control in and selenium removal from flue gas wet scrubber systems
CN101215059B (zh) * 2008-01-11 2011-05-11 清华大学 应对水中超标金属污染物的碱性化学沉淀饮用水处理方法
US8353641B2 (en) 2008-02-14 2013-01-15 Soane Energy, Llc Systems and methods for removing finely dispersed particulate matter from a fluid stream
US8945394B2 (en) 2009-10-27 2015-02-03 Soane Energy, Llc System, methods, processes and apparatus for removing finely dispersed particulate matter from a fluid stream
CA2752799A1 (en) 2009-02-27 2010-09-02 Soane Energy, Llc Systems, methods, processes and apparatus for removing finely dispersed particulate matter from a fluid stream
CN101649011B (zh) * 2009-08-13 2011-01-19 同济大学 硫醇-烯点击化学功能化超支化聚乙烯亚胺的制备方法
CA2734310C (en) * 2010-03-17 2014-01-28 Soane Mining, Llc Removal of contaminants from waste streams using polymeric additives
US8927637B2 (en) 2010-04-06 2015-01-06 Nalco Company Metal scavenging polymers and uses thereof
US8747789B2 (en) * 2010-04-06 2014-06-10 Nalco Company Metal scavenging polymers
WO2011143775A1 (en) 2010-05-18 2011-11-24 Ostara Nutrient Recovery Technologies Inc. Treatment of phosphate-containing wastewater
EP2431334A1 (de) * 2010-09-16 2012-03-21 LANXESS Deutschland GmbH Behandlung von Abwässern aus der Galvanikindustrie
JP5925454B2 (ja) * 2010-12-16 2016-05-25 花王株式会社 磁気ディスク基板用研磨液組成物
CN102120659A (zh) * 2011-01-31 2011-07-13 无锡市霄鹰环境科技有限公司 一种去除化镍废水中镍的方法
AU2012282939B2 (en) 2011-07-12 2017-02-02 Bl Technologies, Inc. Polymer and method for using the same
JP5858050B2 (ja) * 2011-12-22 2016-02-10 コニカミノルタ株式会社 研磨材再生方法
US10017675B2 (en) * 2011-12-27 2018-07-10 Konica Minolta, Inc. Method for separating polishing material and regenerated polishing material
US9919938B2 (en) 2012-06-18 2018-03-20 Soane Mining, Llc Systems and methods for removing finely dispersed particles from mining wastewater
CN103801270B (zh) * 2012-11-14 2016-03-30 长沙飞达矿冶技术有限公司 用于处理含复杂重金属废水的环保材料及其生产工艺
EP2746230A1 (en) * 2012-12-18 2014-06-25 Total SA Process for removing mercury from production water and condensates.
CN106588725B (zh) * 2016-12-06 2021-05-07 青岛柏森环保工程有限公司 一种多硫代酰胺型重金属螯合剂的制备方法
US11203536B1 (en) * 2018-08-13 2021-12-21 Garratt-Callahan Company Use of hollow fiber filtration in conjunction with precipitant technologies to reclaim water from complex aqueous waste streams
CN109351323A (zh) * 2018-11-09 2019-02-19 天津碧水源膜材料有限公司 选择性脱铵材料及其制备方法与应用

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03231921A (ja) * 1989-12-20 1991-10-15 Miyoshi Oil & Fat Co Ltd 金属捕集剤及び金属捕集方法
JPH05239133A (ja) * 1991-10-02 1993-09-17 Nalco Chem Co ジチオカルバミン酸ポリマー
JPH07148492A (ja) * 1993-11-29 1995-06-13 Fuji Photo Film Co Ltd 写真廃液の処理方法
JPH07213897A (ja) * 1994-01-31 1995-08-15 Nitto Boseki Co Ltd 高分子重金属捕集剤、ジチオカルバミン酸アルカリ金 属塩化重合体、及びそれらの製造方法
JPH10174965A (ja) * 1996-12-19 1998-06-30 Kaijo Corp 半導体等の洗浄水処理装置
JPH10235351A (ja) * 1997-02-25 1998-09-08 Ngk Insulators Ltd コロイダルシリカ含有廃水からの水回収方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IL64967A0 (en) * 1981-03-17 1982-04-30 Aligena Ag Semipermeable membranes containing modified polysulfones,their manufacture and their use
US4551506A (en) * 1982-12-23 1985-11-05 The Procter & Gamble Company Cationic polymers having clay soil removal/anti-redeposition properties useful in detergent compositions
US4670180A (en) 1985-04-26 1987-06-02 Miyoshi Yushi Kabushiki Kaisha Metal scavenger and metal scavenging process
US5047083A (en) 1989-06-15 1991-09-10 Nalco Chemical Company Process for de-oiling mill scale
US5387365A (en) 1989-12-20 1995-02-07 Miyoshi Yushi Kabushiki Kaisha Metal scavengers for treating waste water
US5143624A (en) 1991-05-02 1992-09-01 Calgon Corporation Methods for detackification of paint spray operation wastes
US5164095A (en) 1991-10-02 1992-11-17 Nalco Chemical Company Dithiocarbamate polymers
US5346627A (en) * 1992-03-03 1994-09-13 Nalco Chemical Company Method for removing metals from a fluid stream
JP3412842B2 (ja) * 1992-07-28 2003-06-03 ミヨシ油脂株式会社 金属捕集剤及びその製造方法
US5444031A (en) 1993-01-21 1995-08-22 Calgon Carbon Corporation Process for making catalytic carbon
US5328599A (en) 1993-03-08 1994-07-12 Nalco Chemical Company System using sulfide ion-selective electrodes for control of chemical feed of organic sulfide products for metal ion precipitation from waste water
US5510040A (en) * 1994-11-21 1996-04-23 Nalco Chemical Company Removal of selenium from water by complexation with polymeric dithiocarbamates
US5554298A (en) 1995-01-20 1996-09-10 Nalco Chemical Company Steel mill flume water treatment
US5500133A (en) 1995-02-17 1996-03-19 Betz Laboratories, Inc. Polymeric dithiocarbamate acid salt compositions and method of use
US5766478A (en) 1995-05-30 1998-06-16 The Regents Of The University Of California, Office Of Technology Transfer Water-soluble polymers for recovery of metal ions from aqueous streams
US5965027A (en) 1996-11-26 1999-10-12 Microbar Incorporated Process for removing silica from wastewater

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03231921A (ja) * 1989-12-20 1991-10-15 Miyoshi Oil & Fat Co Ltd 金属捕集剤及び金属捕集方法
JPH05239133A (ja) * 1991-10-02 1993-09-17 Nalco Chem Co ジチオカルバミン酸ポリマー
JPH07148492A (ja) * 1993-11-29 1995-06-13 Fuji Photo Film Co Ltd 写真廃液の処理方法
JPH07213897A (ja) * 1994-01-31 1995-08-15 Nitto Boseki Co Ltd 高分子重金属捕集剤、ジチオカルバミン酸アルカリ金 属塩化重合体、及びそれらの製造方法
JPH10174965A (ja) * 1996-12-19 1998-06-30 Kaijo Corp 半導体等の洗浄水処理装置
JPH10235351A (ja) * 1997-02-25 1998-09-08 Ngk Insulators Ltd コロイダルシリカ含有廃水からの水回収方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010502436A (ja) * 2006-09-07 2010-01-28 ナルコ カンパニー 浸漬限外ろ過膜又は精密ろ過膜を使用して産業廃水から重金属を除去するための方法
JP2012501244A (ja) * 2008-08-29 2012-01-19 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ 廃水その他の液体流から水銀を除去する方法
JP2020082003A (ja) * 2018-11-29 2020-06-04 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 ジチオカルバミン酸基を有する金属吸着材とその製造方法及び金属抽出方法
JP7220894B2 (ja) 2018-11-29 2023-02-13 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 ジチオカルバミン酸基を有する金属吸着材とその製造方法及び金属抽出方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011117000A (ja) 2011-06-16
CN1337923A (zh) 2002-02-27
US6403726B1 (en) 2002-06-11
JP5570458B2 (ja) 2014-08-13
CN1978336B (zh) 2014-09-03
EP1171389A1 (en) 2002-01-16
AU1929600A (en) 2000-08-01
TW508344B (en) 2002-11-01
MY123469A (en) 2006-05-31
US6258277B1 (en) 2001-07-10
EP1171389A4 (en) 2003-04-09
CN1978336A (zh) 2007-06-13
WO2000041974A1 (en) 2000-07-20
KR20010101520A (ko) 2001-11-14
EP1171389B1 (en) 2009-07-22
DE69941160D1 (de) 2009-09-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002534564A (ja) 半導体廃水から金属イオンを沈殿させ、同時にマイクロフィルターの運転を向上させる組成物および方法
AU2007243032B2 (en) Polymeric chelant and coagulant to treat metal-containing wastewater
US5346627A (en) Method for removing metals from a fluid stream
TWI444337B (zh) 使用經浸沒超微過濾或微過濾薄膜的工業廢水重金屬移除的方法
US20050045534A1 (en) System and method for removing deep sub-micron particles from water
EP0979213A1 (en) Process for purifying water
JP2002346572A (ja) 浄水の処理方法及び処理剤
JP2008531256A (ja) ヒドロキサム酸化ポリマーの水中油中水エマルジョンおよびこれらを使用するための方法
TW201125825A (en) Method and device for treating untreated water from silicon wafer etching process
JPH0714512B2 (ja) 重金属含有廃水の処理方法
JP2009125708A (ja) Ｃｍｐ排水の処理方法
JP4507267B2 (ja) 水処理方法
JP3102309B2 (ja) シリコン加工廃水の処理方法
JP2003260472A (ja) フッ素含有水の処理方法
JP4350078B2 (ja) フッ素含有排水の処理方法
JPH05237497A (ja) 純水製造方法
JP2002233882A (ja) 重金属を含む水溶液から重金属を回収する方法
KR100369513B1 (ko) 화학적 기계적 연마의 폐수 처리 방법
JP3888534B2 (ja) フッ素含有排水の処理方法
JPH10118665A (ja) Ｎｈ４系ｃｍｐ廃液の処理方法
KR100362066B1 (ko) 화학적 기계적 연마의 폐수 처리 방법
JP2022165279A (ja) 凝集膜ろ過処理方法
CN115413293A (zh) 用超滤和离子交换处理浆料铜废水
JPH0464757B2 (ja)
JPS6239538A (ja) ホルマリンの精製方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060818

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060818

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090609

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090616

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090914

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20090924

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20091009

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20091019

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091113

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101109

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20110204