JP5557168B2 - 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板 - Google Patents

強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板 Download PDF

Info

Publication number
JP5557168B2
JP5557168B2 JP2011257132A JP2011257132A JP5557168B2 JP 5557168 B2 JP5557168 B2 JP 5557168B2 JP 2011257132 A JP2011257132 A JP 2011257132A JP 2011257132 A JP2011257132 A JP 2011257132A JP 5557168 B2 JP5557168 B2 JP 5557168B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
glass substrate
tempered glass
raw material
producing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011257132A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2012036092A (ja
Inventor
隆 村田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Electric Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Glass Co Ltd filed Critical Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority to JP2011257132A priority Critical patent/JP5557168B2/ja
Publication of JP2012036092A publication Critical patent/JP2012036092A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5557168B2 publication Critical patent/JP5557168B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
    • C03B17/06—Forming glass sheets
    • C03B17/064—Forming glass sheets by the overflow downdraw fusion process; Isopipes therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
    • C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

本発明は、特に、固体撮像素子、携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ（携帯端末）、太陽電池、タッチパネルディスプレイ等に使用する基板として好適な強化ガラス基板及びその製造方法に関するものである。
近年、携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ、タッチパネルディスプレイといったデバイスは、広く使用されており、これらのデバイスには、ガラス基板が使用されている。例えば携帯電話に搭載される固体撮像装置は、素子の安定化を保証するため、アルミナ等のセラミックパッケージ内にＣＣＤやＣＭＯＳ等の固体撮像素子を収納し、ガラス基板（カバーガラス）で気密封止した構造を有している。つまり固体撮像装置は、光信号を素子に取り込む必要があるため、パッケージには必ず窓ガラスとしてのカバーガラスが、紫外線硬化樹脂等を用いて封着される。そのためカバーガラスには、パッケージと封着した後に、割れ、反り、ゆがみ等が発生しないように、封着樹脂や周辺部材の熱膨張係数に近似した熱膨張係数を有することが要求される。また固体撮像装置のカバーガラスを透過した光は、ゆがみなく固体撮像素子に到達する必要がある。そのため、この種のカバーガラスには、溶融性や成形性に優れ、脈理と呼ばれる不均質部、泡、ブツ、汚れ、失透物等の欠陥が発生し難いことも要求され、さらに長期間に亘る使用で表面が劣化しないように耐候性や耐水性に優れていることも要求される。
このような事情から、固体撮像装置のカバーガラスには、上記の要求を満足するホウケイ酸ガラスからなるガラス基板が主に使用されている。（特許文献１、２）またＣＣＤの固体撮像素子は、パッケージ、封着材料及びカバーガラスといった周辺材料から発生するα線が素子に入射すると、α線のエネルギーによって正孔、電子対が誘起され、これが原因となって瞬間的に画像に輝点や白点を生じさせる所謂ソフトエラーと呼ばれる問題を生じる。そのため現在では、ＣＣＤのカバーガラスには、α線放出量の少ないホウケイ酸ガラスからなるガラス基板が主に使用されている。（特許文献３、４）
特開昭６２−６５９５４号公報 特開平１−３２０２３６号公報 特開平５−２７９０７４号公報 特開平６−２１１５３９号公報
ところで携帯電話の固体撮像装置用カバーガラスを始めとして、デジタルカメラ、太陽電池等に用いられるカバーガラスは、薄型化が進行しており、現在では、０．５ｍｍ以下の厚みのものが主流になりつつある。そのため固体撮像装置用カバーガラスを作製する場合には、まず溶融ガラスを鋳込み成形し、得られたガラス成形体を板状に切り出した後、その表面（両面）を研磨加工することによって所定の厚みのカバーガラスを作製する方法が採られている。
ところがカバーガラスの厚みが小さくなるに伴って、その強度が低下し、製造工程やデバイスの組み立て工程において破損することが多くなってきている。
このような事情からカバーガラスを強化することが試みられている。従来より、ガラスを強化する方法としてイオン交換法が広く知られている。しかしながら固体撮像装置用カバーガラスをイオン交換すると、処理に時間がかかるため、多量のガラスをイオン交換する場合には、生産性が大幅に低下しやすいという問題があった。
本発明は、固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とするものである。
本発明の強化ガラス基板の製造方法は、ガラスが、ガラス組成としてＢ ２ Ｏ ３ ０〜１１質量％、Ｎａ２Ｏ １〜２０質量％を含有し、質量比（Ｌｉ ２ Ｏ＋Ｋ ２ Ｏ）／Ｎａ ２ Ｏが０〜０．３、且つ３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３０〜１００×１０−７／℃となるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、表面が無研磨面の状態で、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に、圧縮応力が６００ＭＰａ以上の圧縮応力層を形成する工程を有することを特徴とする。
本発明者は、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形し、その板状ガラスの表面に研磨加工を施さず、いわゆる無研磨面の状態でイオン交換処理すると、従来のように表面を研磨加工した板状ガラスに比べて、イオン交換時間を短縮できることを見出した。
このようにオーバーフローダウンドロー法によって成形し、無研磨の板状ガラスをイオン交換処理すると、イオン交換時間を短縮できるのは、以下の理由であると推測される。
オーバーフローダウンドロー法は、図１に示すように、樋状耐火物１１の凹部に溶融ガラス１２を流し込み、樋状耐火物１１の両側から溢れ出た溶融ガラス１２を樋状耐火物１１の下端で合流させながら、下方に延伸成形することによって板状ガラス１３を製造する方法である。このような方法によると、ガラス基板の表面となるべき面（両面）が樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されるため、無研磨でありながら表面品位に優れたガラス基板を製造することが可能となる。樋状耐火物の構造や材質は、得ようとするガラス基板の寸法や表面精度によって適宜決定すれば良い。また下方への延伸成形を行う方法もガラス基板に応じて適宜決定すれば良い。例えば、ガラス基板の幅寸法より大きい幅寸法を有する耐熱性ロールを板状ガラスに接触させて回転することによって延伸成形する方法を採用しても良いし、複数の対になった耐熱性ロールを板状ガラスの両端付近に接触させて回転することによって延伸成形する方法を採用しても良い。
そしてオーバーフローダウンドロー法によって、アルカリ含有ホウケイ酸ガラスを成形すると、ガラス融液の自由表面が得られる際に、周囲の熱源からの熱によって、ガラス中のアルカリ成分が揮発し、表面にシリカ成分に富むシリカリッチ層が形成され、その結果、成形されたガラス基板の表面には、約２０ｎｍ程度のＳｉＯ２成分の多い層（シリカリッチ層）が形成される。イオン交換は、ガラス中のアルカリ成分と、溶融塩中のアルカリ成分との濃度差によって行われるため、ガラス基板の表面にシリカリッチ層が形成されていると、溶融塩中のアルカリ成分が、シリカリッチ層を通過してガラス中に侵入しやすくなる。その結果、シリカリッチ層が存在しないガラス基板に比べて、イオン交換が促進され、その処理時間が短縮されることになる。
また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、ガラスの液相温度が１１００℃以下となるように原料を調製することが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、ガラスの液相粘度が１０４．０ｄＰａ・ｓ以上となるように原料を調製することが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、α線放出量が、１００００×１０−４Ｃ／ｃｍ２／ｈ以下のガラスとなるように原料を調製することが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、質量％で、Ｎａ２Ｏを１％以上のガラスとなるように原料を調製する。
また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、質量％で、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜３％のガラスとなるように原料を調製することが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、ガラスが、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２ ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３ ２〜２０％、Ｂ２Ｏ３ ０〜１１％、Ｎａ２Ｏ １〜２０％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜３％を含有し、且つ質量比（Ｌｉ ２ Ｏ＋Ｋ ２ Ｏ）／Ｎａ ２ Ｏが０〜０．３となるように原料を調製することが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、ガラスが、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２ ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３ ２〜２０％、Ｂ２Ｏ３ ０〜１１％、Ｎａ２Ｏ ７．５〜２０％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｋ２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜３％、ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２ ０〜５％を含有し、且つ質量比（Ｌｉ ２ Ｏ＋Ｋ ２ Ｏ）／Ｎａ ２ Ｏが０〜０．３となるように原料を調製することが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、３８０〜６００℃の溶融塩中に、１〜３０時間浸漬することによって、イオン交換することが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、板状ガラスの表面に形成する圧縮応力層の厚みが１μｍ以上であることが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、上記のいずれかの方法によって製造されてなることを特徴とする。
また本発明の強化ガラス基板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２ ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３ ２〜２０％、Ｂ２Ｏ３ ０〜１１％、Ｎａ２Ｏ １〜２０％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１０％、Ｋ２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜３％、ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２ ０〜５％を含有し、質量比（Ｌｉ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２ Ｏが０〜０．３、α線放出量が、１００００×１０−４Ｃ／ｃｍ２／ｈ以下であり、表面にシリカリッチ層が形成されていることが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層が形成されており、圧縮応力層の厚みが１μｍ以上であることが好ましい。
また本発明の強化用ガラス基板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２ ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３ ２〜２０％、Ｂ２Ｏ３ ０〜１１％、Ｎａ２Ｏ １〜２０％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１０％、Ｋ２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜３％、ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２ ０〜５％を含有し、質量比（Ｌｉ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２ Ｏが０〜０．３、α線放出量が、１００００×１０−４Ｃ／ｃｍ２／ｈ以下であり、表面にシリカリッチ層が形成されていることが好ましい。
また本発明の強化ガラス基板は、表面が無研磨面であり、表面粗さ（Ｒａ）が１０Å以下であることが好ましい。
本発明の製造方法によると、オーバーフローダウンドロー法によって板状ガラスを成形した後、イオン交換処理するため、従来のように表面を研磨加工した板状ガラスに比べて、イオン交換時におけるアルカリ成分の交換が促進されやすく、短時間で所望の強度を有する強化ガラス基板を得ることが可能となる。そのため本発明の製造方法によって得られる強化ガラス基板は、薄型で破損しやすい固体撮像装置のカバーガラスを始めとして、タッチパネルディスプレイ、太陽電池のカバーガラス、携帯電話のカバーガラス等に好適である。
オーバーフローダウンドロー法によって板状ガラスを成形する方法を示す説明図である。 本発明の強化ガラス基板を製造する装置を示す説明図である。
本発明においては、まずガラス組成としてＢ ２ Ｏ ３ ０〜１１質量％、Ｎａ２Ｏ １〜２０質量％を含有し、質量比（Ｌｉ ２ Ｏ＋Ｋ ２ Ｏ）／Ｎａ ２ Ｏが０〜０．３、且つ３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３０〜１００×１０−７／℃のガラスとなるように原料を調製する。ガラス組成中にＮａ２Ｏを１〜２０質量％含有させると、後工程でイオン交換することが可能となる。またガラスの熱膨張係数が上記範囲であれば、金属、有機系接着剤等の周辺材料の熱膨張係数に整合しやすく、周辺材料の剥離を防止することができる。ガラスの熱膨張係数は、５０〜１００×１０−７／℃、６０〜８０×１０−７／℃、６０〜７５×１０−７／℃、６０〜７０×１０−７／℃が好ましい。
次に、ガラス原料を溶融容器内に入れ、所定の温度（例えば１５００〜１６００℃）で溶融した後、清澄することによって均質化する。尚、溶融容器としては、アルミナ、ジルコニア、シリカなどの耐火物や白金から作製した耐熱容器を使用すれば良い。
次に、溶融し、均質化したガラスをオーバーフローダウンドロー法で板状に成形する。ただし、成形した板ガラスの表面を研磨加工すると、表面に形成されたシリカリッチ層が除去されることになるため、研磨加工はすべきでない。またガラス基板の表面を研磨加工すると、傷が発生するため好ましくない。つまりガラスの理論強度は本来非常に高いのであるが、理論強度よりも遙かに低い応力でも破壊に至ることが多い。これはガラス基板の表面にグリフィスフローと呼ばれる小さな欠陥がガラスを成形した後の工程、例えば研磨工程等で生じるからである。それ故、ガラス基板の表面を無研磨とすれば、ガラス基板が本来有している機械的強度を損なわず、破壊を抑制することが可能となる。ガラス基板の傷の有無や量は、その表面粗さを測定することによって把握することができる。従ってガラス基板の表面粗さが小さいほど、傷が浅く、また少ないことになる。ガラス基板の表面粗さ（Ｒａ）は、１０Å以下、８Å以下、５Å以下、３Å以下、２Å以下であることが望ましい。またガラス基板の研磨工程を省略することによって、研磨剤に含まれる放射性同位元素がガラス基板の表面に付着するのを防止したり、生産コストを大幅に低減することも可能となる。
次に、成形した板状ガラスをイオン交換する。このイオン交換では、ＫＮＯ３溶融塩中にガラス基板を浸漬すれば良い。これによって溶融塩中のＫイオンが、ガラス基板中のＮａイオンやＬｉイオンと交換され、ガラス基板の機械的強度が向上することになる。またイオン交換の条件は、３８０〜６００℃の溶融塩中に、１〜３０時間浸漬することが好ましい。尚、イオン交換の時間が長くなるほど、ガラス表面の圧縮応力層の厚みが大きくなるが、３０時間を超えると、生産性や圧縮応力が低下するため好ましくない。またイオン交換の時間や温度は、ガラスに要求される強度に応じて適宜決定すれば良く、例えば携帯電話用の固体撮像装置用カバーガラス等であれば、イオン交換時間が３時間以内であっても、所期の強度を得ることが可能である。
イオン交換によってガラス基板に形成される表面応力層の圧縮応力は、６００ＭＰａ以上である。圧縮応力が大きくなるほど、ガラス基板の機械的強度が高くなるため、７００ＭＰａ以上であることが望ましい。しかしながらガラス基板の表面に極端に大きい圧縮応力が形成されると、表面にマイクロクラックが発生し、却って強度が低下するため、圧縮応力層の圧縮応力は、２０００ＭＰａ以下とすることが望ましい。
また圧縮応力層の厚みは、１μｍ以上であることが好ましい。圧縮応力層の厚みが大きいほど、ガラス基板の表面に傷が付いても、ガラス基板が割れにくくなる。よって圧縮応力層の厚みは、３μｍ以上、５μｍ以上、１０μｍ以上、１５μｍ以上であることが望ましい。しかしながら圧縮応力層の厚みが極端に大きくなると、ガラス基板を切断するのが困難となるため、５００μｍ以下とすることが好ましい。
また本発明では、液相温度が１１００℃以下、液相粘度（液相温度に相当する粘度）が１０４．０ｄＰａ・ｓ以上のガラスとなるように原料を調製すると、オーバーフローダウンドロー法によってガラスを成形する際に失透が発生し難いため好ましい。液相温度は、１０５０℃以下であることがより好ましく、１０００℃以下であることが最も好ましい。液相粘度は、１０４．３ｄＰａ・ｓ以上であることがより好ましく、１０４．５ｄＰａ・ｓ以上、１０５．０ｄＰａ・ｓ以上、１０５．３ｄＰａ・ｓ以上であることが最も好ましい。
また本発明では、α線放出量が、１００００×１０−４Ｃ／ｃｍ２／ｈ以下のガラスとなるように原料を調製することが好ましい。α線放出量を低減するためには、ガラス原料として、放射性同位元素の含有量が少なく、α線放出量の少ない高純度原料を使用する。さらにガラスの溶融・清澄工程においてガラス中に放射性同位元素が混入しないようにして製造することが好ましい。α線放出量は１０００×１０−４Ｃ／ｃｍ２以下が好ましく、１００×１０−４Ｃ／ｃｍ２以下がより好ましく、５０×１０−４Ｃ／ｃｍ２以下がさらに好ましく、３０×１０−４Ｃ／ｃｍ２以下が最も好ましい。
また本発明の強化ガラス基板は、ガラスの密度が低いほど、軽量化を図ることができるため好ましい。具体的には、ガラスの密度が２．６ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましく、２．５ｇ／ｃｍ３以下であることがより好ましく、２．４５ｇ／ｃｍ３以下であることが最も好ましい。
また本発明の強化ガラス基板は、ガラスのヤング率が高いほど、たわみが小さくなる。そのため、例えばタッチパネルディスプレイ等のデバイスのガラス基板として使用した場合、ペン等でディスプレイを押した際、デバイス内部の液晶素子を圧迫して表示不良を発生するという不具合を解消することができる。具体的には、ガラスのヤング率が７０ＧＰａ以上であることが好ましく、７１ＧＰａ以上であることがより好ましく、７３ＧＰａ以上であることが最も好ましい。
また本発明の強化ガラス基板は、ガラスの高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓに相当する温度が低いほど、ガラスの溶融が容易となり、ガラス中の泡品位を向上し、ガラス製造設備への負担を小さくすることができ、生産性を向上することが可能となる。具体的には、ガラスの高温粘度１０２．５ｄＰａ・ｓに相当する温度が１６００℃以下であることが好ましく、１５００℃以下であることがより好ましく、１４５０℃以下であることがさらに好ましく、１４００℃以下であることが最も好ましい。
また本発明に係るガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２ ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３ ２〜２０％、Ｂ２Ｏ３ ０〜１１％、Ｎａ２Ｏ １〜２０％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜３％を含有し、質量比（Ｌｉ ２ Ｏ＋Ｋ ２ Ｏ）／Ｎａ ２ Ｏが０〜０．３であることが好ましく、質量％で、ＳｉＯ２ ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３ ２〜２０％、Ｂ２Ｏ３ ０〜１１％、Ｎａ２Ｏ １〜２０％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１０％、Ｋ２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜３％、ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２ ０〜５％を含有し、質量比（Ｌｉ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２ Ｏが０〜０．３であることがより好ましい。さらに質量％で、ＳｉＯ２ ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３ ３〜１５％、Ｂ２Ｏ３ １〜１１％、Ｎａ２Ｏ ５〜１５％、Ｌｉ２Ｏ ０〜５％、Ｋ２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜１％、ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２ ０〜５％を含有し、質量比（Ｌｉ ２ Ｏ＋Ｋ ２ Ｏ）／Ｎａ ２ Ｏが０〜０．３であることがより好ましく、質量％で、ＳｉＯ２ ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３ ３〜１５％、Ｂ２Ｏ３ １〜１１％、Ｎａ２Ｏ ７．５〜１５％、Ｌｉ２Ｏ ０〜５％、Ｋ２Ｏ ０〜５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜１％、ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２ ０〜５％を含有し、質量比（Ｌｉ ２ Ｏ＋Ｋ ２ Ｏ）／Ｎａ ２ Ｏが０〜０．３であることがより好ましい。また質量％で、ＳｉＯ２ ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３ ３〜９％、Ｂ２Ｏ３ ８〜１１％、Ｎａ２Ｏ ７．５〜１３％、Ｌｉ２Ｏ ０〜５％、Ｋ２Ｏ ０〜５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜３％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜１％、ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２ ０〜５％を含有し、質量比（Ｌｉ ２ Ｏ＋Ｋ ２ Ｏ）／Ｎａ ２ Ｏが０〜０．３であることが最も好ましい。
このようにガラス組成を限定した理由は、以下のとおりである。
ＳｉＯ２は、ガラスのネットワークを形成する成分であり、その含有量は５０〜８０％である。ＳｉＯ２が多くなりすぎると、ガラスの溶融性や成形性が低下したり、熱膨張係数が小さくなりすぎて周辺材料の熱膨張係数と整合し難くなる。一方、ＳｉＯ２が少なくなりすぎると、逆にガラスの熱膨張係数が大きくなりすぎて周辺材料の熱膨張係数と整合し難くなる。ＳｉＯ２の含有量は、好ましくは５５〜７５％、より好ましくは６０〜７５％である。
Ａｌ２Ｏ３は、ガラスのイオン交換性能を高める成分である。またＡｌ２Ｏ３を含有すると、ガラスの歪点が上昇し、耐熱性が向上したり、ヤング率が高くなるため、製造工程や使用中において加熱される場合や、ガラス基板の撓みを抑えたい場合には、有効な成分である。よってＡｌ２Ｏ３の含有量は２〜２０％である。Ａｌ２Ｏ３が多くなりすぎると、ガラス中に失透物が析出しやすくなったり、ガラスの熱膨張係数が小さくなりすぎて周辺材料の熱膨張係数と整合し難くなる。さらにＡｌ２Ｏ３が多くなるほど、α線放出量が多くなりやすい。一方、Ａｌ２Ｏ３が少なくなりすぎると、イオン交換が阻害される可能性がある。Ａｌ２Ｏ３の好適な範囲は、上限が１８％以下、１６％以下、１５％以下、１３％以下、１０％以下、９％以下であり、下限は、３％以上、４％以上である。
Ｂ２Ｏ３も、ガラスのイオン交換性能を高める成分である。またＢ２Ｏ３を含有すると、ガラスの液相温度を低下させるため、オーバーフローダウンドロー法によって成形する時の失透を抑えやすくなる。さらにＢ２Ｏ３を含有すると、高温粘度が低下するため、溶融が容易となり、しかもガラスの密度が低下するため、軽量化を図ることが可能となる。しかしながら、Ｂ２Ｏ３が多くなりすぎると、イオン交換した後に、ガラス表面にヤケと呼ばれる変色が発生したり、ガラスの耐候性や耐水性が低下する虞れがあるため好ましくない。よってＢ２Ｏ３の含有量は、０〜１１％、０．１〜１１％、好ましくは１〜１１％、より好ましくは３〜１１％、さらに好ましくは８〜１１％である。
Ｎａ２Ｏは、イオン交換成分である。またガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させると共に、ガラスの耐失透性を改善する成分であり、１％以上含有させるべきである。Ｎａ２Ｏが多くなりすぎると、ガラスの熱膨張係数が大きくなりすぎて、周辺材料の熱膨張係数と整合し難くなる。またガラス組成のバランスが悪くなり、かえってガラスの耐失透性が悪化しやすくなる。一方、Ｎａ２Ｏが少なくなりすぎると、上記の作用が得られ難くなる。Ｎａ２Ｏの含有量は、１〜２０％、好ましくは３〜１８％、より好ましくは５〜１５％、さらに好ましくは７．５〜１５％、最も好ましくは７．５〜１３％である。
Ｌｉ２Ｏも、イオン交換成分である。またガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させると共に、ガラスのヤング率を向上させる成分であり、その含有量は、０〜１０％である。Ｌｉ２Ｏが多くなりすぎると、ガラスの液相粘度が低下して失透し易くなることに加えて、ガラスの熱膨張係数が大きくなりすぎて、周辺材料の熱膨張係数と整合し難くなる。さらにガラスからのα線放出量が多くなる。Ｌｉ２Ｏの含有量は、好ましくは０〜５％、より好ましくは０〜１％である。
Ｋ２Ｏは、イオン交換を促進すると共に、ガラスの高温粘性を低下させて溶融性や成形性を向上する成分である。またＫ２Ｏは、耐失透性を改善する成分でもあり、その含有量は０〜１０％である。Ｋ２Ｏが多くなりすぎると、ガラスの熱膨張係数が大きくなりすぎて周辺材料の熱膨張係数と整合し難くなる。またガラス組成全体のバランスが悪くなり、ガラスの耐失透性が却って低下しやすくなる。さらにガラスからのα線放出量が多くなる。Ｋ２Ｏの含有量は、好ましくは０〜５％、より好ましくは０〜２％、さらに好ましくは０．１〜２％である。
また質量比（Ｌｉ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２ Ｏが０〜０．３となるように調製すると、ガラスの粘性、熱膨張係数、失透性等を適正な範囲に維持しながら、α線放出量を低減するのが容易となる。
またＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯのアルカリ土類金属酸化物（ＲＯ）は、いずれもガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高める成分である。しかしながら、これらの合量が５％を超えると、ガラスの熱膨張係数や密度が高くなったり、耐失透性が低下し易くなる。またイオン交換性能が低下したり、α線放出量が多くなる。よってＲＯは、５％以下、好ましくは４％以下、より好ましくは３％以下、さらに好ましくは１％以下である。
ＭｇＯは、上記の作用を有する共に、ＲＯの中では、イオン交換性能を向上させる効果の高い成分であるが、その含有量が多くなりすぎると、ガラスのα線放出量が多くなったり、密度や熱膨張係数が高くなる。またガラスが失透しやすくなる。よってＭｇＯは、０〜５％、より好ましくは０〜３％、さらに好ましくは０〜１％である。
ＣａＯも、上記の作用を有すると共に、ＲＯの中では、イオン交換性能を向上させる効果の高い成分であるが、その含有量が多くなりすぎると、ガラスのα線放出量が多くなったり、密度や熱膨張係数が高くなる。またガラスが失透しやすくなる。よってＣａＯは、０〜５％、より好ましくは０〜４％、さらに好ましくは０〜３％である。
ＳｒＯも、上記の作用を有するが、その含有量が多くなりすぎると、ガラスのα線放出量が多くなったり、密度や熱膨張係数が高くなる。またガラスが失透しやすくなったり、イオン交換性能が低下する。よってＳｒＯは、０〜３％、より好ましくは０〜１％、さらに好ましくは０〜０．８％、最も好ましくは０〜０．５％であり、できれば実質的に含有しないことが望ましい。ここで「ＳｒＯを実質的に含有しない」とは、ガラス組成中のＳｒＯの含有量が０．２％以下であることを意味する。
ＢａＯも、上記の作用を有するが、その含有量が多くなりすぎると、ガラスのα線放出量が多くなったり、密度や熱膨張係数が高くなる。またガラスが失透しやすくなったり、イオン交換性能が低下する。よってＢａＯは、０〜３％、より好ましくは０〜２％、さらに好ましくは０〜１％、最も好ましくは０〜０．５％であり、できれば実質的に含有しないことが望ましい。ここで「ＢａＯを実質的に含有しない」とは、ガラス組成中のＢａＯの含有量が０．２％以下であることを意味する。
またイオン交換性能を向上し、α線放出量を低減するという観点から、ＳｒＯとＢａＯの合量を規制することが好ましい。具体的には、ＳｒＯ＋ＢａＯを０〜３％、好ましくは０〜１％、より好ましく０〜０．５％、さらに好ましくは０〜０．２％にすべきである。
ＺｒＯ２は、ガラスの歪点やヤング率を向上させ、イオン交換性能を向上させる成分であるが、多くなりすぎると、ガラスからのα線放出量が多くなったり、耐失透性が低下する。特にオーバーフローダウンドロー法によってガラスを成形する場合、ガラスの耐火物と接触する界面にＺｒＯ２に起因する結晶が析出し、長期間に亘る操業中にガラス基板の生産性を低下させる虞れがある。よってＺｒＯ２の含有量は０〜５％であり、より好ましくは０〜３％、０〜１％、０〜０．８％、０〜０．５％、０〜０．３％であり、最も好ましくは０〜０．１％である。
ＴｉＯ２は、ガラスのイオン交換性能を高める成分であるが、多くなりすぎると、α線放出量が高くなったり、耐失透性が低下したり、さらにはガラスが着色するため好ましくない。よってＴｉＯ２の含有量は、０〜５％であり、より好ましくは０〜３％、０〜１％、０〜０．８％、０〜０．５％、０〜０．３％であり、最も好ましくは０〜０．１％である。
特にＺｒＯ２＋ＴｉＯ２を０〜５％に規制すると、α線放出量の低減と、失透性の改善が両立しやすくなるため好ましい。
本発明では、ガラスの特性を大きく損なわない範囲で、他のガラス成分を添加することができる。
ＳＯ３、Ｓｂ２Ｏ３及びＳｎＯ２は、清澄剤として使用でき、これらの１種又は２種以上を０〜３％含有させることができる。
ＺｎＯは、ガラスの高温粘度を低下させる効果がある。しかしＺｎＯを多く含有すると、ガラスの熱膨張係数が大きくなったり、耐失透性やイオン交換性能が低下したり、α線放出量が多くなるため好ましくない。よってＺｎＯの含有量は、０〜５％、好ましくは０〜３％、より好ましくは０〜１％、最も好ましくは０〜０．５％である。
Ｎｂ２Ｏ５、Ｌａ２Ｏ３といった希土類酸化物は、ガラスのヤング率を高める成分であるが、多くなりすぎると、α線放出量が多くなり、耐失透性が低下する。また、これらの原料は高価であるため、生産コストが上昇する。よって希土類酸化物の含有量は、各々０〜３％、好ましくは０〜２％、より好ましくは０〜１％、さらに好ましくは０〜０．５％であり、実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「希土類酸化物を実質的に含有しない」とは、ガラス組成中の希土類酸化物を０．１％以下とすることを意味する。
尚、Ｃｏ、Ｎｉ等の遷移金属元素は、ガラスを強く着色させ、ガラス基板の透過率を低下させるため含有を避けるべきである。特に固体撮像素子やタッチパネルディスプレイ、携帯電話のカバーガラスのように、一定の光量や視認性が求められる用途では、ガラスの着色を避けなければならない。従って、遷移金属元素は、０．５％以下、０．１％以下、０．０５％以下となるようにガラス原料やカレットの使用量を調整することが要求される。
また本発明の強化ガラス基板は、イオン交換によって強化されているため、軽量化を図る目的で薄肉化しても、割れを防止することが可能となる。具体的には、厚みを３．０ｍｍ以下、１．５ｍｍ以下、０．７ｍｍ以下、０．５ｍｍ以下、０．３ｍｍ以下にすることが可能である。尚、ガラス基板の割れをより抑えるためにガラス基板を所定寸法に切断した後に面取り加工や角取り加工を施してからイオン交換しても良い。また製造コストを低減するためにガラス基板をイオン交換した後に所定寸法に切断しても良い。
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
表１は、試料Ｎｏ．１〜４を示すものである。
表１の各試料は、次のようにして作製した。まず表１のガラス組成となるように、高純度のガラス原料を調合した後、白金ポットに入れ、１５７０℃で８時間溶融した。
その後、溶融ガラスをカーボン板の上に流し出して板状に成形した。こうして得られた板状ガラスについて種々の特性を評価し、その結果を表１に示した。
表１から明らかなように、実施例のガラスは、熱膨張係数が６０〜１００×１０−７／℃、α線放出量が２５〜４０×１０−４Ｃ／ｃｍ２／ｈ、液相温度が９５０℃以下、液相粘度が１０４．６以上であった。
尚、表１中の各特性は、以下のようにして評価した。
熱膨張係数は、ディラトメーターを用いて、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数を測定したものである。
α線放出量は、ガスフロー比例計数管測定装置を用いて測定した。
密度は、周知のアルキメデス法によって測定した。
歪点、徐冷点は、ＡＳＴＭ Ｃ３３６の方法に基づいて測定した。
軟化点は、ＡＳＴＭ Ｃ３３８の方法に基づいて測定した。
ガラスの粘度１０４．０ｄＰａ・ｓ、１０３．０ｄＰａ・ｓ及び１０２．５ｄＰａ・ｓに相当する温度は、白金球引き上げ法で測定した。
液相温度は、ガラスを粉砕し、標準篩３０メッシュ（篩目開き５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（篩目開き３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定したものである。また液相粘度は、液相温度に相当するガラスの粘度を測定したものである。
ヤング率は、共振法によって測定した。
次に、表１のＮｏ．１〜４のガラスとなるように調製した原料を、図２に示す溶融装置１４に投入し、１５００〜１６００℃で溶融した後、清澄装置１５で清澄し、さらに攪拌装置１６、供給装置１７を介して成形装置１８に送り、図１に示すオーバーフローダウンドロー装置を用いて板状ガラスを成形してから、徐冷することによって、厚み０．５ｍｍのガラス基板を作製した。次に、各ガラス基板を縦３５ｍｍ、横３５ｍｍに切断し、角取り加工と面取り加工を施した後、イオン交換を行うことによって強化した。イオン交換処理は、Ｎｏ．１、２、４のガラス基板については４９０℃のＫＮＯ３溶融塩中に２時間浸漬し、またＮｏ．３のガラス基板については４６０℃のＫＮＯ３溶融塩中に６時間浸漬することによって行った。その後、ガラス基板を溶融塩から取り出し、水で洗浄した。
また比較のため、上記の角取り加工と面取り加工を施したガラス基板の表面を１００μｍ程度の厚みで研磨した試料（研磨品）についても、それぞれ同様のイオン交換処理を行なった。
これらのガラス基板を、表面応力計（株式会社東芝製ＦＳＭ−６０）を用いて干渉縞の本数と、その間隔を計測し、表面に形成された圧縮応力値と圧縮応力層の厚みを算出し、その結果を表１に示した。
表から明らかなように、無研磨品のガラス基板の表面には、研磨品より高い圧縮応力が形成されていた。以上のことからオーバーフローダウンドロー法によって成形し、表面が無研磨のガラス基板は、表面を研磨したガラス基板に比べて、イオン交換により高い圧縮応力が形成されることが理解できる。
本発明は、薄肉でありながら、高い機械的強度が要求される強化ガラス基板を製造することが可能な方法である。本発明の強化ガラス基板は、携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ等のカバーガラス、或いはタッチパネルディスプレイ等に使用されるガラス基板として好適であり、その他の高い強度が要求される用途、例えば窓ガラス、磁気ディスク用基板、フラットパネルディスプレイ用基板等として使用することも可能である。
１１ 樋状耐火物
１２ 溶融ガラス
１３ 板状ガラス
１４ 溶融装置
１５ 清澄装置
１６ 攪拌装置
１７ 供給装置
１８ 成形装置

Claims (7)

  1. ガラスが、ガラス組成としてＢ ２ Ｏ ３ ０〜１１質量％、Ｎａ２Ｏ １〜２０質量％を含有し、質量比（Ｌｉ ２ Ｏ＋Ｋ ２ Ｏ）／Ｎａ ２ Ｏが０〜０．３、且つ３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３０〜１００×１０−７／℃となるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、表面が無研磨面の状態で、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に、圧縮応力が６００ＭＰａ以上の圧縮応力層を形成する工程を有することを特徴とする強化ガラス基板の製造方法。
  2. ガラスが、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２ ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３ ２〜２０％、Ｂ２Ｏ３ ０〜１１％、Ｎａ２Ｏ １〜２０％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜３％を含有し、且つ質量比（Ｌｉ ２ Ｏ＋Ｋ ２ Ｏ）／Ｎａ ２ Ｏが０〜０．３となるように原料を調製することを特徴とする請求項１に記載の強化ガラス基板の製造方法。
  3. ガラスが、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２ ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３ ２〜２０％、Ｂ２Ｏ３ ０〜１１％、Ｎａ２Ｏ ７．５〜２０％、Ｌｉ２Ｏ ０〜１％、Ｋ２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜５％、ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜３％、ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２ ０〜５％を含有し、且つ質量比（Ｌｉ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）／Ｎａ２Ｏが０〜０．３となるように原料を調製することを特徴とする請求項１又は２に記載の強化ガラス基板の製造方法。
  4. 液相温度が１１００℃以下のガラスとなるように原料を調製することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の強化ガラス基板の製造方法。
  5. 液相粘度が１０４．０ｄＰａ・ｓ以上のガラスとなるように原料を調製することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の強化ガラス基板の製造方法。
  6. 板状ガラスの表面に形成する圧縮応力層の厚みが１μｍ以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の強化ガラス基板の製造方法。
  7. 請求項１〜６のいずれかの方法によって製造されてなることを特徴とする強化ガラス基板。
JP2011257132A 2007-01-16 2011-11-25 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板 Active JP5557168B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011257132A JP5557168B2 (ja) 2007-01-16 2011-11-25 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007007325 2007-01-16
JP2007007325 2007-01-16
JP2011257132A JP5557168B2 (ja) 2007-01-16 2011-11-25 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008004584A Division JP2008195602A (ja) 2007-01-16 2008-01-11 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013237658A Division JP5557172B2 (ja) 2007-01-16 2013-11-18 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012036092A JP2012036092A (ja) 2012-02-23
JP5557168B2 true JP5557168B2 (ja) 2014-07-23

Family

ID=39754893

Family Applications (4)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008004584A Pending JP2008195602A (ja) 2007-01-16 2008-01-11 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP2011250284A Pending JP2012076994A (ja) 2007-01-16 2011-11-16 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP2011257132A Active JP5557168B2 (ja) 2007-01-16 2011-11-25 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP2013237658A Active JP5557172B2 (ja) 2007-01-16 2013-11-18 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008004584A Pending JP2008195602A (ja) 2007-01-16 2008-01-11 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP2011250284A Pending JP2012076994A (ja) 2007-01-16 2011-11-16 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013237658A Active JP5557172B2 (ja) 2007-01-16 2013-11-18 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板

Country Status (1)

Country Link
JP (4) JP2008195602A (ja)

Families Citing this family (89)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008108332A1 (ja) * 2007-03-02 2008-09-12 Nippon Electric Glass Co., Ltd. 強化板ガラスとその製造方法
US8673163B2 (en) 2008-06-27 2014-03-18 Apple Inc. Method for fabricating thin sheets of glass
CN103043900A (zh) * 2008-08-08 2013-04-17 康宁股份有限公司 强化的玻璃制品及其制造方法
JP5622069B2 (ja) 2009-01-21 2014-11-12 日本電気硝子株式会社 強化ガラス、強化用ガラス及び強化ガラスの製造方法
US20100215862A1 (en) * 2009-02-26 2010-08-26 Sinue Gomez Method for forming an opal glass
CN102388003B (zh) 2009-03-02 2014-11-19 苹果公司 用于强化用于便携式电子设备的玻璃盖的技术
CN101508524B (zh) * 2009-03-31 2010-06-30 成都光明光电股份有限公司 适于化学钢化的玻璃及其化学钢化玻璃
US8802581B2 (en) * 2009-08-21 2014-08-12 Corning Incorporated Zircon compatible glasses for down draw
TWI401219B (zh) * 2009-12-24 2013-07-11 Avanstrate Inc Glass plate manufacturing method and glass plate manufacturing apparatus
US9778685B2 (en) 2011-05-04 2017-10-03 Apple Inc. Housing for portable electronic device with reduced border region
CN102844858A (zh) * 2010-04-20 2012-12-26 旭硝子株式会社 用于形成半导体器件贯通电极的玻璃基板
JP5581791B2 (ja) * 2010-04-26 2014-09-03 旭硝子株式会社 固体撮像素子パッケージ用カバーガラス
JP5051329B2 (ja) * 2010-05-19 2012-10-17 旭硝子株式会社 化学強化用ガラスおよびディスプレイ装置用ガラス板
JP2012036074A (ja) * 2010-07-12 2012-02-23 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板
US10189743B2 (en) 2010-08-18 2019-01-29 Apple Inc. Enhanced strengthening of glass
US20120052271A1 (en) 2010-08-26 2012-03-01 Sinue Gomez Two-step method for strengthening glass
US8824140B2 (en) 2010-09-17 2014-09-02 Apple Inc. Glass enclosure
CN103097315B (zh) * 2010-09-27 2015-10-14 旭硝子株式会社 化学强化用玻璃、化学强化玻璃及显示装置用玻璃板
US9434644B2 (en) 2010-09-30 2016-09-06 Avanstrate Inc. Cover glass and method for producing cover glass
JP2012106897A (ja) * 2010-11-19 2012-06-07 Central Glass Co Ltd 化学強化用ガラス組成物
JP2012121757A (ja) * 2010-12-08 2012-06-28 Nippon Electric Glass Co Ltd 高屈折率ガラス
CN102531384B (zh) 2010-12-29 2019-02-22 安瀚视特股份有限公司 玻璃盖片及其制造方法
JP5839338B2 (ja) * 2011-01-18 2016-01-06 日本電気硝子株式会社 強化ガラス板の製造方法
JP5850401B2 (ja) * 2011-02-10 2016-02-03 日本電気硝子株式会社 強化ガラス板
US10781135B2 (en) 2011-03-16 2020-09-22 Apple Inc. Strengthening variable thickness glass
US9725359B2 (en) 2011-03-16 2017-08-08 Apple Inc. Electronic device having selectively strengthened glass
US9128666B2 (en) 2011-05-04 2015-09-08 Apple Inc. Housing for portable electronic device with reduced border region
US9944554B2 (en) 2011-09-15 2018-04-17 Apple Inc. Perforated mother sheet for partial edge chemical strengthening and method therefor
EP2762460B1 (en) * 2011-09-29 2019-01-16 Central Glass Company, Limited Chemically strengthened glass plate and method for manufacturing same
US9516149B2 (en) 2011-09-29 2016-12-06 Apple Inc. Multi-layer transparent structures for electronic device housings
EP2762461B1 (en) * 2011-09-29 2018-11-21 Central Glass Company, Limited Chemically strengthened glass and method for producing same
US11707408B2 (en) 2011-10-25 2023-07-25 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
SG11201401736QA (en) 2011-10-25 2014-05-29 Corning Inc Glass compositions with improved chemical and mechanical durability
US9517966B2 (en) 2011-10-25 2016-12-13 Corning Incorporated Glass compositions with improved chemical and mechanical durability
US10350139B2 (en) 2011-10-25 2019-07-16 Corning Incorporated Pharmaceutical glass packaging assuring pharmaceutical sterility
CN104066695B (zh) 2011-10-25 2019-02-12 康宁股份有限公司 具有改善的化学和机械耐久性的碱土金属铝硅酸盐玻璃组合物
US10144669B2 (en) 2011-11-21 2018-12-04 Apple Inc. Self-optimizing chemical strengthening bath for glass
US20130136909A1 (en) 2011-11-30 2013-05-30 John Christopher Mauro Colored alkali aluminosilicate glass articles
US8684613B2 (en) 2012-01-10 2014-04-01 Apple Inc. Integrated camera window
US10133156B2 (en) 2012-01-10 2018-11-20 Apple Inc. Fused opaque and clear glass for camera or display window
US8773848B2 (en) 2012-01-25 2014-07-08 Apple Inc. Fused glass device housings
US10737973B2 (en) 2012-02-28 2020-08-11 Corning Incorporated Pharmaceutical glass coating for achieving particle reduction
EP3919457A1 (en) 2012-02-28 2021-12-08 Corning Incorporated Glass articles with low-friction coatings
US11497681B2 (en) 2012-02-28 2022-11-15 Corning Incorporated Glass articles with low-friction coatings
JP5731438B2 (ja) * 2012-04-06 2015-06-10 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス板の製造方法および製造装置
TWI593644B (zh) * 2012-05-09 2017-08-01 康寧公司 製造覆蓋玻璃的方法
US10273048B2 (en) 2012-06-07 2019-04-30 Corning Incorporated Delamination resistant glass containers with heat-tolerant coatings
JP5954690B2 (ja) * 2012-06-18 2016-07-20 日本電気硝子株式会社 非接触給電用支持部材
JP2014205604A (ja) * 2012-06-25 2014-10-30 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板及びその製造方法
US9034442B2 (en) 2012-11-30 2015-05-19 Corning Incorporated Strengthened borosilicate glass containers with improved damage tolerance
JP2014024717A (ja) * 2012-07-27 2014-02-06 Asahi Glass Co Ltd Ｃｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ太陽電池用ガラス板およびそれを用いた太陽電池とその製造方法
US9946302B2 (en) 2012-09-19 2018-04-17 Apple Inc. Exposed glass article with inner recessed area for portable electronic device housing
JP5546058B2 (ja) * 2012-09-25 2014-07-09 日本電気硝子株式会社 強化ガラス、強化用ガラスおよび強化ガラスの製造方法
US10117806B2 (en) 2012-11-30 2018-11-06 Corning Incorporated Strengthened glass containers resistant to delamination and damage
JP2016028987A (ja) * 2012-12-19 2016-03-03 旭硝子株式会社 ガラス素板、ガラス素板の製造方法及び化学強化ガラスの製造方法
JP2015061808A (ja) * 2012-12-21 2015-04-02 日本電気硝子株式会社 強化ガラス、強化ガラス板、強化ガラス容器及び強化用ガラス
JP5812210B2 (ja) * 2013-01-24 2015-11-11 旭硝子株式会社 太陽電池用カバーガラスおよび太陽電池モジュール
CN104968623A (zh) * 2013-02-07 2015-10-07 日本板硝子株式会社 玻璃组合物、化学强化用玻璃组合物、强化玻璃物品及显示器用保护玻璃
CN104071980A (zh) * 2013-03-26 2014-10-01 富荞企业管理顾问有限公司 触控保护玻璃的组成
US9707154B2 (en) 2013-04-24 2017-07-18 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9839579B2 (en) 2013-04-24 2017-12-12 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9717649B2 (en) 2013-04-24 2017-08-01 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9713572B2 (en) 2013-04-24 2017-07-25 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9603775B2 (en) 2013-04-24 2017-03-28 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9707153B2 (en) 2013-04-24 2017-07-18 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9717648B2 (en) 2013-04-24 2017-08-01 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9700486B2 (en) 2013-04-24 2017-07-11 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9707155B2 (en) 2013-04-24 2017-07-18 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9849066B2 (en) 2013-04-24 2017-12-26 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
US9700485B2 (en) 2013-04-24 2017-07-11 Corning Incorporated Delamination resistant pharmaceutical glass containers containing active pharmaceutical ingredients
CN105189385A (zh) * 2013-04-25 2015-12-23 旭硝子株式会社 化学强化用玻璃板及其制造方法
US10329193B2 (en) * 2013-05-24 2019-06-25 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Method for producing toughened glass plate
US20160083292A1 (en) * 2013-05-24 2016-03-24 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Method for manufacturing tempered glass sheet
JP6394110B2 (ja) * 2013-07-08 2018-09-26 日本電気硝子株式会社 強化ガラスの製造方法
DE112014003338T5 (de) * 2013-07-19 2016-03-31 Asahi Glass Company, Limited Glas mit chemisch erhöhter Festigkeit und Verfahren zu dessen Herstellung
US9886062B2 (en) 2014-02-28 2018-02-06 Apple Inc. Exposed glass article with enhanced stiffness for portable electronic device housing
DE102014106817A1 (de) 2014-05-14 2015-11-19 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Dünnglas-Bands und verfahrensgemäß hergestelltes Dünnglas-Band
TWI705946B (zh) 2014-09-05 2020-10-01 美商康寧公司 玻璃物品及改善玻璃物品可靠性的方法
CN107074639A (zh) * 2014-10-17 2017-08-18 旭硝子株式会社 盖构件
CA2968536C (en) 2014-11-26 2021-05-25 Corning Incorporated Methods for producing strengthened and durable glass containers
EP3150564B1 (en) 2015-09-30 2018-12-05 Corning Incorporated Halogenated polyimide siloxane chemical compositions and glass articles with halogenated polylmide siloxane low-friction coatings
CN108349789A (zh) 2015-10-30 2018-07-31 康宁股份有限公司 具有聚合物和金属氧化物混合涂层的玻璃制品
WO2017217321A1 (ja) * 2016-06-14 2017-12-21 日本電気硝子株式会社 ガラス転動体
DE102017102482B4 (de) * 2017-02-08 2019-11-21 Schott Ag Gläser mit verbesserter Ionenaustauschbarkeit und thermischer Ausdehnung
WO2018152845A1 (en) 2017-02-27 2018-08-30 Schott Glass Technologies (Suzhou) Co. Ltd. Lithium containing aluminosilicate glass with low expansion after chemical toughening
CN108689598A (zh) * 2017-04-05 2018-10-23 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 化学钢化后具有低膨胀的铝硅酸盐玻璃
CN109912180A (zh) * 2019-03-28 2019-06-21 河北视窗玻璃有限公司 一种盖板玻璃的生产方法
WO2023286668A1 (ja) * 2021-07-13 2023-01-19 日本電気硝子株式会社 強化用ガラス板及び強化ガラス板
CN115872616A (zh) * 2022-11-30 2023-03-31 咸宁南玻光电玻璃有限公司 高碱铝硅玻璃、化学钢化玻璃、制备方法及应用

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4018965A (en) * 1975-04-14 1977-04-19 Corning Glass Works Photochromic sheet glass compositions and articles
JPH03237036A (ja) * 1989-08-24 1991-10-22 Nippon Electric Glass Co Ltd アルミナパッケージ用薄板状硼けい酸ガラス
JP3412804B2 (ja) * 1996-12-26 2003-06-03 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用基板
JP3206804B2 (ja) * 1997-03-03 2001-09-10 旭テクノグラス株式会社 固体撮像素子パッケージ用窓ガラス
JP2004131314A (ja) * 2002-10-09 2004-04-30 Asahi Glass Co Ltd 透明導電膜付き化学強化ガラス基板、およびその製造方法
JP2005126320A (ja) * 2003-10-01 2005-05-19 Nippon Electric Glass Co Ltd 固体撮像素子パッケージ用窓ガラス
JP2005162600A (ja) * 2003-11-11 2005-06-23 Nippon Electric Glass Co Ltd 半導体パッケージ用カバーガラス
JP4679272B2 (ja) * 2005-07-04 2011-04-27 セントラル硝子株式会社 入出力一体型表示装置及び保護ガラス板
JP5605736B2 (ja) * 2006-05-25 2014-10-15 日本電気硝子株式会社 強化ガラス及びその製造方法
JP4918183B2 (ja) * 2006-09-29 2012-04-18 Ｈｏｙａ株式会社 板ガラスの製造装置及び製造方法、並びにガラス製品及び液晶ディスプレイの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5557172B2 (ja) 2014-07-23
JP2012036092A (ja) 2012-02-23
JP2012076994A (ja) 2012-04-19
JP2014040370A (ja) 2014-03-06
JP2008195602A (ja) 2008-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5557168B2 (ja) 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
JP5904426B2 (ja) 強化ガラスおよびその製造方法
JP5743125B2 (ja) 強化ガラス及び強化ガラス基板
KR101351366B1 (ko) 강화 유리 기판
JP5339173B2 (ja) 強化ガラス基板及びガラス並びに強化ガラス基板の製造方法
JP5418995B1 (ja) 強化ガラス基板及びその製造方法
JP5605736B2 (ja) 強化ガラス及びその製造方法
JP5875133B2 (ja) 強化ガラス基板
JP6256744B2 (ja) 無アルカリガラス板
JP5874316B2 (ja) 無アルカリガラス
JP2011093728A (ja) 強化板ガラス及びその製造方法
JP2012072054A (ja) カバーガラスおよびその製造方法
JP2010168233A (ja) 強化ガラスおよびガラス
JP2008115072A (ja) 強化ガラス基板
WO2013125507A1 (ja) 強化ガラス
WO2014002932A1 (ja) 有機ｅｌ用ガラス基板及びその製造方法
JP5796905B2 (ja) 強化ガラス基板及びガラス並びに強化ガラス基板の製造方法
JP5413817B2 (ja) 強化ガラス基板及びガラス並びに強化ガラス基板の製造方法
JP7389400B2 (ja) 無アルカリガラス板
WO2019167550A1 (ja) 強化ガラス及び強化用ガラス
JP2021195293A (ja) 無アルカリガラス板
JP2018035068A (ja) 無アルカリガラス板
JP2018058764A (ja) 無アルカリガラス板

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111125

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140331

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140416

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140512

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5557168

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140525