JP5509662B2 - レーザ駆動装置 - Google Patents

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Description

本発明は、レーザを発光させるレーザ駆動装置に関し、特に面発光レーザを駆動させるレーザ駆動装置に関する。
面発光レーザは、端面発光レーザと比較して発光抵抗が一桁程度大きく、100Ω近くあり、しかも、多チャンネル化によって寄生容量も大きくなる。さらに、面発光レーザの発光抵抗は、発光に伴う温度変化により変動し、そのために発光特性が変動してしまう。
そこで、面発光レーザの駆動は、多くの場合、発光抵抗の変動に影響を受ける電圧駆動方式ではなく、電流駆動方式を用いて、発光特性の安定化を図っていた。
しかし、面発光レーザは、端面発光レーザではあまり影響を受けなかった立ち上がり特性(TR特性)や立下り特性(TF特性)が、発光抵抗と寄生容量により定まる時定数に依存する。そのため、電流駆動方式では、面発光レーザを駆動する駆動信号の波形がなまるという課題がある。
図6を用いて具体的に説明する。図6(a)右図は、レーザLの等価回路図を表しており、端面発光レーザLtと面発光レーザLmは共に発光抵抗Ractと寄生容量Caで表される。
端面発光レーザLtは、発光抵抗Ract及び寄生容量Caが小さく、例えば発光抵抗は数10Ω程度である。これに対して、面発光レーザLmの発光抵抗Ractは、端面発光レーザLtと比較して、約一桁大きくなる。しかも、面発光レーザLmは、一平面上に多数形成するので、その引き回し電極の長さが長くなり、また、電極間に容量が形成されやすい。
このように、面発光レーザLmは端面発光レーザLtと比較して、発光面の面積が大きく、発光抵抗Ract及び寄生容量Caが大きい。
ここで、図6(b)に、面発光レーザLmに電流源100から電流IRを供給した場合に、発光抵抗Ractに流れる電流IRの波形を示す。
電流源100からの電流供給が開始されたとき、図6(b)に示すように、電流源100からの供給電流のほとんどが寄生容量Caに供給される。そして、寄生容量Caが充電されるに従って寄生容量Caへの供給電流が低減していき、発光抵抗Ractに供給される電流IRが増加していく。寄生容量Caの充電が終了すると、電流源100から供給される電流は発光抵抗Ractに供給される。一方、電流源100からの電流供給が停止したとき、充電されて電荷が蓄積された寄生容量Caから発光抵抗Ractへ電流IRが供給される。
このように、面発光レーザLmに供給される電流IRは、時定数CaRactで立ち上がりがなまり、立ち下りもなまる。これは、レーザ光を変調する際の変調速度が遅くなることを意味する。
そこで、従来においては、面発光レーザの立ち上がり立ち下がり特性(以下、「TR/TF特性」とする。)を、微分電流発生回路を設けて改善するようにしている。
図7(a)は面発光レーザLmのTR/TF特性を、微分電流発生回路を設けて改善する概念図である。また、図7(b)は電流源110から供給する電流パルス、図7(c)は微分電流波形、図7(d),(e)は面発光レーザに供給される電流をそれぞれ表す。
電流源110から矩形状の電流パルスを与えて面発光レーザLmを駆動する(図7(b)参照。)。一方、電圧V110は電流源110の電流パルスの立ち上がりに同期して立ち上がり、コンデンサC100を介して微分された正電流を面発光レーザLmに供給する(図7(c)参照)。これにより面発光レーザLmの立ち上がり特性を改善する(図7(d)参照)。また、電圧V110は電流源110の電流パルスの立ち下がりに同期して立ち下がり、コンデンサC100を介して微分された負電流を面発光レーザに供給する(図7(c)参照)。これにより面発光レーザLmの立ち下がり特性を改善する(図7(d)参照)。
例えば特許文献1〜3には、面発光レーザの駆動源に相補電流源を設け、この相補電流源から微分電流を加えて面発光レーザのTR/TF特性を改善している。更に、相補電流源の制御電圧をサンプルホールドして、微分電流印加用の両端電圧を制御したり、補償波形をリファレンスと比較して補償量を調整したり、多チャンネルの面発光レーザごとに補償容量を切り替えて駆動することが提案されている。
また、特許文献4の図15には、面発光レーザを電圧駆動ドライバと電流駆動ドライバとを切り替えて駆動する駆動方法が提案されている。面発光レーザは発光することにより温度が上昇する。温度が上昇すると発光抵抗が変化し発光量が変動する。これを防止するために、面発光レーザを電圧駆動により一定期間駆動した後、電流駆動に切り替えて一定の発光量を維持する、というものである。
特開2002−76504号公報 特開2008−113050号公報 特開2008−113051号公報 特開2008−98657号公報
しかしながら、図7(c)に示すような微分電流を加えて面発光レーザの立ち上がり及び立ち下がり特性を改善しても、微分電流印加用のコンデンサC100や面発光レーザLmの寄生容量Caがばらつき、あるいは発光抵抗Ractがばらつく。その結果、図7(e)の電流G1や電流F1に示すように過補償となる、或いは電流G2や電流F2に示すように補償不足となる。これを防止するために、駆動安定点の出力電圧をサンプルホールドし、電圧V100の大きさを制御したり、補償波形をリファレンス波形と比較して補償量を調整したり、微分電流印加用のコンデンサC100を切り替える、などの対策が施されている。しかし、これらはすべて電流駆動において微分電流の補償量を制御するものであり、制御が複雑となり回路規模が大きくなってしまう、という課題があった。
また、電圧駆動と電流駆動の2方式のドライバを切り替えて駆動する場合は、両方の駆動ドライバを備えることから回路規模が大きくなり、これらの異なる制御方式をスムーズに切り替えなければならず、制御が複雑になる。また、電流駆動初期電流、電圧駆動初期電圧及び発光抵抗Ractへのドライブ電流を高精度に揃えなければ切り替え段差等が生じ、発光抵抗Ract変動やチャンネルばらつきを揃える為に高度なタイミング処理が必要になる。
また、面発光レーザをエミッタフォロアのみの出力段により駆動すれば、発光開始時の特性のなまりを改善することができる。しかし、エミッタフォロアのみの出力段では、発光抵抗Ractの変化に伴う発光量の変化や、発光抵抗Ractのチャンネル間でのばらつきによる発光量のむらや、面発光レーザをオフしたときの、発光のオフ特性がなまってしまう問題を解決できない。
請求項1に係る発明は、レーザに駆動電流を供給する第1エミッタフォロアと、前記レーザに蓄積された電荷を放電する第2エミッタフォロアとを有する駆動手段と、前記駆動電流の大きさを検出する駆動電流検出手段と、前記駆動電流の基準となる参照電流を入力し、当該参照電流の大きさを検出する参照電流検出手段と、前記駆動電流検出手段での検出結果と前記参照電流検出手段での検出結果を比較し、当該比較結果に応じた制御電圧を生成する制御電圧生成手段と、前記レーザの発光期間の開始から第1期間は、前記制御電圧生成手段による前記制御電圧の生成を停止させ、かつ前記参照電流の大きさに応じた一定電圧を前記第1エミッタフォロアの入力ノードに出力させて当該第1エミッタフォロアを動作させ、その後前記レーザの発光期間の終了までは、前記制御電圧生成手段による前記制御電圧の生成の停止を解除し、当該生成した制御電圧を前記第1エミッタフォロアの入力ノードに出力させて当該第1エミッタフォロアを動作させ、前記レーザの発光期間の終了した後の第2期間は、前記第2エミッタフォロアを動作させて前記レーザに蓄積された電荷を放電する発光制御手段と、を備え前記発光制御手段は、前記第2期間の直前の前記比較結果に応じた電圧を、次回の前記第1期間に、前記一定電圧として前記第1エミッタフォロワの入力ノードに出力させるレーザ駆動装置とした。
請求項2に係る発明は、請求項1に記載のレーザ駆動装置において、前記発光制御手段は、前記レーザを発光させる発光期間と前記レーザを非発光の待機状態とする待機期間とを切り替える制御パルスを入力し、前記制御パルスに基づいて前記発光期間の開始タイミングに同期して開始する前記第1期間の長さの前縁抜きパルスを生成し、当該前縁抜きパルスを前記制御電圧生成手段へ出力して、前記制御電圧生成手段による前記制御電圧の生成を停止させ、さらに、前記制御パルスに基づいて前記発光期間の終了タイミングに同期して開始し、前記第2期間を有する、後縁抜きパルスを生成し、当該後縁抜きパルスを前記制御電圧生成手段及び前記駆動手段へ出力して、前記制御電圧の生成を停止させ、かつ前記後縁抜きパルスで前記第2エミッタフォロアを動作させることとした。
請求項3に係る発明は、請求項1又は2に記載のレーザ駆動装置において、前記第1エミッタフォロアが第1トランジスタから構成され、前記第2エミッタフォロアが第2トランジスタから構成され、前記第1トランジスタと前記第2トランジスタとはエミッタ同士が接続されており、前記駆動手段は、さらに、前記第2トランジスタとカレントミラー回路をなす第3トランジスタと、前記第3トランジスタとエミッタ同士が接続され、前記制御電圧をそのベースに入力する第4トランジスタと、を備え、前記発光制御手段は、前記レーザの発光期間の終了した後の第2期間に、前記第3トランジスタを動作させて前記第2トランジスタを動作させ、前記レーザに蓄積された電荷を放電することとした。
請求項4に係る発明は、請求項3に記載のレーザ駆動装置において、前記駆動電流検出手段及び前記参照電流検出手段は共に、ダイオード接続したトランジスタと抵抗とを直列に接続して構成しており、前記駆動電流検出手段のトランジスタのサイズと前記参照電流検出手段のトランジスタのサイズとをn:1(n>1)の関係となるようにしたものである。
請求項5に係る発明は、請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザ駆動装置において、前記駆動電流には、レーザを発光させる発光電流と前記レーザを非発光の待機状態とするバイアス電流とを含み、前記参照電流検出手段は、前記発光電流の基準となる参照発光電流の大きさと、前記バイアスの基準となる参照バイアス電流の大きさとを検出し、前記制御電圧生成手段は、前記駆動電流検出手段での検出した前記発光電流の大きさと前記参照電流検出手段での検出した前記参照発光電流の大きさとを比較し、当該比較結果に応じた電圧を出力する第1コンパレータと、前記バイアス電流の大きさと前記参照バイアス電流の大きさとを比較し、当該比較結果に応じた電圧を出力する第2コンパレータと、前記第1コンパレータの出力電圧を増幅して前記制御電圧を生成して出力する第1増幅器と、前記第2コンパレータの出力電圧を増幅して前記制御電圧を生成して出力する第2増幅器と、を備え、前記発光制御手段は、前記レーザを発光させる発光期間には前記第1増幅器から前記制御電圧を出力させ、前記レーザを非発光の待機状態とする待機期間には前記第2増幅器から前記制御電圧を出力させるものである。
本発明によれば、レーザの発光期間の開始から第1期間は電圧駆動によってレーザへ駆動電流を供給することから、レーザに形成される寄生容量に左右されること無く高速な立ち上がり特性(TR特性)を実現できる。また、その後レーザの発光期間の終了まで、電圧駆動中に駆動電流をリアルタイムにモニタし、駆動電圧に帰還をかける帰還ループを有しているため、発光抵抗Ractの変動に関わらず駆動電流を一定に保つ事ができる。さらに、レーザの発光期間の終了した後の第2期間は、第2エミッタフォロアを動作させてレーザに蓄積された電荷を放電するため、電荷引き抜き特性が向上し、高速な立ち下がり特性(TF特性)を実現できる。
本発明の実施形態に係るレーザ駆動装置の基本構成を表すブロック図である。 本発明の実施形態に係るレーザ駆動装置の等価回路図及びタイミングチャート図である。 本発明の実施形態に係るレーザ駆動装置の具体的な回路構成を示す図ある。 本発明の実施形態に係るレーザ駆動装置の前縁抜きパルス及び後縁抜きパルスの生成方法を表す模式図である。 本発明の実施形態に係るレーザ駆動装置のタイミングチャート図である。 従来公知のレーザの等価回路図及びその駆動波形を表す。 従来公知のレーザ駆動装置の概念図である。
以下、発明を実施するための形態(以下、「実施形態」とする)について説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.レーザ駆動装置の基本構成
2.レーザ駆動装置の具体的な回路構成
〔1.レーザ駆動装置の基本構成〕
まず、本実施形態に係るレーザ駆動装置の基本構成について図1及び図2を参照して具体的に説明する。
図1に示すように、本実施形態に係るレーザ駆動装置1は、発光制御手段10、駆動手段20、駆動電流検出手段30、参照電流検出手段40、制御電圧生成手段50を備え、レーザLmに駆動電流Ioを供給する。
〔1.1.各手段の構成〕
発光制御手段10は、駆動手段20、参照電流検出手段40及び制御電圧生成手段50を制御して、駆動手段20から面発光レーザLm(以下、単に「レーザLm」という。)へ駆動電流Ioを供給する。なお、レーザLmは、図2(a)に示すように、等価的に発光抵抗Ractと寄生容量Caとの並列回路で表わされる。
駆動手段20は、レーザLmに駆動電流Ioを供給する第1エミッタフォロア21と、レーザLmの寄生容量Caに蓄積された電荷を放電する第2エミッタフォロア22とを有する。
レーザLmへ供給する駆動電流Ioの種類には、発光電流Iopやバイアス電流Iobなどがある。「発光電流Iop」は、レーザLmからレーザ光を出射するために必要な電流であり、レーザLmから出射させようとするレーザ光の強度に応じた電流値の電流である。また、「バイアス電流Iob」は、発光制御を行っていないときにレーザLmに供給する電流であり、レーザLmの発光遅延を抑制するためにレーザLmへ供給される電流である。このバイアス電流Iobは、レーザLmからレーザ光を出射させる電流よりも小さい電流値の電流である。
第1エミッタフォロア21はNPN型のトランジスタQ1(以下、「第1トランジスタQ1」とする。)から構成され、第2エミッタフォロア22はPNP型のトランジスタQ2(以下、「第2トランジスタQ2」とする。)から構成されており、第1トランジスタQ1と第2トランジスタQ2とはエミッタ同士が接続される。
また、駆動手段20は、第2トランジスタQ2とカレントミラー回路をなすNPN型のトランジスタQ3(以下、「第3トランジスタQ3」とする。)と、この第3トランジスタQ3とエミッタ同士が接続され、ベースに制御電圧Vctを入力するPNP型のトランジスタQ4(以下、「第4トランジスタQ4」とする。)とを備える。
さらに、第3トランジスタQ3のコレクタとグランドGNDとの間には、スイッチSw3が設けられる。このスイッチSw3が短絡状態となったときに、第3トランジスタQ3のコレクタがグランドGNDに接続され、第2トランジスタQ2が動作して第2エミッタフォロア22としてレーザLmの寄生容量Caに蓄積された電荷を放電する。
駆動電流検出手段30は、駆動手段20がレーザLmへ供給している駆動電流Ioの大きさを検出しており、その大きさの情報を制御電圧生成手段50へ出力する。
参照電流検出手段40は、駆動電流Ioの基準となる参照電流Irの大きさを検出して、その大きさの情報を制御電圧生成手段50へ出力する。なお、参照電流Irとして、バイアス電流Iobの基準となるバイアス参照電流Iobr、発光電流Iopの基準となる発光参照電流Ioprがある。発光参照電流Ioprは、発光強度に応じて変化する制御電流Irvをバイアス参照電流Iobrに加算した値である。バイアス参照電流Iobrや制御電流Irvは、図示しない外部の信号処理部から入力されるものであるが、バイアス参照電流Iobrについては参照電流検出手段40内で生成するようにしてもよい。なお、制御電流Irvは、外部の信号処理部において、レーザLmの照射対象からの反射波を検出し、適切な強度のレーザ光が照射対象へ照射されるようにオートパワー制御(APC)が施される。
制御電圧生成手段50は、比較部51により駆動電流Ioの大きさと参照電流Irの大きさを比較し、この比較結果に応じた電圧を比較部51から出力する。比較部51から出力される電圧は、増幅部52へ入力され、この増幅部52で増幅されて制御電圧Vctとして駆動手段20へ出力される。
比較部51から出力される電圧は、駆動電流Ioの大きさとバイアス参照電流Iobrの大きさの差に応じた出力電圧Vbと、駆動電流Ioの大きさと発光参照電流Ioprの大きさの差に応じた出力電圧Vpとがある。制御電圧生成手段50には、スイッチSw2を有しており、比較部51から出力される出力電圧Vbと出力電圧Vpを選択的に増幅部52へ出力する。
ここで、「駆動電流Ioの大きさ」及び「バイアス参照電流Iobrの大きさ」は、それぞれ相対的な大きさを意味する。本実施形態では、駆動電流Ioの電流値が、参照電流Irのn倍(n>1)の電流値となったときに、駆動電流Io大きさと参照電流Irの大きさとが同じであると規定する。従って、比較部51では、参照電流Irの電流値にnを乗じた電流値と駆動電流Ioの電流値とを比較することになる。以下においては、その一例として、駆動電流検出手段30及び参照電流検出手段40は共に、それぞれ駆動電流Io及び参照電流Irの電流値に応じた電圧を電流の大きさとして出力する。そして、駆動電流検出手段30での電流電圧変換率と、参照電流検出手段40での電流電圧変換率の比を、1:n(n≧1)としている。
また、制御電圧生成手段50は、発光制御手段10からの要求に応じて、駆動電流Ioの大きさとバイアス参照電流Iobrの大きさの差に応じた出力電圧Vbの生成を停止して保持し、また、駆動電流Ioの大きさと発光参照電流Ioprの大きさの差に応じた出力電圧Vpの生成を停止して保持する。以下においては、このように保持した出力電圧Vb,Vpをそれぞれ保持電圧Vb’,Vp’と呼ぶこととする。
以上のように構成されたレーザ駆動装置1では、以下に説明する第1処理A〜第4処理Dを順次実行可能としている。かかる処理により、安定して駆動電流Ioを供給しつつ、駆動電圧Voの高速な立ち上がり特性(以下、「TR特性」という。)及び立ち下がり特性(以下、「TF特性」という。)を実現している。
第1処理A:レーザLmへのバイアス電流供給処理
第2処理B:レーザLmの駆動開始時処理
第3処理C:レーザLmへの発光電流供給処理
第4処理D:レーザLmの駆動終了時処理
〔1.2.第1処理Aについて〕
まず、第1処理Aである、レーザLmへのバイアス電流供給処理について説明する。
この第1処理Aでは、次のように、駆動電流Ioとバイアス参照電流Iobrとの比較結果に応じて駆動電流Ioを調整することで、駆動電流Ioとして所望の電流値のバイアス電流Iobを安定して供給する。
まず、発光制御手段10は、参照電流検出手段40のスイッチSw1を制御して、参照電流検出手段40に検出させる参照電流Irとして、バイアス参照電流Iobrのみを選択する。また、発光制御手段10は、制御電圧生成手段50のスイッチSw2を制御して比較部51から出力される出力電圧Vbを増幅部52に入力する。
参照電流検出手段40は、参照電流Irであるバイアス参照電流Iobrの大きさを検出し、制御電圧生成手段50へ通知する。一方、駆動電流検出手段30は、駆動電流Ioの大きさを検出し、制御電圧生成手段50へ通知する。
制御電圧生成手段50では、比較部51により駆動電流Ioの大きさとバイアス参照電流Iobrの大きさとを比較し、これらの大きさの差に応じた出力電圧Vbを比較部51から出力する。比較部51から出力される出力電圧Vbは、増幅部52へ入力され、この増幅部52で増幅されて制御電圧Vct1として駆動手段20における第1エミッタフォロア21の入力ノード(第1トランジスタQ1のベース)に入力される。
第1エミッタフォロア21の出力ノードの電圧は第1エミッタフォロア21の入力ノードに入力される制御電圧Vct1に応じた電圧(以下、「バイアス電圧V1」とする。)となり、レーザLmへ駆動電流Ioが流れる。このとき、駆動電流検出手段30は、駆動電流Ioの大きさを検出して制御電圧生成手段50へ通知するため、駆動電流Ioは、最終的に、バイアス参照電流Iobrの大きさに応じたバイアス電流Iobとなる。
このように、駆動電流Ioをリアルタイムでモニタし、参照電流検出手段40で検出したバイアス参照電流Iobrと比較して電圧駆動する駆動手段20にフィードバックをかける帰還ループを形成している。そのため、駆動手段20へ入力される制御電圧Vctは、駆動電流Ioの大きさとバイアス参照電流Iobrの大きさとが同じ(すなわち、参照電流Irの電流値にnを乗じた電流値と駆動電流Ioの電流値とが同じ)になるように駆動手段20の第1エミッタフォロア21を制御し、第1エミッタフォロア21からはバイアス参照電流Iobrの大きさに応じたバイアス電流IobがレーザLmへ安定して供給される。
このように、第1処理Aでは、駆動手段20は電圧駆動にフィードバックをかける帰還ループによりレーザLmへバイアス電流Iobを安定して供給し、バイアス電流の変動によるレーザ発光応答特性の変動を低減させている。
〔1.3.第2処理Bについて〕
次に、第2処理Bである、レーザLmの駆動開始時処理について説明する。
レーザLmの駆動を開始するときには、第1処理AによりレーザLmにはバイアス電流Iobが供給されており、レーザLmの寄生容量Caにはバイアス電圧V1に応じた電荷を超える電荷は蓄積されていない。そのため、後述する第3処理Cのように駆動電流Ioとして発光参照電流Ioprに基づいた発光電流IopをレーザLmへ供給すると、寄生容量Caへ電荷を急速に充電することができずTR特性が悪くなる。
そこで、本第2処理Bでは、駆動電流Ioの変動に応じた帰還ループを形成せずに制御電圧生成手段50から出力する制御電圧Vctを一定にして、駆動手段20を電圧駆動させ、レーザLmに発光電圧(以下、「発光電圧V2」とする。)を印加する。具体的には、次の処理を行う。
まず、発光制御手段10は、制御電圧生成手段50のスイッチSw2を制御して比較部51から出力される保持電圧Vp’を増幅部52に入力する。この保持電圧Vp’は比較部51による前回の比較結果(発光電流Iopと発光参照電流Ioprとの比較結果)に応じた電圧であり、比較部51に保持されている一定の電圧である。
比較部51から保持電圧Vp’が入力されると、増幅部52では、保持電圧Vp’に応じた制御電圧Vct2を出力する。これにより、第1トランジスタQ1のベースに一定の制御電圧Vct2が入力され、第1トランジスタQ1のエミッタに接続されたレーザLmには駆動電圧Voとして発光電圧V2が印加されてレーザLmが電圧駆動される。すなわち、駆動手段20は、第1エミッタフォロア21のベース電圧制御ループを止めて駆動電流Ioのモニタを行わない、非帰還型の電圧ドライブとして機能する。そのため、寄生容量Caには急速に電荷が充電されると共に、発光抵抗Ractには、所定の強度のレーザ光の出射に必要な発光電流Iopがその供給開始時から供給される。なお、このとき、第1エミッタフォロア21の出力抵抗Ro(図示せず)とすると、時定数RoCaで寄生容量Caが充電される。
なお、第2処理Bの処理開始に伴い、発光制御手段10は、制御電圧生成手段50を制御して、駆動電流Ioの大きさとバイアス参照電流Iobrの大きさとを比較する動作を停止させ、この停止直前の比較結果の出力電圧Vbを保持電圧Vb’として保持させる。この保持電圧Vb’は後述の第4処理Dにおいて用いられる。
図2(b)には、このときの制御電圧Vct、駆動電流Io、発光抵抗Ractに流れる電流Icの状態が示されている。同図に示すように、発光電流Iopの供給開始時であるタイミングt1〜t2の期間で第1トランジスタQ1のベースに保持電圧Vp’に応じた制御電圧Vct2が入力される。このとき、レーザLmには駆動電圧Voとして発光電圧V2が印加されて発光電流Iopよりも大きい電流が過渡的に流れて寄生容量Caに急速に電荷が充電され、一方で発光抵抗Ractには発光電流Iopが供給される。
このようにレーザ駆動装置1では、レーザLmの駆動開始時の所定期間Tr(タイミングt1〜t2)において、第2処理Bを実行することで、レーザLmの寄生容量Ca等に左右されることなく高速なTR特性を実現している。
また、この第2処理では、制御電圧生成手段50には、発光電流Iopと発光参照電流Ioprとの前回の比較結果に応じた保持電圧Vp’が保持されており、この保持電圧Vp’に基づいて制御電圧Vct2を生成する。従って、引き続き行われる第3処理Cで制御電圧生成手段50において生成される出力電圧Vpに応じた制御電圧Vct2との差を低減させることができ又は差を生じさることがなく、レーザLmに応じた適切な発光電圧V2を印加することができる。
なお、所定期間Trは、寄生容量Caの電圧が第2処理Bによる充電によって発光電圧V2程度になる時間であることが望ましい。このようにすることで、第2処理Bから後述する第3処理Cへ移行するときに、発光電流Iopの変動を抑えることができ、レーザLmの発光強度を略一定に保つことができる。
〔1.4.第3処理Cについて〕
次に、第3処理Cである、レーザLmへの発光電流供給処理について説明する。
第3処理Cは、第2処理Bが開始した後所定期間Tr経過したタイミングt2で開始される。
まず、発光制御手段10は、参照電流検出手段40のスイッチSw1を制御して、参照電流検出手段40に検出させる参照電流Irとして、発光参照電流Ioprを選択する。
参照電流検出手段40は、発光参照電流Ioprの大きさを検出し、制御電圧生成手段50へ通知する。一方、駆動電流検出手段30は、駆動電流Ioの大きさを検出し、制御電圧生成手段50へ通知する。
発光制御手段10は、制御電圧生成手段50を制御して、発光電流Iopの大きさと発光参照電流Ioprの大きさとを比較する動作を開始させ、当該比較結果である出力電圧Vpを比較部51から出力させる。また、発光制御手段10は、スイッチSw2の状態を維持し、比較部51から出力される出力電圧Vpを増幅部52に入力する。これにより、駆動電流Ioの大きさと発光参照電流Ioprの大きさとの差に応じた出力電圧Vpが増幅部52で増幅されて制御電圧Vct2として駆動手段20における第1エミッタフォロア21の入力ノード(第1トランジスタQ1のベース)に入力される。
第1エミッタフォロア21の出力ノードの電圧は第1エミッタフォロア21の入力ノードに入力される制御電圧Vct2に応じた電圧となり、レーザLmへ駆動電流Ioが流れる。このとき、駆動電流検出手段30は、駆動電流Ioの大きさを検出して制御電圧生成手段50へ通知するため、駆動電流Ioは、最終的に、発光参照電流Ioprの大きさに応じた発光電流Iopとなる。
図2(b)には、このときの制御電圧Vct、駆動電流Io、発光抵抗Ractに流れる電流IRの状態が示されている。同図に示すように、第2処理Bが開始した後所定期間Tr経過したタイミングt2から第1トランジスタQ1のベースに駆動電流Ioに応じた制御電圧Vct2が入力される。そのため、レーザLmには発光参照電流Ioprの大きさに応じた発光電流Iopが流れ、発光抵抗Ractには引き続き発光電流Iopが供給される。
このように、第3処理Cでは、駆動電流Ioをリアルタイムでモニタし、参照電流検出手段40で検出した発光参照電流Ioprと比較して電圧駆動する駆動手段20にフィードバックをかける帰還ループを形成する。そのため、駆動手段20へ入力される制御電圧Vctは、駆動電流Ioの大きさと発光参照電流Ioprの大きさとが同じ(すなわち、参照電流Irの電流値にnを乗じた電流値と駆動電流Ioの電流値とが同じ)になるように駆動手段20の第1エミッタフォロア21を制御し、第1エミッタフォロア21からは発光参照電流Ioprの大きさに応じた発光電流IopがレーザLmへ安定して供給される。
従って、レーザLmを発光させているときに、当該レーザLmの発光抵抗Ractに温度変動が生じた場合であっても、発光抵抗Ractに依存することなく、駆動電流Ioを供給でき、ドループの発生を回避することができる。また、この帰還ループは、当該レーザ駆動装置1の回路内で閉じているため、レーザLm側のグランドGND(或いは電源電圧VDD)が変動したとしても、安定して駆動電流Ioを供給できる。さらに、この帰還ループは、上記外部の信号処理部によるAPCループとは別の回路内での比較結果からのリアルタイムの帰還ループを構成するため、比較結果をAPCループよりはるかに早い時定数の帰還ループで制御される。
〔1.5.第4処理Dについて〕
次に、第4処理DであるレーザLmの駆動終了時処理について説明する。この第4処理Dは、上記第3処理CにおけるレーザLmの駆動終了時に引き続き行われるものである。
第4処理Dでは、駆動電流検出手段30の検出結果に応じた帰還ループを動作させず、制御電圧生成手段50から出力する制御電圧Vctを一定にし、さらに、駆動手段20のスイッチSw3を短絡状態にする。かかる動作により、第2エミッタフォロア22を電圧駆動させて、寄生容量Caの電荷を放電させるようにしている。具体的には、次のように実行される。
発光制御手段10は、制御電圧生成手段50を制御して、駆動電流Ioの大きさと発光参照電流Ioprの大きさとを比較する動作を停止させ、この停止直前の比較結果の出力電圧Vpを保持電圧Vp’として保持させる。この保持電圧Vp’は、次回実行される上記第2処理Bで用いられるものである。
さらに、発光制御手段10は、制御電圧生成手段50を制御して、保持電圧Vb’を出力させ、さらにスイッチSw2を制御して、保持電圧Vb’を増幅部52で増幅させる。増幅部52で増幅された保持電圧Vb’は制御電圧Vct1として駆動手段20における第1エミッタフォロア21の入力ノード(第1トランジスタQ1のベース)に入力される。この保持電圧Vb’は比較部51による前回の比較結果(バイアス電流Iobとバイアス参照電流Iobrとの比較結果)に応じた電圧であり、比較部51に保持されている一定の電圧である。
かかる制御電圧Vct1が第1トランジスタQ1のベースに入力されたとき、レーザLmに電荷が蓄積されていなければ、第1トランジスタQ1のエミッタ電圧は制御電圧Vct1に応じた一定電圧のバイアス電圧V1となる。
しかし、レーザLmの寄生容量Caには発光電圧V2により電荷が蓄積されている。そのため、第1トランジスタQ1のベース電圧はバイアス電圧V1よりも高くなり、第1トランジスタQ1の動作が停止する。従って、寄生容量Caに蓄積された電荷は、発光抵抗Ractとの間の決まる時定数CaRactでしか放電されないことになり、高速なTF特性を実現することができない(図7(d)に示す点線の波形と同様の波形となる)。
そこで、レーザ駆動装置1では、駆動手段20において、レーザLmの駆動を終了したときに蓄積されている寄生容量Caの電荷を放電させるために、第2エミッタフォロア22を設けている。
そして、発光制御手段10により、駆動手段20のスイッチSw3を短絡して第2エミッタフォロア22を動作状態にして、第2エミッタフォロア22を介してレーザLmとグランドGNDとを接続し、寄生容量Caの電荷を放電させるようにしている。
すなわち、第4トランジスタQ4のベースには、第1トランジスタQ1と同様に、制御電圧Vct1が入力されているため、第4トランジスタQ4のコレクタ電圧は、バイアス電圧V1となる。スイッチSw3を短絡すると、第3トランジスタQ3が動作状態となるため、カレントミラー回路を構成する第2トランジスタQ2が動作状態になり、この第2トランジスタQ2のエミッタ電圧はバイアス電圧V1となる。このバイアス電圧V1は、一定電圧であることから、第2エミッタフォロア22は非帰還型の電圧ドライブとなり、寄生容量Caの電荷が第2エミッタフォロア22である第2トランジスタQ2を介してグランドGNDへ放電される。このように、第4処理Dでは、駆動手段20を、第1エミッタフォロア21のベース電圧制御ループを止めて駆動電流Ioのモニタを行わない、非帰還型の電圧ドライブとして機能させている。
図2(b)には、このときの制御電圧Vct、駆動電流Io、発光抵抗Ractに流れる電流IRの状態が示されている。同図に示すように、タイミングt3で第1トランジスタQ1のベースに一定電圧である制御電圧Vct1が入力される。このとき、第2トランジスタQ2がオン状態となり、寄生容量Caに充電されている電荷が放電する。第2トランジスタQ2はエミッタフォロアとして動作し、そのオン抵抗が小さいため、寄生容量Caに充電されている電荷を高速に放電される。
なお、第1トランジスタQ1と第4トランジスタとのチップサイズの比がm:1であれば、第2トランジスタQ2が流せる電流は1/mとなる。しかし、第1トランジスタQ1が動作していない状態では、第2トランジスタQ2はエミッタフォロアとして動作するため、寄生容量Caの電荷を速に放電し、これによりTF特性が改善される。
その後所定期間Tf経過したタイミングt4で発光制御手段10は、第1処理Aに戻る。すなわち、制御電圧生成手段50を制御して比較部51からバイアス電流Ibと参照バイアス電流Ibrとの比較結果に応じた出力電圧Vbを増幅部52に入力する。かかる処理により、第1エミッタフォロア21は電流駆動によりレーザLmへバイアス電流Ibを供給する。
このようにレーザ駆動装置1では、レーザLmの駆動終了時の所定期間Tf(タイミングt3〜t4)、第4処理Dを実行することで、レーザLmの寄生容量Ca等に左右されることなく高速なTF特性を実現している。
〔2.レーザ駆動装置の具体的な回路構成〕
次に、本実施形態に係るレーザ駆動装置の具体的な構成の一例ついて図3〜図5を参照して説明する。なお、図1と同様の構成については同様の符号を付している。
図3に示すレーザ駆動装置1’の具体的構成は、図1に示す基本構成と同様に、発光制御手段10’、駆動手段20’、駆動電流検出手段30’、参照電流検出手段40’、制御電圧生成手段50’とを備える。以下、各手段の具体的な構成についてさらに詳細に説明する。
(2.1.発光制御手段10’)
発光制御手段10’は、制御手段11と、インバータ回路12と、前縁抜きパルス発生回路13と、後縁抜きパルス発生回路14と、を備える。
制御手段11は、制御パルスであるデータパルスDPを出力する。このデータパルスDPがHレベルの期間のときに、外部から入力される制御電流Irvにバイアス参照電流Iobrを加算した電流値に応じた発光電流IopをレーザLmへ供給する。これにより、発光電流Iopに応じた強度でレーザLmを発光させる。このデータパルスDPは、換言すれば、レーザLmを発光させる発光期間TLとレーザLmを非発光の待機状態とする待機期間とを切り替える制御パルスである。
インバータ回路12は、データパルスDPの信号レベルを反転させた反転データ信号xDPを出力する。
前縁抜きパルス発生回路13は、発光期間TLの開始タイミングt1に同期して開始し、第1期間Trの長さのパルス(以下、「前縁抜きパルスEdgeF」とする。)をデータパルスDPに基づいて生成する。
後縁抜きパルス発生回路14は、発光期間TLの終了タイミングt3に同期して開始し、第2期間Tfを有するパルス(以下、「後縁抜きパルスEdgeB」とする。)をデータパルスDPに基づいて生成する。
これらの前縁抜きパルスEdgeF及び後縁抜きパルスEdgeBの生成は、前縁抜きパルス発生回路13及び後縁抜きパルス発生回路14により次のように行われる。
前縁抜きパルス発生回路13は、図4(a)に示すように、微分回路により、データパルスDPを微分して生成した第1微分信号S1と、データパルスDPを反転した後に微分して生成した第2微分信号S2とを生成する。さらに、前縁抜きパルス発生回路13は、シフト回路で、第1微分信号S1のレベルを正側にシフトしてシフト信号S1’を生成し、コンパレータでシフト信号S1’と第2微分信号S2とを比較して、前縁抜きパルスEdgeFを生成する。
後縁抜きパルス発生回路14は、図4(b)に示すように、微分回路により、データパルスDPを微分して生成した第1微分信号S1と、データパルスDPを反転した後に微分して生成した第2微分信号S2とを生成する。さらに、後縁抜きパルス発生回路14は、シフト回路で、第2微分信号S2のレベルを正側にシフトしてシフト信号S2’を生成し、コンパレータでシフト信号S2’と第1微分信号S1とを比較して、後縁抜きパルスEdgeBを生成する。
(2.2.駆動手段20’)
駆動手段20’は、上述したように第1トランジスタQ1〜第4トランジスタQ4、及びスイッチSw3を有する。また、第4トランジスタQ4のコレクタとスイッチSw3との間には抵抗R4が設けられる。
そして、駆動手段20’は、上記駆動手段20と同様に、レーザLmに駆動電流Ioを供給する第1エミッタフォロア21と、レーザLmの寄生容量Caに蓄積された電荷を放電する第2エミッタフォロア22として機能する。
(2.3.駆動電流検出手段30’)
駆動電流検出手段30’は、駆動手段20’がレーザLmへ供給している駆動電流Ioの大きさとして、駆動電流Ioの電流値に応じた電圧を検出しており、その電圧の情報を制御電圧生成手段50へ出力する。
この駆動電流検出手段30’は、図3に示すように、電源電圧VDDと駆動手段20’(第1トランジスタのコレクタ)との間に、抵抗R5とダイオード接続されたPNP型のトランジスタQ5を直列に接続して構成される。具体的には、抵抗R5の一端が電源電圧VDDに接続され、他端がトランジスタQ5のエミッタに接続される。また、トランジスタQ5のコレクタ及びベースは第1トランジスタQ1のコレクタに接続される。また、第5トランジスタQ5のコレクタとグランドGNDとの間には第5トランジスタQ5にアイドリング電流を供給する電流源I1が設けられる。
駆動手段20’の第1エミッタフォロア21からレーザLmへ駆動電流Ioが流れると、抵抗R5にも駆動電流Ioと同様の電流値の電流が流れて、この電流値に応じた電圧がかかる。トランジスタQ5のベースには、抵抗R5の電圧変化に応じた電圧が生じ、この電圧が制御電圧生成手段50へ出力される。
(2.4.参照電流検出手段40’)
参照電流検出手段40’は、参照電流Irの大きさとして、参照電流Irの電流値に応じた電圧を検出しており、その電圧の情報を制御電圧生成手段50へ出力する。
この参照電流検出手段40’は、図3に示すように、電源電圧VDDとグランドGNDとの間に、抵抗R6、ダイオード接続されたPNP型のトランジスタQ6、電流源I6が直列に接続される。
具体的には、抵抗R6の一端が電源電圧VDDに接続され、他端がトランジスタQ6のエミッタに接続される。また、トランジスタQ6のコレクタ及びベースは電流源I6の一端に接続され、電流源I6の他端はグランドGNDに接続される。
ここで、駆動電流検出手段30の構成サイズと参照電流検出手段40の構成サイズとは、その比がn:1(n>1)の関係となるようにして、参照電流検出手段40の実装面積を低減している。なお、「構成サイズ」とは、トランジスタQ5,Q6、抵抗R5,R6のチップサイズである。また、電流源I6はトランジスタQ6にアイドリング電流を流すための電流源であり、電流源I1の電流値に対して1/nの電流値の電流源である。
トランジスタQ6のエミッタには、バイアス参照電流Iobrと制御電流Irvとを加算する加算回路41が接続される。加算回路41により制御電流Irvをバイアス参照電流Iobrに加算することで発光参照電流Ioprが生成される。参照電流検出手段40’には、制御電流Irvを加算回路41へ接続するスイッチSw1を備えており、これにより、トランジスタQ6に流す電流をバイアス参照電流Iobrと発光参照電流Ioprのいずれか一方に切り替える。なお、バイアス参照電流Iobrや制御電流Irvは、図示しない外部の信号処理部から入力されるものであるが、バイアス参照電流Iobrは参照電流検出手段40’内で生成するようにしてもよい。
(2.5.制御電圧生成手段50’)
制御電圧生成手段50’は、比較部51、増幅部52及びスイッチSw2−1,Sw2−2を有する。
比較部51は、駆動電流検出手段30’で検出した駆動電流Ioの電流値に応じた電圧と参照電流検出手段40’で検出した参照電流Irの電流値に応じた電圧とを比較する第1コンパレータCp1と第2コンパレータCp2とを有する。ここでは、比較部51は、〔(駆動電流Ioの電流値)×(抵抗R5の抵抗値)+(トランジスタQ5のVf)〕と〔(参照電流Irの電流値)×(抵抗R6の抵抗値)+(トランジスタQ6のVf)〕とを比較しているが、必ずしもかかる構成にしなくてもよい。例えば、トランジスタQ5とトランジスタQ6とでカレントミラー回路を構成し、トランジスタQ5に流れる電流に比例する電流をトランジスタQ6に流して比較するようにしてもよい。また、トランジスタQ5,Q6を用いずに抵抗R5,R6にかかる電圧を比較するようにしてもよい。
第1コンパレータCp1は、発光参照電流Ioprの電流値に応じた電圧と駆動電流Ioの電流値に応じた電圧とを比較するためのコンパレータである。この第1コンパレータCp1は、データパルスDPがHレベルの時にスイッチSw5が短絡状態となって抵抗R7及びPNP型のトランジスタQ7を介して動作電流の供給を受けて動作する。
第1コンパレータCp1の出力は、PMOSトランジスタM1,M2、電流源I2,I4及び抵抗R9から構成される差動増幅器を介して、増幅部52の第1増幅器Ap1に入力される。
第1コンパレータCp1の出力ノードには、電圧を保持するためのコンデンサC1が接続される。このコンデンサC1は、第1コンパレータCp1の比較動作が停止したときに、その停止直前の出力電圧Vpを保持電圧Vp’として保持する機能を有している。このコンデンサC1は、MOSトランジスタ(PMOSトランジスタM1)が接続されているため、数十pF程度で、次の比較期間までの保持電圧Vp’を保持できる。
この第1コンパレータCp1による比較動作の停止は、スイッチSw5が開放状態になったとき(データパルスDPがLレベルのとき)、又は、スイッチSw7が短絡状態となったとき(前縁抜きパルスEdgeFがHレベルのとき)に実行され、それ以外のときには、比較動作が継続して行われる。
一方、第2コンパレータCp2は、バイアス参照電流Iobrの電流値に応じた電圧と駆動電流Ioの電流値に応じた電圧とを比較するためのコンパレータである。この、第2コンパレータCp2は、データパルスDPがLレベルの時(反転データパルスxDPがHレベルの時)にスイッチSw6が短絡状態となって抵抗R8及びトランジスタQ8を介して動作電流の供給を受けて動作する。
第2コンパレータCp2の出力は、PMOSトランジスタM3,M4、電流源I5,I4及び抵抗R9から構成される差動増幅器を介して、増幅部52の第2増幅器Ap2に入力される。
第2コンパレータCp2の出力ノードには、電圧を保持するためのコンデンサC2が接続される。このコンデンサC2は、第2コンパレータCp2の比較動作が停止したときに、その停止直前の出力電圧Vbを保持電圧Vb’として保持する機能を有している。このコンデンサC2は、MOSトランジスタ(PMOSトランジスタM3)が接続されているため、数十pF程度で、次の比較期間までの保持電圧Vb’を保持できる。
この第2コンパレータCp2による比較動作の停止は、スイッチSw6が開放状態になったとき(反転データパルスxDPがLレベルのとき)、又は、スイッチSw8が短絡状態となったとき(後縁抜きパルスEdgeBがHレベルのとき)に実行され、それ以外のときには、比較動作が継続して行われる。
増幅部52は、第1増幅器Ap1と第2増幅器A2とを備えており、第1増幅器Ap1は、第1コンパレータCp1の出力電圧Vp又は保持電圧Vp’を増幅し、第2増幅器Ap2は、第2コンパレータCp2の出力電圧Vb又は保持電圧Vb’を増幅する。
第1増幅器Ap1の出力電圧は、制御電圧Vct2として、データパルスDPがHレベルのときにスイッチSw2−1が短絡状態となって出力される。また、第2増幅器Ap2の出力電圧は、制御電圧Vct1として、データパルスDPがLレベルのときにスイッチSw2−2が短絡状態となって出力される。
なお、図1に示す基本構成では、スイッチSw2は比較部51と増幅部52との間に設けられる点で図3に示す構成と異なるが、Vbに応じた制御電圧Vct1と出力電圧Vpに応じた制御電圧Vct2とが選択的に出力できる構成であれば、どのような構成であってもよい。
また、図3に示す構成では、増幅器とスイッチ(第1増幅器Ap1とスイッチSw2−1、第2増幅器Ap2とスイッチSw2−2)を用いたが、
高速型のバートンスイッチを用いるようにしてもよい。
以上のように構成されるレーザ駆動装置1では、発光制御手段10’から出力されるパルス(データパルスDP、反転データパルスxDP、前縁抜きパルスEdgeF、後縁抜きパルスEdgeB)によって各手段が制御される。
(第1処理A:〜タイミングt1まで)
図5に示すように、データパルスDPがHレベルとなるまでのタイミングt1までは、レーザLmはバイアス電流Iobで駆動される区間であり、第1処理Aが行われる。
この第1処理Aは、反転データパルスxDPがHレベル(データパルスDPがLレベル)であり、かつ後縁抜きパルスEdgeBがLレベルのときに実行される。
反転データパルスxDPがHレベルであり、かつ後縁抜きパルスEdgeBがLレベルのとき、スイッチSw6が短絡状態となりスイッチSw8が開放状態となるため、第2コンパレータCp2に動作電流が供給される。
そのため、第2コンパレータCp2からバイアス参照電流Iobrの電流値に応じた電圧と駆動電流Ioの電流値に応じた電圧との比較結果に応じた出力電圧Vbが出力され、第2増幅器Ap2、スイッチSw2−2を介して駆動手段20’に制御電圧Vct1として入力される。
スイッチSw2−2を介して出力される制御電圧Vct1により、駆動手段20’は帰還型の電流ドライブとして機能して、第1エミッタフォロア21からバイアス電流IobをレーザLmに供給する。
すなわち、レーザ駆動装置1は、本第1処理Aにおいて、バイアス電流Iobをリアルタイムでモニタし、参照電流検出手段40’で検出したバイアス参照電流Iobrと比較して電圧駆動する駆動手段20’にフィードバックをかける帰還ループを形成する。そのため、駆動手段20’へ入力される制御電圧Vct1は、駆動電流Ioの電流値に応じた電圧と参照電流Irの電流値に応じた電圧とが同じになるように駆動手段20’の第1エミッタフォロア21を制御し、第1エミッタフォロア21からはバイアス参照電流Iobrの電流値に応じたバイアス電流IobがレーザLmへ安定して供給される。
なお、第1処理Aの期間において、データパルスDPがLレベルであり、後縁抜きパルスEdgeBもLレベルであるため、第1コンパレータCp1へ動作電流が供給されず、第1コンパレータCp1は比較動作を停止している。また、このとき、コンデンサC1には、第1コンパレータCp1の比較動作の停止直前に第1コンパレータCp1の出力電圧Vpが保持電圧Vp’として保持されている。このとき、第1増幅器Ap1には、差動増幅器を介して保持電圧Vp’に応じた電圧が印加されている。
(第2処理B:タイミングt1〜t2)
その後、データパルスDPがHレベルとなるタイミングt1において、前縁抜きパルスEdgeFがLレベルからHレベルとなる。
データパルスDPがHレベルとなると、スイッチSw5が短絡状態となり、第1コンパレータCp1に動作電流が供給しようとする。しかし、前縁抜きパルスEdgeFがHレベルになり、スイッチSw7が短絡状態となる。そのため、第1コンパレータCp1に動作電流が供給されず、第1コンパレータCp1の比較動作が停止する。その結果、第1増幅器Ap1に入力される電圧は、引き続き保持電圧Vp’に応じた電圧となる。
また、データパルスDPがHレベルとなることから、スイッチSw2−1が開放状態となる一方、スイッチSw1が短絡状態となる。そのため、一定電圧である保持電圧Vp’に応じた制御電圧Vct2が制御電圧生成手段50’から駆動手段20’(第1トランジスタQ1のベース)へ出力される。
これにより、レーザLmには駆動電圧Voとして発光電圧V2が印加されてレーザLmが電圧駆動される。そのため、寄生容量Caには急速に電荷が充電されると共に、発光抵抗Ractには、所定の強度のレーザ光の出射に必要な発光電流Iopがその供給開始時から供給される。
なお、第2処理Bの期間において、反転データパルスxDPがLレベルであるため、第2コンパレータCp2へ動作電流が供給されず、第2コンパレータCp2は比較動作を停止している。また、このとき、コンデンサC2には、第2コンパレータCp2の比較動作の停止直前に第2コンパレータCp2の出力電圧Vbが保持電圧Vb’として保持されている。このとき、第2増幅器Ap2には、差動増幅器を介して保持電圧Vb’に応じた電圧が印加されている。
(第3処理C:タイミングt2〜t3)
その後、タイミングt1から第1期間Tr経過したタイミングt2において、前縁抜きパルスEdgeFがHレベルからLレベルとなる。そのため、スイッチSw7が短絡状態となり、第1コンパレータCp1に動作電流が流れ、第1コンパレータCp1から駆動電流Ioの電流値に応じた電圧と発光参照電流Ioprの電流値に応じた電圧との比較結果に応じた出力電圧Vpが出力される。
このとき、データパルスDPがHレベルであり、スイッチSw2−1は引き続き短絡状態となるため、第1コンパレータCp1の出力電圧Vpは、第1増幅器Ap1及びスイッチSw2−1を介して制御電圧Vct2として駆動手段20’へ入力される。
駆動手段20’へ入力される制御電圧Vct2は、駆動電流Ioの電流値に応じた電圧と発光参照電流Ioprの電流値に応じた電圧とが同じになるように駆動手段20’の第1エミッタフォロア21を制御し、第1エミッタフォロア21からは発光参照電流Ioprの電流値に応じた発光電流IopがレーザLmへ安定して供給される。すなわち、駆動手段20’は、帰還型の電流ドライブとして機能する。
なお、第3処理Cの期間においても、反転データパルスxDPがLレベルであるため、第2コンパレータCp2へ動作電流が供給されず、第2処理Bの期間と同様に、第2増幅器Ap2には、差動増幅器を介して保持電圧Vb’に応じた電圧が印加されている。
(第4処理D:タイミングt3〜t4)
その後、データパルスDPがHレベルからLレベルとなるタイミングt3において、反転データパルスxDPがLレベルからHレベルとなり、さらに、後縁抜きパルスEdgeBがLレベルからHレベルとなる。
反転データパルスxDPがHレベルになると、スイッチSw6が短絡状態となり、第2コンパレータCp2に動作電流を供給しようとする。しかし、後縁抜きパルスEdgeBがHレベルになってスイッチSw8が短絡状態となるため、第2コンパレータCp2へ動作電流が流れず、第2コンパレータCp2の比較動作は停止したままの状態となる。従って、コンデンサC2には第2コンパレータCp2による前回の比較結果の電圧である保持電圧Vb’を保持した状態を維持する。
反転データパルスxDPがHレベルになるとスイッチSw2−2が短絡状態となるために、コンデンサC2で保持された保持電圧Vb’が第2増幅器Ap2及びスイッチSw2−2を介して駆動手段20’へ一定電圧の制御電圧Vct1として出力される。なお、このとき、データパルスDPがLレベルとなるために、スイッチSw2−1は開放状態となる。
さらに、反転データパルスxDPがHレベルになると、スイッチSw3が短絡状態となり、第3トランジスタQ3が動作状態となる。そのため、上述したように、第2トランジスタQ2が第2エミッタフォロア22として機能して、レーザLmとグランドGNDとを第2トランジスタQ2を介して接続し、寄生容量Caの電荷が急速に放電する。
以上、本発明の実施の形態のいくつかを図面に基づいて詳細に説明したが、これらは例示であり、当業者の知識に基づいて種々の変形、改良を施した他の形態で本発明を実施することが可能である。
例えば、駆動電流Ioの大きさと参照電流Irの大きさとの差に応じた電圧を保持電圧Vb’,Vp’として比較部51において保持し、かかる電圧を増幅器を介して駆動手段20,20’へ出力するようにしたが、参照電流Irの大きさに応じた一定電圧を駆動手段20,20’へ出力できればよい。例えば、駆動電流Ioの大きさと比較することなく、参照電流Irの大きさに応じた電圧を生成し、これを制御電圧として駆動手段20,20’へ出力するようにしてもよい。
なお、駆動電流Ioの大きさと参照電流Irの大きさとの差に応じた電圧を保持する場合、例えば、駆動電流Ioの大きさと参照電流Irの大きさとの差を増幅器を介して増幅した後に保持するようにしてもよい。すなわち、駆動電流Ioの大きさと参照電流Irの大きさとの差に応じた制御電圧Vctを結果的に保持できればよい。
また、駆動電流Ioの大きさと参照電流Irの大きさとの差に応じた制御電圧Vctに代えて、参照電流Irの大きさに応じた一定の電圧を制御電圧Vctとしてもよい。
以上のように、本実施形態のレーザ駆動装置1,1’は、レーザLmに駆動電流Ioを供給する第1エミッタフォロア21と、レーザLmに蓄積された電荷を放電する第2エミッタフォロア22とを有する駆動手段20,20’と、駆動電流Ioの大きさを検出する駆動電流検出手段30,30’と、駆動電流Ioの基準となる参照電流Irを入力し、当該参照電流Irの大きさを検出する参照電流検出手段40,40’と、駆動電流検出手段30,30’の検出結果と参照電流検出手段40,40’の検出結果とを比較し、当該比較結果に応じた制御電圧Vctを生成する制御電圧生成手段50,50’と、レーザLmの発光期間TLの開始から第1期間Trは、制御電圧生成手段50,50’による制御電圧Vctの生成処理を停止させ、かつ前記参照電流の大きさに応じた一定電圧(例えば、制御電圧生成手段50,50’において、前記比較結果に応じた制御電圧Vct(出力電圧Vp,Vbに応じた電圧)の生成を停止したときに当該制御電圧Vctを保持し、このときの前記保持した制御電圧Vct(保持電圧Vp’,Vb’に応じた電圧))を第1エミッタフォロア21の入力ノードに出力させて当該第1エミッタフォロア21を動作させ、その後レーザLmの発光期間TLの終了までは、制御電圧生成手段50,50’による制御電圧Vctの生成の停止を解除し、当該生成した制御電圧Vct(出力電圧Vp,Vbに応じた電圧)を第1エミッタフォロア21の入力ノードに出力させて当該第1エミッタフォロア21を動作させ、レーザLmの発光期間TLの終了した後の第2期間Tfは、第2エミッタフォロア22を動作させてレーザLmに蓄積された電荷を放電する発光制御手段10,10’と、を備えている。
従って、レーザLmの発光期間TLの開始から第1期間Trは電圧駆動によってレーザLmへ駆動電流が供給され、レーザLmに形成される寄生容量に左右されること無く高速な立ち上がり特性(TR特性)を実現できる。
また、その後レーザLmの発光期間TLの終了まで、電圧駆動中に駆動電流をリアルタイムにモニタし、駆動電圧に帰還をかける帰還ループが動作するため、発光抵抗Ractの変動に関わらず駆動電流Ioを一定に保つ事ができる。この帰還ループは、当該レーザ駆動装置1の回路内で閉じているため、レーザLm側のグランドGND(或いは電源電圧VDD)が変動したとしても、安定して駆動電流Ioを供給できる。
さらに、レーザLmの発光期間TLの終了した後の第2期間Tfは、第2エミッタフォロア22を動作させてレーザLmに蓄積された電荷を放電するため、電荷引き抜き特性が向上し、高速な立ち下がり特性(TF特性)を実現できる。
しかも、シンプルなエミッタフォロアの電圧駆動方式を基本としているため、複雑なタイミング制御も必要なく、又、補正電流も印加していないため、補正ズレも発生せず回路規模も小さく極めてシンプルに構成することができる。
1,1’ レーザ駆動装置
10,10’ 発光制御手段
20,20’ 駆動手段
30,30’ 駆動電流検出手段
40,40’ 参照電流検出手段
50,50’ 制御電圧生成手段
21 第1エミッタフォロア
22 第2エミッタフォロア
Q1 第1トランジスタ
Q2 第2トランジスタ
Q3 第3トランジスタ
Q4 第4トランジスタ
Io 駆動電流
Iop 発光電流
Iob バイアス電流
Ir 参照電流
Iopr 発光参照電流
Iobr バイアス参照電流

Claims (5)

  1. レーザに駆動電流を供給する第1エミッタフォロアと、前記レーザに蓄積された電荷を放電する第2エミッタフォロアとを有する駆動手段と、
    前記駆動電流の大きさを検出する駆動電流検出手段と、
    前記駆動電流の基準となる参照電流を入力し、当該参照電流の大きさを検出する参照電流検出手段と、
    前記駆動電流検出手段での検出結果と前記参照電流検出手段での検出結果を比較し、当該比較結果に応じた制御電圧を生成する制御電圧生成手段と、
    前記レーザの発光期間の開始から第1期間は、前記制御電圧生成手段による前記制御電圧の生成を停止させ、かつ前記参照電流の大きさに応じた一定電圧を前記第1エミッタフォロアの入力ノードに出力させて当該第1エミッタフォロアを動作させ、その後前記レーザの発光期間の終了までは、前記制御電圧生成手段による前記制御電圧の生成の停止を解除し、当該生成した制御電圧を前記第1エミッタフォロアの入力ノードに出力させて当該第1エミッタフォロアを動作させ、前記レーザの発光期間の終了した後の第2期間は、前記第2エミッタフォロアを動作させて前記レーザに蓄積された電荷を放電する発光制御手段と、を備え
    前記発光制御手段は、前記第2期間の直前の前記比較結果に応じた電圧を、次回の前記第1期間に、前記一定電圧として前記第1エミッタフォロワの入力ノードに出力させるレーザ駆動装置。
  2. 前記発光制御手段は、
    前記レーザを発光させる発光期間と前記レーザを非発光の待機状態とする待機期間とを切り替える制御パルスを入力し、
    前記制御パルスに基づいて前記発光期間の開始タイミングに同期して開始する前記第1期間の長さの前縁抜きパルスを生成し、当該前縁抜きパルスを前記制御電圧生成手段へ出力して、前記制御電圧生成手段による前記制御電圧の生成を停止させ、
    さらに、前記制御パルスに基づいて前記発光期間の終了タイミングに同期して開始し、前記第2期間を有する、後縁抜きパルスを生成し、当該後縁抜きパルスを前記制御電圧生成手段及び前記駆動手段へ出力して、前記制御電圧の生成を停止させ、かつ前記後縁抜きパルスで前記第2エミッタフォロアを動作させる請求項1に記載のレーザ駆動装置。
  3. 前記第1エミッタフォロアが第1トランジスタから構成され、前記第2エミッタフォロアが第2トランジスタから構成され、前記第1トランジスタと前記第2トランジスタとはエミッタ同士が接続されており、
    前記駆動手段は、さらに、
    前記第2トランジスタとカレントミラー回路をなす第3トランジスタと、
    前記第3トランジスタとエミッタ同士が接続され、前記制御電圧をそのベースに入力する第4トランジスタと、を備え、
    前記発光制御手段は、
    前記レーザの発光期間の終了した後の第2期間に、前記第3トランジスタを動作させて前記第2トランジスタを動作させ、前記レーザに蓄積された電荷を放電する請求項1又は2に記載のレーザ駆動装置。
  4. 前記駆動電流検出手段及び前記参照電流検出手段は共に、ダイオード接続したトランジスタと抵抗とを直列に接続して構成しており、
    前記駆動電流検出手段のトランジスタのサイズと前記参照電流検出手段のトランジスタのサイズとをn:1(n>1)の関係となるようにした請求項3に記載のレーザ駆動装置。
  5. 前記駆動電流には、レーザを発光させる発光電流と前記レーザを非発光の待機状態とするバイアス電流とを含み、
    前記参照電流検出手段は、前記発光電流の基準となる参照発光電流の大きさと、前記バイアスの基準となる参照バイアス電流の大きさとを検出し、
    前記制御電圧生成手段は、前記駆動電流検出手段での検出した前記発光電流の大きさと前記参照電流検出手段での検出した前記参照発光電流の大きさとを比較し、当該比較結果に応じた電圧を出力する第1コンパレータと、前記バイアス電流の大きさと前記参照バイアス電流の大きさとを比較し、当該比較結果に応じた電圧を出力する第2コンパレータと、前記第1コンパレータの出力電圧を増幅して前記制御電圧を生成して出力する第1増幅器と、前記第2コンパレータの出力電圧を増幅して前記制御電圧を生成して出力する第2増幅器と、を備え、
    前記発光制御手段は、前記レーザを発光させる発光期間には前記第1増幅器から前記制御電圧を出力させ、前記レーザを非発光の待機状態とする待機期間には前記第2増幅器から前記制御電圧を出力させる請求項1〜4のいずれか1項に記載のレーザ駆動装置。
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