JP5509078B2 - 水系金属表面処理剤及び表面処理金属材料 - Google Patents
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Description
に関する。
ジルコニウム化合物(A1)
ジルコニウム化合物(A1)は皮膜中で積層状となり、形成された皮膜の酸素透過性や水蒸気透過性を抑え、非常に優れたバリア効果を発揮するため、耐食性を向上させる。また、ジルコニウムはアルカリ性に対する耐久性が高いため、ジルコニウム化合物(A1)は耐アルカリ性を向上させる。
ジルコニウム化合物(A1)としては、ジルコンフッ化水素酸、ジルコンフッ化アンモニウム、硝酸ジルコニウム、酢酸ジルコニウム、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、炭酸ジルコニウムアンモニウム、炭酸ジルコニウムカリウム、塩基性炭酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、オクチル酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラノルマルプロポキシ、ジルコニウムテトラノルマルブトキシ、ジルコニウムトリブトキシモノステアレートなどが挙げられる。
金属酸化物ゾル(A2)は皮膜中で積層状となり、形成された皮膜の酸素透過性や水蒸気透過性を抑え、非常に優れたバリア効果を発揮するため、耐食性を向上させる。特に、希土類酸化物は紫外線遮断効果があるため、紫外線照射による重合体(C)の紫外線劣化をさらに抑制することができる。
金属酸化物ゾル(A2)としては、酸化マグネシウムゾル、酸化アルミニウムゾル、酸化ケイ素ゾル、酸化カルシウムゾル、酸化スカンジウムゾル、酸化チタンゾル、酸化バナジウムゾル、酸化マンガンゾル、酸化ガリウムゾル、酸化ゲルマニウムゾル、酸化イットリウムゾル、酸化ジルコニウムゾル、酸化アンチモンゾル、酸化ランタンゾル、酸化セリウムゾル、酸化ネオジムゾル、酸化ハフニウムゾルなどが挙げられる。これらの中で、紫外線遮断効果に特に優れた酸化セリウムゾル、酸化イットリウムゾル及び酸化ネオジムゾルが特に好ましい。
加水分解性シリル化合物(B)は、形成された皮膜と基材又は皮膜と上塗り塗装との密着性を高めるため、耐食性、耐食性、耐アルカリ性を向上させる。本発明において加水分解性シリル化合物は(B)は、次の一般式(VI)で表される化合物をさす。
加水分解性シリル化合物(B)として具体的には、N−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトエリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
重合体(C)は、特定の構造を有する(メタ)アクリル酸エステル(c1)からの重合単位、特定の構造を有するケイ素含有モノマー(c2)からの重合単位、α,β−エチレン性不飽和カルボン酸(c3)からの重合単位、他の(メタ)アクリル酸エステル(c4)からの重合単位及び存在する場合の反応性乳化剤(E1)からの重合単位を重合単位として有し、分子中にカルボニル基以外の不飽和結合を含有しない重合体(C)であって、特定のガラス転移温度、最低造膜温度及び酸価を有する重合体である。なお、上記で「からの重合単位」とは各分子中に含まれる炭素−炭素二重結合が開いて形成される重合単位を意味するものとする。
なお、本発明の処理剤で使用する乳化剤(E)の少なくとも一部として反応性乳化剤(E1)を用いる場合には、反応性乳化剤(E1)からの重合単位も重合体(C)を構成する重合単位となる。反応性乳化剤(E1)については乳化剤(E)の説明の箇所で説明する。
(メタ)アクリル酸エステル(c1)は前記一般式(I)で表される(メタ)アクリル酸エステルである。(メタ)アクリル酸エステル(c1)は重合体(C)のガラス転移温度を上昇させる効果を有するので、形成される皮膜の温度変化に対する耐久性ひいては耐食性を向上させ、また、密着性、防汚性、造膜性、耐紫外線性、耐アルカリ性、耐酸性及び加工性を向上させる。
(メタ)アクリル酸エステル(c1)としては、ボルニルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ボルニルメタクリレート、イソボルニルメタクリレートなどが挙げられる。
ケイ素含有モノマー(c2)は前記一般式(III)で表されるケイ素含有モノマーである。ケイ素含有モノマー(c2)は皮膜と基材又は皮膜と上塗り塗膜との密着性を強化し、形成された皮膜の耐食性、耐アルカリ性及び耐酸性を向上させる。
α,β−エチレン性不飽和カルボン酸(c3)は、皮膜と基材又は皮膜と上塗り塗装との密着性を強化し、形成された皮膜の耐食性を向上させる。
α,β−エチレン性不飽和カルボン酸(c3)としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、クロトン酸などが挙げられる。
重合体(C)は、(メタ)アクリル酸エステル(c1)からの重合単位、ケイ素含有モノマー(c2)からの重合単位、α,β−エチレン性不飽和カルボン酸(c3)からの重合単位、及び存在する場合の反応性乳化剤(E1)からの重合単位を構成重合単位として含むが、それらの重合単位を除いた残りの構成重合単位として、他の(メタ)アクリル酸エステル(c4)を含む。かかる(メタ)アクリル酸エステル(c4)は芳香環、エポキシ基及びアミド結合を有さず、(メタ)アクリル酸エステル(c1)及びケイ素含有モノマー(c2)とは異なる(メタ)アクリル酸エステルである。
かかる(メタ)アクリル酸エステル(c4)としては、(メタ)アクリル酸アルキル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル、(メタ)アクリル酸シクロアルキルよりなる群から選ばれる少なくとも1種の(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。(メタ)アクリル酸アルキルのアルキル基の炭素数は1〜10であることが好ましく、1〜8であることがより好ましく、(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルのヒドロキシアルキル基の炭素数は2〜10であることが好ましく、2〜6であることがより好ましく、2〜4であることがより一層好ましく、(メタ)アクリル酸シクロアルキルのシクロアルキル基の炭素数は5又は6であることが好ましい。
(メタ)アクリル酸エステル(c4)として具体的には、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。
重合体(C)のガラス転移温度は0〜70℃である必要があり、10〜60℃であることが好ましく、20〜50℃であることがより好ましい。これにより、温度変化に対する耐久性が向上し、優れた耐食性及び加工性が発揮される。ガラス転移温度が0℃未満であると、加工時に必要な皮膜硬度を得ることができないばかりか、耐食性も低下する傾向になり、70℃を超えると、加工時の皮膜追従性が低下し、密着性不良や皮膜のワレが生じる傾向になる。
なお、本発明において重合体(C)のガラス転移温度Tgは、その重合に使用される各モノマーのガラス転移温度Tgi(i=1,2,…,i)と重量分率Xi(i=1,2,…,i)とから、1/Tg=Σ(Xi/Tgi)の式より良好な近似値が算出される。
なお、重合体(C)の最低造膜温度は重合体(C)を形成するモノマーの組成によって決定されるが、可塑剤(D)を配合する場合には、その配合量によって最低造膜温度を変化させることができる。すなわち、可塑剤(D)の配合量を増やすことによって最低造膜温度を低下させることができる。
重合体(C)の最低造膜温度は、公知の方法にて測定することができる。本発明においては、温度勾配試験装置のステンレス板上に0.2mmの厚さに試料としての重合体を塗布し密閉し、乾燥した後、一様な連続皮膜部分と白濁している部分の境界部の温度を読み取り、最低造膜温度とした。
可塑剤(D)は、皮膜の造膜性を高める効果がある。造膜とは膜化していることであり、造膜性に優れるとは、重合体(C)の間隙に可塑剤(D)が入り込むことで、重合体(C)の結晶性を低下させ、皮膜乾燥時に粒子同士の融着を促進し、凹凸の少ない均一な皮膜を形成することを指す。その結果、入射光の乱反射が抑制されて皮膜の透明性が高まり、皮膜外観が向上すると共に、耐食性、耐アルカリ性及び耐酸性が向上する。
可塑剤(D)としては、2,2,4−トリメチル−1,3ペンタンジオールモノイソブチレート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールn−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルなどが挙げられる。
本発明の水系金属表面処理剤において、重合体(C)は乳化剤(E)により水中に分散されており、かかる乳化剤は重合体(C)の製造段階から使用される。
乳化剤(E)としては、反応性乳化剤(E1)のみを使用しても、非反応性乳化剤(E2)のみを使用しても、それらを併用してもよいが、乳化剤の添加量を少なくすることができることから反応性乳化剤を使用することが好ましい。反応性乳化剤を使用する場合は、反応性乳化剤(E1)からの重合体単位も重合体(C)の構成成分となる。
非反応性乳化剤(E2)としては、高級脂肪酸塩(ラウリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム等)、高級アルコール硫酸エステル塩(ラウリル硫酸ナトリウム、オレイル硫酸ナトリウム等)、高級アルキルアリールスルホン酸塩(ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム等)、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリエチレングリコールモノラウリレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、ポリエチレングリコールジステアレートなどが挙げられる。前記の塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などが挙げられる。
成分(A)(ジルコニウム化合物(A1)及び/又は金属酸化物ゾル(A2))が含有する金属の合計質量Mと、加水分解性シリル化合物(B)が含有するケイ素の質量Si1とケイ素含有モノマー(c2)が含有するケイ素の質量Si2の質量比率〔M/(Si1+Si2)〕は0.1〜50である必要があり、1〜20であることが好ましく、2〜10であることがより好ましい。前記質量比率〔M/(Si1+Si2)〕が0.1未満であると、バリア効果の低下による耐食性の低下と、皮膜の著しい硬化による加工性の低下が生じる傾向になり、50を超えると、造膜性の低下と、皮膜と基材又は皮膜と上塗り塗装との密着性が低下し、耐食性、耐アルカリ性及び耐酸性が低下する傾向になる。
質量%であることが必要であり、50〜98質量%であることが好ましく、70〜98質量%であることがより好ましい。前記配合量が40質量%未満であると、重合体(C)に
よってもたらされる良好な加工性や上塗り塗料密着性が得られなくなり、98質量%を超えると、成分(A)及び加水分解性シリル化合物(B)の配合効果が得られなくなる。
(メタ)アクリル酸エステル(c1)からの単位の割合は、重合体(C)100質量部に対して、0.1〜50質量部であることが好ましく、0.5〜45質量部であることが
より好ましく、3〜35質量部であることがより一層好ましい。前記割合が0.1質量部未満であると、該単位による効果が発現しにくくなり、耐食性、密着性、防汚性、造膜性、耐紫外線性、耐アルカリ性、耐酸性及び加工性が低下する傾向になり、50質量部を超えると、加工時の皮膜追従性が低下して密着性不良や皮膜のワレが生じる傾向になる。
重合開始剤は特に限定されず、例えば過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過酸化水素、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイドなどを用いることができる。
乳化剤については既述の通りであり、反応性乳化剤(E1)を少なくとも一部用いる場合には、反応性乳化剤(E1)からの重合単位も重合体(C)を構成する要素となる。
(1)水系金属表面処理剤の構成成分
使用したジルコニウム化合物(A1)を表1に示す。
使用した金属酸化物ゾル(A2)を表2に示す。
使用した加水分解性シリル化合物(B)を表3に示す。
使用した重合体(C)を形成するモノマーを表4に示す。
使用した可塑剤(D)を表5に示す。
使用した乳化剤(E)を表6に示す。
攪拌機、還流冷却器、滴下ロート及び温度計を取り付けた4つ口フラスコに、内部空気を窒素ガスにて置換後、イオン交換水120質量部及びエレミノールJS−2 1.5質量部を投入した。滴下ロートにイソボルニルメタクリレート35質量部、メチルメタクリレート20質量部、2−エチルヘキシルアクリレート20質量部、n−ブチルメタクリレート20質量部、ビニルトリ(メトキシエトキシ)シラン1質量部及びアクリル酸5質量部を入れて混合し、混合モノマーとした。ついでフラスコを70℃に上げた後、混合モノマーの10質量%をフラスコ中に投入し、ついで過硫酸アンモニウム0.3質量部を投入した。反応終了後、残りの混合モノマー90質量%を3時間で滴下した。滴下終了後フラスコ温度を75℃にして1時間保った。40℃に冷却後、アンモニア水でpH7に調整し、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート30質量部を添加して表面処理液を製造した。この分散液はC4の重合体(C)分散液(表7参照)に該当する。
他の、重合体(C)又は重合体(C)に該当しない重合体の分散液も同様な手順で製造した(表7参照)。重合体(C)又は重合体(C)に該当しない重合体の組成及びガラス転移温度を表7に示す。
室温にて、蒸留水の中に、ジルコニウム化合物(A1)、金属酸化物ゾル(A2)、加水分解性シリル化合物(B)、及び重合体(C)の分散液(C1〜C26)もしくは重合体(C)に該当しない重合体の分散液(C27〜C36)を表8〜11に示す割合で添加し、攪拌機で混合して表8〜11に示す水系金属表面処理剤を調製した。なお、水系金属表面処理剤の固形分濃度は30質量%とした。
(4)実施例64の水系金属表面処理剤の調製方法
表10の実施例57の水系金属表面処理剤において、重合体(C)の固形分割合中10質量%分をポリエステルポリオール型ウレタン樹脂に変更した。ポリエステルポリオール型ウレタン樹脂は、テトラメチレングリコール及びアジピン酸から得られるポリエステルポリオール170質量部、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート30質量部、2,2−ジメチロールプロピオン酸25質量部及びN−メチル−2−ピロリドン100質量部を反応させることにより得られるプレポリマーを、トリエチルアミンを用いて脱イオン水に分散させることにより得られたガラス転移温度が100℃、かつ最低造膜温度が0℃以下である水性ウレタン樹脂である。
表9に示す実施例57に示す組成比にて、重合体(C)を固形分割合で重合体(C)の固形分割合中1.0質量%分をフェノール樹脂(昭和高分子(株)社製;ショーノールBRL−157)に変更した。
比較例21
特許文献1(特開2000−327704号公報)に記載の実施例6を用い、表11に記載の処理条件にて皮膜を形成し、評価に供した。
比較例22
特許文献2(特開2000−327722号公報)に記載の実施例5を用い、表11に記載の処理条件にて皮膜を形成し、評価に供した。
比較例23
特許文献4(特開2003−201579号公報)に記載の実施例9を用い、表11に記載の処理条件にて皮膜を形成し、評価に供した。
比較例24
特許文献5(特開2006−52348号公報)に記載の実施例1を用い、表11に記載の処理条件にて皮膜を形成し、評価に供した。
比較例25
特許文献6(特開2006−152056号公報)に記載の実施例2を用い、表11に記載の処理条件にて皮膜を形成し、評価に供した。
下記に示した市販の金属材料を用いた。
溶融亜鉛−55%アルミニウム合金めっき鋼板(GL):板厚=0.8mm、目付量=150/150(g/m2)
シリケート系アルカリ脱脂剤であるファインクリーナー4336(登録商標:日本パーカライジング(株)製)を水に濃度20g/Lで溶解し、得られた脱脂液で素材を温度60℃の条件で2分間スプレー処理し、純水で30秒間水洗した後に乾燥した。得られた処理板を試験板として用いた。
実施例1〜47と比較例1〜21の処理剤の1つを、脱脂処理を施した試験板表面にバーコーターで塗布し、280℃の雰囲気下で乾燥し、表面処理鋼板とした。なお、最高到達板温(PMT)は乾燥時間で調整し、皮膜質量の調整は水系金属表面処理剤の固形分濃度を調整することで行った。PMTと皮膜質量を表11に示す。
(1)耐食性
JASO M609に従い、塩水噴霧(35±2℃で2時間)、乾燥(60±1℃で4時間)、湿潤(50±1℃で2時間)を1サイクルとした複合サイクル試験を行い、144サイクルでの無加工部、クロスカット部、端面部の白錆発生状況を確認した。
<評価基準>
無加工部:無加工部の白錆の発生面積を目視で評価した。
◎:白錆発生なし
○:白錆発生面積率が全面積の10%以下
△:白錆発生面積率が全面積の10%超、30%以下
×:白錆発生面積率が全面積の30%超、50%以下
××:白錆発生面積率が全面積の50%超
クロスカット部:カッターで表面処理鋼板の表面にクロスカットを施し、クロスカット部から発生する白錆の幅を測定した。
◎:白錆幅が2mm以下
○:白錆幅が2mm超、5mm以下
△:白錆幅が5mm超、8mm以下
×:白錆幅が8mm超、12mm以下
××白錆幅が12mm超
端面部:表面処理鋼板の端部を切り落とし、金属材料が剥き出しになった部分から発生する白錆の幅を測定した。
◎:白錆幅が5mm以下
○:白錆幅が5mm超、10mm以下
△:白錆幅が10mm超、15mm以下
×:白錆幅が15mm超
表面処理鋼板に、バーコーターを用いて、メラミンアルキッド樹脂塗料を乾燥膜厚が25μmとなるように塗布し、炉温130℃で20分間焼き付けた。次に、カッターで1mm、100マスの碁盤目を施し、更にその部位を7mm押し出しでエリクセン加工を施した。加工を施した部分のテープ剥離試験を実施し、樹脂層の残存数を評価した。
<評価基準>
◎:100個
○:98個以上100個未満
△:50個以上98個未満
×:50個未満
表面処理鋼板に、7mm押し出しでエリクセン加工を施し、加工部のテープ剥離試験を実施した。剥離状態を目視にて評価した。
<評価基準>
◎:剥離なし
○:剥離面積が1%超、20%以下
△:剥離面積が20%超、50%以下
×:剥離面積が50%超
表面処理鋼板に、10質量%黒色顔料分散液を霧吹きにて吹き付け、吹き付け後に水洗し、試験前後の色調変化(ΔE)にて評価した。色調変化はColor Meter ZE2000(NIPPON DENSHOKU製、光源:ハロゲンランプ12V/2A)を用いて測定した。下記の耐紫外線性、耐アルカリ性、耐酸性の色調変化も同様。
<評価基準>
◎:ΔE≦1
○:1<ΔE≦3
△:3<ΔE≦5
×:5<ΔE
表面処理鋼板の表面状態を、原子間力顕微鏡(AFM)で観察して評価した。
<判定基準>
◎:均一な皮膜が観察された
○:凹凸の少ない均一な皮膜が観察された
△:凹凸のある皮膜が観察された
×:重合体の粒子が明確に確認できる皮膜が観察された
表面処理鋼板を、蛍光紫外線湿潤装置(UVCON蛍光灯紫外線湿潤曝露試験機)にて、365nmの紫外線を4時間照射し、その後雰囲気温度50℃、湿度60%Rhに2時間静置する条件を1サイクルとして、196サイクル実施し、試験前後の色調変化(ΔE)を評価した。
<評価基準>
◎:ΔE≦1
○:1<ΔE≦3
△:3<ΔE≦5
×:5<ΔE
(7)耐アルカリ性
表面処理鋼板を、25℃の3質量%水酸化ナトリウム水溶液に10分浸漬し、試験前後の色調変化(ΔE)を評価した。
<評価基準>
◎:ΔE≦1
○:1<ΔE≦3
△:3<ΔE≦5
×:5<ΔE≦10
××:10<ΔE
表面処理鋼板を、25℃の3質量%硫酸に3時間浸漬し、試験前後の色調変化(ΔE)を評価した。
<評価基準>
◎:ΔE≦1
○:1<ΔE≦3
△:3<ΔE≦5
×:5<ΔE≦10
××10<ΔE
万能試験機によるドロービード試験後の、表面処理鋼板表面の疵つき状態を観察して評価を行った。引抜条件は、圧着荷重0.5ton、ビード先端半径5mm、引抜速度5cm/secとした。
◎:疵なし
〇:わずかに疵あり
△:部分的に焼きつきあり
×:全体的に焼くつきあり
水系金属表面処理剤を40℃の雰囲気で静置した場合にゲル化するまでの期間で貯蔵安定性を評価した。
◎:6ヶ月以上
〇:3ヶ月以上、6ヶ月未満
△:1ヶ月以上、3ヶ月未満
×:1ヶ月未満
一方、M/(Si1+Si2)が規定範囲内でほぼ一定で、Si1/Si2を規定範囲で変化させた実施例47から55は、規定範囲を下回る比較例14と比較して耐食性全般、基材密着性、造膜性、耐アルカリ性、耐酸性に優れ、規定範囲を上回る比較例15と比較して、耐食性全般、塗装及び基材密着性、耐紫外線性、耐アルカリ性、耐酸性に優れる。さらに、M/(Si1+Si2)が規定範囲内でほぼ一定で、Si1/Si2が最適な範囲である実施例50から53は、最適な範囲を下回る実施例47から49と比較してカット部耐食性、耐酸性、加工性に優れる傾向があり、逆に最適な範囲を上回る実施例54及び55並びに比較例16と比較して加工性、貯蔵安定性に優れることが分かる。
Claims (6)
- ジルコニウム化合物(A1)及び金属酸化物ゾル(A2)よりなる群から選ばれる少なくとも1種である成分(A);加水分解性シリル化合物(B);下記一般式(I)で表される(メタ)アクリル酸エステル(c1)からの重合単位、下記一般式(III)で表されるケイ素含有モノマー(c2)からの重合単位、α,β−エチレン性不飽和カルボン酸(c3)からの重合単位及び他の(メタ)アクリル酸エステル(c4)からの重合単位を重合単位として有し、分子中にカルボニル基以外の不飽和結合を含有しない重合体であって、ガラス転移温度が0〜70℃、最低造膜温度が−5〜40℃及び酸価が5〜40mgKOH/gである重合体(C);可塑剤(D);及び乳化剤(E)を含有する水系金属表面処理剤であって、成分(A)が含有する金属の合計質量Mと、加水分解性シリル化合物(B)が含有するケイ素の質量Si1及びケイ素含有モノマー(c2)が含有するケイ素の質量Si2の合計質量との質量比率〔M/(Si1+Si2)〕が0.1〜50であり、Si1/Si2が0.15〜250であり、重合体(C)の割合が該水系金属表面処理剤の全固形分に対して40〜98質量%であり、重合体(C)は乳化剤(E)により分散されており、乳化剤(E)は反応性乳化剤(E1)及び非反応性乳化剤(E2)よりなる群から選ばれる少なくとも1種であって、少なくとも一部が反応性乳化剤である場合には、該反応性乳化剤はそれからの重合単位として重合体(C)の重合単位の1つとして存在する該水系金属表面処理剤:
- 可塑剤(D)が2,2,4−トリメチル−1,3ペンタンジオールモノイソブチレート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル及びジプロピレングリコールn−ブチルエーテルよりなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の処理剤。
- (メタ)アクリル酸エステル(c1)からの単位の割合が、重合体(C)100質量部に対して、0.1〜50質量部である請求項1又は2記載の処理剤。
- 金属酸化物ゾル(A2)が酸化セリウムゾル、酸化イットリウムゾル、酸化ネオジムゾル及び酸化ランタンゾルよりなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1〜3のいずれか1項に記載の処理剤。
- 乳化剤(E)の割合が重合体(C)100質量部に対して0.5〜5質量部である請求項1〜4のいずれか1項に記載の処理剤。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の水系金属表面処理剤からの乾燥皮膜であって、0.05〜5g/m2の皮膜を表面に有する金属材料。
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CN115537794B (zh) * | 2022-09-29 | 2023-05-26 | 东莞市颖兴金属表面处理材料有限公司 | 一种金属表面多功能处理液及其制备方法 |
CN116875093A (zh) * | 2023-07-13 | 2023-10-13 | 山东辉石能源工程有限公司 | 一种液溶胶钢材防腐涂料及其制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002275648A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Nippon Paint Co Ltd | 金属表面処理剤 |
JP2004131549A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 下塗り剤組成物、該組成物を用いたコーティング方法、及びコーティング物品 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4435950A1 (de) * | 1994-10-07 | 1996-04-11 | Hoechst Ag | Copolymerisate mit cyclischen oder polycyclischen Monomeren mit einer speziellen Isomerenverteilung und deren Einsatz in Beschichtungsmitteln |
KR100989539B1 (ko) * | 2005-12-15 | 2010-10-25 | 니혼 파커라이징 가부시키가이샤 | 금속 재료용 표면 처리제, 표면 처리 방법 및 표면 처리금속 재료 |
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