JP5453660B2 - フラッシュメモリデバイスにデータを格納する方法 - Google Patents

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Description

本発明の実施形態はメモリデバイスに関し、より詳細には、一つ以上の実施形態においてフラッシュメモリデバイスに関する。
フラッシュメモリデバイスは、そこに格納された情報を保持するために電力を必要としないで、半導体に情報を格納する不揮発性メモリデバイスである。フラッシュメモリデバイスの中でも、NANDフラッシュメモリデバイスは、高い記憶密度および低コストのために、大容量記憶デバイスとして広く使用されてきた。幾つかの用途の中でも、NANDフラッシュメモリデバイスは、ハードディスクを置換するか、または補完するソリッドステートディスク(SSD)として機能する。
図1に関して、従来のNANDフラッシュメモリデバイスは、複数のメモリブロックを含む。示されたフラッシュメモリデバイス10は、第一から第Nのメモリブロック100を含む。メモリブロック100のうちの各々は、マトリクス形状に配列された複数のメモリセルを含む。
図2Aは、図1のNANDフラッシュメモリデバイス10のメモリブロック100のうちの一つを示す。示されたメモリブロック100は、第一から第mのビット線BL0−BLmと第一から第nのワード線WL0−WLnを含む。幾つかの配置においては、mは32,767もしくは65,535であり、nは32もしくは64である可能性がある。ビット線BL0−BLmは、列方向に互いに平行に伸長する。ワード線WL0−WLnは、列方向に対して垂直な行方向に互いに平行に伸長する。メモリブロック100は、上部および下部ビット線選択トランジスタ120a、120bをも含み、これらはメモリブロック100の外側に伸長するビット線に対して、あるメモリブロック100を結合することによって、図1の複数のメモリブロックのうちのあるメモリブロック100を選択するためのものである。
各ビット線はメモリセル110のストリングを含む。例えば、第二のビット線BL1は直列に接続されたメモリセル110を含む。メモリセル100のうちの各々は、浮遊ゲートトランジスタを含む。メモリセル100の浮遊ゲートトランジスタは、ソースからドレインに、互いに直列に結合される。同一行にあるメモリセル110の浮遊ゲートトランジスタの制御ゲートは、同一のワード線に結合される。メモリセル110の各々は、電荷(もしくは電荷の欠損)を格納し、格納された電荷量は、例えば一つ以上の状態を表すために使用することができ、一つ以上の状態は、一桁(例えばビット)以上のデータを表すことができる。メモリセルは、シングルレベルセル(SLC)もしくはマルチレベルセル(MLC)のいずれかである可能性がある。ある配列においては、メモリセル110に格納された電荷量は、メモリセル110の浮遊ゲートトランジスタを介して流れる電流をセンシングすることによって検出されてもよい。別の配列においては、メモリセル110によって格納された電荷量は、メモリセル110の浮遊ゲートトランジスタの閾値電圧値をセンシングすることによって検出されてもよい。
図2Bは、第二のビット線BL1におけるメモリセル110の浮遊ゲートトランジスタの断面を示す。浮遊ゲートトランジスタは基板201上に形成される。浮遊ゲートトランジスタの各々は、(隣接するトランジスタに対するドレイン領域である)ソース領域210、(隣接するトランジスタに対するソース領域である)ドレイン領域212、ドープされたチャネル領域214、第一の誘電体(例えば、トンネル酸化物)216、浮遊ゲート218、第二の誘電体(例えば、ゲート酸化物。トンネル酸化物およびゲート酸化物は同一もしくは異なる材料で形成することができる)220、および制御ゲート222を含む。トンネル酸化物216は、チャネル領域214から浮遊ゲート218を絶縁するためにチャネル領域214上に形成される。ゲート誘電体220は、制御ゲート222から浮遊ゲート218を物理的かつ電気的に分離する。制御ゲート222は、適切なワード線、例えばワード線WL1に結合される。電子は浮遊ゲート218上にトラップされ、データを格納するために使用することができる。
続いて図1および図2Cに関して、メモリブロックにデータを書き込む従来の方法が記述される。図2Cは図2Aのメモリブロック100の概略を示し、メモリセル、ビット線およびワード線のみを示すものである。しかしながら、メモリブロック100は図2Aおよび図2Bに関して上述されたように、他のコンポーネントを含む可能性があることを理解されたい。
NANDフラッシュメモリデバイス10(図1)の書き込み動作の間、データは、通常、単一のワード線上の一組のメモリセルに書き込まれる。このようなメモリセルの組は、”ページ”と称される可能性がある。ある配列においては、ページはワード線上の全メモリセルを含んでもよい。他の配列においては、ページは、単一のワード線上の一つおきのメモリセルによって形成されてもよい。ある配列においては、ページは、単一のワード線上の3つおきのメモリセルによって形成されてもよい。ページはワード線上の、適切に選択されたいかなる数のメモリセルによって形成されてもよいことを理解されたい。
一方、NANDフラッシュメモリデバイス10(図1)の消去動作は、通常、ブロック毎の原則に基づいて実施される。言い換えると、ページもしくはメモリセルは選択的に消去することができない。
同様に、メモリブロックにおける幾つかのメモリセルにおいてデータ値を変更するとき、メモリセルにおけるデータ値は、選択的に変更することができない。その代わりに、全メモリブロックが消去されて、変更されるデータ値で再書き込み(もしくはプログラム)される。このプロセスのために、全メモリブロックに格納されたデータ値は別のメモリブロックにコピーされる。例えば、第Iのメモリブロックにおけるデータ値の幾つかが改変されるべき場合には、第Iのメモリブロック全体におけるデータ値は、使用されていないメモリブロック、例えば第Jのメモリブロックにコピーされる。その後、第Iのメモリブロック全体におけるデータ値は消去され、続いて、改変されていないデータ値および改変されたデータ値を含むアップデートされたデータは、消去された第Iのメモリブロックに書き込まれる。
本実施形態は、[発明を実施するための最良の形態]および添付の図面から理解されるが、添付の図面は実施形態を図示することを意味するものであって限定するものではない。
複数のメモリブロックを含む従来のNANDフラッシュメモリデバイスの概略図である。 従来のNANDフラッシュメモリデバイスのメモリブロックの概略図である。 図2Aのメモリブロックの概略断面である。 NANDフラッシュメモリデバイスのブロックにデータを格納する従来の方法を示す概略図である。 NANDフラッシュメモリデバイスのブロックにデータを格納する方法の一実施形態を示す概略図である。 一実施形態に従う、ワード線アドレスを変更するためのアドレスデコーダを含むNANDフラッシュメモリデバイスの概略ブロック図である。 図4Aのアドレスデコーダによってワード線アドレスをマッピングする方法を示す概略ブロック図である。 図4Aのアドレスデコーダの機能を示す概略ブロック図である。 図3の方法を使用するコントローラを含むコンピュータシステムの概略ブロック図である。
ある適用(例えば、NANDフラッシュメモリデバイスがソリッドステートディスクとして機能する場合)においては、データはNANDフラッシュメモリに頻繁に書き込まれるか、または改変される。したがって、NANDフラッシュメモリ内の少なくとも幾つかのメモリブロックは、非常に多くのプログラミング周期に晒される。
従来の書き込み方法においては、データは、(最下(もしくは下部)のワード線上もしくはその近傍のメモリセルから開始して)ボトムアップ方式で(下位から上位へと)メモリブロックに書き込まれる。その後、データは最上(もしくは上部)のワード線上のメモリセルに書き込まれるまで、最下のワード線より上にあるワード線上のメモリセルにページ毎に連続的に書き込まれる。例えば、データは最下ワード線WL0上のメモリセル110にまず書き込まれ、図2Cにおける最上ワード線WLn上のメモリセル110に最後に書き込まれる。他の実施例においては、データは二番目に最下のワード線WL1上のメモリセル110にまず書き込まれ、その後、最下ワード線WL0上のメモリセル110、続いて、ボトムアップ方式で二番目に最下のワード線WL1より上にあるワード線上のメモリセル110に書き込まれてもよい。本文書の文脈においては、“ワード線上のメモリセル”という表現は、メモリセルがアドレス選択のためにワード線に対して電気的に接続されていることを示し、必ずしもメモリセルが物理的にワード線上に存在することを示しているのではない。
上述された従来の書き込み方法を使用するある場合においては、NANDフラッシュメモリにおけるメモリブロックのうちの少なくとも一つは、書き込み動作の間に完全に書き込まれなくてもよい。このような場合においては、メモリセルのうちの幾つかはプログラムされないままであってもよい。例えば、図2Cの最上ワード線WLn上もしくはその近傍のメモリセルは、データを格納するために再プログラムされなくてもよい。このような場合においてさえも、メモリブロックの幾つかの最下ワード線上のメモリセルは、データがメモリブロックに書き込まれる場合にはいつでもプログラミング周期に常に晒される。したがって、メモリブロックの最下ワード線WL0上もしくはその近傍のメモリセルは、NANDフラッシュメモリデバイスの寿命の間に、最も多いプログラミング周期を経験する。
さらには、最下ワード線WL0もしくは最上ワード線WLn上またはその近傍のメモリセルは、最も損傷を受けやすい。なぜなら、それらはビット線選択トランジスタに隣接しているからである。例えば、図2Aにおいては、最下ワード線WL0および最上ワード線WLn上もしくはその近傍のメモリセルは、各々、下部ビット線選択トランジスタ120bおよび上部ビット線選択トランジスタ120aに隣接している。これらのメモリセルはメモリブロックにおける他のメモリセルと比較して、より多くのGIDL(ゲートに起因するドレインでの液漏れ)およびチャージトラップアップを経験することが、最先端NANDフラッシュメモリ産業においてはよく知られている。より頻繁なプログラミング周期に対する暴露に加えて、固有の脆弱性があることから、これらのメモリセルは他のメモリセルが機能しなくなる前に故障する傾向があり、全ブロックを機能しない状態にする。
一実施形態においては、書き込み動作の間に、データは最上ワード線もしくは最下ワード線に隣接していないワード線上のメモリセルにまず書き込まれる。その後、データの残存部分がある場合には、残存部分は最上ワード線および/もしくは最下ワード線上もしくはその近傍のメモリセルに書き込まれる。全メモリブロックが常に書き込まれるわけではないため、この書き込み方法は、図2Cに関して上述された従来の方法と比較して、最上ワード線もしくは最下ワード線上またはその近傍のメモリセルを、より少ない頻度のプログラミング周期に晒すことになる。したがって、その書き込み方法は、最上ワード線WLnもしくは最下ワード線WL0上またはその近傍のメモリセルの時期尚早な故障を防ぎ、それによってメモリブロックの寿命を延長し、最終的にはNANDフラッシュメモリデバイスの寿命を延長する。
一方、最上ワード線もしくは最下ワード線上またはその近傍ではないメモリセルは、最上ワード線もしくは最下ワード線上またはその近傍のメモリセルと比較して、損傷を受けにくい。したがって、これらのメモリセルをより高頻度にプログラミング周期に暴露することは、必ずしもこれらのメモリセルの寿命を短縮することにならない。
図3に関して、一実施形態に従うNANDフラッシュメモリデバイスのメモリブロックにデータを格納する方法が以下に記述される。示されたメモリブロック300は、ワード線WL0−WLn、ビット線BL0−BLm、ならびに、ワード線WL0−WLnおよびビット線BL0−BLmの交点におけるメモリセル310を含む。メモリブロック300の詳細な構成は、前述されたような図2Aのメモリブロック100と関連する可能性がある。
本文書の文脈においては、最下ワード線WL0および最下ワード線WL0直近の任意の数のワード線は、集合的に下端ワード線(BEWL)と称される。一実施形態においては、下端ワード線はワード線WL0からWL4である可能性がある。別の実施形態においては、下端ワード線はワード線WL0からWL3である可能性がある。また別の実施形態においては、下端ワード線はワード線WL0からWL2である可能性がある。また別の実施形態においては、下端ワード線はワード線WL0およびWL1である可能性がある。また別の実施形態においては、下端ワード線はワード線WL0のみである可能性がある。他の実施形態においては、下端ワード線は最下ワード線WL0に隣接する他のワード線を含む可能性がある。
本文書の文脈においては、最上ワード線WLnおよび最上ワード線WLn直近の任意の数のワード線は、集合的に上端ワード線(TEWL)と称される。一実施形態においては、上端ワード線はワード線WLnからWLn−4である可能性がある。別の実施形態においては、上端ワード線はワード線WLnからWLn−3である可能性がある。また別の実施形態においては、上端ワード線はワード線WLnからWLn−2である可能性がある。また別の実施形態においては、上端ワード線はワード線WLnおよびWLn−1である可能性がある。また別の実施形態においては、上端ワード線はワード線WLnのみである可能性がある。他の実施形態においては、上端ワード線は最上ワード線WLnに隣接する他のワード線を含む可能性がある。
上端ワード線の数は、下端ワード線の数と同一であってもよい。別の実施形態においては、上端ワード線の数は下端ワード線の数と異なってもよい。上端ワード線および下端ワード線の数は、例えばサンプルNANDフラッシュメモリデバイスを試験することによって、製造プロセス中に決定することができる。
さらには、上端ワード線もしくは下端ワード線のいずれでもないワード線は、本文書の文脈においては、集合的に中間ワード線(IWL)と称される。中間ワード線は、上端ワード線と下端ワード線の間に配置される。中間ワード線の数は、メモリブロックにおける上端ワード線および下端ワード線の総数を差し引いた、全ワード線の総数に等しい。
一実施形態においては、書き込み動作の間に、データは中間ワード線IWL上のメモリセルにまず書き込まれ、残存するデータが存在する場合には、その後下端ワード線BEWL上のメモリセルに、最後に、上端ワード線TEWL上のメモリセルに書き込まれる。別の実施形態においては、書き込み動作の間に、データはまず中間ワード線IWL上のメモリセルに書き込まれ、残存するデータが存在する場合には、その後、上端ワード線TEWL上のメモリセルに、最後に、下端ワード線BEWL上のメモリセルに書き込まれる。
中間ワード線IWL上のメモリセルは、中間ワード線IWLの中での最下ワード線上のメモリセルから開始して、ボトムアップ方式でプログラムすることができる。例えば、間にある他の中間ワード線上のメモリセルが、ボトムアップ方式でライン毎に連続的にプログラムされる間に、中間ワード線IWLの最下におけるメモリセルがまずプログラムされ、中間ワード線IWLの最上におけるメモリセルが最後にプログラムされる。図3に示される(下端ワード線BEWLおよび上端ワード線TEWLが下端および上端における各々3本のワード線(すなわち、BEWLはWL0、WL1およびWL2、TEWLはWLn、WLn−1、WLn−2)である)一実施例においては、第四のワード線WL3がまずプログラムされ、その後、第(n−3)のワード線WLn−3がプログラムされるまで、第四のワード線WL3より上にある中間ワード線がライン毎に連続的にプログラムされてもよい。別の実施形態においては、中間ワード線IWL上のメモリセルはトップダウン方式で(上位から下位へと)プログラムすることができる。中間ワード線中のプログラミング順序は様々に変化する可能性があることを当業者には理解されたい。
下端ワード線BEWL上のメモリセルは、下端ワード線BEWL中の最上ワード線上のメモリセルから開始して、トップダウン方式でプログラムすることができる。例えば、間にあるワード線上のメモリセルが、トップダウン方式で連続的にプログラムされる間に、下端ワード線BEWLの最上におけるメモリセルがまずプログラムされ、下端ワード線BEWLの最下におけるメモリセルが最後にプログラムされる。図3に示された実施例においては、第三のワード線WL2がまずプログラムされ、その後、第三のワード線WL2より下にある第二および第一のワード線WL1、WL0がプログラムされるために連続的に選択されてもよい。別の実施形態においては、下端ワード線BEWL上のメモリセルはボトムアップ方式でプログラムすることができる。下端ワード線中のプログラミング順序は様々に変化する可能性があることを当業者には理解されたい。
上端ワード線TEWL上のメモリセルは、上端ワード線の最下におけるメモリセルから開始して、ボトムアップ方式でプログラムすることができる。例えば、間にあるワード線上のメモリセルが、ボトムアップ方式で連続的にプログラムされる間に、上端ワード線TEWLの最下におけるメモリセルがまずプログラムされ、上端ワード線TEWLの最上におけるメモリセルが最後にプログラムされる。図3に示された実施例においては、第(n−2)のワード線WLn−2がまずプログラムされ、その後、第(n−1)および第nのワード線WLn−1、WLnがプログラムされるために連続的に選択されてもよい。別の実施形態においては、上端ワード線TEWL上のメモリセルはトップダウン方式でプログラムすることができる。上端ワード線中のプログラミング順序は様々に変化する可能性があることを当業者には理解されたい。
端ワード線BEWLおよびTEWLが二つ以上のワード線を含むさらに別の実施形態においては、下端ワード線BEWLおよび上端ワード線TEWL上のメモリセルへのデータの書き込みは交互に行うことができる。図3に示された実施例においては、これらのワード線上のメモリセルへのデータの書き込みは、以下の順序で実施することができる。つまり、WL2、WLn−2、WL1、WLn−1、WL0、WLnか、または、WLn−2、WL2、WLn−1、WL1、WLn、WL0の順序である。これらの順序は様々に変化する可能性があることを当業者には理解されたい。
この方法においては、メモリブロックが書き込み動作の間に常に完全に書き込まれるわけではない場合には、下端ワード線BEWLおよび上端ワード線TEWL上のメモリセルは、プログラミング周期にそれほど頻繁に晒されない。一方、中間ワード線IWL上のメモリセルは、下端ワード線BEWLもしくは上端ワード線TEWL上のメモリセルよりもより多くプログラミング周期に晒される可能性がある。しかしながら、中間ワード線IWL上のメモリセルは、下端ワード線BEWLおよび上端ワード線TEWL上のメモリセルよりも損傷を受けにくいため、プログラミング周期にこれらのメモリセルをより高頻度に暴露することは、必ずしもこれらのメモリセルの寿命を短縮することにはならない。したがって、メモリブロック全体の寿命、およびNANDフラッシュメモリの最終的な寿命は延長することができる。
図4A−図4Cに関して、図3に関連する上述された方法を使用するNANDフラッシュメモリデバイスの一実施形態が以下に記述される。NANDフラッシュメモリデバイス400は、メモリブロック401およびデコーダ450を含む。
メモリブロック401は、ワード線WL0−WLn−1、ビット線BL0−BLm、およびマトリクス形状における複数のメモリセル410を含む。これらのコンポーネントの詳細な構成は、図2Aに関連して上述されたものである可能性がある。
アドレスデコーダ450は、(示されていない)外部メモリコントローラからアドレスを受信する。アドレスはメモリコントローラによって生成され、データ値が格納されるべきメモリセルのアドレスを指定する。コントローラは、NANDフラッシュメモリデバイスに対してデータ読み出しおよび/もしくは書き込み命令を提供するために使用することができる、いかなる適切なタイプ(例えばマイクロプロセッサもしくはCPU)であってもよい。したがって、コントローラは、従来の方法で、言い換えれば、図4Bにおけるメモリブロック421に示されたように、まず最下ワード線上のメモリセルをプログラムし、連続的に上位へと進む、ボトムアップ方式でアドレスを生成する。ブロック421における番号は書き込み動作のためのアドレスの順序を示す。ある実施形態においては、コントローラは、逆の方法で、言い換えれば、図4Bにおけるメモリブロック422に示されたように、まず最上ワード線上のメモリセルをプログラムし、連続的に下位へと進む、トップダウン方式でアドレスを生成してもよい。ブロック422における数は、書き込み動作のためのアドレスの順序を示す。
示された実施形態においては、アドレスデコーダ450は、図3に関連して上述された方法を実施するために、外部メモリコントローラから入力するアドレスをマッピングする。アドレスデコーダ450は、図4Bにおけるメモリブロック423に示されるように、中間ワード線、上端ワード線、下端ワード線の順序で書き込み動作が実施されるように、受信されたアドレスをマッピングしてもよい。ブロック423における番号は、書き込み動作のためのアドレスの順序を示す。示された実施形態においては、下端ワード線の数は上端ワード線の数と同一である。
示された実施形態においては、ワード線アドレスiは、iが上端ワード線(TEWL)を示さない場合には、i+下端ワード線の数までマッピングされる。ワード線アドレスiが上端ワード線(TEWL)を示す場合には、図4Cに示されるように、iはi−(n+1−下端ワード線の数)までマッピングされる。アドレスデコーダ450は、上述されたように入力アドレスをマッピングするために複数の論理ゲートを含む。論理ゲートは、上述されたような方法で入力アドレスをマッピングするためにハードワイヤードされてもよい。図3に関連して上述された実施形態のうちのいずれかを実施するために、アドレスデコーダ450もしくはNANDフラッシュメモリデバイス400内のあらゆる他のコンポーネントにおいて種々の方法を使用することができることを当業者には理解されたい。
図5に関連して、NANDフラッシュメモリベースのソリッドステートディスクにデータを格納するために、図3に関連して上述された方法を実施するコンピュータシステムの一実施形態が以下に記述される。示されたコンピュータシステム500は、中央処理装置(CPU)(もしくはコントローラ)510、揮発性メモリ520およびソリッドステートディスク530を含む。示されていないが、コンピュータシステム500は、ユーザインターフェイス、周辺デバイス、およびハードディスクなどの他のコンポーネントを含んでもよい。
CPU510は、あらゆる適切なタイプであり、あらゆる適切な処理速度を有する可能性がある。揮発性メモリ520もまた、あらゆる適切なタイプであり、あらゆる適切なデータ転送速度を有する可能性がある。ソリッドステートディスク530は図1に関連して上述されたような複数のメモリブロックを含むNANDフラッシュメモリデバイスを含む可能性がある。NANDフラッシュメモリデバイスは、アドレスデコーダおよびNANDフラッシュメモリデバイスの動作のための他のコンポーネントを含む可能性がある。NANDフラッシュメモリデバイスは、あらゆる適切な市販のNANDフラッシュメモリである可能性がある。
示された実施形態においては、CPU510は、データがソリッドステートディスク530に図3に関連して上述されたいずれかの書き込み順序で格納されるように、ワード線アドレスを生成するよう構成される。その後、CPU510は、ビット線アドレスおよびデータとともに、ワード線アドレスを揮発性メモリ520へと送信する。揮発性メモリ520はワード線アドレス、ビット線アドレスおよびデータを一時的に格納し、その後ソリッドステートディスク530へとそれらを伝送する。
ソリッドステートディスク530は、揮発性メモリ520を介してCPU510によって提供されたアドレスに従って、一つ以上のメモリブロックにデータを格納する。中間ワード線上のメモリセルがまず書き込まれるかまたは読み出されるようにワード線がマッピングされるため、ソリッドステートディスク530は、ソリッドステートディスク530のアドレスデコーダの入力におけるアドレスを改変するか変更することなく、図3に関連して上述された方法でデータを格納することができる。
幾つかの実施形態においては、ソリッドステートディスク530は、動作開始時に上述された方法でワード線アドレスを提供するように、CPU510へと要求してもよい。ある実施形態においては、ソリッドステートディスク530は、メモリブロックの所望の数の上端ワード線および下端ワード線上に情報を保持することができる。上端ワード線および下端ワード線の所望の数は、ソリッドステートディスク530におけるフラッシュメモリデバイスに依存して変更することができる。ソリッドステートディスク530は、揮発性メモリ520を介してCPU510へと情報を送信してもよい。情報の受信によって、CPU510はその情報の少なくとも一部に基づいてワード線アドレスを生成することができる。上述されたようにワード線アドレスを生成するようにCPU510に命令するために種々の方法を使用することができることを当業者には理解されたい。
上述された実施形態の方法においては、中間ワード線上のメモリセルは下端ワード線および上端ワード線上のメモリセルと比較して、より高頻度にプログラムされる。中間ワード線上のメモリセルは下端ワード線もしくは上端ワード線上のメモリセルよりもより耐久性があるため、本方法は図2Cに関連して上述された従来の書き込み方法で生じる可能性があるメモリブロックの時期尚早な故障を防ぐことができる。
上述された実施形態はNANDフラッシュメモリデバイスの文脈において記述された。本実施形態は他のタイプのメモリデバイスに対して適応することもできる。さらには、上述された実施形態は、その書き込み方法およびあるメモリセルの損傷に対する固有の脆弱性によって上述されたものと類似する問題を有する、あらゆる他のタイプのソリッドステートメモリデバイスに対して適応することができる。
上述された実施形態に従うフラッシュメモリデバイスは、種々の電子デバイスに組み込むことができる。電子デバイスの実施例は、消費者電子製品、電子回路、電子回路コンポーネント、消費者電子製品の一部、電子試験設備などを含む可能性があるがそのいずれにも限定はされない。消費者電子製品の実施例は、携帯電話、電話、テレビ、コンピュータモニタ、コンピュータ、ポータブルメモリデバイス(例えばUSBドライブ)、ソリッドステートディスク、ハンドヘルドコンピュータ、携帯情報端末(PDA)、電子レンジ、冷蔵庫、ステレオシステム、カセットレコーダもしくはプレイヤー、DVDプレイヤー、CDプレイヤー、VCR、MP3プレイヤー、ラジオ、ビデオカメラ、光学カメラ、デジタルカメラ、洗濯機、乾燥機、洗濯乾燥機、コピー機、ファクス、スキャナ、多機能周辺デバイス、腕時計、時計、ゲームデバイスなどを含むがそのいずれにも限定はされない。さらには、電子デバイスは未完成製品を含む可能性がある。
一実施形態はフラッシュメモリデバイスのブロック内にデータを配列する方法である。ブロックは、複数のワード線およびそのワード線の複数のメモリセルを含む。ワード線は一つ以上の下端ワード線、一つ以上の上端ワード線、ならびに下端ワード線および上端ワード線の間の中間ワード線を含む。本方法は、ブロックの初期データが、そのブロックの一つ以上の下端ワード線もしくは一つ以上の上端ワード線に格納される前に、ブロックの中間ワード線上の少なくとも一つのメモリセルに格納されるように、格納されるべきデータをマッピングするステップと、一つ以上の下端ワード線および/もしくは一つ以上の上端ワード線上のメモリセルに格納されるべき、連続的データがもしあれば、その少なくとも一部をマッピングするステップとを含む。
別の実施形態は一つ以上のメモリブロックを含むフラッシュメモリデバイスである。各メモリブロックは複数のメモリセルを有する複数のワード線を含む。ワード線は互いに対して平行な方向へと伸長する。ワード線は一つ以上の下端ワード線、一つ以上の上端ワード線、および下端ワード線と上端ワード線との間に介在する中間ワード線を含む。メモリデバイスは、格納されるべきデータをマッピングするように構成されたアドレスデコーダをも含み、ブロックの初期データは、ブロックの一つ以上の下端ワード線もしくは一つ以上の上端ワード線に格納する前に、ブロックの中間ワード線上の少なくとも一つのメモリセルに格納される。アドレスデコーダはさらに、ブロックの一つ以上の下端ワード線および/もしくは一つ以上の上端ワード線上に格納されるべき連続的データがもしあれば、その少なくとも一部をマッピングするように構成される。
さらに別の実施形態は、コントローラと、そこにデータを格納するためのアドレスを受信するように構成されたフラッシュメモリデバイスとを含むコンピュータシステムである。フラッシュメモリデバイスは一つ以上のメモリブロックを含む。各メモリブロックは複数のワード線およびワード線の複数のメモリセルを含む。ワード線は互いに対して平行な方向へ伸長する。ワード線は、一つ以上の下端ワード線、一つ以上の上端ワード線および下端ワード線と上端ワード線との間に介在する中間ワード線を含む。コントローラはアドレスを生成するように構成され、ブロックの中間ワード線上のメモリセルにデータの初期部分を格納するために、ならびに、ブロックの下端ワード線および/もしくは上端ワード線上のメモリセルに、データの連続的部分がもしあればそれを格納するために、書き込み順序を示す。
さらに別の実施形態は、フラッシュメモリデバイス内にデータを格納するために一組のワード線アドレスを生成するように構成されたコントローラを含む装置である。フラッシュメモリデバイスは一つ以上のメモリブロックを含む。各メモリブロックは複数のワード線およびワード線の複数のメモリセルを含む。ワード線は互いに対して平行な方向へ伸長する。ワード線は、一つ以上の下端ワード線、一つ以上の上端ワード線、および下端ワード線と上端ワード線との間に介在する中間ワード線を含む。一組のワード線アドレスは、ブロックのうちの一つの中間ワード線上のメモリセルにデータの初期部分を格納するために、ならびに、ブロックのうちの一つの下端ワード線および/もしくは上端ワード線上のメモリセルにデータの連続的部分がもしあればそれを格納するために、書き込み順序を示す。
本発明はある実施形態に関して記述されてきたが、本明細書で説明された全ての特徴および利点を提供することはない実施形態を含む、当業者にとって明確な他の実施形態もまた本発明の範囲内にある。さらには、上述された種々の実施形態はさらなる実施形態を提供するために組み合わせられる可能性がある。さらには、一実施形態の文脈において示されたある特徴は同様に他の実施形態へと組み入れられる可能性がある。したがって、本発明の範囲は添付の請求項に対する参照によってのみ定義される。

Claims (25)

  1. フラッシュメモリデバイスのブロック内にデータを配列する方法であって、前記ブロックは複数のワード線および前記複数のワード線の複数のメモリセルを含み、前記複数のワード線は一つ以上の下端ワード線、一つ以上の上端ワード線、および前記複数の下端ワード線と上端ワード線の間の複数の中間ワード線を含み、前記方法は、
    前記ブロックの一つ以上の下端ワード線もしくは一つ以上の上端ワード線に格納する前に、前記ブロックの前記複数の中間ワード線上の複数のメモリセルのうちの少なくとも一つにブロックの初期データが格納されるように、格納されるべきデータをマッピングするステップと、
    上端ワード線および下端ワード線のそれぞれと電気的に接続されるメモリセルは、データを格納するように構成され、前記初期データの格納に続いて、これに続くデータの少なくとも一部が、前記一つ以上の下端ワード線および/もしくは前記一つ以上の上端ワード線上の複数のメモリセルに格納されるように前記初期データに続くデータの少なくとも一部をマッピングするステップと
    を含む、
    ことを特徴とする方法。
  2. 前記一つ以上の上端ワード線は1本から5本のワード線を含み、前記一つ以上の下端ワード線は1本から5本のワード線を含む、
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 前記一つ以上の上端ワード線の数は前記一つ以上の下端ワード線の数と同一である、
    ことを特徴とする請求項2に記載の方法。
  4. 前記一つ以上の上端ワード線の数は、前記一つ以上の下端ワード線の数とは異なる、
    ことを特徴とする請求項2に記載の方法。
  5. 連続的データの前記少なくとも一部をマッピングするステップは、
    前記初期データの格納に続いて、これに続くデータの少なくとも一部が、前記複数の下端ワード線上の前記複数のメモリセルに格納されるように、前記初期データに続くデータの前記少なくとも一部のうちの一部をマッピングするステップと、
    前記初期データの格納に続いて、これに続くデータの少なくとも一部が、前記複数の上端ワード線上の前記複数のメモリセルに格納されるように、前記初期データに続くデータの前記少なくとも一部のうちの別の一部をマッピングするステップと、
    を含む、
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  6. 前記一部をマッピングするステップは、前記複数の中間ワード線に最も近接する下端ワード線上の複数のメモリセルにまず格納されるべき前記一部をマッピングするステップを含む、
    ことを特徴とする請求項5に記載の方法。
  7. 前記他の一部をマッピングするステップは、前記複数の中間ワード線に最も近接する上端ワード線上の複数のメモリセルにまず格納されるべき前記他の一部をマッピングするステップを含む、
    ことを特徴とする請求項5に記載の方法。
  8. 連続的データの前記少なくとも一部をマッピングするステップは、
    前記初期データの格納に続いて、これに続くデータの少なくとも一部が、前記複数の下端ワード線上の前記複数のメモリセルに格納されるように、前記初期データに続く少なくとも一部のうちの一部をマッピングするステップと、
    前記初期データの格納に続いて、これに続くデータの少なくとも一部が、前記複数の上端ワード線上の前記複数のメモリセルに格納されるように、前記初期データに続く少なくとも一部のうちの別の一部をマッピングするステップと、
    を交互に含む、
    ことを特徴とする請求項5に記載の方法。
  9. 前記複数の下端ワード線もしくは上端ワード線上の前記複数のメモリセルにまず前記データを格納するために、第一の書き込み順序を示す第一組のワード線アドレスを前記フラッシュメモリデバイスによって受信するステップと、
    前記複数の中間ワード線上の前記複数のメモリセルにまず前記データを格納するために、第二の書き込み順序を示す第二組のワード線アドレスへと、前記第一組のワード線アドレスを前記フラッシュメモリデバイスによって変換するステップと、
    をさらに含む、
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  10. 前記複数の中間ワード線上の前記複数のメモリセルに前記データをまず格納するために、書き込み順序を示す複数のワード線アドレスを前記フラッシュメモリデバイスによって受信するステップをさらに含む、
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  11. フラッシュメモリデバイスであって、
    一つ以上のメモリブロックであって、前記複数のメモリブロックのうちの各々は、ワード線と電気的に接続されてデータを格納するように構成される複数のメモリセルを各々が有する複数のワード線を含み、前記複数のワード線は互いに対して平行な方向に伸長し、前記複数のワード線は一つ以上の下端ワード線、一つ以上の上端ワード線、および前記複数の下端ワード線と上端ワード線との間に介在する複数の中間ワード線を含む、一つ以上のメモリブロックと、
    ブロックの初期データが前記ブロックの前記一つ以上の下端ワード線もしくは前記一つ以上の上端ワード線に前記初期データに続くデータの少なくとも一部が続けて格納される前に、前記ブロックの前記複数の中間ワード線上の複数のメモリセルのうちの少なくとも一つに格納されるように、格納されるべきデータをマッピングするように構成されたアドレスデコーダと、
    を含み、
    前記アドレスデコーダは前記初期データの格納に続いて、これに続くデータの少なくとも一部が、前記ブロックの前記一つ以上の下端ワード線および/もしくは前記一つ以上の上端ワード線上に格納されるように、前記初期データに続くデータのうちの少なくとも一部をマッピングするようにさらに構成される、
    ことを特徴とするデバイス。
  12. 前記一つ以上の上端ワード線は1本から5本のワード線を含み、前記一つ以上の下端ワード線は1本から5本のワード線を含む、
    ことを特徴とする請求項11に記載のデバイス。
  13. 前記アドレスデコーダは、前記複数の下端ワード線もしくは上端ワード線上の複数のメモリセルにデータをまず格納するために第一の書き込み順序を示す第一組のワード線アドレスを受信し、前記複数の中間ワード線上の複数のメモリセルに前記データをまず格納するために第二の書き込み順序を示す第二組のワード線アドレスへと前記第一組のワード線アドレスを変換するように構成される、
    ことを特徴とする請求項11に記載のデバイス。
  14. 前記フラッシュメモリはNANDフラッシュメモリを含む、
    ことを特徴とする請求項11に記載のデバイス。
  15. コンピュータシステムであって、
    コントローラと、
    そこにデータを格納するために複数のアドレスを受信するように構成されたフラッシュメモリデバイスと、
    を含み、
    前記フラッシュメモリデバイスは一つ以上のメモリブロックを含み、前記複数のメモリブロックの各々は複数のワード線および前記複数のワード線各々にデータを格納するように構成される複数のメモリセルを含み、前記複数のワード線は互いに対して平行な方向へと伸長し、前記複数のワード線は一つ以上の下端ワード線、一つ以上の上端ワード線、および前記複数の下端ワード線と上端ワード線との間に介在する複数の中間ワード線を含み、
    前記コントローラは、前記複数のアドレスが前記複数のブロックのうちの一つの前記複数の中間ワード線上の複数のメモリセルに前記データの初期部分を格納するために、ならびに、前記複数のブロックのうちの前記一つの前記複数の下端ワード線および/もしくは上端ワード線上の複数のメモリセルに前記データの続く部分を続けて格納するために、書き込み順序を示すように、前記複数のアドレスを生成するように構成される、
    ことを特徴とするシステム。
  16. 前記一つ以上の上端ワード線は1本から5本のワード線を含み、前記一つ以上の下端ワード線は1本から5本のワード線を含む、
    ことを特徴とする請求項15に記載のシステム。
  17. 前記フラッシュメモリデバイスは、前記複数の上端ワード線および下端ワード線の前記数のうちの少なくとも一つに情報を有する前記コントローラを提供するようにさらに構成される、
    ことを特徴とする請求項16に記載のシステム。
  18. 前記コントローラは中央処理装置(CPU)を含む、
    ことを特徴とする請求項15に記載のシステム。
  19. 前記フラッシュメモリデバイスはソリッドステートディスクとして機能する、
    ことを特徴とする請求項15に記載のシステム。
  20. 前記フラッシュメモリデバイスはNANDフラッシュメモリデバイスを含む、
    ことを特徴とする請求項15に記載のシステム。
  21. フラッシュメモリデバイス内にデータを格納するための一組のワード線アドレスを生成するように構成されたコントローラであって、前記フラッシュメモリデバイスは一つ以上のメモリブロックを含み、前記複数のメモリブロックのうちの各々は複数のワード線および前記複数のワード線各々にデータを格納するように構成される複数のメモリセルを含み、前記複数のワード線は互いに対して平行な方向に伸長し、前記複数のワード線は一つ以上の下端ワード線、一つ以上の上端ワード線および前記複数の下端ワード線と上端ワード線との間に介在する複数の中間ワード線を含む、コントローラと、
    を含み、
    前記一組のワード線アドレスは、前記複数のブロックのうちの一つの前記複数の中間ワード線上の複数のメモリセルに前記データの初期部分を格納するために、ならびに、前記複数のブロックのうちの前記一つの前記複数の下端ワード線および/もしくは上端ワード線上の複数のメモリセル上に前記データの続く部分を続けて格納するために、書き込み順序を示す、
    ことを特徴とする装置。
  22. 前記一つ以上の上端ワード線は1本から5本のワード線を含み、前記一つ以上の下端ワード線は1本から5本のワード線を含む、
    ことを特徴とする請求項21に記載の装置。
  23. 前記コントローラは前記複数の上端ワード線および下端ワード線の前記数のうちの少なくとも一つで情報を受信し、前記情報の少なくとも一部に基づいて前記一組のワード線アドレスを生成するようにさらに構成される、
    ことを特徴とする請求項22に記載の装置。
  24. 前記コントローラは中央処理装置(CPU)を含む、
    ことを特徴とする請求項21に記載の装置。
  25. 前記中間ワード線にデータを格納するときと同じタイプの書き込み動作を使用して、一つ以上の下端ワード線および/または一つ以上の上端ワード線上のメモリセルにデータを格納する
    ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7949821B2 (en) * 2008-06-12 2011-05-24 Micron Technology, Inc. Method of storing data on a flash memory device
KR101658479B1 (ko) 2010-02-09 2016-09-21 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템
US9378831B2 (en) 2010-02-09 2016-06-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Nonvolatile memory devices, operating methods thereof and memory systems including the same
KR101691092B1 (ko) 2010-08-26 2016-12-30 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템
KR101691088B1 (ko) 2010-02-17 2016-12-29 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템
US9324440B2 (en) 2010-02-09 2016-04-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Nonvolatile memory devices, operating methods thereof and memory systems including the same
US8908431B2 (en) 2010-02-17 2014-12-09 Samsung Electronics Co., Ltd. Control method of nonvolatile memory device
TWI395460B (zh) * 2010-06-02 2013-05-01 Avision Inc 自動存取影像處理程式之掃描設備
KR20120107336A (ko) * 2011-03-21 2012-10-02 삼성전자주식회사 메모리 시스템 및 그것의 어드레싱 방법
US8685827B2 (en) * 2011-07-13 2014-04-01 Samsung Electronics Co., Ltd Method of forming polysilicon resistor during replacement metal gate process and semiconductor device having same
US8592281B2 (en) * 2011-07-14 2013-11-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of forming polysilicon resistor during replacement metal gate process and semiconductor device having same
KR101868377B1 (ko) * 2012-03-06 2018-06-19 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법
US20130290657A1 (en) * 2012-04-26 2013-10-31 Nick Baciu Storing data in containers
KR102003930B1 (ko) * 2012-07-31 2019-07-25 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치의 데이터 라이팅 제어방법 및 웨어레벨링 제어 기능을 가지는 메모리 콘트롤러
KR102242022B1 (ko) 2013-09-16 2021-04-21 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 및 그것의 프로그램 방법
US9312010B1 (en) 2014-10-07 2016-04-12 Sandisk Technologies Inc. Programming of drain side word line to reduce program disturb and charge loss
US9305653B1 (en) * 2014-12-05 2016-04-05 Macronix International Co., Ltd. Memory array and operating method of same
KR102292642B1 (ko) * 2015-03-13 2021-08-23 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치 및 비휘발성 메모리 장치의 프로그램 방법
US9728262B2 (en) * 2015-10-30 2017-08-08 Sandisk Technologies Llc Non-volatile memory systems with multi-write direction memory units
KR20170073944A (ko) * 2015-12-21 2017-06-29 에스케이하이닉스 주식회사 데이터 처리 시스템 및 데이터 처리 시스템의 동작방법
US10261914B2 (en) * 2017-08-25 2019-04-16 Micron Technology, Inc. Methods of memory address verification and memory devices employing the same
US11086790B2 (en) 2017-08-25 2021-08-10 Micron Technology, Inc. Methods of memory address verification and memory devices employing the same
US11232841B2 (en) 2017-09-05 2022-01-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Methods of operating memory devices based on sub-block positions and related memory system
KR102336659B1 (ko) 2017-09-05 2021-12-07 삼성전자 주식회사 데이터 신뢰성을 향상시키기 위한 메모리 동작을 수행하는 메모리 장치, 이를 포함하는 메모리 시스템 및 메모리 장치의 동작 방법
KR102261816B1 (ko) 2017-12-05 2021-06-07 삼성전자주식회사 데이터 신뢰성을 향상한 불휘발성 메모리 장치 및 그 동작방법
US10748627B2 (en) 2018-12-21 2020-08-18 Sandisk Technologies Llc Reducing neighbor word line interference in a two-tier memory device by modifying word line programming order
US10943662B1 (en) 2019-12-10 2021-03-09 Western Digital Technologies, Inc. Different word line programming orders in non-volatile memory for error recovery
US11664075B2 (en) 2021-08-30 2023-05-30 Sandisk Technologies Llc Sub-block programming mode with multi-tier block

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6284495A (ja) * 1985-10-08 1987-04-17 Nippon Texas Instr Kk 半導体記憶装置
JPH0464998A (ja) * 1990-07-03 1992-02-28 Mitsubishi Electric Corp 記憶装置
GB2251324B (en) * 1990-12-31 1995-05-10 Intel Corp File structure for a non-volatile semiconductor memory
JPH06202937A (ja) * 1992-12-28 1994-07-22 Kawasaki Steel Corp 不揮発性半導体記憶装置
TW527604B (en) * 1998-10-05 2003-04-11 Toshiba Corp A memory systems
KR100301932B1 (ko) * 1999-04-27 2001-10-29 윤종용 불 휘발성 반도체 메모리 장치
JP2001035170A (ja) * 1999-07-26 2001-02-09 Nec Kyushu Ltd 半導体記憶装置
KR100432884B1 (ko) * 2001-08-28 2004-05-22 삼성전자주식회사 공유된 행 선택 구조를 갖는 불 휘발성 반도체 메모리 장치
TW536819B (en) 2002-05-17 2003-06-11 Taiwan Semiconductor Mfg Split-gate flash memory structure and its program method for extending cycling lifetime
KR100504696B1 (ko) * 2003-02-26 2005-08-03 삼성전자주식회사 블록 소거/프로그램 정보를 저장하기 위한 상태 셀들의어레이를 포함한 낸드 플래시 메모리 장치
US6778442B1 (en) 2003-04-24 2004-08-17 Advanced Micro Devices, Inc. Method of dual cell memory device operation for improved end-of-life read margin
US7161833B2 (en) * 2004-02-06 2007-01-09 Sandisk Corporation Self-boosting system for flash memory cells
JP4398750B2 (ja) 2004-02-17 2010-01-13 株式会社東芝 Nand型フラッシュメモリ
US7177977B2 (en) * 2004-03-19 2007-02-13 Sandisk Corporation Operating non-volatile memory without read disturb limitations
KR100626371B1 (ko) * 2004-03-30 2006-09-20 삼성전자주식회사 캐쉬 읽기 동작을 수행하는 비휘발성 메모리 장치, 그것을포함한 메모리 시스템, 그리고 캐쉬 읽기 방법
US7120063B1 (en) 2004-05-07 2006-10-10 Spansion Llc Flash memory cell and methods for programming and erasing
JP2006059481A (ja) * 2004-08-23 2006-03-02 Renesas Technology Corp 半導体記憶装置
US7212436B2 (en) 2005-02-28 2007-05-01 Micron Technology, Inc. Multiple level programming in a non-volatile memory device
US7292473B2 (en) 2005-09-07 2007-11-06 Freescale Semiconductor, Inc. Method and apparatus for programming/erasing a non-volatile memory
US7170788B1 (en) * 2005-09-09 2007-01-30 Sandisk Corporation Last-first mode and apparatus for programming of non-volatile memory with reduced program disturb
US7218552B1 (en) * 2005-09-09 2007-05-15 Sandisk Corporation Last-first mode and method for programming of non-volatile memory with reduced program disturb
JP4726958B2 (ja) * 2005-09-09 2011-07-20 サンディスク コーポレイション プログラム外乱を低減させたnandタイプの不揮発性メモリをプログラムするラスト―ファーストモードと方法
US20070094445A1 (en) * 2005-10-20 2007-04-26 Trika Sanjeev N Method to enable fast disk caching and efficient operations on solid state disks
KR100660546B1 (ko) * 2005-11-10 2006-12-22 삼성전자주식회사 반도체 디스크 제어 장치
KR100742278B1 (ko) * 2005-11-23 2007-07-24 삼성전자주식회사 향상된 동작 속도 및 듀얼 프로그램 기능을 갖는 낸드플래시 메모리 장치
KR100784862B1 (ko) * 2006-01-09 2007-12-14 삼성전자주식회사 더미 셀을 포함하는 플래시 메모리 장치
US7403425B2 (en) * 2006-03-07 2008-07-22 Micron Technology, Inc. Programming a flash memory device
US7440322B2 (en) * 2006-04-20 2008-10-21 Sandisk Corporation Method and system for flash memory devices
US7952922B2 (en) 2006-06-06 2011-05-31 Micron Technology, Inc. Method for programming a non-volatile memory device to reduce floating-gate-to-floating-gate coupling effect
JP4945183B2 (ja) * 2006-07-14 2012-06-06 株式会社東芝 メモリコントローラ
KR100885783B1 (ko) * 2007-01-23 2009-02-26 주식회사 하이닉스반도체 플래시 메모리 장치 및 동작 방법
US20090043831A1 (en) * 2007-08-11 2009-02-12 Mcm Portfolio Llc Smart Solid State Drive And Method For Handling Critical Files
US7986554B2 (en) * 2008-03-19 2011-07-26 Sandisk Technologies Inc. Different combinations of wordline order and look-ahead read to improve non-volatile memory performance
US7949821B2 (en) * 2008-06-12 2011-05-24 Micron Technology, Inc. Method of storing data on a flash memory device
CN102238465B (zh) 2010-04-28 2014-12-03 北京神州泰岳软件股份有限公司 一种移动数据业务端到端质量分析方法及系统

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