JP2011530777A - メモリデバイスおよびメモリデバイスにデータを格納する方法 - Google Patents

メモリデバイスおよびメモリデバイスにデータを格納する方法 Download PDF

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Abstract

フラッシュメモリデバイスを含む装置および方法が開示される。そのような一装置は、複数のメモリセルを含むメモリブロック(510)、メモリブロック(510)に格納されたオリジナルデータを、ランダムに、もしくは擬似ランダムに、変更データへと変更するように構成されたデータランダマイザ(540)を含む。オリジナルデータは、書き込み動作の間、メモリブロック(510)に格納されるデータパターンが、メモリブロック(510)にオリジナルデータが格納されていたデータパターンとは異なるように変更される。本構成は、メモリセルに格納されたデータディジットにおけるデータパターン依存性エラーを低減するもしくは排除することができる。

Description

本発明の実施形態はメモリデバイスに関し、より詳細には、一つ以上の実施形態において、フラッシュメモリデバイスに関する。
フラッシュメモリデバイスは、そこに格納された情報を維持するために電力を必要としない方法で半導体に情報を格納する不揮発性メモリデバイスである。フラッシュメモリデバイスは、その高い記憶密度および低コストのために、大容量記憶デバイスとして広く使用されてきた。
図1に関連して、従来のNANDフラッシュメモリデバイスは複数のメモリブロックに配列される。複数のメモリブロック10は、第一から第Nまでのメモリブロック100を含む。メモリブロック100の各々は、通常マトリクス形状に配列された複数のメモリセルを含む。
図2Aはメモリブロック100を示す。示されたメモリブロック100は、第一から第mまでのビット線BL0−BLmおよび第一から第nまでのワード線WL0−WLnを含む。幾つかの配列においては、mは32,767もしくは65,535であり、nは32もしくは64である可能性がある。ビット線BL0−BLmは、列方向にお互いに対して平行に伸長する。ワード線WL0−WLnは、列方向に垂直な行方向に、お互いに対して平行に伸長する。メモリブロック100は、メモリブロック100における一つ以上のビット線を選択するための上部ビット線選択トランジスタ120aおよび下部ビット線選択トランジスタ120bをも含む。
各ビット線はメモリセル110のストリングを含む。例えば、第二のビット線BL1は直列に接続されたメモリセル110を含む。メモリセル110の各々は浮遊ゲートトランジスタを含む。ビット線の浮遊ゲートトランジスタは、ソースからドレインへとお互いに対して直列に結合される。共通の行のメモリセル110の浮遊ゲートトランジスタの制御ゲートは、同一のワード線に結合される。メモリセル110の各々は電荷(もしくは電荷の欠如)を格納する。格納された電荷量は例えば一つ以上の状態を表すために使用することができ、一つ以上の状態は、データの一つ以上のディジット(桁)(例えばビット)を表すことができる。浮遊ゲートトランジスタに格納された電荷は、浮遊ゲートトランジスタの閾値電圧を設定する。メモリセル110は、シングルレベルセル(SLC)もしくはマルチレベルセル(MLC)のいずれかである可能性がある。ある配列においては、メモリセル110に格納された電荷量は、メモリセル110の浮遊ゲートトランジスタを介して流れる電流を検知することによって検出される可能性がある。別の配列においては、メモリセル110に格納された電荷量は、メモリセル110の浮遊ゲートトランジスタの閾値電圧値を検知することによって検出される可能性がある。
図2Bは、第二のビット線BL1におけるメモリセル110の浮遊ゲートトランジスタの断面を示す。浮遊ゲートトランジスタは基板201上に形成される。浮遊ゲートトランジスタの各々は、ソース領域210(同一ビット線の隣接するトランジスタに対するドレイン領域になる可能性がある)、ドレイン領域212(同一ビット線の隣接するトランジスタに対するソース領域になる可能性がある)、ドープされたチャネル領域214、第一の誘電体216(例えば、トンネル酸化物)、浮遊ゲート218、第二の誘電体220(例えば、ゲート酸化物であって、トンネル酸化物およびゲート酸化物は同一材料もしくは異なる材料で形成することができる)、および制御ゲート222を含む。第一の誘電体216は、チャネル領域214から浮遊ゲート218を絶縁するためにチャネル領域214上に形成される。第二の誘電体220は、制御ゲート222から浮遊ゲート218を物理的および電気的に分離する。制御ゲート222は、適切なワード線(例えばワード線WL1)に結合される。電子は、浮遊ゲート218にトラップすることができ、データを格納されるために使用することができる。
図2Cに関連して、メモリブロックにデータを書き込む従来の方法が記述される。図2Cは、図2Aのメモリブロック100を概略的に示し、メモリセル110、ビット線BL0−BLm、ワード線WL0−WLnのみを示す。しかしながら、メモリブロック100は図2Aおよび図2Bに関連して前述された他のコンポーネントを含む可能性があることを理解されたい。
書き込み動作の間、データは、通常、単一のワード線に結合された一組のメモリセルに書き込まれる。このようなメモリセルの組は“ページ”と称される可能性がある。ある配列においては、ページはワード線を共有する全メモリセルを含んでもよい。他の配列においては、ページは、単一のワード線に結合された一つおきのメモリセルによって形成されてもよい。ある配列においては、ページは単一のワード線に結合された4つ毎のメモリセルによって形成されてもよい。ページは、ワード線に結合された任意の選択された適切な数のメモリセルによって形成されてもよいことを理解されたい。
実施形態は、[発明を実施するための最良の形態]および添付の図面からさらに理解されるが、これらは例示を意味するものであって、実施形態を限定することを意図しない。
複数のメモリブロックを含む従来のNANDフラッシュメモリデバイスの概略図である。 従来のNANDフラッシュメモリデバイスのメモリブロックの概略図である。 図2Aのメモリブロックの概略的断面である。 NANDフラッシュメモリデバイスのブロックにデータを格納する従来の方法を示す概略図である。 シングルレベルメモリセルの閾値レベルの例を示す図である。 メモリセルにエラーを引き起こす可能性があるデータパターンの例を示す概略図である。 マルチレベルメモリセルの閾値レベルの例を示す図である。 メモリセルにエラーを引き起こす可能性があるデータパターンの別の例を示す概略図である。 メモリセルにエラーを引き起こす可能性があるデータパターンの別の例を示す概略図である。 メモリセルにエラーを引き起こす可能性があるデータパターンの別の例を示す概略図である。 一実施形態に従うデータランダマイザを含むNANDフラッシュメモリデバイスの概略的ブロック図である。 図5のデータランダマイザの一実施形態の概略的ブロック図である。 図6Aのデータランダマイザの動作を示す。
フラッシュメモリデバイスの幾何学形状が縮小するにつれて、メモリデバイスにおけるセル間の距離もまた減少する。このようなフラッシュメモリデバイスにおいては、隣接するメモリセルに格納された電荷は、メモリセル間の干渉を引き起こす可能性がある。例えば、隣接するメモリセルの浮遊ゲート間で結合が生じ、その現象は本文書の文脈においては浮遊ゲート結合と称される。
ある繰り返しデータパターンは、ランダムデータパターンと比較して、隣接するメモリセル間の浮遊ゲート結合をより深刻なものにする可能性がある。シングルレベルセル(SLC)フラッシュメモリデバイスに格納される繰り返しデータパターンの一例は、図3Aおよび図3Bに関連して記述される。
シングルレベルセルフラッシュメモリデバイスは、図3Aに示されるように、データビットを表すために各メモリセルに二つの状態のうちの一つを格納する。例えば、データビット“0”は基準電圧Vよりも低い第一の閾値電圧Vt1によって表され、データビット“1”は基準電圧Vよりも高い第二の閾値電圧Vt2によって表される。メモリブロックの全メモリセルは、例えば消去状態におけるデータビット“1”を表す、二つの状態のうちの一つを有する。メモリブロックのメモリセルにデータビットを書き込む場合、メモリセルの閾値電圧は、同一の状態のままであるか、または変化して、それによって、データビットの値に依存する第一もしくは第二の閾値電圧Vt1もしくはVt2を有する。メモリセルからデータビットを読み出す場合には、メモリセルの閾値電圧が基準電圧Vより上か、または下かが判定される。
図3Bは、シングルレベルセルフラッシュメモリデバイスに対する繰り返しデータパターンの一実施例を示す。円はメモリセルを表し、円内の数字はメモリセルに格納されたデータビット値を示す。メモリセルはマトリクス形状に配列される。“行”のメモリセルは、ワード線WL0−WLnなどのアクセス線に結合されたメモリセルであり、“列”のメモリセルは、ビット線BL0−BLmなどのデータ線に結合されたメモリセルである。
図3Bに示されたデータパターンはワード線方向およびビット線方向の両方に、繰り返しパターン0,1,0,1,0,...,1を有する。このようなデータパターンは、チェッカーボードパターンと称される。チェッカーボードパターンは、メモリブロックの少なくとも一部に書き込まれる可能性がある。チェッカーボードパターンのデータを有するメモリセルは、より浮遊ゲート結合に晒されやすい。
例えば、メモリセルC11はデータディジット“0”を格納するが、メモリセルC11に隣接するメモリセルC01,C12,C21,C10はデータディジット“1”を格納する。隣接するメモリセルC01,C12,C21,C10に格納された電荷は、メモリセルC11に格納された電荷と結合する可能性がある。隣接するメモリセルC01,C12,C21,C10の全てがお互いに同一の電荷を有し、それはメモリセルC11に格納された電荷とは異なるため、隣接するメモリセルC01,C12,C21,C10は申し合わせたようにメモリセルC11の閾値電圧に影響を与え、それによってメモリセルC11に格納されたデータビットを変更する。したがって、チェッカーボードパターンが書き込まれた場合には、ランダムパターンがそこに書き込まれた場合よりもメモリセルが欠陥を有しやすい。メモリセル間の干渉を引き起こす可能性がある種々の他のデータパターンが存在することを当業者には理解されたい。
図4A−図4Dに関連して、マルチレベルセル(MLC)フラッシュメモリデバイスにおける繰り返しデータパターンの一実施例が以下に記述される。示されたマルチレベルセル(MLC)フラッシュメモリデバイスは、図4Aに示されたように、二つのビットbを表すために各メモリセルに4つのデータ状態のうちの一つを格納する。例えば、ビット“11”は、より最低基準電圧VR1よりも低い第一の閾値電圧Vt1によって表される。データビット“10”は、最低基準電圧VR1よりも高く、かつ中間基準電圧VR2よりも低い第二の閾値電圧Vt2によって表される。データビット“00”は、中間基準電圧VR2よりも高く、かつ最高基準電圧VR3よりも低い第三の閾値電圧Vt3によって表される。データビット“01”は、最高基準電圧VR3よりも高い第四の閾値電圧Vt4によって表される。メモリセルに二つのデータビットを書き込む場合には、メモリセルの閾値電圧は、そのデータビットの値に依存する、4つの閾値電圧Vt1−Vt4のうちの一つを有するようにプログラムされる。メモリセルからデータを読み出す場合には、メモリセルの閾値電圧は、基準電圧VR1−VR3を基準にして判定される。図4Aにおいては、二つのビット“11”,“10”,“00”および“01”は、其々ディジット0,1,2,3を表すことができる。
図4B−図4Dは、マルチレベルセル(MLC)フラッシュメモリデバイスに対する繰り返しデータパターンの一実施例を書き込むプロセスを示す。円はメモリセルを表し、円内の数字は、メモリセルに格納されたデータディジット(図4Aにおける2ビットb,bによって表された0,1,2,3のうちの一つ)を示す。メモリセルはマトリクス形状に配列される。メモリセルの行はワード線WL0−WLnに結合されたメモリセルであり、メモリセルの列はビット線BL0−BLmに結合されたメモリセルである。
示された実施例においては、データパターンはページ毎に書き込まれ、各ページはワード線上の一つおきのメモリセルを含む。パターン1,1,1,...,1を含むページは、図4Bに示されるように、偶数番号ビット線BL0,BL2,...および第一のワード線WL0におけるメモリセルC00,C20,...に書き込むことができる。同一のパターン1,1,1,...,1を含む別のページは、奇数番号ビット線BL1,BL3,...,BLmおよび第一のワード線WL0におけるメモリセルC10,C30,....,Cm0に書き込むことができる。同様の方法で、同一のパターンを含むページは、図4Cに示されるように、第一のワード線WL0の真上の第二のワード線WL1上のメモリセルに書き込むことができる。
本実施例においては、データディジット“1”はメモリセルC20に書き込まれ、その後、同一のデータディジットは隣接するメモリセルC10,C11,C21,C31に書き込まれ、その後C30に書き込まれる。このような実施例においては、メモリセルC20は、隣接するメモリセルC10,C11,C21,C31およびC30由来の、浮遊ゲート結合などの干渉を受ける可能性がある。互いに同一のデータディジットを有する隣接するメモリセルC10,C11,C21,C31およびC30は、申し合わせたように、メモリセルC20の閾値電圧に影響を与え、結果としてメモリセルC20に格納されたデータディジットにエラーを生じさせる。この方法においては、図4Dに示された1の繰り返しパターンは、メモリセルに格納されたデータディジットにエラーを引き起こす可能性がある。幾つかの隣接するメモリセルに同一のデータディジットを有するこのようなデータパターンは、ソリッドパターンと称される可能性がある。
上述されたデータパターンに加えて、メモリセル間の干渉を引き起こし、それによってメモリセルに格納されたデータディジットにエラーが生じる可能性がある種々の他の繰り返しデータパターンが存在することを当業者には理解されたい。ある実施例においては、例えばメモリデバイスを試験する際に、このような繰り返しデータパターンがメモリセルに対して故意に提供される可能性がある。したがって、このようなデータパターン依存性干渉を低減するもしくは排除するスキームが必要となる。
一実施形態においては、NANDフラッシュメモリデバイスは、複数のワード線、複数のビット線、およびワード線とビット線の交点における複数のメモリセルを含むメモリブロックを含む。(本明細書では“オリジナル”データと称される)データは、メモリブロックにおけるメモリセルの少なくとも幾つかに書き込むために、NANDフラッシュメモリデバイスに対して連続的に提供することができる。オリジナルデータはメモリブロックに格納されるデータのパターンが異なるようにデータランダマイザを使用して変更される。変更データはメモリブロックに格納される。データの変更に関する情報はNANDフラッシュメモリデバイスに格納され、メモリブロックからデータを読み出す際に使用される。
図5に関連して、データランダマイザを含むNANDフラッシュメモリの一実施形態が以下に記述される。示されたNANDフラッシュメモリ500は、メモリブロック510、ビット線デコーダ520、ワード線デコーダ530、データランダマイザ540およびランダム化情報のための記憶装置550を含む。図示されていないが、NANDフラッシュメモリ500は、その動作のための他のメモリブロックおよび他のコンポーネントを含む可能性がある。
メモリブロック510は、マトリクス形状に配列された複数のメモリセルを含む。メモリブロック510はワード線およびビット線をも含む。メモリセル、ワード線およびビット線の詳細は、図2A−図2Cに関連して上述されたものである可能性がある。一実施形態においては、メモリセルはシングルレベルセル(SLC)である可能性がある。他の実施形態においては、メモリセルはマルチレベルセル(MLC)である可能性がある。
ビット線デコーダ520は、(図示されていない)外部デバイスによって提供されたアドレスに従ってビット線を選択するように構成される。外部デバイスは、NANDフラッシュメモリデバイスにデータを格納する必要のある、任意のタイプの電子デバイスである可能性がある。ビット線デコーダ520は、外部デバイスからアドレスを受信し、データランダマイザ540から変更データを受信する。ビット線デコーダ520は、アドレスに従ってメモリブロックに変更データを提供する。
ワード線デコーダ530は、外部デバイスによって提供されたアドレスに従って、ワード線を選択するように構成される。ワード線デコーダ530は、外部デバイスからアドレスを受信し、アドレスに従ってワード線を選択する。
データランダマイザ540は、書き込み動作の間、オリジナルデータを変更データへと変更する(オリジナルデータが格納されていたパターンとは異なるパターンで格納される)ように構成され、また、読み出し動作の間、変更データをオリジナルデータに復元するように構成される。データランダマイザ540は、書き込み動作の間、外部デバイスからオリジナルデータおよびメモリセルのアドレスを受信する。データランダマイザ540は、オリジナルデータを、ランダムに、もしくは擬似ランダムに、変更データへと変更し、また、書き込み動作の間、記憶装置550に変更に関連する情報(これ以降は“ランダム化情報”とする)を格納する。ある実施形態においては、データランダマイザ540は、データを変更するために、記憶装置550に以前格納された情報を使用してもよい。
データランダマイザ540は、読み出し動作の間、外部デバイスからメモリセルのアドレスを受信し、メモリブロック510から変更データを受信する。データランダマイザ540は、読み出し動作の間、変更データをオリジナルデータに復元するためにランダム化情報を使用する。
ランダム化情報のための記憶装置550は、メモリブロック510に格納されたデータに対するランダム化情報を格納するのに役立つ。一実施形態においては、記憶装置550は、NANDフラッシュメモリデバイス500における他の一つ以上のメモリブロックであるか、またはその一部である可能性がある。他の実施形態においては、記憶装置550は、NANDフラッシュメモリデバイス500における一つ以上の再書き込み可能な不揮発性メモリである可能性がある。記憶装置550には種々のタイプの記憶デバイスが使用できることを当業者には理解されたい。
図5および図6Aに関連して、図5のデータランダマイザの一実施形態が以下に詳細に記述される。図6Aに示されたデータランダマイザ600は、擬似ランダムビット(PRB)ジェネレータ610、第一のXORゲート620、第二のXORゲート630を含む。示された実施形態においては、XORゲート620、630のうちの一組のみがデータ処理のために示される。しかしながら、データランダマイザ600は、より多くの組のXORゲートを含む可能性があることを当業者には理解されたい。データが同時にバイト(すなわち8ビット)として提供される一実施形態においては、データランダマイザ600は、8ビットの各々に対して一組のXORゲート(すなわち、8組のXORゲート)を含む可能性がある。
書き込み動作の間、擬似ランダムビットジェネレータ610は、データがどこに格納されるべきかをメモリセルに示すアドレスを受信し、そのアドレスの各々に対してランダムビットを生成する。擬似ランダムビットジェネレータ610は、その出力において決定性を有する。すなわち、擬似ランダムビットジェネレータ610は、アドレスの各々に対して、“0”か“1”のいずれかの一意的な出力を生成する。例えば、擬似ランダムビットジェネレータ610が特定のアドレス“x”を受信すると、常に“1”を生成する。同様に、擬似ランダムビットジェネレータ610は別の特定のアドレス“y”を受信すると、常に“0”を生成する。
データは、NANDフラッシュメモリデバイス500に対して、一意的アドレスとともに提供される。したがって、擬似ランダムビットジェネレータ610を介して伝送されると、各一意的アドレスは“0”か“1”のいずれかの一意的な値を生成する。この一意的な値は、以下に記述されるように、オリジナルデータを変更するために使用することができる。
擬似ランダムビットジェネレータ610は、第一のXORゲート620の入力のうちの一つにランダムビットを提供する。擬似ランダムビットジェネレータ610は、記憶装置550(図5)にもランダムビットを格納する。
読み出し動作の間、擬似ランダムビットジェネレータ610は、データが読み出されるメモリセルを示すアドレスを受信し、アドレスの各々に対して記憶装置550からランダムビットを検索する。擬似ランダムビットジェネレータ610は、第二のXORゲート630の入力のうちの一つへとランダムビットを提供する。
書き込み動作の間、第一のXORゲート620は、擬似ランダムビットジェネレータ610からランダムビットを受信し、メモリブロック510(図5)におけるメモリセルに書き込まれるべきオリジナルデータDWを受信する。メモリセルは、擬似ランダムビットジェネレータ610が受信したアドレスによって示される。第一のXORゲート620は、ランダムビットおよびデータDWにおけるXOR演算を実施し、結果として生じた出力DINをメモリブロック510におけるメモリセルに実際書き込まれるべき変更データとして提供する。マルチレベルセルフラッシュメモリデバイスを使用するある実施形態においては、結果として生じる出力DINは、2つのデータビットが単一のメモリセルに格納されるようにさらに処理されてもよい。
読み出し動作の間、第二のXORゲート630は、擬似ランダムビットジェネレータ610からランダムビットを受信し、メモリブロック510におけるメモリセルから読み出された変更データDOUTを受信する。メモリセルは、擬似ランダムビットジェネレータ610が受信したアドレスによって示される。第二のXORゲート630は、データDOUTおよびランダムビットにおけるXOR演算を実施し、結果として生じた出力DRを(図示されていない)実際に読み出されるべきオリジナルデータとして外部デバイスへと提供する。
図示されていないが、結果として生じた出力DINは、メモリブロック510に書き込まれる前に、(図示されていない)バッファに一時的に格納される可能性がある。同様に、メモリブロック510から読み出されたデータDOUTは、メモリブロック510から読み出された後にバッファに格納され、データランダマイザ600へと連続的に提供される可能性がある。
図5、図6Aおよび図6Bに関連して、図6Aのデータランダマイザ600の動作が以下に記述される。書き込み動作の間、アドレスシーケンスは、外部デバイスからNANDフラッシュメモリデバイス500へと提供されてもよい。例えば、図6Bにおいては、アドレスは、順に、0000,0001,0010,0011,0100,...,xxxxであり、ワード線上のメモリセルを示す。
オリジナルデータもまた、外部デバイスからNANDフラッシュメモリデバイス500へと提供される。アドレスによって示されたメモリセルに書き込まれるデータビットDWは、繰り返しパターンを有してもよい。例えば、データビットは、順に、1,1,1,1,1,...,1である可能性がある。擬似ランダムビットジェネレータ610によって生成されるランダムビットRBは、例えば順に、0,1,1,0,0,...,1である可能性がある。
第一のXORゲート620は、データDWおよびランダムビットRBにおけるXOR演算を実施する。(以下の表1参照。)
結果は、順に、1,0,0,1,1,...,0である。したがって、メモリブロックのワード線に実際に書き込まれるデータディジットDINは、ランダム化されたパターンであり、オリジナルの繰り返しパターンではない。
読み出し動作の間、メモリブロック510におけるメモリセルのアドレスシーケンスは、外部デバイスからNANDフラッシュメモリデバイス500へと提供されてもよい。擬似ランダムビットジェネレータ610は、アドレスに関連するランダムビットシーケンスを検索する。例えば、示された実施例においては、ランダムビットRBのシーケンス、0,1,1,0,0,...,1は、アドレス0000,0001,0010,0011,0100,...,xxxxに対して記憶装置550から検索される。変更データDOUTはメモリブロック510におけるアドレスにおけるメモリセルから読み出される。示された実施例においては、データビットDOUTは、上述された書き込み動作の間に格納された、1,0,0,1,1,...,0である。
第二のXORゲート630は、DOUTおよびRBにおけるXOR演算を実施する。(以下の表2参照。)
結果は、順に、1,1,1,1,1,...,1である。したがって、NANDフラッシュメモリデバイス500から実際に読み出されるデータDRはオリジナルデータに対応する。データDRは外部デバイスへと提供される。したがって、上述されたデータランダム化スキームは外部デバイスに対して透過的である可能性がある。
消去動作の間、メモリブロック510における全メモリセルは同一の状態へと消去される。したがって、データランダマイザ540は、消去動作の間は無効とされてもよい。
上述された実施形態の方法においては、オリジナルデータは変更データへと変更され、それによって、NANDフラッシュメモリデバイスにおけるメモリブロックに、繰り返しデータパターンを格納することを回避することができる。メモリブロックに対する繰り返しデータパターンの書き込みを回避することによって、このような繰り返しデータパターンに関連する干渉(例えば、浮遊ゲート結合)を低減するか、または排除することができる。
上記の実施形態は、NANDフラッシュメモリデバイスの文脈において記述された。実施形態は、そのメモリセルに書き込まれたデータパターンに関連するような類似する干渉を有するNORフラッシュメモリデバイスおよび他のタイプのメモリデバイス(例えば、EPROM,EEPROMなど)に対して適用することができる。さらには、上記の実施形態は、書き込み方法ならびに隣接するメモリセルからの干渉に対するあるメモリセルの固有の感受性に起因する上述されたのと同様の問題を有する、他の任意のタイプのソリッドステートメモリデバイスに対しても適用することができる。
上述された実施形態に従うフラッシュメモリデバイスは、種々の電子デバイスに組み込むことができる。電子デバイスの例は、消費者向け電子製品、電子回路、電子回路コンポーネント、消費者向け電子製品の一部、電子試験装置などを含むがそのいずれにも限定はされない。消費者向け電子製品の例は、携帯電話、電話、テレビ、コンピュータモニタ、コンピュータ、携帯用メモリデバイス(例えばUSBドライブ)、ソリッドステートディスク、ハンドヘルドコンピュータ、携帯情報端末(PDA)、電子レンジ、冷蔵庫、ステレオシステム、カセットレコーダもしくはプレイヤ、DVDプレイヤ、CDプレイヤ、VCR、MP3プレイヤ、ラジオ、ビデオカメラ、光学カメラ、デジタルカメラ、洗濯機、乾燥機、洗濯乾燥機、コピー機、ファクス、スキャナ、複数機能周辺デバイス、腕時計、時計、ゲームデバイスなどを含むがそのいずれにも限定はされない。さらには、電子デバイスは、未完成製品を含む可能性がある。
一実施形態は、複数のメモリセルを含むメモリブロックと、メモリブロックに格納されるべきオリジナルデータを、ランダムに、もしくは擬似ランダムに、変更データへと変更するように構成されたデータランダマイザと、を含むメモリデバイスである。オリジナルデータは、書き込み動作の間、メモリブロックに格納されるデータパターンが、メモリブロックにオリジナルデータが格納されていたデータパターンとは異なるように変更される。
別の実施形態は、複数のメモリセルを含むメモリブロックと、第一のパターンにおける第一組のディジットを表すオリジナルデータを受信し、オリジナルデータによって表されるディジットのうちの(全てではない)幾つかを、ランダムに、もしくは擬似ランダムに変更し、それによって、書き込み動作の間に、第一のパターンとは異なる第二のパターンにおける第二組のディジットを表す変更データを生成するように構成されたデータランダマイザと、を含む装置である。装置は、メモリブロックにおける変更データを格納するように構成される。
さらに別の実施形態は、メモリデバイスを作動させる方法である。本方法は、オリジナルデータを受信するステップと、オリジナルデータを、ランダムに、もしくは擬似ランダムに、変更データへと変更するステップと、変更データを格納するステップと、を含む。オリジナルデータは、メモリブロックに格納されるデータパターンが、メモリブロックにオリジナルデータが格納されていたデータパターンとは異なるように変更される。
本発明はある特定の実施形態に関して記述されてきたが、本明細書に説明された全ての特徴および利点を提供するわけではない実施形態を含む当業者にとって明らかな他の実施形態もまた、本発明の範囲内である。さらには、上述された種々の実施形態は、さらなる実施形態を提供するために組み合わせることができる。さらには、一実施形態の文脈で示されたある特定の特徴は、同様に他の実施形態に組み入れることができる。したがって、本発明の範囲は、添付の請求項を参照することによってのみ定義される。

Claims (25)

  1. 複数のメモリセルを含むメモリブロックと、
    前記メモリブロックに格納されるべきオリジナルデータを、ランダムに、もしくは擬似ランダムに、変更データへと変更するように構成されたデータランダマイザと、
    を含み、
    前記オリジナルデータは、書き込み動作の間、前記メモリブロックに格納されるデータパターンが、前記メモリブロックに前記オリジナルデータが格納されていたデータパターンとは異なるように変更される、
    ことを特徴とするメモリデバイス。
  2. 前記データランダマイザは、読み出し動作の間、前記変更データを前記オリジナルデータに復元するようにさらに構成される、
    ことを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
  3. 前記データランダマイザは、前記複数のメモリセルのうちの前記少なくとも幾つかを示す複数のアドレスを受信し、前記複数のアドレスのそれぞれ一つに対してランダムビットを生成するように構成されたランダムビットジェネレータを含む、
    ことを特徴とする請求項2に記載のデバイス。
  4. 前記データランダマイザは、前記書き込み動作の間に、前記複数のアドレスの一つに対して生成されたランダムビット、ならびに前記複数のアドレスの前記一つによって示されたメモリセルに格納された前記オリジナルデータにおけるXOR演算を実施するように構成された第一の論理ゲートをさらに含む、
    ことを特徴とする請求項3に記載のデバイス。
  5. 前記データランダマイザは、前記読み出し動作の間に、前記複数のアドレスの一つに対して生成されたランダムビット、ならびに前記複数のアドレスの前記一つによって示されたメモリセルから読み出された前記変更データにおけるXOR演算を実施するように構成された第二の論理ゲートをさらに含む、
    ことを特徴とする請求項3に記載のデバイス。
  6. 前記データの前記変更に関する情報を格納するための記憶装置をさらに含む、
    ことを特徴とする請求項3に記載のデバイス。
  7. 前記情報は、前記複数のアドレスに対して生成された前記複数のランダムビットを含む、
    ことを特徴とする請求項6に記載のデバイス。
  8. 別のメモリブロックをさらに含み、前記記憶装置は前記他のメモリブロックである、
    ことを特徴とする請求項6に記載のデバイス。
  9. 読み出し専用メモリ(ROM)をさらに含み、前記記憶装置は前記ROMである、
    ことを特徴とする請求項6に記載のデバイス。
  10. 前記データランダマイザは、消去動作の間、無効化されるように構成される、
    ことを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
  11. 前記複数のメモリセルは複数のシングルレベルセル(SLC)である、
    ことを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
  12. 前記複数のメモリセルは複数のマルチレベルセル(MLC)である、
    ことを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
  13. 前記メモリデバイスは、NANDもしくはNORフラッシュメモリデバイスを含む、
    ことを特徴とする請求項1に記載のデバイス。
  14. 装置であって、
    複数のメモリセルを含むメモリブロックと、
    第一のパターンにおける第一組のディジットを表すオリジナルデータを受信し、前記オリジナルデータによって表される前記複数のディジットのうちの全てではない幾つかを、ランダムに、もしくは擬似ランダムに変更し、それによって、書き込み動作の間に、前記第一のパターンとは異なる第二のパターンにおける第二組のディジットを表す変更データを生成するように構成されたデータランダマイザと、
    を含み、
    前記装置は、前記メモリブロックにおける前記変更データを格納するように構成される、
    ことを特徴とする装置。
  15. 前記データランダマイザは、読み出し動作の間に、前記変更データを前記オリジナルデータに復元するようにさらに構成される、
    ことを特徴とする請求項14に記載の装置。
  16. 前記データランダマイザは、前記第一組のディジットが格納されるべき前記複数のメモリセルのうちの少なくとも幾つかを示す複数のアドレスを受信するようにさらに構成される、
    ことを特徴とする請求項14に記載の装置。
  17. 前記データランダマイザは、前記複数のアドレスのうちのそれぞれ一つに対してランダムビットを生成するようにさらに構成され、
    前記データランダマイザは、前記複数のアドレスのうちの一つに対して生成されたランダムビット、ならびに前記オリジナルデータによって表された前記複数のディジットのうちのそれぞれ一つにおけるXOR演算を実施するようにさらに構成され、前記複数のディジットのうちの前記それぞれ一つは、前記書き込み動作の間に、前記複数のアドレスのうちの前記一つによって示されたメモリセルに格納される、
    ことを特徴とする請求項16に記載の装置。
  18. 前記装置はソリッドステートメモリデバイスを含む、
    ことを特徴とする請求項14に記載の装置。
  19. メモリデバイスを作動させる方法であって、前記方法は、
    オリジナルデータを受信するステップと、
    前記オリジナルデータを、ランダムに、もしくは擬似ランダムに、変更データへと変更するステップと、
    前記変更データを格納するステップと、
    を含み、
    前記オリジナルデータは、前記メモリブロックに格納されるデータパターンが、前記メモリブロックに前記オリジナルデータが格納されていたデータパターンとは異なるように変更される、
    ことを特徴とする方法。
  20. 前記オリジナルデータを変更するステップは、
    前記複数のメモリセルのうちの前記少なくとも幾つかを示す複数のアドレスを受信するステップと、
    前記複数のアドレスのそれぞれ一つに対してランダムビットを生成するステップと、
    を含む、
    ことを特徴とする請求項19に記載の方法。
  21. 前記データを変更するステップは、前記複数のアドレスのうちの一つに対して生成されたランダムビット、ならびに前記複数のアドレスのうちの前記一つによって示されたメモリセルに格納されたデータにおけるXOR演算を実施するステップと、それによって前記変更データを生成するステップとをさらに含む、
    ことを特徴とする請求項20に記載の方法。
  22. 前記変更データを格納するステップの後に、
    前記複数のアドレスのうちの前記一つによって示された前記メモリセルから前記変更データを読み出すステップと、
    前記複数のアドレスのうちの前記一つに対して生成された前記ランダムビット、ならびに前記メモリセルから読み出された前記変更データにおけるXOR演算を実施するステップと、それによって前記オリジナルデータを復元するステップと、
    前記復元されたオリジナルデータを出力するステップと、
    をさらに含む、
    ことを特徴とする請求項21に記載の方法。
  23. 前記変更するステップに関する情報を記憶装置に格納するステップをさらに含む、
    ことを特徴とする請求項20に記載の方法。
  24. 前記情報は、前記複数のアドレスに対して生成された前記複数のランダムビットを含む、
    ことを特徴とする請求項23に記載の方法。
  25. 消去動作の間、前記変更するステップを無効化するステップをさらに含む、
    ことを特徴とする請求項19に記載の方法。
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