JP5442030B2 - ワーク表面の異物研磨方法及び異物研磨装置 - Google Patents
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Description
供給リールから研磨テープを繰り出すと共に、巻取リールで巻き取りながら、該供給リールと巻取リールとの間の研磨テープを研磨ヘッドで押し付けてワーク表面の異物を研磨して修正するワーク表面の異物研磨方法を対象とする。
上記ワーク表面の欠陥を捕捉し、修正のための情報を作成する欠陥捕捉工程と、
上記情報を基に修正が必要な異物を選択する異物選択工程と、
上記選択された異物の中心である異物中心位置を特定し、該異物中心位置から、上記研磨テープの繰り出し方向と反対側へ上記研磨ヘッドの中心をずらす位置シフト工程とを含む構成とする。
上記研磨により発生した研磨物は、上記研磨テープに付着したまま上記巻取リールに巻き取られる構成とする。
ワークが載置されるワークステージと、
研磨テープが巻かれた供給リールと、
該研磨テープを巻き取る巻取リールと、
該供給リールと巻取リールとの間に配置され、該研磨テープを上記ワークに対して押し付ける研磨ヘッドと、
該研磨ヘッドを上記ワーク上の任意の位置に移動させる移動装置とを備えた異物研磨装置を対象とする。
上記ワーク表面の欠陥を捕捉し、修正のための情報を作成する欠陥捕捉機構と、
上記欠陥捕捉機構で得られた情報を基に修正が必要な異物を選択し、該選択された異物の中心である異物中心位置を特定し、該異物中心位置から、上記研磨テープの繰り出し方向と反対側へ上記移動装置により上記研磨ヘッドの中心をずらす制御装置とを備えている。
上記研磨テープは、弱粘着性の表層に研磨パウダーが仕込まれたものよりなり、研磨により発生した研磨物は、該研磨テープに付着したまま上記巻取リールに巻き取られるように構成されている。
次に、本実施形態にかかるワークW表面の異物研磨方法について説明する。ここでは、ワークWは、ポリイミド樹脂膜を形成後のアレイ基板とする。
本発明は、上記実施形態について、以下のような構成としてもよい。
3 ワークステージ
5 移動装置
8 研磨テープ
9 供給リール
10 巻取リール
12 研磨ヘッド
14 制御装置
16 欠陥捕捉機構
17 高さ測定機構
Claims (2)
- 供給リールから研磨テープを繰り出すと共に、巻取リールで巻き取りながら、該供給リールと巻取リールとの間の研磨テープを研磨ヘッドで押し付けてワーク表面の異物を研磨して修正するワーク表面の異物研磨方法であって、
上記ワーク表面の欠陥を捕捉し、修正のための情報を作成する欠陥捕捉工程と、
上記情報を基に修正が必要な異物を選択する異物選択工程と、
上記選択された異物の中心である異物中心位置を特定し、該異物中心位置から、上記研磨テープの繰り出し方向と反対側へ上記研磨ヘッドの中心をずらす位置シフト工程と、
上記研磨ヘッドの中心をずらした状態で上記異物を研磨する研磨修正工程とを含み、
上記研磨により発生した研磨物を上記研磨テープの弱粘着性の表層に付着させたまま上記巻取リールに巻き取る
ことを特徴とするワーク表面の異物研磨方法。 - ワークが載置されるワークステージと、
研磨テープが巻かれた供給リールと、
該研磨テープを巻き取る巻取リールと、
該供給リールと巻取リールとの間に配置され、該研磨テープを上記ワークに対して押し付ける研磨ヘッドと、
該研磨ヘッドを上記ワーク表面の任意の位置に移動させる移動装置とを備えたワーク表面の異物を研磨する異物研磨装置であって、
上記ワーク表面の欠陥を捕捉し、修正のための情報を作成する欠陥捕捉機構と、
上記欠陥捕捉機構で得られた情報を基に修正が必要な異物を選択し、該選択された異物の中心である異物中心位置を特定し、該異物中心位置から、上記研磨テープの繰り出し方向と反対側へ上記移動装置により上記研磨ヘッドの中心をずらす制御装置とを備え、
上記研磨テープは、弱粘着性の表層に研磨パウダーが仕込まれたものよりなり、研磨により発生した研磨物は、該研磨テープに付着したまま上記巻取リールに巻き取られるように構成されている
ことを特徴とする異物研磨装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011545053A JP5442030B2 (ja) | 2009-12-08 | 2010-11-09 | ワーク表面の異物研磨方法及び異物研磨装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009278360 | 2009-12-08 | ||
JP2009278360 | 2009-12-08 | ||
PCT/JP2010/006567 WO2011070717A1 (ja) | 2009-12-08 | 2010-11-09 | ワーク表面の異物研磨方法及び異物研磨装置 |
JP2011545053A JP5442030B2 (ja) | 2009-12-08 | 2010-11-09 | ワーク表面の異物研磨方法及び異物研磨装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011070717A1 JPWO2011070717A1 (ja) | 2013-04-22 |
JP5442030B2 true JP5442030B2 (ja) | 2014-03-12 |
Family
ID=44145284
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011545053A Expired - Fee Related JP5442030B2 (ja) | 2009-12-08 | 2010-11-09 | ワーク表面の異物研磨方法及び異物研磨装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5442030B2 (ja) |
CN (1) | CN102639295B (ja) |
WO (1) | WO2011070717A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110170922B (zh) * | 2019-06-03 | 2020-12-04 | 北京石油化工学院 | 自动化打磨方法、装置和设备 |
CN115741412A (zh) * | 2023-01-09 | 2023-03-07 | 中国建筑一局(集团)有限公司 | 一种建筑钢管的除锈装置 |
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JP2008213049A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | V Technology Co Ltd | 微小突起研磨装置 |
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JP2692035B2 (ja) | 1994-05-13 | 1997-12-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 薄膜の製造方法 |
JP3556769B2 (ja) | 1996-06-24 | 2004-08-25 | 大東精機株式会社 | H形鋼用研削工具 |
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JP4355406B2 (ja) | 1999-09-29 | 2009-11-04 | 富士フイルム株式会社 | 光学補償シートの製造方法 |
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JP2002179669A (ja) | 2000-12-14 | 2002-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学活性化合物、光反応型キラル剤、液晶組成物、液晶の捻れ構造を変化させる方法、液晶の螺旋構造を固定化する方法、液晶カラーフィルタ、光学フィルム及び記録媒体 |
JP2002179670A (ja) | 2000-12-14 | 2002-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学活性化合物、光反応型キラル剤、液晶組成物、液晶の螺旋構造を変化させる方法、液晶の螺旋構造を固定化する方法、液晶カラーフィルタ、光学フィルムおよび記録媒体 |
JP2002179681A (ja) | 2000-12-15 | 2002-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学活性化合物、光反応型キラル剤、液晶組成物、液晶カラーフィルタ、光学フィルム及び記録媒体、並びに液晶の螺旋構造を変化させる方法、液晶の螺旋構造を固定化する方法 |
JP2002179682A (ja) | 2000-12-15 | 2002-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学活性化合物、光反応型キラル剤、液晶組成物、液晶カラーフィルタ、光学フィルム及び記録媒体、並びに液晶の螺旋構造を変化させる方法、液晶の螺旋構造を固定化する方法 |
JP2002179668A (ja) | 2000-12-15 | 2002-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学活性化合物、液晶キラル剤、液晶組成物、液晶カラーフィルター、光学フイルム及び記録媒体 |
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JP4738034B2 (ja) | 2004-08-12 | 2011-08-03 | 富士フイルム株式会社 | 液晶性化合物、組成物および薄膜 |
JP4425167B2 (ja) | 2005-03-22 | 2010-03-03 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリア性フィルム、基材フィルムおよび有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2007030387A (ja) | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Fujifilm Corp | バリア性フィルム基板およびそれを用いた有機電界発光素子 |
-
2010
- 2010-11-09 JP JP2011545053A patent/JP5442030B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-11-09 CN CN201080053452.6A patent/CN102639295B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-11-09 WO PCT/JP2010/006567 patent/WO2011070717A1/ja active Application Filing
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008213049A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | V Technology Co Ltd | 微小突起研磨装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102639295B (zh) | 2015-04-29 |
WO2011070717A1 (ja) | 2011-06-16 |
JPWO2011070717A1 (ja) | 2013-04-22 |
CN102639295A (zh) | 2012-08-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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