JP4355406B2

JP4355406B2 - 光学補償シートの製造方法

Info

Publication number: JP4355406B2
Application number: JP27674099A
Authority: JP
Inventors: 秀幸西川; 憲河田
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1999-09-29
Filing date: 1999-09-29
Publication date: 2009-11-04
Anticipated expiration: 2019-09-29
Also published as: JP2001100028A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明支持体上にディスコティック液晶性分子から形成された光学的異方性層を有する光学補償シートの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は、液晶セル、二枚の偏光板、および液晶セルと二枚の偏光板との間に設けられる一枚または二枚の光学補償シート（位相差板）からなる。
液晶セルは、液晶分子、それを封入するための二枚の基板、および液晶分子に電圧を加えるための電極層からなる。
液晶表示装置では、液晶分子の複屈折性のため、表示画像がイエローグリーンまたはイエローに着色する。表示画像の着色は、白黒表示でもカラー表示でも不都合である。光学補償シートは、このような着色を解消して、明るい鮮明な画像を得るために用いられる。光学補償シートにはまた、液晶セルの視野角を拡大する機能を付与する場合もある。光学補償シートとしては、延伸複屈折フイルムが従来から使用されていた。
【０００３】
一方、延伸複屈折フイルムからなる光学補償シートに代えて、透明支持体上にディスコティック液晶性分子等の液晶性分子を含む光学的異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案され、既にディスコティック液晶性分子を含む光学的異方性層を有する光学補償シートは実用化されている。光学的異方性層は、ディスコティック液晶性分子を配向させ、その配向状態を固定することにより形成する。ディスコティック液晶性分子は、一般に大きな複屈折率を有する。そして、ディスコティック液晶性分子には、多様な配向形態がある。ディスコティック液晶性分子を用いることで、従来の延伸複屈折フイルムでは得ることができない光学的性質を有する光学補償シートを製造することが可能になる。ディスコティック液晶性分子を用いた光学補償シートについては、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。
【０００４】
特開平７−３０６３１７号公報および特開平９−１０４８６６号公報には、光学補償シートに必要とされる良好なドメイン合一性を有するトリフェニレン系ディスコティック液晶性分子として、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ［４−（４−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ］トリフェニレンが開示されている。
【０００５】
一方、光学補償シートの面内レターデーション（△ｎｄ）は、補償しようとする液晶セルに合わせる必要がある。面内レターデーション（△ｎｄ）は、光学的異方性層の屈折率異方性（△ｎ；ディスコティック液晶性分子の長軸の屈折率と短軸の屈折率との差）と膜厚（ｄ）との積で表される。しかし、光学補償シートを形成する光学的異方性層の屈折率異方性（△ｎ）が小さい場合、膜厚は非常に厚くなり、現行技術でこの膜厚を達成することは困難である。よって、大きな屈折率異方性が求められることになる。屈折率異方性が大きければ、膜厚は薄くて足りる。膜厚が薄いほど、光学補償シートに適した分子配向状態を得ることができ、また光学的異方性層を形成するディスコティック液晶性分子の使用量を抑えることができる。
【０００６】
しかし、特開平７−３０６３１７号公報等に記載のトリフェニレン系ディスコティック液晶性分子から形成される光学的異方性層の屈折率異方性は、必ずしも充分に大きな値を有するとは言い難い。
【０００７】
本発明者は、より大きな屈折率異方性を発現するディスコティック液晶性分子として、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ［４−（４−アクリロイルオキシブチルオキシ）シンナモイルオキシ）トリフェニレンを見出しているが、後に、当該液晶性分子は、光重合の際にトランス体からシス体への異性化反応を起こすという問題点を有することが分かった。このことは、側鎖にシンナモイル基を有するディスコティック液晶性分子から形成された塗布膜に光照射を行うと、光学的な異方性を消失することを表す。
【０００８】
しかし、側鎖にシンナモイル基を有するディスコティック液晶性分子は、大きな屈折率異方性を有するだけでなく、簡便なルートによって合成できる点で非常に魅力的な化合物である。そこで、光学的な異方性を保持したまま、当該液晶性分子の配向を固定することが可能な光重合の方法が開発できれば、その価値は大きい。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、側鎖にシンナモイル基を有するディスコティック液晶性分子から形成された光学的異方性層の光重合反応時に、シンナモイル基の光反応を抑え、光学的異方性を保持したまま、該ディスコティック液晶性分子の配向を固定することが可能な光学補償シートの製造方法を提供することを、その課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下に述べる光学補償シートの製造方法を提供する。
【００１１】
本発明は、透明支持体上に、後述する一般式（Ｉ）で表されるディスコティック液晶性分子および該液晶性分子の紫外線極大吸収波長と１５ｎｍ以上異なる紫外線極大吸収波長を有する光重合開始剤を含む塗布層を形成し、配向処理して配向液晶性分子層とした後、該液晶性分子の紫外線極大吸収波長における紫外線の透過率が５０％以下で、該光重合開始剤の紫外線極大吸収波長における紫外線の透過率が７０％以上である紫外線用フィルターを介して該配向液晶性分子層に紫外線を照射して重合させることによって、配向状態を保持させながら該液晶性分子の配向を固定して光学的異方性層を形成することからなる光学補償シートの製造方法にある。
【００１３】
本発明の方法の好ましい態様は以下の通りである。
（１）該液晶性分子の紫外線極大吸収波長が３００乃至３２０ｎｍの範囲であり、該光重合開始剤の紫外線極大吸収波長が３３０乃至４００ｎｍの範囲であることを特徴とする光学補償シートの製造方法。
（２）光重合開始剤が、３３０乃至４００ｎｍの波長の範囲の紫外線に対するモル吸光係数が５０乃至５０００００の範囲にある光重合開始剤であることを特徴とする光学補償シートの製造方法。
（３）２００乃至３２０ｎｍの波長の範囲、３２５乃至３４０ｎｍの波長の範囲および３６０乃至５００ｎｍの波長の範囲における紫外線の透過率が、それぞれ、０％、５０％以下、５０％以上である紫外線用フィルターを用いて、紫外線照射を行うことを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【００１６】
【発明の実施の形態】
［光学補償シートの製造方法］
本発明の光学補償シートは、図１（本発明の代表的なＳＴＮ型液晶表示装置の特徴的な構成部分を示す図）に示すように、透明支持体（２３）上に、後述する一般式（Ｉ）のディスコティック液晶性分子（２１ａ〜２１ｅ）から形成された光学的異方性層を有する光学補償シートである。
光学的異方性層は、ディスコティック液晶性分子を含む塗布液を透明支持体上に塗布し（好ましくは、垂直配向膜（２２）上に塗布する）、塗布層を形成し、配向処理して配向液晶性分子層とした後、該配向液晶性分子層に紫外線を照射して重合させることによって、配向状態を保持させながら該液晶性分子の配向を固定して形成する。
以下、特に断らない場合を除いて、ディスコティック液晶性分子は、一般式（Ｉ）で表されるディスコティック液晶性分子を意味する。
【００１７】
固定化は、一般式（Ｉ）で表されるディスコティック液晶性分子に導入した重合性基の重合反応により実施することが好ましい。重合は、紫外線を照射して、光重合反応によって行う。そのため、ディスコティック液晶性分子を含む塗布液中には、光重合開始剤を含む。しかし、該ディスコティック液晶性分子の側鎖に含まれるシンナモイル基は、光線に対して活性であるため、通常の光重合の条件下では、該ディスコティック液晶性分子の副反応を伴う結果、光学的に異方性のある膜は作製し難い。本発明では、上記の問題を解決するべく、以下の二つの方法、
［１］光重合開始剤の紫外線極大吸収波長とディスコティック液晶性分子の紫外線極大吸収波長との差が１５ｎｍ以上である光重合開始剤を使用して、光重合開始剤の紫外線極大吸収波長に該当する紫外線を選択的に照射する方法、
［２］紫外線の照射を、ディスコティック液晶性分子の結晶相が等方性液体に転移する温度より１０℃以上低い温度にて実施する方法、
によって光学補償シートを作製する。
【００１８】
以下、上記の方法をこの順に分説する。
【００１９】
［１］特定の光重合開始剤を用いる方法
シンナモイル基以外の側鎖を有するディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
光重合開始剤の例としては、一般的には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）を挙げることができる。
【００２０】
ディスコティック液晶性分子の紫外線吸収波長は、側鎖のシンナモイル基に由来し、ほとんどのディスコティック液晶性分子の紫外線極吸収波長は、３００乃至３２０ｎｍの範囲にある。従って、本発明で好ましく用いられる光重合開始剤としては、光重合開始剤の紫外線極大吸収波長がこの範囲に存在しないものを用いる。即ち、光重合開始剤としては、光重合開始剤の紫外線極大吸収波長がこの範囲と１５ｎｍ以上異なるものを用いることが好ましく、２０ｎｍ以上異なるものを用いることが特に好ましい。
【００２１】
上記の光重合開始剤としては、３３０乃至４００ｎｍの波長の範囲（好ましくは、３５０乃至４００ｎｍの波長の範囲）の紫外線に対するモル吸光係数（ε）が５０乃至５０００００の範囲（好ましくは、１００乃至３０００００の範囲）にあるものを用いることが特に好ましい。即ち、光重合開始剤の紫外線主吸収あるいは副吸収の何れが、３３０乃至４００ｎｍの波長の範囲に存在していてもよい。
【００２２】
以下に、本発明で特に好ましく用いられる光重合開始剤を示す。
【００２３】
【化３】

【００２４】
【化４】

【００２５】
【化５】

【００２６】
【化６】

【００２７】
【化７】

【００２８】
【化８】

【００２９】
【化９】

【００３０】
【化１０】

【００３１】
【化１１】

【００３２】
【化１２】

【００３３】
【化１３】

【００３４】
【化１４】

【００３５】
【化１５】

【００３６】
重合用の光線としては、紫外線を用いる。紫外線による光重合開始剤を用いるラジカル重合やカチオン重合は、一般的に極めて重合速度が大きく、製造工程における生産性の点で好ましい。ラジカル光源としては、低圧水銀ランプ、高圧放電ランプあるいはショートアーク放電ランプを用いることが好ましく、高圧放電ランプを用いることが特に好ましい。
【００３７】
高圧放電ランプを用いて光重合を行う場合には、３５０乃至４００ｎｍの波長の範囲の紫外線に対する（主吸収あるいは副吸収の）モル吸光係数（ε）が５０乃至５０００００の範囲にある光重合開始剤を用いることが好ましく、３３０ｎｍ乃至４００ｎｍの波長の範囲の紫外線に対するモル吸光係数（ε）が５０乃至３０００００の範囲にある光重合開始剤を用いることが特に好ましい。
【００３８】
光重合開始剤の使用量は、ディスコティック液晶性分子を含む塗布液の固形分の０．０１乃至２０重量％の範囲にあることが好ましく、０．５乃至５重量％の範囲にあることが特に好ましい。
ディスコティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましいが、その照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²乃至５０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００乃至２０００ｍＪ／ｃｍ²であることが特に好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００３９】
紫外線照射の際に、特定の範囲の波長の紫外線を選択的に透過あるいは除去、または紫外線の強度を一様に下げる機能を有する紫外線用フィルターを用いてもよい。
【００４０】
紫外線用フィルターは、紫外線の透過率が２００乃至３２０ｎｍの波長の範囲において０％、３２５乃至３４０ｎｍの波長の範囲において５０％以下、かつ３６０乃至５００ｎｍの波長の範囲において５０％以上であるものを用いることが好ましく、紫外線の透過率が２８０乃至３２０ｎｍの波長の範囲において０％、かつ３６０乃至５００ｎｍの波長の範囲において７０％以上であるものを用いることが特に好ましい。即ち、光重合反応を効率的に行うには、３６０乃至５００ｎｍの波長の範囲における紫外線の透過が重要である。
このような性質を有する紫外線用フィルターとしては、化学フィルター（溶液フィルター）、ガラスフィルターおよび干渉フィルターを挙げることができるが、ガラスフィルターを用いることが特に好ましい。ガラスフィルターの材質としては、シリカゲル、ソーダ石灰、石英、バイコール、コーニング社製ガラスあるいはパイレックスを用いることが好ましい。ラジカル光源として、低圧水銀灯を用いる場合には、ソーダ石灰、石英あるいはバイコール（特に好ましくは、ソーダ石灰）を、高圧水銀灯を用いる場合には、パイレックスを用いることが好ましい。
【００４１】
［２］特定の温度下での紫外線照射による方法
紫外線照射は、ディスコティック液晶性分子および光重合性開始剤を含む塗布液を透明支持体上（好ましくは、透明支持体上に有する垂直配向膜上）に塗布し、形成した塗布層を配向処理して配向液晶性分子層とし、配向液晶性分子層のディスコティック液晶性分子がディスコティックネマティック（Ｎ_Ｄ）相から等方性液体に転移する温度（以下、「Ｔ_Ｎ−１点」という）よりも、１０℃低い温度乃至２５０℃の範囲にて、配向液晶性分子層を加熱しながら行うことが好ましい（配向液晶性分子層そのものの温度を、Ｔ_Ｎ−１点よりも１０℃低い温度乃至２００℃の範囲に設定して行うことが特に好ましい）。
ディスコティック液晶性分子は、塗布層を昇温して配向液晶性分子層にするに伴い、結晶相からディスコティックネマティック（Ｎ_Ｄ）相に転移するが、その温度を「Ｔ_Ｎ点」とすると、Ｔ_Ｎ点乃至Ｔ_Ｎ点よりもさらに２０℃高い温度の範囲にて紫外線照射を行うことがさらに好ましい。Ｔ_Ｎ点よりも低い温度にて、紫外線照射を行うことが特に好ましい。Ｔ_Ｎ点よりも低い温度の場合には、配向液晶性分子層のディスコティック液晶性分子はガラス状態を呈している。ガラス状態では、光学的な異方性を消失する原因となるディスコティック液晶性分子の光反応が抑えられるからである。
【００４２】
上記記載の［１］および［２］の方法は、併用してもよい。併用することによって、製造された光学補償シートの光学的異方性層の屈折率異方性（△ｎ）は、大きくなる。本発明の光学補償シートは、ＳＴＮ型液晶セルを用いる液晶表示装置において特に有効である。
【００４３】
［光学的異方性層］
配向液晶性分子層には、下記一般式（I）で表されるディスコティック液晶性分子（トリフェニレン環の側鎖Ｒが結合してなる液晶性分子）を含む。
【００４４】
【化１６】

【００４５】
上記式中、Ａ¹は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１乃至１２のアルキル基、および炭素原子数が１乃至１２のアルコキシ基からなる群より選ばれる原子もしくは基を表す。Ａ²は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１乃至１２のアルキル基、および炭素原子数が１乃至１２のアルコキシ基からなる群より選ばれる原子もしくは基を表す。Ａ¹およびＡ²は、互いに独立に、水素原子、メチル基、エチル基もしくはメトキシ基であることが好ましい。
【００４６】
Ｚは、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等）、炭素原子数が１乃至１２のアルキル基、炭素原子数が１乃至１２のアルコキシ基、炭素原子数が２乃至１３のアシル基、炭素原子数が２乃至１２のアルキルアミノ基および炭素原子数が２乃至１３のアシルオキシ基からなる群より選ばれる原子もしくは基を表す。
炭素原子数が１乃至１２のアルキル基としては、炭素原子数が１乃至８のアルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ペンチル基もしくはｎ−ヘプチル基であることが特に好ましい。
炭素原子数が１乃至１２のアルコキシ基としては、メチル基、２−メトキシエトキシ基もしくはビニルオキシ基であることが好ましい。
炭素原子数が２乃至１３のアシル基としては、アセチル基であることが好ましい。
炭素原子数が２乃至１２のアルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基もしくはジメチルアミノ基であることが好ましく、ジメチルアミノ基であることが特に好ましい。
炭素原子数が２乃至１３のアシルオキシ基としては、アセチルオキシ基もしくはアクリロイル基であることが特に好ましい。
【００４７】
トリフェニレンに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、トリフェニレンと重合性基との間に連結基Ｌを導入する。
Ｌは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。Ｌは、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることが好ましく、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることが特に好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましい。アルキニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６乃至１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基およびアリーレン基は、置換基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基）を有していてもよい。
【００４８】
Ｌの例を以下に示す。左側がフェニル基の置換基として何れかの炭素原子に結合し、右側が後述する重合性基（Ｑ）に結合する。ＡＬはアルキレン基、アルケニレン基もしくはアルキニレン基を意味し、ＡＲはアリーレン基を意味する。
【００４９】
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ10：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ11：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ12：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ13：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
【００５０】
Ｌ14：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ15：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ16：−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ17：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ18：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ19：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ20：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ21：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ22：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ23：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ24：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ25：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【００５１】
ＡＬ（アルキレン基、アルケニレン基もしくはアルキニレン基）に、不斉炭素原子を導入すると、ディスコティック液晶性分子を螺旋状にねじれ配向させることができる。不斉炭素原子を含むＡＬ＊の例を以下に挙げる。左側がトリフェニレン環側であり、右側が重合性基（Ｑ）側である。＊印を付けた炭素原子が不斉炭素原子である。光学活性は、ＳとＲのいずれでもよい。
【００５２】
ＡＬ＊１：−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊２：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊３：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊４：−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊５：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂−
ＡＬ＊６：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−
ＡＬ＊７：−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊８：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊９：−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊10：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂−
ＡＬ＊11：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−
ＡＬ＊12：−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊13：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊14：−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂−
ＡＬ＊15：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−
【００５３】
ＡＬ＊16：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−
ＡＬ＊17：−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂−
ＡＬ＊18：−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊19：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊20：−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊21：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊22：−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊23：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊24：−ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊25：−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊26：−Ｃ＊ＨＣＨ₃−（ＣＨ₂）₈−
ＡＬ＊27：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₃−（ＣＨ₂）₈−
ＡＬ＊28：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₂ＣＨ₃−
ＡＬ＊29：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₂ＣＨ₃−ＣＨ₂−
ＡＬ＊30：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₂ＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂−
【００５４】
ＡＬ＊31：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＨ₂ＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊32：−ＣＨ₂−Ｃ＊Ｈ（ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）−ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊33：−ＣＨ₂−Ｃ＊Ｈ（ｎ−Ｃ₃Ｈ₇）−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊34：−ＣＨ₂−Ｃ＊Ｈ（ＯＣＯＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊35：−ＣＨ₂−Ｃ＊Ｈ（ＯＣＯＣＨ₃）−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊36：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＦ−ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊37：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＦ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊38：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣｌ−ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊39：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣｌ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊40：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＯＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊41：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＯＣＨ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊42：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＮ−ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊43：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＮ−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊44：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＦ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂−
ＡＬ＊45：−ＣＨ₂−Ｃ＊ＨＣＦ₃−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−
【００５５】
Ｑは、重合性基を表す。Ｑの例を以下に示す。
【００５６】
【化１７】

【００５７】
Ｑは、不飽和重合性基（Ｑ１〜Ｑ７）、エポキシ基（Ｑ８）またはアジリジニル基（Ｑ９）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｑ１〜Ｑ６）であることが最も好ましい。なお、複数のＬとＱの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。二種類以上のディスコティック液晶性分子を併用してもよい。例えば、二価の連結基に不斉炭素原子を有する分子と有していない分子を併用することができる。また、重合性基を有している分子と有していない分子とを併用してもよい。不斉炭素原子を有し重合性基を有していない分子と、重合性基を有し不斉炭素原子を有していない分子とを併用することが特に好ましい。この場合は、重合性基を有し不斉炭素原子を有していない分子のみがディスコティック液晶性分子として機能し、不斉炭素原子を有し重合性基を有していない分子はカイラル剤として機能していると考えることもできる。
【００５８】
ａは、１乃至５の整数（好ましくは、１）を表し、ｂは、０乃至４の整数を表す。但し、ａとｂとの和は、１乃至５の整数である。
【００５９】
好ましいディスコティック液晶性分子の具体例を以下に示す。但し、ｎは、ディスコティック液晶性分子（Ｔ１）において０乃至１５の整数を、ディスコティック液晶性分子（Ｔ２）乃至（Ｔ７）において０乃至１２の整数を、ディスコティック液晶性分子（Ｔ８）において０乃至４の整数を、ディスコティック液晶性分子（Ｔ１３）において４乃至８の整数をそれぞれ表す。Ｘは、重合性基（Ｑ８）、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ₂、−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（ＣＨ₃）＝ＣＨ₂および−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ₂を表す。ディスコティック液晶性分子（Ｔ８）乃至（Ｔ２１）において、側鎖Ｒが結合する円盤状コアは、下記式で表されるトリフェニレンである。
【００６０】
【化１８】

【００６１】
【化１９】

【００６２】
【化２０】

【００６３】
【化２１】

【００６４】
【化２２】

【００６５】
【化２３】

【００６６】
Ｒ¹¹およびＲ¹²は、それぞれ一般式（I)のＡ¹、Ａ²と同様であり、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、何れもＺと同様である。
【００６７】
【化２４】

【００６８】
ディスコティック液晶性分子を含む配向液晶性分子層は、後述する垂直配向膜を用いて、ディスコティック液晶性分子を配向させて得られる。配向の態様は、ディスコティック液晶性分子の円盤面（トリフェニレン）を、垂直配向膜に対して実質的に垂直（５０乃至９０度の範囲の平均傾斜角）に配向させたものであることが好ましい。ディスコティック液晶性分子は、垂直配向状態のまま、配向液晶性分子層光学的異方性層内で固定され、光学的異方性層を形成することが好ましい。
【００６９】
配向液晶性分子層には、ディスコティック液晶性分子の実質的な垂直（ホモジニアス）かつ均一な配向のため、含フッ素界面活性剤またはセルロースエステルを添加することも好ましい。
【００７０】
含フッ素界面活性剤は、フッ素原子を含む疎水性基、ノニオン性、アニオン性、カチオン性あるいは両性の親水性基および任意に設けられる連結基からなる。一つの疎水性基と一つの親水性基からなる含フッ素界面活性剤は、下記式で表わされる。
Ｒｆ−Ｌ⁵ −Ｈｙ
式中、Ｒｆは、フッ素原子で置換された一価の炭化水素基であり、Ｌ⁵ は、単結合または二価の連結基であり、そして、Ｈｙは親水性基である。
上記のＲｆは、疎水性基として機能する。炭化水素基は、アルキル基またはアリール基であることが好ましい。アルキル基の炭素原子数は３乃至３０であることが好ましく、アリール基の炭素原子数は６乃至３０であることが好ましい。
炭化水素基に含まれる水素原子の一部または全部は、フッ素原子で置換されている。フッ素原子で、炭化水素基に含まれる水素原子の５０％以上を置換することが好ましく、６０％以上を置換することがより好ましく、７０％以上を置換することがさらに好ましく、８０％以上を置換することが最も好ましい。残りの水素原子は、さらに他のハロゲン原子（例、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）で置換されていてもよい。
含フッ素界面活性剤は、ディスコティック液晶性分子の量の０．０１乃至３０重量％の範囲であることが好ましく、０．０５乃至１０重量％であることがさらに好ましく、０．１乃至５重量％であることがさらに好ましい。
【００７１】
セルロースエステルとしては、セルロースの低級脂肪酸エステルを用いることが好ましい。
セルロースの低級脂肪酸エステルにおける「低級脂肪酸」とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２乃至５であることが好ましく、２乃至４であることがさらに好ましい。脂肪酸には置換基（例、ヒドロキシ）が結合していてもよい。二種類以上の脂肪酸がセルロースとエステルを形成していてもよい。セルロースの低級脂肪酸エステルの例には、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースヒドロキシプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネートおよびセルロースアセテートブチレートが含まれる。セルロースアセテートブチレートが特に好ましい。セルロースアセテートブチレートのブチリル化度は、３０％以上であることが好ましく、３０乃至８０％であることがさらに好ましい。セルロースアセテートブチレートのアセチル化度は、３０％以下であることが好ましく、１乃至３０％であることがさらに好ましい。
セルロースエステルは、０．００５乃至０．５ｇ／ｍ²の範囲の量で使用することが好ましく、０．０１乃至０．４５ｇ／ｍ²の範囲であることがより好ましく、０．０２乃至０．４／ｍ²の範囲であることがさらに好ましく、０．０３乃至０．３５／ｍ²の範囲であることが最も好ましい。また、ディスコティック液晶性分子の量の０．１乃至５重量％の量で使用することも好ましい。
【００７２】
ディスコティック液晶性分子、重合開始剤および必要に応じて他の添加剤を含む塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００７３】
塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法）により実施できる。
【００７４】
光学的異方性層の厚さは、０．１乃至５０μｍであることが好ましく、１乃至３０μｍであることがさらに好ましく、５乃至２０μｍであることが最も好ましい。なお、液晶表示装置に光学補償シートを二枚用いる場合は、一枚使用する場合に必要とされる光学的異方性層の厚さ（上記の好ましい範囲）の半分の厚さでよい。
【００７５】
光学的異方性層内のディスコティック液晶性分子の平均傾斜角度は、５０乃至９０度である。傾斜角度は、なるべく均一であることが好ましい。ただし、傾斜角度が光学的異方性層の厚み方向に沿って連続して変化しているならば、若干の変動があっても問題ない。
【００７６】
ディスコティック液晶性分子のねじれの角度（ツイスト角）は、ＳＴＮ型液晶セルのツイスト角（一般に１８０乃至３６０度、好ましくは１８０度を越えて２７０度まで）に応じて、類似（なるべく±１０度以内）の角度となるように調整することが好ましい。液晶表示装置に光学補償シートを一枚用いる場合は、ディスコティック液晶性分子のねじれ角は、１８０乃至３６０度の範囲であることが好ましい。液晶表示装置に光学補償シートを二枚用いる場合は、ディスコティック液晶性分子のねじれ角は、９０乃至１８０度の範囲であることが好ましい。
光学補償シートをＳＴＮ型液晶表示装置に用いる場合、光学的異方性層の複屈折率の波長依存性（Δｎ（λ））は、ＳＴＮ型液晶セルの液晶の複屈折率の波長依存性に近い値であることが好ましい。
【００７７】
［垂直配向膜］
本発明者の研究によれば、ディスコティック液晶性分子を実質的に垂直に配向させるためには、配向膜に含まれるポリマーの主鎖よりも側鎖の機能が重要である。具体的には、ポリマーの官能基により配向膜の表面エネルギーを低下させ、これにより液晶性分子を立てた状態にする。配向膜の表面エネルギーを低下させる官能基としては、炭素原子数が１０乃至１００の炭化水素基が有効である。炭化水素基を配向膜の表面に存在させるために、ポリマーの主鎖ではなく側鎖に導入する。
炭化水素基は、脂肪族基、芳香族環基、芳香族性複素環基またはそれらの組み合わせである。脂肪族基は、環状、分岐状あるいは直鎖状のいずれでもよい。脂肪族基は、アルキル基（シクロアルキル基であってもよい）またはアルケニル基（シクロアルケニル基であってもよい）であることが好ましい。芳香族環および芳香族性複素環は、置換基を有していてもよい。芳香族環としては、ベンゼン環であることが好ましい。芳香族性複素環は、一般に五員または六員の不飽和複素環である。炭化水素基の炭素原子数は、１０乃至１００であることが好ましく、１０乃至６０であることがさらに好ましく、１０乃至４０であることが最も好ましい。
置換基としては、ハロゲン原子、カルボキシル、シアノ、ニトロ、カルバモイル、スルファモイル、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アルキル置換カルバモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アミド基、スルホンアミド基およびアルキルスルホニル基が含まれる。
【００７８】
炭化水素基は、ステロイド基を有することが好ましい。ステロイド基には、上記の配向膜の表面エネルギーを低下させる機能に加えて、排除体積効果もある。排除体積効果を配向膜に付与すると、表面エネルギーの低下効果と相乗して、液晶性分子を立てた状態にする。ステロイド基を有する炭化水素基の炭素原子数は、１８乃至１００であることが好ましく、１９乃至６０であることがさらに好ましく、２０乃至４０であることが最も好ましい。
炭化水素基は、芳香族環を２乃至４個有することも好ましく、ビフェニル基あるいはトラン基を有することが特に好ましい。
炭化水素基は、フッ素原子置換炭化水素基を有することも好ましい。フッ素原子置換炭化水素基は、フッ素原子で置換された脂肪族基、芳香族基またはそれらの組み合わせである。好ましいは脂肪族基および芳香族基は、上記と同様である。フッ素原子置換炭化水素基の炭素原子数は、１乃至１００であることが好ましく、１０乃至６０であることがさらに好ましく、１０乃至４０であることが最も好ましい。
【００７９】
ポリマーの主鎖は、ポリイミド構造（ポリアミック酸を含む）、変性ポリビニルアルコール、またはポリアクリル酸共重合体（ポリメタクリル酸共重合体を含む）であることが好ましく、変性ポリビニルアルコール、またはポリアクリル酸共重合体（ポリメタクリル酸共重合体を含む）であることが特に好ましい。ポリミドは、一般に、テトラカルボン酸とジアミンとの縮合反応により合成する。二種類以上のテトラカルボン酸あるいは二種類以上のジアミンを用いて、コポリマーに相当するポリイミドを合成してもよい。
【００８０】
以下、変性ポリビニルアルコールおよびポリアクリル酸共重合体についてこの順に説明する。
【００８１】
炭化水素基を有する変性ポリビニルアルコールは、炭素原子数が１０乃至１００の炭化水素基を有する繰り返し単位を２乃至８０モル％の範囲で含むことが好ましく、３乃至７０モル％の範囲で含むことが特に好ましい。
好ましい炭化水素変性ポリビニルアルコールを、下記式（ＰＶｃ）表す。
（ＰＶｃ） −（ＶＡｌ）ｘ−（ＨｙＣ）ｙ−（ＶＡｃ）ｚ−
式中、ＶＡｌは、ビニルアルコール繰り返し単位であり；ＨｙＣは、炭素原子数が１０乃至１００の炭化水素基を有する繰り返し単位であり；ＶＡｃは、酢酸ビニル繰り返し単位であり；ｘは、２０乃至９５モル％（好ましくは２５乃至９０モル％）であり；ｙは、２乃至８０モル％（好ましくは３乃至７０モル％）であり；そして、ｚは、０乃至３０モル％（好ましくは２乃至２０モル％）である。
好ましい炭素原子数が１０乃至１００の炭化水素基を有する繰り返し単位（ＨｙＣ）を、下記式(II）（ＨｙＣ−Ｉ）および(III）（ＨｙＣ−II）で表す。
【００８２】
【化２５】

【００８３】
式中、Ｌ¹は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。Ｌ²は、単結合あるいは−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ、炭素原子数が１０乃至１００の炭化水素基（ステロイド基、フッ素置換炭化水素基、ビフェニル基あるいはトラン基であることが好ましく、ステロイド基、ビフェニル基あるいはトラン基であることがさらに好ましく、ビフェニル基あるいはトラン基であることが特に好ましい）である。
【００８４】
上記アルキレン基は、分岐または環状構造を有していてもよい。アルキレン基の炭素原子数は、１乃至３０であることが好ましく、１乃至１５であることがさらに好ましく、１乃至１２であることが最も好ましい。
上記アリーレン基は、フェニレンまたはナフチレンであることが好ましく、フェニレンであることがさらに好ましく、ｐ−フェニレンであることが最も好ましい。アリーレン基は、置換基を有していてもよい。アリーレン基の置換基の例には、ハロゲン原子、カルボキシル、シアノ、ニトロ、カルバモイル、スルファモイル、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アルキル置換カルバモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アミド基、スルホンアミド基およびアルキルスルホニル基が含まれる
【００８５】
炭化水素変性ポリビニルアルコールの末端に、繰り返し単位とは異なる基が結合していてもよい。末端基の例には、アルキルチオ基が含まれる。前記［光学的異方性層］で説明した重合性基を変性ポリビニルアルコールに導入してもよい。重合性基を有する変性ポリビニルアルコールと重合性基を有するディスコティック液晶性分子とを併用すると、変性ポリビニルアルコールとディスコティック液晶性分子とを、液晶層と配向膜との界面を介して化学的に結合させることができる。これにより、配向膜を用いた液晶素子の耐久性を改善することができる。
【００８６】
変性ポリビニルアルコールの重合度は、２００乃至５０００であることが好ましく、３００乃至３０００であることが特に好ましい。変性ポリビニルアルコールの分子量は、９０００乃至２０００００であることが好ましく、１３０００乃至１３００００であることが特に好ましい。二種類以上の変性ポリビニルアルコールを併用してもよい。変性ポリビニルアルコールを架橋させて使用することもできる。
【００８７】
炭化水素基を含むポリアクリル酸共重合体（またはポリメタクリル酸共重合体）は、下記式（IV）で表される。
【００８８】
【化２６】

【００８９】
上記式中、Ｒ²¹は、水素原子もしくはメチル基を表す（Ｒ²¹がＨのときは、ポリアクリル酸共重合体を、Ｒ²¹がメチル基のときは、ポリメタクリル酸共重合体を表す）。Ｒ²²は、水素原子、ハロゲン原子および炭素原子数１乃至６のアルキル基からなる群より選ばれる原子もしくは基を表す。炭素原子数１乃至６のアルキル基としては、メチル基であることが特に好ましい。
【００９０】
Ｌ⁰は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。上記アルケニレン基は、分岐または環状構造を有していてもよい。アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至３０であることが好ましく、２乃至１６であることがさらに好ましく、２乃至４であることが最も好ましい。上記アルキレン基、上記アリーレン基、およびそのアリーレン基が有する置換基については、変性ポリビニルアルコールで説明したものと同様である。
【００９１】
Ｒ⁰は、炭素原子数が１０乃至１００の炭化水素基を表す。炭化水素基は、脂肪族基、芳香族環基、芳香族性複素環基またはそれらの組み合わせである。
【００９２】
Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子および置換基を有していてもよいアンモニウム基からなる群より選ばれる原子もしくは基を表す。ＣＯＯＭ基がこのような親水性基であることによって、ポリアクリル酸共重合体（あるいはポリメタクリル酸共重合体）は水溶性を示し、水性溶媒を用いて配向膜を形成することが可能となる。
【００９３】
ｃは、１０乃至９５モル％（好ましくは、２０乃至９０モル％であり、特に好ましくは２５乃至９０モル％）である。ｄは、５乃至９０モル％（好ましくは、１０乃至８０モル％であり、特に好ましくは１０乃至７０モル％）である。
【００９４】
前記［光学的異方性層］で説明した重合性基をポリアクリル酸共重合体（またはポリメタクリル酸共重合体）に導入してもよい。重合性基を有するポリアクリル酸共重合体（またはポリメタクリル酸共重合体）と重合性基を有する液晶性分子とを併用すると、ポリアクリル酸共重合体（またはポリメタクリル酸共重合体）と液晶性分子とを、液晶層と配向膜との界面を介して化学的に結合させることができる。重合性基は、側鎖に重合性基を有する繰り返し単位としてポリアクリル酸共重合体（またはポリメタクリル酸共重合体）に導入するか、あるいは、前記の炭化水素基を有する繰り返し単位またはフッ素原子を含む繰り返し単位に重合性基を導入する。
【００９５】
ポリアクリル酸共重合体（またはポリメタクリル酸共重合体）を架橋させて使用することもできる。架橋反応は、配向膜の塗布液の塗布と同時または塗布後に実施することが好ましい。架橋剤については、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」（大成社）に詳細が記載されている。架橋剤の使用量は、配向膜の塗布量の０．１乃至２０重量％であることが好ましく、０．５乃至１５重量％であることがさらに好ましい。なお、未反応のまま配向膜中に残存する架橋剤の量は、配向膜の塗布量の１．０重量％以下であることが好ましく、０．５重量％以下であることがさらに好ましい。
【００９６】
配向膜の厚さは、０．１乃至１０μｍであることが好ましい。配向膜の形成において、ラビング処理を実施することが好ましい。ラビング処理は、上記のポリアクリル酸共重合体（またはポリメタクリル酸共重合体）を含む膜の表面を、紙や布で一定方向に、数回こすることにより実施する。
配向膜を用いて液晶性分子を実質的に垂直に配向させてから、その配向状態のまま液晶性分子を固定して光学的異方性層を形成し、光学的異方性層を透明支持体上に転写してもよい。配向状態で固定された液晶性分子は、配向膜がなくても配向状態を維持することができる。
【００９７】
［透明支持体］
光学補償シートの透明支持体としては、光学的異方性が小さいポリマーフイルムを用いることが好ましい。支持体が透明であるとは、光透過率が８０％以上であることを意味する。光学的異方性が小さいとは、具体的には、面内レターデーション（Ｒｅ）が２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、５ｎｍ以下であることが最も好ましい。また、厚み方向のレターデーション（Ｒth）は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、３０ｎｍ以下であることが最も好ましい。面内レターデーション（Ｒｅ）と厚み方向のレターデーション（Ｒth）は、それぞれ下記式で定義される。
Ｒｅ＝（ｎｘ¹−ｎｙ¹）×ｄ¹
Ｒth＝［｛（ｎｘ¹＋ｎｙ¹）／２｝−ｎｚ¹］×ｄ¹
式中、ｎｘ¹およびｎｙ¹は、透明支持体の面内屈折率であり、ｎｚ¹は透明支持体の厚み方向の屈折率であり、そしてｄ¹は透明支持体の厚さである。
【００９８】
ポリマーの例には、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレートが含まれる。セルロースエステルが好ましく、アセチルセルロースがさらに好ましく、トリアセチルセルロースが最も好ましい。ポリマーフイルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。
【００９９】
透明支持体の厚さは、２０乃至５００μｍであることが好ましく、５０乃至２００μｍであることがさらに好ましい。
透明支持体とその上に設けられる層（接着層、配向膜あるいは光学的異方性層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。透明支持体の上に、接着層（下塗り層）を設けてもよい。
【０１００】
［液晶表示装置］
図１は、本発明の代表的なＳＴＮ型液晶表示装置の特徴的な構成部分を示す図であり、ＳＴＮ型液晶表示装置の電圧無印加（オフ）の画素部分における液晶セル内の棒状液晶性分子の配向状態と光学的異方性層内のディスコティック液晶性分子の配向状態とを模式的に示している。
【０１０１】
図１に示すように、液晶セルは、上基板（１１）の下側の配向膜（１２）と下基板（１５）の上側の配向膜（１４）との間に、棒状液晶性分子（１３ａ〜１３ｅ）を封入して形成した液晶層を有する。配向膜（１２、１４）と液晶層に添加したカイラル剤との機能により、棒状液晶性分子（１３ａ〜１３ｅ）は、図１に示すように、ねじれ配向している。
なお、図１では省略したが、液晶セルの上基板（１１）と下基板（１５）は、それぞれ、電極層を有する。電極層は、棒状液晶性分子（１３ａ〜１３ｅ）に電圧を印加する機能を有する。
ＳＴＮ型液晶セルの印加電圧が０であると（電圧無印加時）、図１に示すように、棒状液晶性分子（１３ａ〜１３ｅ）は、配向膜（１２、１４）の面とほぼ平行（水平方向に）に配向している。そして、棒状液晶性分子（１３ａ〜１３ｅ）は、厚み方向に沿ってねじれながら、水平面内で螺旋を巻く（図１では、１３ａから１３ｅまで反時計回りにほぼ２４０度）ような方向に配向している。
なお、ＳＴＮ型液晶セルの電圧印加（オン）時には、液晶セル内の中央部分の棒状液晶性分子（１３ｂ〜１３ｄ）は、電圧無印加（オフ）時と比較して、より垂直に配向（電場方向と平行に再配列）する。但し、配向膜（１２、１４）近傍の棒状液晶性分子（１３ａ、１３ｅ）の配向状態は、電圧を印加しても実質的に変化しない。
【０１０２】
液晶セル（１）の下側に、光学補償シート（２）が配置されている。図１に示す光学補償シート（２）は、透明支持体（２３）上に、垂直配向膜（２２）および光学的異方性層（２１）をこの順に有する。光学的異方性層（２１）は、ディスコティック液晶性分子（２１ａ〜２１ｅ）を配向させ、その配向状態で液晶性分子を固定して得られた層である。
本発明では、図１に示すように、ディスコティック液晶性分子（２１ａ〜２１ｅ）を、垂直配向膜（２２）の面に対して実質的に垂直に配向させる。そして、図１に示すように、ディスコティック液晶性分子（２１ａ〜２１ｅ）は、厚み方向に沿ってねじれながら、水平面内で螺旋を巻く（図１では、２１ａから２１ｅまで時計回りにほぼ２４０度）ような方向に配向させることが好ましい。
図１では、棒状液晶性分子とディスコティック液晶性分子とが、１３ａと２１ｅ、１３ｂと２１ｄ、１３ｃと２１ｃ、１３ｄと２１ｂ、そして１３ｅと２１ａのそれぞれが対応する関係になっている。すなわち、棒状液晶性分子１３ａをディスコティック液晶性分子２１ｅが光学的に補償し、以下同様に、棒状液晶性分子１３ｅを、ディスコティック液晶性分子２１ａが光学的に補償する。それぞれの対応関係については、図２で説明する。
【０１０３】
図２は、液晶セルの棒状液晶性分子と、それを光学補償する関係にある光学補償シートのディスコティック液晶性分子について、それぞれの屈折率楕円体を示す模式図である。
液晶セル（１）の棒状液晶性分子の屈折率楕円体（１３）は、配向膜に平行な面内の屈折率（１３ｘ、１３ｙ）と液晶セルの厚み方向の屈折率（１３ｚ）により形成される。ＳＴＮ型液晶セルでは、配向膜に平行な面内の一方向の屈折率（１３ｘ）が大きな値となり、それに垂直な方向の面内の屈折率（１３ｙ）と液晶セルの厚み方向の屈折率（１３ｚ）は、小さな値となる。そのため、屈折率楕円体（１３）は、図２に示すようなラグビーボールを横に寝かせた形状になる。このように球状ではない屈折率楕円体を有する液晶セルでは、複屈折性に角度依存性が生じる。この角度依存性を、光学補償シート（２）を用いて解消する。
【０１０４】
この棒状液晶性分子を光学補償する関係にある光学補償シートのディスコティック液晶性分子の屈折率楕円体（２１）も、垂直配向膜に平行な面内の屈折率（２１ｘ、２１ｙ）と光学的異方性層の厚み方向の屈折率（２１ｚ）により形成される。本発明では、ディスコティック液晶性分子を実質的に垂直に配向させることで、垂直配向膜に平行な面内の一方向の屈折率（２１ｘ）が小さな値となり、それに垂直な方向の面内の屈折率（２１ｙ）と光学的異方性層の厚み方向の屈折率（２１ｚ）は、大きな値となる。そのため、屈折率楕円体（２１）は、図２に示すような円盤を立てた形状になる。
以上の関係から、液晶セル（１）に生じたレターデーションを、光学補償シート（２）により相殺することができる。すなわち、棒状液晶性分子の屈折率（１３ｘ、１３ｙ、１３ｚ）、ディスコティック液晶性分子の屈折率（２１ｘ、２１ｙ、２１ｚ）、ディレクターの方向が同じである棒状液晶性分子層の厚み（１３ｔ）およびディスコティック液晶性分子層の厚み（２１ｔ）を、以下の式を満足するように液晶表示装置を設計すれば、液晶セルの角度依存性を解消できる。
│（１３ｘ−１３ｙ）×１３ｔ│＝│（２１ｘ−２１ｙ）×２１ｔ│
│（１３ｘ−１３ｚ）×１３ｔ│＝│（２１ｘ−２１ｚ）×２１ｔ│
【０１０５】
図３は、代表的なＳＴＮ型液晶表示装置の断面模式図である。
図３に示す液晶表示装置は、ＳＴＮ型液晶セル（１）、液晶セルの両側に設けられた一対の偏光板（３）、液晶セルと偏光板との間に配置された一対の光学補償シート（２）およびバックライト（ＢＬ）からなる。光学補償シート（２）は、一方にのみ配置してもよい。
液晶セル（１）は、上基板（１１）の下側の配向膜（１２）と下基板（１５）の上側の配向膜（１４）との間に液晶（１３）を封入した構造を有する。
光学補償シート（２）は、透明支持体（２３）上に、垂直配向膜（２２）および光学的異方性層（２１）をこの順に有する。
偏光板（３）は、偏光膜（３１）と保護膜（３２）とからなる。図３に示す装置では、光学補償シート（２）の透明支持体（２３）が、偏光膜（３１）の他方の側の保護膜としても機能している。
【０１０６】
ＳＴＮ型液晶表示装置は、ＳＴＮ型液晶セル、液晶セルの片側または両側に配置された一枚または二枚の光学補償シートおよびそれらの両側に配置された一対の偏光板からなる。液晶セルの棒状液晶性分子の配向方向とディスコティック液晶性分子の配向方向との関係は、光学補償シートに最も近い液晶セルの棒状液晶性分子のディレクタ（棒状分子の長軸方向）と、液晶セルに最も近い光学補償シートのディスコティック液晶性分子のディレクタ（円盤状コア平面の法線方向）とが、液晶セルの法線方向から見て、実質的に同じ向き（±１０度未満）になるように配置することが好ましい。光学補償シートの透明支持体を、偏光膜の液晶セル側の保護膜としても機能させることができる。その場合は、透明支持体の遅相軸（屈折率が最大となる方向）と偏光膜の透
過軸とが実質的に垂直または実質的に平行（±１０度未満）になるように配置することが好ましい。
【０１０７】
【実施例】
［製造例１］２，３，６，７，１０，１１−ヘキサキス［４−（４−アクリロイルオキシブチルオキシ）シンナモイルオキシ］トリフェニレン（Ｃ−４）の合成
【０１０８】
【化２７】

【０１０９】
（１）４−（４−ヒドロキシブチルオキシ）ケイ皮酸の合成
１Ｌの三ツ口フラスコに、ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド（４０．０ｇ、３２８ミリモル）、４−クロロブチルアセテート（５４．３ｇ、３６０ミリモル）、炭酸カリウム（４５．３ｇ、３２．８ミリモル）およびジメチルホルムアミド（１５０ｍＬ）を仕込み、１２０℃で３時間攪拌した。冷却後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。溶媒を留去後、得られた油溶物に、マロン酸（４０．８ｇ、３９２ミリモル）、ピロリジン（１０ｍＬ）およびピリジン（２００ｍＬ）を加え、１２０℃で２時間攪拌した。６０℃に冷却後、メタノール（２００ｍＬ）と４０量％水酸化カリウム水溶液（２００ｍＬ）を加え、さらに６０℃で２時間攪拌した。次いで、冷却後、反応混合物を、水（４Ｌ）に濃塩酸（３３０ｍＬ）を溶かした塩酸水溶液に注ぎ、析出した結晶を濾別した。得られた結晶は、アセトニトリルで再結晶化を行い、標題化合物を得た（６５．６ｇ、収率：８５％）。
【０１１０】
（２）４−（４−アクリロイルオキシブチルオキシ）ケイ皮酸の合成
５００ｍＬの三ツ口フラスコに、上記（１）で得られた化合物（２０．０ｇ、８４．６ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（１４．３ｇ、１１８ミリモル）、アクリル酸クロリド（９．６ｍＬ、１１８ミリモル）、ニトロベンゼン（０．１ｇ）およびテトラヒドロフラン（１４０ｍＬ）を仕込み、６０℃で３時間攪拌した。冷却後、希塩酸水溶液に反応混合物を注ぎ、析出した結晶を濾別した。得られた粗結晶に、ジメチルアセトアミド（３０ｍＬ）、トリエチルアミン（１２ｍＬ）およびニトロベンゼン（０．１ｇ）を加え、６０℃で３０分間攪拌した。冷却後、希塩酸水溶液に反応混合物を注ぎ、析出した結晶を濾別した。得られた結晶をアセトニトリルと水との混合溶媒で再結晶化を行い、標題化合物を得た（２０．０ｇ、収率：８１％）。
【０１１１】
（３）２，３，６，７，１０，１１−ヘキサキス［４−（４−アクリロイルオキシブチルオキシ）シンナモイルオキシ］トリフェニレン（Ｃ−４）の合成
５００ｍＬの三ツ口フラスコに、メタンスルホニルクロリド（３１．６ｇ、２７６ミリモル）、ニトロベンゼン（０．２４ｇ）およびテトラヒドロフラン（１８０ｍＬ）を仕込み、０℃に冷却した。この溶液に、上記（２）で得られた化合物（８０．０ｇ、２７６ミリモル）およびジイソプロピルエチルアミン（３９．２ｇ、３０４ミリモル）のテトラヒドロフラン（１８０ｍＬ）溶液を滴下した。０℃で１時間攪拌後、その反応混合液にジイソプロピルエチルアミン（３５．７ｇ、２７６ミリモル）および４−ジメチルアミノピリジン（３．４ｇ、２８ミリモル）を添加し、次いで、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサヒドロキシトリフェニレン（８．１ｇ、２５ミリモル）のテトラヒドロフラン（８０ｍＬ）懸濁液を添加した。室温で、１２時間攪拌後、反応混合液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。溶媒を留去後、油状物をカラムクロマトグラフィーにて精製し、標題化合物を得た（４２．４ｇ、８７％）。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ；
１．８５（２４Ｈ，ｂｒｓ）
３．９５（１２Ｈ，ｂｒｓ）
４．２５（１２Ｈ，ｂｒｓ）
５．８０（６Ｈ，ｄ）
６．１０（６Ｈ，ｄｄ）
６．４０（６Ｈ，ｄ）
６．５０（６Ｈ，ｄ）
６．７０（１２Ｈ，ｄ）
７．３０（１２Ｈ，ｄ）
７．８５（６Ｈ，ｄ）
８．２５（６Ｈ，ｓ）
【０１１２】
ディスコティック液晶性分子Ｃ−４の相転移温度を偏光顕微鏡によって測定したところ、結晶相からＮＤ（ディスコティックネマティック）相への相転移温度、ＮＤ相から等方性液体への相転移温度は、それぞれ、１２４℃、２２２℃であった。ディスコティック液晶性分子Ｃ−４の紫外線吸収スペクトルを図４に示す。ディスコティック液晶性分子Ｃ−４は、約３２０ｎｍに紫外線極大吸収（λｍａｘ）を有する。
【０１１３】
下記実施例で用いる光重合開始剤Ａ、Ｂ、ＣおよびＤの紫外線吸収スペクトルをそれぞれ、図５、６、７、８に示す。
光重合開始剤Ａのλｍａｘは、約３４０．６ｎｍ（濃度：２．４９×１０^−５モル／Ｌ、ε：３６７１６）、
光重合開始剤Ｂのλｍａｘは、約２９７．２ｎｍ（濃度：３．７６×１０^−４モル／Ｌ、ε：３３２４）、
光重合開始剤Ｃのλｍａｘは、約３１８．６ｎｍ（濃度：４．４７×１０^−５モル／Ｌ、ε：２２１６２）、そして；
光重合開始剤Ｄのλｍａｘは、約３０５．６ｎｍ（濃度：６．１５×１０^−５モル／Ｌ、ε：１８４１４）であった。
【０１１４】
《実施例系１》光重合開始剤に関する検討
［実施例１］
（配向膜の形成）
下記式で表される変性ポリビニルアルコールをＮ−メチルピロリドンとメチルエチルケトンとの混合溶媒（容積比＝２０／８０）に溶解して、５重量％溶液を調製した。
【０１１５】
【化２８】

【０１１６】
上記溶液を、厚さ１．１ｍｍのガラス板にバーコータを用いて塗布した。塗布層に、８０℃に加熱した空気を１０分間吹き付け、塗布層を乾燥した。次いで、塗布層表面を長手方向に沿ってラビング処理して配向膜を形成した。
【０１１７】
（光学補償シートの作製）
製造例１で得られたディスコティック液晶性分子Ｃ−４（１．０ｇ）に、下記式で順に表される光重合可塑剤（０．１０ｇ）、アセチル化度３．０％、ブチリル化度５０．０％、数平均分子量４００００のセルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ−５３１−１、イーストマンケミカル社製）（１０ｍｇ）および光重合開始剤Ａ（３０ｍｇ）を加え、これをメチルエチルケトンに溶解して、固形分３０重量％の光学的異方性層塗布液を調製した。
【０１１８】
【化２９】

【０１１９】
【化３０】

【０１２０】
次いで、前記の光学的異方性層塗布液を配向膜上にバーコータを用いて塗布し、ディスコティック液晶性分子の塗布膜を形成させた。次に、表面温度を１６０℃に加熱した金属ローラに、上記塗布膜を支持体側にて１分間接触させ、塗布膜を配向状態にした。次に、紫外線照射装置（ＵＬＴＯＲＡ−ＶＩＯＬＥＴＰＲＯＤＵＣＴＳ社製、ＵＶＬ−５８（１６Ｗ））を使用し、１６０℃の金属ローラ上で１０秒間紫外線を露光させ、光学的異方性層を作製した。この光学補償シートの光学的異方性層を偏光顕微鏡下で観察したところ、ディスコティック相起源の配向の固定が確認された。また、５４０ｎｍにおける正面のレターデーションをセナルモン法を用いて測定し、光学的異方性層の屈折率異方性（△ｎ）を求めたところ、０．０６６であった。
【０１２１】
［実施例２］
下記式で表される光重合開始剤Ｂを用いる以外は、実施例１と同様な操作を行い、光学補償シートを作製した。この光学補償シートの光学的異方性層を偏光顕微鏡下で観察したところ、ディスコティック相起源の配向の固定が確認された。また、５４０ｎｍにおける正面のレターデーションをセナルモン法を用いて測定し、光学的異方性層の△ｎを求めたところ、０．０６４であった。
【０１２２】
【化３１】

【０１２３】
実施例１および２の結果より、光学的異方性層塗布液中に含有される光重合開始剤の紫外線吸収波長が光重合開始剤によって異なるため、側鎖にシンナモイル基を有するディスコティック液晶性分子の光学的異方性を保持したまま配向を固定するには、シンナモイル基に由来する約３００乃至約３２０ｎｍの波長の範囲に紫外線極大吸収を持たない光重合開始剤を用いることが好ましいことが分かる
【０１２４】
［実施例３］
塗布膜を配向状態にした後に、塗布膜の前方に厚さ１１．５ｍｍのソーダ石灰ガラス（紫外線の透過率；２８０乃至３２０ｎｍの波長の範囲において０％、かつ３６０乃至５００ｎｍの波長の範囲において７０％以上である）を用いて、紫外線を露光させる操作を行う以外は実施例１と同様にして、光学補償シートを作製した。この光学補償シートを偏光顕微鏡下で観察したところ、光学的異方性を保持しており、光学的異方性層の△ｎを求めたところ０．８６５であった。
【０１２５】
［実施例４］
下記式で表される光重合開始剤Ｃを用いる以外は実施例３と同様にして光学補償シートを作製した。この光学補償シートを偏光顕微鏡下で観察したところ、光学的異方性を保持しており、光学的異方性層の△ｎを求めたところ０．７０であった。
【０１２６】
【化３２】

【０１２７】
［実施例５］
下記式で表される光重合開始剤Ｄを用いる以外は実施例３と同様にして光学補償シートを作製した。この光学補償シートを偏光顕微鏡下で観察したところ、光学的異方性を保持していたが、２５０℃で加熱すると、配向の固定が行われていないことが認められた。
【０１２８】
【化３３】

【０１２９】
実施例３、４および５より、ソーダ石灰ガラスが、シンナモイル基に由来する約３００乃至約３２０ｎｍの波長の範囲の紫外線吸収を極力抑えることによって、光学的異方性の消失を招く光反応を抑えることができたことが分かる。
【０１３０】
［実施例６］
光学的異方性層塗布液に、下記式で表されるカイラル剤（１５ｍｇ）を加えた以外は実施例１と同様にして光学補償シートを作成した。
【０１３１】
【化３４】

【０１３２】
得られた光学補償シートの△ｎｄを波長５５０ｎｍにおいて測定したところ、４４０ｎｍであった。また、ディスコティック液晶性分子のツイスト角は、１２０度であった。膜厚は、別途測定を行い、６．７μｍであった。この光学補償シートを用いて、図３に示す構造のＳＴＮ型液晶表示装置を作製した。液晶セルと光学補償シートとが接する面で、液晶セルの棒状液晶性分子の配向方向と光学補償シートのディスコティック液晶性分子の配向方向とを一致させた。出射側偏光板の吸収軸と液晶セルの出射側の棒状液晶性分子の配向方向との角度は、４５度に調節した。入射側偏光板の吸収軸と出射側偏光板の吸収軸とは直交するように配置した。
得られたＳＴＮ型液晶表示装置に電圧を印加したところ、ノーマリーブラックモードになった。視角特性を測定したところ、コントラスト比が５以上の角度範囲が左右で１２０度以上、上下で１５０度以上得られた。
【０１３３】
《実施例系２》紫外線に対する露光温度の検討
［実施例７］
（配向膜の形成）
下記式で表される変性ポリビニルアルコールをＮ−メチルピロリドンとメチルエチルケトンとの混合溶媒（容積比＝２０／８０）に溶解して、５重量％溶液を調製した。
【０１３４】
【化３５】

【０１３５】
上記溶液を、厚さ１．１ｍｍのガラス板にバーコータを用いて塗布した。塗布層に、８０℃に加熱した空気を１０分間吹き付け、塗布層を乾燥した。次いで、塗布層表面を長手方向に沿ってラビング処理して配向膜を形成した。
【０１３６】
（光学補償シートの作製）
製造例１で得られたディスコティック液晶性分子Ｃ−４（１．０ｇ）に、下記式で順に表される光重合可塑剤（０．１０ｇ）、アセチル化度３．０％、ブチリル化度５０．０％、数平均分子量４００００のセルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ−５３１−１、イーストマンケミカル社製）（１０ｍｇ）および光重合開始剤Ａ（３０ｍｇ）を加え、これをメチルエチルケトンに溶解して、固形分３０重量％の光学的異方性層塗布液を調製した。
【０１３７】
【化３６】

【０１３８】
【化３７】

【０１３９】
次いで、前記の光学的異方性層塗布液を配向膜上にバーコータを用いて塗布し、ディスコティック液晶性分子の塗布膜を形成させた。次に、表面温度を１６０℃に加熱した金属ローラに、上記塗布膜を支持体側にて１分間接触させ、塗布膜を配向状態にした。次いで、その塗布膜を表面温度が３０℃の金属ローラに１分間接触させ、紫外線照射装置（ＵＬＴＯＲＡ−ＶＩＯＬＥＴＰＲＯＤＵＣＴＳ社製、ＵＶＬ−５８（１６Ｗ））を使用し、１６０℃の金属ローラ上で１０秒間紫外線を露光させ、光学的異方性層を作製した。この光学補償シートの光学的異方性層を偏光顕微鏡下で観察したところ、ディスコティック相起源の配向の固定が確認された。また、５４０ｎｍにおける正面のレターデーションをセナルモン法を用いて測定し、光学的異方性層の屈折率異方性（△ｎ）を求めたところ、０．１３５であった。
【０１４０】
［実施例８］
下記式で表される光重合性開始剤Ｂを用いる以外は、実施例７と同様にして光学補償シートを作製した。この光学補償シートを偏光顕微鏡下で観察したところ、光学的異方性層は、ディスコティック相起源の配向の固定が確認された。また、光学的異方性層の△ｎを求めたところ、０．１３０であった。
【０１４１】
【化３８】

【０１４２】
［実施例９］
下記式で表される光重合性開始剤Ｃを用いる以外は、実施例７と同様にして光学補償シートを作製した。この光学補償シートを偏光顕微鏡下で観察したところ、光学的異方性層は、ディスコティック相起源の配向の固定が確認された。また、光学的異方性層の△ｎを求めたところ、０．１１０であった。
【０１４３】
【化３９】

【０１４４】
実施例７、８および９より、塗布膜の紫外線に対する露光を、塗布膜中のディスコティック液晶性分子のＮ_D相への相転移点（製造例１で記載したように、１２４℃）以下で行うことにより、光学補償シートの光学的異方性が保持され、光学的異方性層の△ｎの値が向上することが分かった。
【０１４５】
［実施例１０］
光学的異方性層塗布液に、下記式で表されるカイラル剤（１５ｍｇ）を加えた以外は実施例７と同様にして光学補償シートを作成した。
【０１４６】
【化４０】

【０１４７】
得られた光学補償シートの△ｎｄを波長５５０ｎｍにおいて測定したところ、４４０ｎｍであった。また、ディスコティック液晶性分子のツイスト角は、１２０度であった。膜厚は、別途測定を行い、３．３μｍであった。この光学補償シートを用いて、図３に示す構造のＳＴＮ型液晶表示装置を作製した。液晶セルと光学補償シートとが接する面で、液晶セルの棒状液晶性分子の配向方向と光学補償シートのディスコティック液晶性分子の配向方向とを一致させた。出射側偏光板の吸収軸と液晶セルの出射側の棒状液晶性分子の配向方向との角度は、４５度に調節した。入射側偏光板の吸収軸と出射側偏光板の吸収軸とは直交するように配置した。
得られたＳＴＮ型液晶表示装置に電圧を印加したところ、ノーマリーブラックモードになった。視角特性を測定したところ、コントラスト比が５以上の角度範囲が左右で１２０度以上、上下で１５０度以上得られた。
【０１４８】
本発明者は研究の結果、光重合時に使用する光重合開始剤として、側鎖にシンナモイル基を有するディスコティック液晶性分子のそのシンナモイル基に由来する紫外線極大吸収波長に対して、１５ｎｍ以上、好ましくは２０ｎｍ以上乖離した極大吸収波長を有する光重合開始剤を用いて、光重合開始剤の極大吸収波長に該当する紫外線を選択的に照射することによって、該ディスコティック液晶性分子から形成された光学的異方性層を含む光学補償シートを製造することに成功した。
また、本発明者は研究の結果、透明支持体上の配向液晶性分子層に対する紫外線照射を、該ディスコティック液晶性分子の液晶相から等方性液体に転移する温度（Ｔ_Ｎ−１点）よりも１０℃以上低い温度（好ましくは、該ディスコティック液晶性分子のガラス状態温度）にて行うことによって、該ディスコティック液晶性分子から形成された光学的異方性層を含む光学補償シートを作製することに成功した。
上記記載の性質を有する光重合開始剤を使用することに加えて、紫外線照射をＴ_Ｎ−１点よりも１０℃以上低い温度にて実施することにより、該光学的異方性層の屈折率異方性（△ｎ）を向上させることも可能となった。
このように、ＳＴＮ型液晶表示装置に適した光学補償シートを製造することが可能となったので、該光学補償シートをＳＴＮ型液晶表示装置に用いることによって、高コントラストの鮮明な画像を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の代表的なＳＴＮ型液晶表示装置の特徴的な構成部分を示す図である。
【図２】液晶セルの棒状液晶性分子と、それを光学補償する関係にある光学補償シートのディスコティック液晶性分子について、それぞれの屈折率楕円体を示す模式図である。
【図３】図３は、本発明の代表的なＳＴＮ型液晶表示装置の断面模式図である。
【図４】ディスコティック液晶性分子Ｃ−４の紫外線吸収スペクトルである。
【図５】光重合開始剤Ａの紫外線吸収スペクトルである。
【図６】光重合開始剤Ｂの紫外線吸収スペクトルである。
【図７】光重合開始剤Ｃの紫外線吸収スペクトルである。
【図８】光重合開始剤Ｄの紫外線吸収スペクトルである。
【符号の説明】
１液晶セル
２光学補償シート
３偏光板
１１液晶セルの上基板
１２、１４液晶セルの配向膜
１３液晶または屈折率楕円体
１３ａ〜１３ｅ棒状液晶性分子
１５液晶セルの下基板
２１光学的異方性層またはその屈折率楕円体
２１ａ〜２１ｅディスコティック液晶性分子
２２垂直配向膜
２３透明支持体
３１偏光膜
３２保護膜
ＢＬバックライト

Claims

透明支持体上に、下記一般式：

［式中、Ａ^１およびＡ^２は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数が１乃至１２のアルキル基、および炭素原子数が１乃至１２のアルコキシ基からなる群より選ばれる原子もしくは基を表し；Ｚは、ハロゲン原子、炭素原子数が１乃至１２のアルキル基、炭素原子数が１乃至１２のアルコキシ基、炭素原子数が２乃至１３のアシル基、および炭素原子数が１乃至１２のアルキルアミノ基、および炭素原子数が２乃至１３のアシルオキシ基からなる群より選ばれる原子もしくは基を表し；Ｌは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し；Ｑは、重合性基を表し；ａは、１乃至５の整数を表し；そして、ｂは、０乃至４の整数を表す；但し、ａとｂとの和は、１乃至５の整数である］
で表されるディスコティック液晶性分子および該液晶性分子の紫外線極大吸収波長と１５ｎｍ以上異なる紫外線極大吸収波長を有する光重合開始剤を含む塗布層を形成し、配向処理して配向液晶性分子層とした後、該液晶性分子の紫外線極大吸収波長における紫外線の透過率が５０％以下で、該光重合開始剤の紫外線極大吸収波長における紫外線の透過率が７０％以上である紫外線用フィルターを介して該配向液晶性分子層に紫外線を照射して重合させることによって、配向状態を保持させながら該液晶性分子の配向を固定して光学的異方性層を形成することからなる光学補償シートの製造方法。
該液晶性分子の紫外線極大吸収波長が３００乃至３２０ｎｍの範囲であり、該光重合開始剤の紫外線極大吸収波長が３３０乃至４００ｎｍの範囲であることを特徴とする請求項１に記載の光学補償シートの製造方法。
光重合開始剤が、３３０乃至４００ｎｍの波長の範囲の紫外線に対するモル吸光係数が５０乃至５０００００の範囲にある光重合開始剤であることを特徴とする請求項２に記載の光学補償シートの製造方法。
２００乃至３２０ｎｍの波長の範囲、３２５乃至３４０ｎｍの波長の範囲および３６０乃至５００ｎｍの波長の範囲における紫外線の透過率が、それぞれ、０％、５０％以下、５０％以上である紫外線用フィルターを用いて、紫外線照射を行うことを特徴とする請求項１に記載の光学補償シートの製造方法。