JP5441998B2 - マスク支持体、マスクアセンブリ、及びマスク支持体とマスクを含むアセンブリ - Google Patents
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Description
Claims (14)
- マスク(41)を支持し、フレーム要素(20)と弾性要素(30)を含むマスク支持体(10)であって、
前記弾性要素(30)は前記マスク(41)を前記フレーム要素(20)に取り付け、前記フレーム要素(20)内で支持される前記マスク(41)を延伸させるための手段を含んでおり、
前記弾性要素(30)は、前記フレーム要素(20)に回転可能に取り付けられたレバーあるいはアーム部(37)と、前記弾性要素(30)を前記フレーム要素(20)へ取り付ける取り付け端部(31)と、前記レバー部(37)と前記取り付け端部(31)の間に配置された曲部(32)を含んでいることを特徴とするマスク支持体(10)。 - 前記マスク支持体は、OLEDコーティング装置内で使用される薄層マスク(41)を支持するためのものである請求項1記載のマスク支持体(10)。
- 前記マスク(41)を取り付けるための前記手段は、前記弾性要素(30)に配置された第1締結手段(38)を含み、前記第1締結手段(38)は前記マスク(41)を運ぶための前記マスクアセンブリ(40)に備えられた対応する第2締結手段(43)に締結することを特徴とする請求項1又は2記載のマスク支持体。
- 前記第1締結手段(38)は前記レバーあるいはアーム部(37)からある角度で伸びる突起を含んでいることを特徴とする請求項2又は3記載のマスク支持体(10)。
- 前記締結手段(38)は前記フレーム要素(20)に回転可能に配置されていることを特徴とする請求項2〜4のいずれか1項記載のマスク支持体(10)。
- 前記の請求項1〜5のいずれか1項記載のマスク支持体(10)にマスク(41)を取り付けるために設けられたマスクアセンブリ(40)であって、
前記マスクアセンブリ(40)は、少なくともマスク(41)と接続手段(42)を含んでおり、前記接続手段(42)は前記マスク(41)を前記フレーム要素(20)に取り付け、前記フレーム要素(20)内で支持される前記マスク(41)を延伸させるための前記手段に前記マスク(41)を接続することを特徴とするマスクアセンブリ(40)。 - マスク(41)を請求項1〜5のいずれか1項記載のマスク支持体(10)に取り付けるために設けられたマスクアセンブリ(40)であって、
前記接続手段(42)は、少なくとも前記マスク支持体(10)の前記第1締結手段(38)と相互締結するための第2締結手段(43)を含むことを特徴とするマスクアセンブリ(40)。 - 前記第2締結手段(43)は、少なくとも前記マスクアセンブリ(40)の端部を前記マスク(41)の表面に対して曲げることによって形成されるクランプを含むことを特徴とする請求項6〜7のいずれか1項記載のマスクアセンブリ。
- 前記マスク(41)は薄層シャドーマスクであることを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項記載のマスクアセンブリ。
- 前記マスク(41)は、金属シートから作られたシャドーマスクであることを特徴とする請求項9記載のマスクアセンブリ。
- 請求項1〜5のいずれか1項記載のマスク支持体と、請求項6〜10のいずれか1項記載のマスクアセンブリを含むアセンブリ。
- 前記マスク(41)は、前記マスク支持体(10)の前記弾性要素(30a、30b、30c、30d、...)の圧縮によって発生するフレキシブルな力によって前記マスク支持体(10)に取り付けられており、前記弾性要素(30a、30b、30c、30d、...)の前記第1締結手段(38)は前記マスク支持体(10)に取り付けられている前記マスク(41)を支持し延伸させるための前記マスクアセンブリ(40)の前記第2締結手段(42)と締結していることを特徴とする請求項11記載のアセンブリ。
- 請求項6〜10のいずれか1項記載のマスクアセンブリを請求項1〜5のいずれか1項記載のマスク支持体に接続する方法であって、
a)引張り装置内の前記フレーム要素と前記弾性要素を含む前記マスク支持体を挿入し、
b)前記マスク支持体の上部に前記マスクと前記接続手段を含む前記マスクアセンブリを配置し、
c)前記引張り装置の作動によって前記弾性要素を圧縮し、
d)前記引張り装置の作動によって前記弾性要素を解放することを含む方法。 - e)前記マスクアセンブリと前記マスク支持体を含む前記アセンブリを前記引張り装置から取り除くことを含むことを特徴とする請求項13記載の方法。
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JP6304412B2 (ja) * | 2017-02-06 | 2018-04-04 | 大日本印刷株式会社 | 金属フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、パターンの形成方法 |
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CN111886356A (zh) * | 2018-03-20 | 2020-11-03 | 夏普株式会社 | 成膜用掩模及使用该成膜用掩模的显示装置的制造方法 |
WO2021087732A1 (zh) * | 2019-11-05 | 2021-05-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模装置、掩模板及框架 |
WO2021092759A1 (zh) * | 2019-11-12 | 2021-05-20 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板 |
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KR20220089809A (ko) * | 2020-12-21 | 2022-06-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 및 마스크 프레임의 제조 방법 |
CN115537751B (zh) * | 2021-06-29 | 2024-09-27 | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 | 遮蔽机构及具有遮蔽机构的薄膜沉积腔体 |
CN115430585A (zh) * | 2022-08-23 | 2022-12-06 | 西安微电子技术研究所 | 一种tsop引线自动三防涂覆保护模具装置 |
Family Cites Families (12)
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---|---|---|---|---|
US2274866A (en) * | 1940-10-19 | 1942-03-03 | William H Martens | Dispensing device |
US2469119A (en) * | 1946-12-20 | 1949-05-03 | Furnas Electric Co | Toggle actuated switch |
JP3402681B2 (ja) * | 1993-06-02 | 2003-05-06 | サンエー技研株式会社 | 露光における位置合わせ方法 |
DE10126779B4 (de) * | 2001-06-01 | 2011-03-17 | Zf Sachs Ag | Druckplattenbaugruppe |
WO2003019988A1 (fr) | 2001-08-24 | 2003-03-06 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Dispositif de masque de formation a plusieurs faces pour depot sous vide |
JP2004006257A (ja) * | 2002-04-26 | 2004-01-08 | Tohoku Pioneer Corp | 真空蒸着用マスク及びこれを用いて製造された有機elディスプレイパネル |
US20040163592A1 (en) * | 2003-02-20 | 2004-08-26 | Tohoku Poineer Corporation | Mask for vacuum deposition and organic EL display panel manufactured by using the same |
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WO2007061486A1 (en) * | 2005-11-22 | 2007-05-31 | Pliant Corporation | Elastic laminates |
KR20070063307A (ko) * | 2005-12-14 | 2007-06-19 | 주성엔지니어링(주) | 마스크 어셈블리 |
JP4692276B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2011-06-01 | ウシオ電機株式会社 | 支持機構及び支持機構を使ったマスクステージ |
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