JP5432220B2 - 二重ビーム装置 - Google Patents
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Description
フラッド銃からの中和電子は、電荷が累積される点、すなわち一次イオン・ビームの衝突点の近くで試料に到達することが好ましい。また、荷電中和電子は最小のエネルギーで試料に到達することが好ましい。SEM対物レンズが励起された状態に保たれる好ましい装置では、対物レンズからの磁界はフラッド銃204からの電子軌道を歪曲し、電子が中和すべき領域を見失うことがある。SEM対物レンズからの磁界は、一般に試料のビーム衝突点の近傍で約20ガウスである。SEM対物レンズの動作中に、レンズが異なる条件で合焦するように調節されるので、磁界は2倍またはそれ以上の率で変動することがある。
FIB装置は一般に一次イオン・ビーム中のイオンが試料に衝突するときに発生する二次粒子を検出する、チャンネル検出電子乗算器(CDEM)などの二次粒子検出器205を含む。一般に、それらの粒子検出器は、収集器に印加された電圧次第で電子またはイオンのいずれも検出することができる。
好ましい実施形態の一態様は、焦点を変化させるために磁界を調節しても熱の徴候(signature)が比較的一定のSEM対物レンズを使用することである。一定の熱の徴候とは、全エネルギーの放散が時間的に略一定であるばかりでなく、レンズのすべての空間的な配置での出力放散も時間的に略一定であることを意味する。それらのSEM対物レンズは、Bierhoff等の「改善された磁気レンズ(Improved Magnetic Lens)」の名称で2003年7月14日出願された譲受人の共出願に記載されており、これは参照して本明細書に組み込まれている。対物レンズは、どのビームを使用するかにかかわらず、SEM対物レンズを通って流れる電流を略一定にして励起状態を維持し、冷やされた冷却水を常に流してレンズを冷却することが好ましい。装置は熱平衡状態に保たれ、装置が安定化するのを待機することが省かれる。
また、SEMレンズの磁界は一次イオン・ビームのイオンの軌道にも影響を与える。従来のようにしてイオン・ビームを操縦し、磁界による位置の移動を補正することは可能であるが、ビームの解像度は磁界の存在下で低下する。出願人は単一同位元素のガリウムの液体金属イオン源を使用することによって、イオン・ビーム装置の解像度が高まることを見出した。
製造環境の中では、作業者が試料を二重ビーム装置に迅速に出し入れできることが好ましい。イオンおよび電子ビームは真空チャンバ内で操作されるので、試料を取り出しまたは挿入するためにチャンバを開き、次いで装置を再び排気することが必要である。排気プロセスは時間を消費する。
98 ターレット
100 走査電子顕微鏡
102 イオン・ビーム・カラム
104 FIB
105 光学顕微鏡
110 ガス注入装置(GIS)
114 電子検出器
204 荷電中和フラッド銃
205 二次粒子検出器
206 容量センサ
302 磁界
304 電子の軌道
306 試料表面
404 発射ユニット
406 加速/操縦/合焦ユニット
408 ブラケット
502 静電レンズ
600 試料
702、710 角度
712、720 距離
802 二次電子の軌道
804 スクリーン
806 導入部
810 二次粒子検出器
902 一次イオン・ビーム
904 軌道
1002 電子の軌道
1104 磁気対物レンズ
1106 静電偏向
1202 原子量約71のガリウム・イオン
1204 原子量約69のガリウム・イオン
1602 好ましい装置
1606 主真空装置
1604 エアロック(air lock)チャンバ
1608 ロボット腕
1609 ウェハ
1610 空圧シリンダー
1612 装置枠
1620 シリンダー
1622 嵌合い構造
1624 第2の嵌合い構造
Claims (17)
- 一次イオン・ビームを発生するイオン・ビーム・カラムと、
静電偏向器と磁気対物レンズを有し、前記静電偏向器を使用して焦点を変化させることによりエネルギー放散が時間的に略一定である電子ビーム・カラムと、
を備える二重ビーム装置であって、
前記一次イオン・ビームによって発生した二次電子を収集する二次電子収集デバイスをさらに備え、
前記電子ビーム・カラムの磁界が二次電子を前記二次電子収集デバイスへ操縦することを助けるように前記二次電子収集デバイスが配置されている二重ビーム装置。 - 荷電中和電子を提供する電子銃をさらに備え、
前記電子銃は、前記電子ビーム・カラムの磁界が、合焦された前記イオン・ビーム・カラムの目標点に向けて、前記荷電中和電子を加速するように、配置と向きが設定され、
前記電子銃は、前記荷電中和電子の通路を調節して前記電子ビーム・カラムの磁界の変化による影響を補正するための操縦電極を有する請求項1に記載の装置。 - 前記電子銃が、電子ビームを合焦し操縦する4個の電極要素を有する請求項2に記載の装置。
- 合焦した前記イオン・ビーム・カラムが、単一同位元素のガリウム・イオン源を有する請求項1に記載の装置。
- 前記イオン・ビーム・カラムが、集束したイオン・ビーム・カラムである請求項1に記載の装置。
- 前記イオン・ビーム・カラムが、成形したイオン・ビーム・カラムである請求項1に記載の装置。
- 前記イオン・ビーム・カラムが、磁気浸漬対物レンズおよび静電偏向器を有する請求項1に記載の装置。
- 前記イオン・ビーム・カラムおよび前記電子ビーム・カラムがその上に搭載される浮遊部分と、
前記浮遊部分に搭載されるエアロックと、
固定部分の上に搭載されたロボット搬送腕と、
前記浮遊部分が上昇するときに、嵌合表面が前記浮遊部分を前記固定部分に位置決めして前記ロボット搬送腕が試料を前記エアロックへ、あるいは、前記エアロックから移動可能なように前記嵌合表面が配向された、前記固定部分上の第1の嵌合い構造および前記浮遊部分上の第2の嵌合い構造と、
前記浮遊部分を上昇させ、前記固定部分に位置決めして合体させる手段とをさらに含む請求項1に記載の装置。 - 前記磁気対物レンズは、水で冷却される請求項1に記載の装置。
- 焦点を変化させたときに、前記磁気対物レンズに流れる電流が実質的に一定に保たれる請求項8に記載の装置。
- 前記イオン・ビーム・カラムがイオンの衝突点を有し、前記電子ビーム・カラムが電子の衝突点を有し、前記イオンの衝突点および前記電子の衝突点がオフセットされており、試料上の目標点を前記二つの衝突点の間で正確に移動させる移動可能な台をさらに備える請求項1に記載の装置。
- 前記目標点が複数の前記二つの衝突点の間で移動したときに、前記試料の表面の高さの変化を検出し、前記試料に合焦するように前記台を上昇あるいは降下させる高さセンサをさらに備える請求項11に記載の装置。
- 前記イオン・ビーム・カラムおよび前記電子ビーム・カラムが搭載されたターレットをさらに含み、
前記ターレットは、構成要素を搭載可能な複数の開口部を有し、
前記開口部は、不使用時に封止可能である請求項1に記載の装置。 - 前記ターレットに搭載されたガス注入装置をさらに備える請求項13に記載の装置。
- 前記電子銃は非磁性材料からなる請求項2に記載の装置。
- 前記電子ビーム・カラムは、第1の垂直面に配置され、前記電子銃は第2の垂直面に配置されており、下方から見て前記第2の垂直面は、前記第1の垂直面から時計回り方向に90°向いており、
前記電子ビーム・カラムの対物レンズの磁界が、前記電子銃からの前記電子を前記試料の方へと誘導し、
前記第1および第2の垂直面は、試料表面に対して垂直な面である請求項2に記載の装置。 - 二次電子検出器をさらに備えており、
前記二次電子検出器は、前記電子銃を含む垂直面であって、前記電子銃からは前記電子ビーム・カラムの反対側に配置されており、
前記電子銃を含む垂直面は、試料表面に対して垂直な面である請求項16に記載の装置。
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