JP5429796B2 - マスク位置合わせ機構及びマスク位置合わせ方法並びに真空処理装置 - Google Patents
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Description
まず、基板ホルダ7の上昇に伴い、長いテーパピン35aが溝37に挿入される様子を図7乃至10に示す。図7は、基板ホルダ7が搬送位置、すなわち、下降している状態であり、このとき、不図示の搬送機構によって基板10が基板ホルダ7(基板保持面7a)の所定位置に配置される。
短いテーパピン35bは、短いテーパピン35bのテーパ面36fが溝37の角部に接触し、基板ホルダ7の上昇に伴い、テーパ面36fに溝37の角部を摺接させることで、マスク31を軸Y上に配置する調芯機能を発揮させることができる。このとき、長いテーパピン35aによってマスク31は軸X上への誘導が完了しているため(図9参照)、マスク31へは一方向からの抗力しか及ぼされず、複雑な抗力の重なりは発生しない。
2 真空チャンバー
3 マグネットホルダ
4 ターゲット
5 バックプレート
6 ターゲットホルダ
7 基板ホルダ
8 排気チャンバー
9 チムニー
10 基板
12 電源
13 マグネット
14 ターゲットシャッター
19 基板シャッター
22 基板ホルダ駆動機構
23 ターゲットシャッター駆動機構
24 基板シャッター駆動機構
28 ターボ分子ポンプ
29 ドライポンプ
31 マスク
33 シールド
33a 屈曲部分
35 テーパピン(位置決めピン)
35a 長いテーパピン(第1テーパピン)
35b 短いテーパピン(第2テーパピン)
36a,36g 付け根
36b くびれ部
36c,36e 直線部
36d,36f テーパ面
37 溝
39 パッド
Claims (8)
- 基板を保持可能な基板ホルダと、
前記基板を挟んで前記基板ホルダ上に配置されるマスクと、
前記基板ホルダ及び前記マスクのいずれか一方に形成され、2つの凸部を有する第1係合部と、
前記基板ホルダ及び前記マスクのいずれか一方に形成され、少なくとも1つの凸部を有する第2係合部と、
前記第1係合部の凸部と係合するように前記基板ホルダ及び前記マスクのいずれか他方に形成された第1溝部と、
前記第2係合部の凸部と係合するように前記基板ホルダ及び前記マスクのいずれか他方に形成された第2溝部と、を備えている基板保持装置におけるマスク位置合わせ方法であって、
前記第1係合部の凸部を前記第1溝部に係合させ、前記基板ホルダに対する前記マスクの第1の方向の位置を合わせるステップと、
前記第2係合部の前記凸部を前記第2溝部に係合させ、前記基板ホルダに対する前記マスクの前記第1の方向に直交する方向に位置を合わせるステップと、を有することを特徴とするマスク位置合わせ方法。 - 基板を保持可能な基板ホルダと、
前記基板を挟んで前記基板ホルダ上に配置されるマスクと、
前記基板ホルダ及び前記マスクのいずれか一方に形成され、2つの凸部を有する第1係合部と、
前記基板ホルダ及び前記マスクのいずれか一方に形成され、少なくとも1つの凸部であって、前記基板ホルダ又は前記マスクから突き出た部分の長さが、第1係合部の凸部の突き出た部分の長さより短い少なくとも1つの凸部を有する第2係合部と、
前記第1係合部の凸部と係合するように前記基板ホルダ及び前記マスクのいずれか他方に形成された第1溝部と、
前記第2係合部の凸部と係合するように前記基板ホルダ及び前記マスクのいずれか他方に形成された第2溝部と、を備え、
前記第2係合部の凸部は、前記基板ホルダ上にマスクが配置された状態で、前記第1係合部の2つの凸部を通る直線と直交する線上に配置されることを特徴とする基板保持装置。 - 前記第1係合部の2つの凸部の一方端には第1テーパ面が形成され、該第1係合部の2つの凸部の他方端は前記基板ホルダ及び前記マスクのいずれか一方に接続され、
前記第2係合部の凸部の一方端には第2テーパ面が形成され、該第2係合部の凸部の他方端は前記基板ホルダ及び前記マスクのいずれか一方に接続され、
前記基板ホルダと前記マスクを係合させる方向において、前記第1係合部の2つの第1テーパ面が形成されている領域は、前記第2係合部の第2テーパ面が形成されている領域と重ならないことを特徴とする請求項2に記載の基板保持装置。 - 前記第1係合部の2つの凸部は、前記他方端側にくびれ部が形成されていることを特徴とする請求項2又は3に記載の基板保持装置。
- 前記第1および第2溝部は、前記マスク若しくは前記基板ホルダの中心方向に対して細長い長孔であることを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の基板保持装置。
- 前記第2係合部の凸部は、1つであることを特徴とする請求項2乃至5のいずれか1項に記載の基板保持装置。
- 前記第1係合部及び前記第2係合部の表面は、TiN、DLCによってコーティングされていることを特徴とする請求項2乃至6のいずれか1項に記載の基板保持装置。
- 真空雰囲気で基板に対して真空処理を行う処理室を有する真空処理装置であって、
前記処理室には請求項2乃至7のいずれか1項に記載の基板保持装置が設けられていることを特徴とする真空処理装置。
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