JP5415191B2 - 半導体複合装置、光プリントヘッド、及び画像形成装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体複合装置であるLED/駆動IC複合チップ100の一部を概略的に示す斜視図である。また、図2は、LED/駆動IC複合チップ100を概略的に示す平面図であり、図3は、図2の一部を拡大して示す平面図である。
さらに、第1の実施形態に係るLED/駆動IC複合チップ100によれば、エピフィルム103の下にメタル層102を有し、しかもエピフィルム103は2μm程度と非常に薄いので、LED106から発生した光は直接上部に放射されるだけでなく、下面に放射しメタル層102に照射された光もこのメタル層表面で反射しエピフィルム103を透過し表面から照射される。そのため、発光強度が向上するという効果もある。
図12は、本発明の第2の実施形態に係る半導体複合装置としてのLED/駆動IC複合チップ150の一部を概略的に示す平面図である。図12において、図3(第1の実施形態)の構成と同一又は対応する構成には、同じ符号を付す。
図13は、本発明の第3の実施形態に係る半導体複合装置としてのLED/駆動IC複合チップ160の一部を概略的に示す平面図である。また、図14は、図13をS14−S14線で切る面を概略的に示す断面図である。図13において、図3(第1の実施形態)の構成と同一又は対応する構成には、同じ符号を付す。また、図14において、図4(第1の実施形態)の構成と同一又は対応する構成には、同じ符号を付す。
図15は、本発明の第4の実施形態に係る半導体複合装置であるLED/駆動IC複合チップ170の一部を概略的に示す平面図である。また、図16は、LED/駆動IC複合チップ170の一部を概略的に示す斜視図であり、図17は、図15をS17−S17線で切る面を概略的に示す断面図である。図15及び図16において、図3(第1の実施形態)の構成と同一又は対応する構成には、同じ符号を付す。
図18は、本発明の第5の実施形態に係る半導体複合装置であるLED/駆動IC複合チップ180の一部を概略的に示す斜視図である。また、図19は、LED/駆動IC複合チップ180の一部を概略的に示す平面図である。
図20は、本発明の第6の実施形態に係る半導体複合装置であるLED/駆動IC複合チップ190の一部を概略的に示す平面図である。
図21は、本発明の第7の実施形態に係る半導体複合装置であるLED/駆動IC複合チップ200の一部を概略的に示す平面図である。
図22は、本発明の第8の実施形態に係る半導体複合装置であるLED/駆動IC複合チップ210を概略的に示す平面図である。また、図23は、第8の実施形態に係る半導体複合装置であるLED/駆動IC複合チップ210の一部を概略的に示す斜視図である。
図25は、本発明の第9の実施形態に係る半導体複合装置であるLED/駆動IC複合チップ220を概略的に示す平面図である。
図26は、本発明に係る半導体装置を組み込んだLEDプリントヘッド700を概略的に示す断面図である。図26に示されるように、LEDプリントヘッド700は、ベース部材701と、ベース部材701に固定されたLEDユニット702と、柱状の光学素子を多数配列したロッドレンズアレイ703と、ロッドレンズアレイ703を保持するホルダ704と、これらの構成701〜704を固定するクランプ705とを有する。LEDユニット702には、上記実施形態の半導体装置であるLED/駆動ICチップ又はLEDアレイチップが搭載されている。LEDユニット702で発生した光はロッドレンズアレイ703を通して照射される。LEDプリントヘッド700は、電子写真プリンタや電子写真コピー装置等の露光装置として用いられる。なお、上記実施形態の半導体装置を含むLEDプリントヘッドの構造は、図26に示されたものに限定されない。
図27は、本発明の第10の実施形態に係る画像形成装置の構成を概略的に示す断面図である。
なお、上記実施形態においては、基板上にメタル層102を形成した場合を説明したが、メタル層102に代えてポリシリコン等の金属以外の導電性薄膜層を用いてもよい。
101,181,191,201,211,221 基板、
101a 分離前の基板、
101b チップ形成領域、
102 メタル層、
103,171,183,193,203,213,223 エピタキシャルフィルム(LEDエピフィルム)、
104,184,194,204,214,224 集積回路薄膜、
105,185,195,205,215,225 個別配線層、
106 LED(発光部又は発光領域)、
107 駆動IC、
107a 駆動ICの個別端子領域、
111 GaAsコンタクト層(n型GaAs層)、
112 AlGaAs下クラッド層(n型AlxGa1−xAs層)、
113 AlGaAs活性層(n型AlyGa1−yAs層)、
114 AlGaAs上クラッド層(n型AlzGa1−zAs層)、
115 GaAsコンタクト層(GaAs層内のZn拡散領域)、
115a GaAsコンタクト層、
116 Zn拡散領域、
117 絶縁膜、
118 ダイシングライン(ダイシング予定領域)、
120 LEDエピフィルム形成用基板、
121 GaAs基板、
122 GaAsバッファ層、
123 (AlGa)InPエッチングストップ層、
124 AlAs剥離層、
125 エッチング溝、
130 SOI基板、
131 シリコン基板、
132 埋め込みSiO2層(BOX層)、
133 シリコン層(SOI層)、
133a 集積回路(集積回路形成領域)、
182,192,202,212,222 基板の回路パターン、
186,196,206,216,226 個別配線層、
700 LEDプリントヘッド、
702 LEDユニット、
703 ロッドレンズアレイ、
800 画像形成装置、
801〜804 プロセスユニット、
803a 感光体ドラム、
803c 露光装置。
Claims (18)
- 基板と、
1個の発光素子を有し、前記基板上に設けられた10μm以下の厚さでシート状の第1の半導体薄膜と、
複数の駆動IC及び該駆動ICに接続された第1の端子領域を有し、前記基板上に設けられた10μm以下の厚さでシート状の第2の半導体薄膜と、
前記第1の半導体薄膜の前記発光素子上から前記基板の表面を経由して前記第2の半導体薄膜の前記第1の端子領域上に至る領域に設けられ、前記第1の半導体薄膜の前記発光素子と前記第2の半導体薄膜の前記第1の端子領域とを電気的に接続する薄膜の第1の個別配線層と、
前記第1の個別配線層下の前記第1の個別配線層のコンタクト領域以外の部分に設けられた層間絶縁膜とを有し、
前記発光素子が前記基板上に複数配列されるように、前記第1の半導体薄膜は前記基板上に複数設けられており、
前記駆動IC及び前記第1の端子領域と前記発光素子とは配列ピッチがほぼ同じとするとともに、前記駆動IC及び前記第1の端子領域と前記発光素子とは一対一に対向して配置されており、
前記第1の個別配線層は該対向する発光素子と第1の端子領域の間を接続する、
ことを特徴とする半導体複合装置。 - 前記基板が、ガラス、樹脂、セラミック、金属、及び半導体の内のいずれかを主材料とすることを特徴とする請求項1に記載の半導体複合装置。
- 前記基板が、抵抗素子及び容量素子を含む回路及び配線の内の少なくとも一方を構成する回路パターンを有することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体複合装置。
- 前記第2の半導体薄膜が、第2の端子領域を有し、
前記基板が、前記回路パターンの端子領域を有し、
前記第2の半導体薄膜の前記第2の端子領域上から前記基板上の前記回路パターンの前記端子領域上までの領域に形成され、前記第2の半導体薄膜の前記第2の端子領域と前記回路パターンの前記端子領域とを電気的に接続する薄膜の第2の個別配線層を備えた
ことを特徴とする請求項3に記載の半導体複合装置。 - 前記第1の半導体薄膜が、化合物半導体エピタキシャル薄膜であることを特徴とする請求項1から4までのいずれかに記載の半導体複合装置。
- 前記化合物半導体エピタキシャル薄膜の材料には、AlxGa1−xAs(ここで、0≦x<1である。)、(AlxGa1−x)yIn1−yP(ここで、0≦x<1且つ0≦y<1である。)、GaN、AlGaN、及びInGaNの内の少なくともいずれか一つが含まれることを特徴とする請求項5に記載の半導体複合装置。
- 前記第1の半導体薄膜が、1列に複数配列されており、
単一の前記第2の半導体薄膜が、前記複数の前記第1の半導体薄膜の全長にほぼ等しい長さを持つ
ことを特徴とする請求項1から6までのいずれかに記載の半導体複合装置。 - 前記基板上に導電性材料層をさらに有し、
前記第1の半導体薄膜は、前記導電性材料層の表面上に貼り付けられ、
前記導電性材料層が、メタル層又はポリシリコン層のいずれか一方である
ことを特徴とする請求項1から7までのいずれかに記載の半導体複合装置。 - 前記第1の個別配線層が、フォトリソグラフィ技術を用いて一括形成された薄膜であることを特徴とする請求項1から8までのいずれかに記載の半導体複合装置。
- 前記第1の個別配線層が、Au層、Ti/Pt/Au積層層、Au/Zn積層層、AuGeNi/Au積層層、Pd層、Pd/Au積層層、Al層、Al/Ni積層層、ポリシリコン層、ITO層、及びZnO層の内のひとつ又は2つ以上の組み合わせであることを特徴とする請求項1から9までのいずれかに記載の半導体複合装置。
- 前記第2の個別配線層が、フォトリソグラフィ技術を用いて一括形成された薄膜であることを特徴とする請求項4から10までのいずれかに記載の半導体複合装置。
- 前記第2の個別配線層が、Au層、Ti/Pt/Au積層層、Au/Zn積層層、AuGeNi/Au積層層、Pd層、Pd/Au積層層、Al層、Al/Ni積層層、ポリシリコン層、ITO層、及びZnO層の内のひとつ又は2つ以上の組み合わせであることを特徴とする請求項4から11までのいずれかに記載の半導体複合装置。
- 前記第1の個別配線層の、前記第1の半導体薄膜上の前記発光素子から前記第2の半導体薄膜上の前記端子領域上までの長さが、200μm以下であることを特徴とする請求項1から12までのいずれかに記載の半導体複合装置。
- 請求項1から13までのいずれかに記載の半導体複合装置を有することを特徴とする光プリントヘッド。
- 前記半導体複合装置は、前記発光素子を複数個有し、
前記光プリントヘッドは、
前記半導体複合装置を支持するベース部材と、
前記半導体複合装置における発光素子によって放出される光を集束させるロッドレンズアレイと、
前記ロッドレンズアレイを保持するホルダと、
前記ベース部材と前記ホルダを一緒に固定する少なくとも1個のクランプと
をさらに有することを特徴とする請求項14に記載の光プリントヘッド。 - 請求項1から13までのいずれかに記載の半導体複合装置を含む光プリントヘッドを少なくとも1台有することを特徴とする画像形成装置。
- 前記光プリントヘッドにより選択的に光照射され、静電潜像が形成される感光体ドラムをさらに有することを特徴とする請求項16に記載の画像形成装置。
- トナーを供給し、前記感光体ドラム上の前記静電潜像を現像する現像装置と、
前記現像された画像を前記感光体ドラムから前記印刷媒体に転写する転写装置と
をさらに有することを特徴とする請求項17に記載の画像形成装置。
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