JP5408915B2 - エッジセンサおよび欠陥検査装置 - Google Patents
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Description
また同時に本発明は上記エッジセンサを用いて、例えば液晶ガラスのような透明または半透明の物体に生じた欠けやひび割れ等の欠陥部位を精度良く検出することのできる欠陥検査装置を提供することを目的としている。
前記演算部は、例えば前記ラインセンサの出力を自由空間側からサーチして前記ラインセンサ上での光量分布パターンを解析するように構成され、特に
<A> 透明または半透明の物体のエッジにおいて生じた光量分布パターンをその一端部から他端部に向けてサーチした際の光量が、自由空間での光量を基準として定められる第1の光量閾値まで低下した位置を前記物体の第1の検出位置として求める第1の位置検出手段と、
<B> 検出した第1の検出位置から更に光量が低下した後に、前記自由空間での光量を基準として定められる第2の光量閾値まで増加した位置を前記物体の第2の検出位置として求める第2の位置検出手段と
を備えることを特徴としている。尚、前記第1および第2の光量閾値については、個々に設定しても良いが、同じ値として与えることも可能である。
<a> 前記エッジセンサにおける前記ラインセンサを前記透明または半透明の物体のエッジに沿って移動させる、または透明または半透明の物体を前記エッジセンサにおけるラインセンサと交差する方向に移動させる走査手段と、
<b> 前記ラインセンサまたは前記物体の走査に伴って前記エッジセンサの前記第1および第2の位置検出手段にてそれぞれ検出される第1および第2の検出位置の変化を監視し、第1または第2の検出位置の変化量が予め設定した閾値を超えるときにイベントを発する欠陥検出手段とを具備したことを特徴としている。
<c> 前記エッジセンサの前記第1および第2の位置検出手段にてそれぞれ検出される第1および第2の検出位置の差を遮光幅として求める遮光幅検出手段と、
<a> 前記エッジセンサにおける前記ラインセンサを前記透明または半透明の物体のエッジに沿って移動させる、または透明または半透明の物体を前記エッジセンサにおけるラインセンサと交差する方向に移動させる走査手段と、
<d> 前記ラインセンサまたは前記物体の走査に伴って前記遮光幅検出手段により求められた遮光幅を監視し、該遮光幅が予め設定した閾値を超えるときにイベントを発する欠陥検出手段とを具備したことを特徴としている。
図1は、例えば液晶ガラス等の透明または半透明の物体Aの特定位置(例えばエッジ位置)を検出するエッジセンサ10と、このエッジセンサ10による前記物体Aの位置検出対象部位を走査しながら前記エッジセンサ10の出力を監視して前記物体Aにおける欠陥の有無を検査する欠陥検査装置の概略構成図である。
11 ラインセンサ
12 光源
13 光学ヘッド
14 演算器(CPU)
15 第1の位置検出手段
16 第2の位置検出手段
21 走査手段(走査機構)
22 欠陥検出手段(トレンド判定手段)
23 メモリ
Claims (5)
- 複数の受光セルを所定のピッチで配列したラインセンサと、このラインセンサに向けて単色平行光を投光する光源と、前記ラインセンサの出力を解析して前記単色平行光の光路に位置付けられた物体のエッジを検出する演算部とを備え、前記演算部は、透明または半透明の物体のエッジにおいて生じた光量分布パターンをその一端部から他端部に向けてサーチした際の光量が、自由空間での光量を基準として定められる第1の光量閾値まで低下した位置を前記物体の第1の検出位置として求める第1の位置検出手段と、検出した第1の検出位置から更に光量が低下した後に、前記自由空間での光量を基準として定められる第2の光量閾値まで増加した位置を前記物体の第2の検出位置として求める第2の位置検出手段とを具備したエッジセンサと、
このエッジセンサにおける前記ラインセンサを前記透明または半透明の物体のエッジに沿って移動させる走査手段と、
このラインセンサの走査に伴って前記エッジセンサにおける前記第1および第2の位置検出手段にてそれぞれ求められた第1および第2の検出位置の変化を監視し、第1または第2の検出位置の変化量が予め設定した閾値を超えるときにイベントを発する欠陥検出手段と
を具備したことを特徴とする欠陥検査装置。 - 複数の受光セルを所定のピッチで配列したラインセンサと、このラインセンサに向けて単色平行光を投光する光源と、前記ラインセンサの出力を解析して前記単色平行光の光路に位置付けられた物体のエッジを検出する演算部とを備え、前記演算部は、透明または半透明の物体のエッジにおいて生じた光量分布パターンをその一端部から他端部に向けてサーチした際の光量が、自由空間での光量を基準として定められる第1の光量閾値まで低下した位置を前記物体の第1の検出位置として求める第1の位置検出手段と、検出した第1の検出位置から更に光量が低下した後に、前記自由空間での光量を基準として定められる第2の光量閾値まで増加した位置を前記物体の第2の検出位置として求める第2の位置検出手段とを具備したエッジセンサと、
このエッジセンサにおける前記第1および第2の位置検出手段にてそれぞれ検出される第1および第2の検出位置の差を遮光幅として求める遮光幅検出手段と、
前記エッジセンサにおける前記ラインセンサを前記透明または半透明の物体のエッジに沿って移動させる走査手段と、
前記ラインセンサの走査に伴って前記遮光幅検出手段により求められた遮光幅を監視し、該遮光幅が予め設定した閾値を超えるときにイベントを発する欠陥検出手段と
を具備したことを特徴とする欠陥検査装置。 - 複数の受光セルを所定のピッチで配列したラインセンサと、このラインセンサに向けて単色平行光を投光する光源と、前記ラインセンサの出力を解析して前記単色平行光の光路に位置付けられた物体のエッジを検出する演算部とを備え、前記演算部は、透明または半透明の物体のエッジにおいて生じた光量分布パターンをその一端部から他端部に向けてサーチした際の光量が、自由空間での光量を基準として定められる第1の光量閾値まで低下した位置を前記物体の第1の検出位置として求める第1の位置検出手段と、検出した第1の検出位置から更に光量が低下した後に、前記自由空間での光量を基準として定められる第2の光量閾値まで増加した位置を前記物体の第2の検出位置として求める第2の位置検出手段とを具備したエッジセンサと、
前記透明または半透明の物体を前記エッジセンサにおけるラインセンサと交差する方向に移動させる走査手段と、
前記物体の走査に伴って前記エッジセンサにおける前記第1および第2の位置検出手段にてそれぞれ求められる第1および第2の検出位置の変化を監視し、第1または第2の検出位置の変化量が予め設定した閾値を超えるときにイベントを発する欠陥検出手段と
を具備したことを特徴とする欠陥検査装置。 - 複数の受光セルを所定のピッチで配列したラインセンサと、このラインセンサに向けて単色平行光を投光する光源と、前記ラインセンサの出力を解析して前記単色平行光の光路に位置付けられた物体のエッジを検出する演算部とを備え、前記演算部は、透明または半透明の物体のエッジにおいて生じた光量分布パターンをその一端部から他端部に向けてサーチした際の光量が、自由空間での光量を基準として定められる第1の光量閾値まで低下した位置を前記物体の第1の検出位置として求める第1の位置検出手段と、検出した第1の検出位置から更に光量が低下した後に、前記自由空間での光量を基準として定められる第2の光量閾値まで増加した位置を前記物体の第2の検出位置として求める第2の位置検出手段とを具備したエッジセンサと、
このエッジセンサにおける前記第1および第2の位置検出手段にてそれぞれ検出される第1および第2の検出位置の差を遮光幅として求める遮光幅検出手段と、
前記透明または半透明の物体を前記エッジセンサにおけるラインセンサと交差する方向に移動させる走査手段と、
前記物体の走査に伴って前記遮光幅検出手段により求められた遮光幅を監視し、該遮光幅が予め設定した閾値を超えるときにイベントを発する欠陥検出手段と
を具備したことを特徴とする欠陥検査装置。 - 前記透明または半透明の物体はガラス板であって、前記欠陥検出手段は上記ガラス板のエッジにおける欠けまたはひび割れを検出するものである請求項1〜4のいずれか1項に記載の欠陥検査装置。
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