JP5384852B2 - 半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 - Google Patents
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Description
具体的には、(1)第2ホトレジストパターン形成時のホトレジスト中に含まれる溶剤の第1ホトレジストパターンへの浸透に伴うレジスト特性の劣化、(2)第2ホトレジスト処理中に加わる熱処理による第1ホトレジストパターンの変形(一般的な樹脂系ホトレジスト材料では150℃より加熱すると変質してしまう)、(3)第2ホトレジストパターン形成時の現像処理における第1ホトレジストパターンのレジスト寸法ズレの発生(実質的に現像時間が第2ホトレジスト処理の分だけ長くなり所望のレジスト寸法からのズレが生じる)、(4)第2ホトレジスト処理のリワーク発生時に第1ホトレジストへのダメージの発生、などの課題を克服するプロセス技術の開発が必要となっている。
基板上の一部の領域に第1のホトレジストパターンを形成する第1の工程と、少なくとも前記第1のホトレジストパターンの表面に薄膜を形成する第2の工程と、前記第1のホトレジストパターンが形成されていない部位に第2のホトレジストパターンを形成する第3の工程とを有する半導体装置の製造方法が提供される。
基板を処理する処理室と、
Si原料、酸化原料、触媒を前記処理室に供給する原料供給ユニットと、
少なくとも前記原料供給ユニットを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記Si原料及び前記触媒と、前記酸化原料と前記触媒とを、交互に前記処理室に供給するように前記原料供給ユニットを制御する基板処理装置を用いて、
前記薄膜を形成する。
基板を処理する処理室と、
Si原料を前記処理室内に供給する第1の原料供給系と、
酸化原料を前記処理室内に供給する第2の原料供給系と、
触媒を前記処理室内に供給する触媒供給系と、
前記基板を加熱する加熱ユニットと、
少なくとも前記原料供給ユニットと及び前記加熱ユニットを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記第1のホトレジストの変質温度よりも低い処理温度となるよう前記基板を加熱しつつ、
前記Si原料及び前記触媒と、前記酸化原料と前記触媒とを、交互に前記処理室に供給し、前記交互の供給を複数回繰り返すように前記加熱ユニット及び前記原料供給ユニットを制御する基板処理装置を用いて、
前記薄膜を形成する。
基板上の一部の領域に第1のホトレジストパターンを形成する第1の工程と、
少なくとも前記第1のホトレジストパターンの表面に薄膜を形成する第2の工程と、
前記第1のホトレジストパターンが形成されていない部位に第2のホトレジストパターンを形成する第3の工程と、
を有するホトレジストパターン形成方法が提供される。
所定の処理を施した基板上の一部の領域にホトレジストパターンを形成するホトレジスト処理装置と、
少なくとも前記ホトレジストパターンの表面に薄膜を形成する基板処理装置と、
を有する半導体製造装置が提供される。
基板処理装置は、
基板を処理する処理室と、
Si原料を前記処理室内に供給する第1の原料供給系と、
酸化原料を前記処理室内に供給する第2の原料供給系と、
触媒を前記処理室内に供給する触媒供給系と、
前記基板を加熱する加熱ユニットと、
少なくとも前記原料供給ユニットと及び前記加熱ユニットを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、
前記第1のホトレジストの変質温度よりも低い処理温度となるよう前記基板を加熱しつつ、
前記Si原料及び前記触媒と、前記酸化原料と前記触媒とを、交互に前記処理室に供給し、前記交互の供給を複数回繰り返すように前記加熱ユニット及び前記原料供給ユニットを制御する基板処理装置である。
本実施例に係る基板処理装置は、半導体装置(IC(Integrated Circuits))の製造に使用される半導体製造装置の一例として構成されているものである。
下記の説明では、基板処理装置の一例として、基板に対し成膜処理等をおこなう縦型の装置を使用した場合について述べる。しかし、本発明は、縦型装置の使用を前提としたものでなく、例えば、枚葉装置を使用しても良い。また、成膜のメカニズムもSi原料、酸化原料、触媒を組み合わせたSiO2膜に限定されるものではなく、例えば光エネルギーを用いた成膜技術等、低温成膜が可能な技術を適用することができる。
第1ホトレジストパターン形成工程では、ウエハ200上に形成されたハードマスク601上に第1ホトレジストパターン603aを形成する。
最初に、ウエハ200上に形成されたハードマスク601上に、第1ホトレジスト溶剤602aを塗布する(図4a)。次に、ベーキング、ArFエキシマ光源(193nm)やKrFエキシマ光源(248nm)等の光源によるマスクパターン等を用いた選択的露光、現像等を行うことで、第1ホトレジストパターン603aを形成する(図4b)。
第1ホトレジスト保護膜形成工程では、第1ホトレジストパターン形成工程にて形成された第1ホトレジストパターン603a上及び第1ホトレジストパターン603aが形成されていない部分に、薄膜を保護材として形成する。これにより、第1ホトレジストパターン603aの形状変化や膜質変化を防止して後述の第2ホトレジスト溶剤602bから保護する。以下では、基板処理装置101を使用してALD法により、保護膜としてのSiO2膜604を極低温にて成膜する例について説明する。
原料ガス供給管310にHCDを、原料ガス供給管320にH2Oを、触媒供給管330に触媒を、キャリアガス供給管510,520,530にN2を導入(流入)させた状態で、バルブ314,334,514,524,534を適宜開く。但し、バルブ324は閉じたままである。
バルブ314,334を閉じてHCD,触媒の供給を停止させるとともに、図5のように、N2をキャリアガス供給管510,520,530から処理室201に供給し続け、処理室201内をN2でパージする。パージ時間は例えば15秒とする。また15秒内にパージと真空引きの2工程があってもよい。その結果、処理室201内に残留したHCD,触媒が処理室201内から排除される。
バルブ514,524,534を開いたままで、バルブ324,334を適宜開く。バルブ314は閉じたままである。その結果、図5のように、H2Oが、N2と混合されながら原料ガス供給管320を流通してノズル420に流出し、ガス供給孔420aから処理室201に供給される。また、触媒も、N2と混合されながら触媒供給管330を流通してノズル430に流出し、触媒供給孔430aから処理室201に供給される。さらに、N2がキャリアガス供給管510を流通してノズル410に流出し、ガス供給孔410aから処理室201に供給される。処理室201に供給されたH2O,触媒はウエハ200の表面上を通過して排気管231から排気される。
バルブ324,334を閉じてH2O,触媒の供給を停止させるとともに、図5のように、N2をキャリアガス供給管510,520,530から処理室201に供給し続け、処理室201内をN2でパージする。パージ時間は例えば15秒とする。また15秒内にパージと真空引きの2工程があってもよい。その結果、処理室201内に残留したH2O,触媒が処理室201内から排除される。
第2ホトレジストパターン形成工程では、第1ホトレジスト保護膜形成工程にて第1ホトレジスト上に形成されたSiO2膜604上であって、第1ホトレジストパターン603aが形成される位置とは異なる位置に、第2ホトレジストパターン603bを形成する。
本工程では、第1ホトレジストパターン形成工程と同様の処理を行う。
最初に、第1ホトレジストの保護膜であるSiO2膜604上に、第2ホトレジスト溶剤602bを塗布する(図4d)。次に、ベーキング、ArFエキシマ光源(193nm)やKrFエキシマ光源(248nm)等による露光、現像等を行うことで、第2ホトレジストパターン603bを形成する(図4e)。
第1ホトレジスト保護膜除去工程では、第1ホトレジスト保護膜形成工程にて形成された第1ホトレジスト保護膜としてのSiO2膜604を除去する。
また、ドライエッチング方式によりSiO2膜604を除去する場合には、例えば、酸素プラズマ等を用いることができる。
105 カセット棚
107 予備カセット棚
110 カセット
111 筐体
114 カセットステージ
115 ボートエレベータ
118 カセット搬送装置
118a カセットエレベータ
118b カセット搬送機構
123 移載棚
125 ウエハ移載機構
125a ウエハ移載装置
125b ウエハ移載装置エレベータ
125c ツイーザ
128 アーム
134a,134b クリーンユニット
147 炉口シャッタ
200 ウエハ
201 処理室
202 処理炉
203 反応管
207 ヒータ
209 マニホールド
210 底板
211 天板
212 支柱
217 ボート
218 ボート支持台
219 シールキャップ
220 Oリング
231 排気管
243e バルブ
246 真空ポンプ
267 ボート回転機構
280 コントローラ
310,320 原料ガス供給管
330 触媒供給管
312,322,332 マスフローコントローラ
314,324,334 バルブ
410,420,430 ノズル
410a,420a ガス供給孔
430a 触媒供給孔
510,520,530 キャリアガス供給管
512,522,532 マスフローコントローラ
514,524,534 バルブ
601:ハードマスク(HM)
602a:第1ホトレジスト溶剤
602b:第2ホトレジスト溶剤
603a:第1ホトレジストパターン
603b:第1ホトレジストパターン
604:SiO2膜
Claims (5)
- 基板上の一部の領域に第1のホトレジストパターンを形成する第1の工程と、
前記第1のホトレジストパターンが形成された複数の基板が収容された処理室にSi原料及び触媒と、酸化原料及び触媒とを、交互に複数回供給して、少なくとも前記第1のホトレジストパターンの表面に薄膜を形成する第2の工程と、
前記第1のホトレジストパターンが形成されていない部位に第2のホトレジストパターン
を形成する第3の工程と、
を有し、
前記第2の工程では、前記薄膜の膜厚が、前記ホトレジストパターンの各パターンの間の距離の1/2の約5%となるように前記薄膜を形成する半導体装置の製造方法。 - 前記第2の工程は、前記第1のホトレジストパターンを形成する第1のホトレジストの変質温度より低い処理温度で行なう請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記酸化原料は、分子中に互いに電気陰性度の異なる複数の原子を含む請求項1もしくは2に記載の半導体装置の製造方法。
- 所定の処理を施した基板上の一部の領域にホトレジストパターンを形成するホトレジス
ト処理装置と、
複数の基板を収容する処理室と、
前記処理室にSi原料、酸化原料及び触媒を供給するガス供給系と、
前記処理室に複数の前記ホトレジストパターンが形成された基板を収容した状態で、前記処理室に前記Si原料及び前記触媒と、前記酸化原料及び前記触媒とを、交互に複数回前記処理室に供給して前記複数の基板に薄膜を形成するよう前記ガス供給系を制御する制御部と、
を有し、前記制御部は、前記薄膜の膜厚が、前記ホトレジストパターンの各パターンの間の距離の1/2の約5%となるように前記薄膜を形成するよう前記ガス供給系を制御する基板処理装置と、
を有する半導体製造装置。 - 前記基板を加熱する加熱ユニットをさらに有し、
前記制御部は、前記Si原料、前記酸化原料及び前記触媒を供給する際は、前記基板を前記ホトレジストパターンを形成するホトレジストの変質温度より低い処理温度に加熱するよう前記ガス供給系及び前記加熱ユニットを制御する請求項4に記載の半導体製造装置。
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