JP5377915B2 - 検査装置及び検査方法 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体ウエハ等の被検査体の低温検査を行う検査装置及び検査方法に関し、更に詳しくは検査室内の露点を安定化し、信頼性の高い低温検査を行うことができる検査装置及び検査方法に関するものである。
従来の検査装置は、互いに隣接するローダ室及びプローバ室を備え、ローダ室からの被検査体(例えば、半導体ウエハ)をプローバ室において電気的特性検査を行う。ローダ室は、複数の被検査体(例えば、半導体ウエハ)をカセット単位で収納する収納部と、カセットからウエハWを一枚ずつ搬出入するウエハ搬送機構と、半導体ウエハのプリアライメントを行うプリアライメント機構と、を備えている。プローバ室は、半導体ウエハを載置し且つ半導体ウエハを所望の温度に調節する温度調節機構を有する載置台と、載置台の上方に配置され且つ複数のプローブを有するプローブカードと、半導体ウエハの複数の電極パッドと複数のプローブとのアライメントを行うアライメント機構と、を備え、制御装置の制御下で、載置台上の半導体ウエハを温度調節機構で所望の温度に調節し、半導体ウエハの複数の電極パッドと複数のプローブを電気的に接触させて半導体ウエハに形成された複数のデバイスの電気的特性検査を行なうように構成されている。特に、半導体ウエハをマイナスの低温領域で検査する場合には、プローバ室を密閉し、室内の空気を所定の露点に維持し、半導体ウエハへの着霜、氷結を防止している。
而して、ローダ室及びプローバ室には搬送機構や載置台などの駆動機器があるため、駆動機器の駆動部からパーティクルやオイルミスト等の塵埃が発生し、検査不良の原因になることがある。そのため、一般的には、検査装置にFFU(Fan Filter Unit)を取り付け、検査装置内の空気を循環させてパーティクルを除去している。
例えば、特許文献1には検査装置に適用可能なミニエンバイロメント装置が記載されている。このミニエンバイロメント装置では、搬送機構等が収納された筐体の上部にFFUを取り付け、FFUで筐体内にダウンフローで清浄な空気を供給し、床面から排気するようにしている。また、特許文献2にはFFUを備えた基板処理装置が記載されている。この基板処理装置では処理チャンバとこれを囲むハウジングの二重構造の壁面を備え、ハウジングの天井に取り付けられたFFUから壁面間の空間へ清浄な空気を供給し、処理チャンバの4つの壁面に形成された孔から処理チャンバ内に清浄な空気を供給し、処理チャンバ内で螺旋気流を形成し床面側から排気している。
特開2007−220773号公報 特開2008−034648号公報
しかしながら、例えば半導体ウエハの低温検査をする場合にはプローバ室が密閉されているため、従来のFFUのように清浄な空気がプローバ室内をダウンフローで通過する形式を採用することができない。そのため、FFUを用いて清浄な空気がプローバ室内を循環する形式を採用している。ところが、FFUは大きな設置スペースが必要である上に風量が大きいため、プローバ室内の露点が安定しないという問題があった。
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、空気の循環装置をコンパクト化すると共にプローバ室内の露点を安定化し、信頼性の高い低温検査を行うことができる検査装置及び検査方法を提供することを目的としている。
本発明の請求項1に記載の検査装置は、載置台上に載置された被検査体を低温領域の所定温度に調整して上記被検査体の電気的特性検査を行うプローバ室と、上記プローバ室の側面に沿って配置され且つ上記プローバ室内の乾燥空気を除塵しながら循環させる循環装置と、上記プローバ室内で上記乾燥空気の露点を監視する露点計と、上記循環装置及び上記プローバ室内の載置台を含む機器を制御する制御装置と、を備え、上記制御装置の制御下で、上記露点計で上記乾燥空気の露点を監視し、上記監視の結果に基づいて上記乾燥空気の温度を上記被検査体への着霜及び氷結を防止する所定の露点に制御する検査装置であって、上記循環装置は、上記プローバ室内の乾燥空気を循環させる送風ユニットと、上記送風ユニットを介して循環する乾燥空気中から塵埃を除去するフィルタユニットと、を備えたことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項2に記載の検査装置は、請求項1に記載の発明において、上記プローバ室に乾燥空気を供給する手段を設けたことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項3に記載の検査装置は、請求項1または請求項2に記載の発明において、上記送風ユニットは第1のフィルタ及び送風機を有し、上記フィルタユニットは第2のフィルタを有することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項4に記載の検査装置は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の発明において、上記循環装置は放熱機器を有することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項5に記載の検査方法は、載置台上に載置された被検査体を低温領域の所定温度に調整して上記被検査体の電気的特性検査を行うプローバ室と、上記プローバ室の側面に沿って配置され且つ上記プローバ室内の乾燥空気を除塵しながら循環させる循環装置と、上記プローバ室内で上記乾燥空気の露点を監視する露点計と、上記循環装置及び上記プローバ室内の載置台を含む機器を制御する制御装置と、を備え、上記制御装置の制御下で、上記露点計で上記乾燥空気の露点を監視し、上記監視の結果に基づいて上記乾燥空気の温度を上記被検査体への着霜及び氷結を防止する所定の露点に制御する検査装置を用い、上記被検査体を上記低温領域まで冷却して電気的特性検査を行う検査方法であって、上記載置台を用いて上記被検査体を低温領域まで冷却する工程と、上記循環装置を用いて上記プローバ室内に乾燥空気を循環させる工程と、上記乾燥空気が循環する間に上記乾燥空気中の塵埃を除去する工程と、上記制御装置を用いて上記循環装置の風量を制御する工程と、を備えたことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項6に記載の検査方法は、請求項5に記載の発明において、上記プローバ室への上記循環装置の吐出風量を146〜172L/分に設定することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項7に記載の検査方法は、請求項5または請求項6に記載の発明において、上記プローバ室内に乾燥空気を供給する工程を備えたことを特徴とするものである。
本発明によれば、空気の循環装置をコンパクト化すると共にプローバ室内の露点を安定化し、信頼性の高い低温検査を行うことができる検査装置及び検査方法を提供することができる。
以下、図1〜図5に示す実施形態に基づいて本発明を説明する。尚、各図中、図1は本発明の検査装置の一実施形態を示す構成図、図2は図1に示す検査装置の正面の一部を破断して示す正面図、図3は図1に示す送風ユニットを示す斜視図、図4は図3に示す送風ユニットのファンを示す斜視図、図5は図1に示す検査装置のフィルタユニットを分解して示す斜視図である。
本実施形態の検査装置10は、例えば図1に示すように、ローダ室11、プローバ室12及び循環装置13を備え、制御装置14の制御下で循環装置13によってプローバ室12内の乾燥空気を循環させながら半導体ウエハWをマイナス領域の温度雰囲気下で電気的特性検査を行えるようになっている。従って、プローバ室12には乾燥空気を供給する配管15が接続され、低温検査時にはプローバ室12内に乾燥空気を供給し、所定の露点を確保するようにしてある。プローバ室12内が所定の乾燥空気で満たされた後、循環装置13が制御装置14の制御下で駆動しプローバ室12内の露点を一定に保持するようにしている。尚、図1において、15Aはプローバ室12内の空気を排出する配管である。
ローダ室11は、図1、図2に示すように、例えば25枚の半導体ウエハWが収納されたカセットCを収納するカセット収納部と、カセットC内の半導体ウエハWを一枚ずつ搬送するウエハ搬送機構111と、ウエハ搬送機構111で半導体ウエハWを搬送する間に半導体ウエハWのプリアライメントを行うプリアライメント機構112と、を備えている。
プローバ室12は、図1、図2に示すように、半導体ウエハWを載置する載置台121と、載置台121の上方に配置され且つ複数のプローブ122Aを有するプローブカード122と、載置台121上の半導体ウエハWの複数の電極パッドと複数のプローブ122Aのアライメントを行うアライメント機構123と、を備え、制御装置14の制御下で、載置台121とアライメント機構123が協働して、半導体ウエハWのデバイスの複数の電極パッドとプローブカード122の複数のプローブ122Aとのアライメントを行った後、半導体ウエハWの各デバイスの電気的特性検査を行うように構成されている。このプローバ室12は、気密を保持する構造になっている。
載置台121は、図2に示すように、XYテーブル124を介して半導体ウエハWをX、Y方向に移動すると共に、昇降駆動機構(図示せず)及びθ機構を介して半導体ウエハWをZ方向及びθ方向に移動する。この載置台121は温度調節機構(図示せず)を内蔵し、低温検査時に温度調節機構によって半導体ウエハWを冷却してマイナス領域の所定温度に設定することができる。尚、高温検査時には温度調節機構で半導体ウエハWを加熱して高温領域の所定温度に設定する。
アライメント機構123は、図2に示すように、載置台121とプローブカード122の間で移動する第1のカメラ123Aと、載置台11の側方に付設された第2のカメラ123Bと、第1のカメラ123Aが固定されたアライメントブリッジ123Cと、アライメントブリッジ123Cをプローバ室12の背面側とプローブセンタ(プローブカードの中心の延長線上に位置する)の間で移動案内する左右一対のガイドレール123Dと、を備えている。第1のカメラ123Aは、アライメントブリッジ123C及びガイドレール123Dを介してプローバ室の背面側からプローブセンタとの間を移動し、プローブセンタにおいてX、Y方向へ移動する載置台121上の半導体ウエハWを撮像する。第2のカメラ123Bは、載置台121を介してプローブカード122のプローブ122Aの真下へ移動し、この位置でプローブ122Aを撮像する。
また、制御装置14は、例えば循環装置13を駆動させるプログラムやその他のプログラム、更には種々のデータを記憶する記憶部(図示せず)と、種々のデータを演算処理する中央演算処理部(図示せず)と、を備えたコンピュータを主体に構成されている。
而して、循環装置13は、図1に示すように、プローバ室12内の乾燥空気をプローバ室12の背面に形成された吸引口12Aから吸引して循環させる送風ユニット131と、送風ユニット131とプローバ室12の背面に形成された吐出口12Bとの間に介在し且つ乾燥空気が循環する間に乾燥空気から塵埃を除去するフィルタユニット132と、を備え、プローバ室12の背面外側に沿って設置できる大きさにコンパクト化されている。プローバ室12の吸引口12Aと送風ユニット131、送風ユニット131とフィルタユニット132、及びフィルタユニット132とプローバ室12の吐出口12Bは、いずれも配管133を介して接続されている。
送風ユニット131は、図1〜図3に示すように、第1のフィルタ(以下、「プレフィルタ」と称す。)134、送風機(ファン)135及びこれらを収納する第1のハウジング136を備え、プローバ室12の背面に取り付けられている。プレフィルタ134は、ファン135がプローバ室12から吸引する空気から比較的粒子径が大きなパーティクルやオイルミスト等の塵埃を除去し、フィルタユニット132の負荷を軽減するためのフィルタである。プレフィルタ134としては、例えば粗塵用エアフィルタなどが用いられる。
第1のハウジング136は、図3、図4に示すように、2台のファン135を収納する矩形状で上面が開口する本体136Aと、本体136Aの上面開口を密閉し且つ2台のファン135の吸引側に装着されたプレフィルタ134を覆う蓋体136Bとからなり、内部の気密を保持する構造になっている。本体136Aは、図3に示すように、矩形状の枠体136Cと、枠体136Cの上面開口以外の5箇所の開口に着脱可能に取り付けられる板部材136Dと、を有している。本体136Aの一側面を形成する板部材136Dにはファン135の吐出側の配管接続部材133Aが取り付けられている。また、蓋体136Bは、図3に示すように、本体136Aとの接続側にプレフィルタ134を収納する矩形状部136Eと、矩形状部136Eの上面から上方に突出させて連設された四角錐台部136Fとを有している。四角錐台部136Fにはファン135の吸引側の配管接続部材133Bが取り付けられている。2台のファン135は、図4に示すように本体136Aの底面の板部材136D上に取付部材136Gによって並列配置して固定されている。尚、図3では本体136Aの内部を部分的に示すために一側面の板部材136Dが省略されている。
ファン135には図1に示すようにスイッチ回路137を介して電源回路138が接続されている。スイッチ回路137及び電源回路138は、制御装置14の制御下にある。そして、制御装置14が電源回路138の電圧を制御することによってファン135の風量を制御するようにしてある。ファン135は、小型のファンが用いられる。小型のファン135は風量が小さいため、1台のファン135ではプローバ室12内のマイナスの温度領域での乾燥空気の露点(例えば、−70℃)を安定的に保持することが難しいため、本実施形態では2台のファン135が使用されている。ファン135の風量が大きくなるとプローバ室12内の循環空気量が増えて安定した露点の確保が難しくなる。
送風ユニット131のプレフィルタ134は、プローバ室12の吸引口12Aから吸引される空気から比較的粒子径が大きなパーティクルやオイルミスト等の塵埃を除去し、フィルタユニット132の負荷を軽減するためのフィルタである。このようなフィルタとしては、例えば粗塵用エアフィルタなどが用いられる。
フィルタユニット132は、図1、図5に示すように第2のフィルタ(メインフィルタ)139及びメインフィルタ139を収納する第2のハウジング140を備え、例えばプローバ室12の背面に送風ユニット131の下方に配置して取り付けられている。メインフィルタ139は、送風ユニット131を通過した乾燥空気中に残っている粒子径の小さいパーティクルやオイルミストを除去するフィルタである。メインフィルタ139としては、例えばHEPAフィルタなどが用いられる。
第2のハウジング140は、図5に示すように、矩形の漏斗状に形成された上下の部材140A、140Bを、それぞれの拡径した開口側が嵌合して形成され、内部の気密を保持する構造になっている。第2のハウジング140の中間部には扁平な矩形状の空間が形成され、この空間にメインフィルタ139が収納されている。上側の漏斗状部材140Aは、漏斗部が四角錐台上に形成され、その上面に2台のファン135に連通する配管133に接続するための接続部材133Cが取り付けられている。下側の漏斗状部材140Bは、漏斗部が上側のものよりも深い四角錐台上に形成され、その下面にプローバ室12の吐出口12Bに連通する配管133に接続するための接続部材133Dが取り付けられている。
また、送風ユニット131とフィルタユニット132との間に放熱器(図示せず)を設けることができる。このように放熱器を設けることにより、乾燥空気が送風ユニット131を通過する間に昇温しても放熱器によって乾燥空気の温度を下げてプローバ室12内の乾燥空気の温度を安定化することができる。また、図示してないが、プローバ室12内には制御装置14の制御下にある露点計が設けられ、この露点計がプローバ室12内の露点を監視し、プローバ室12内の露点を略一定になるように制御装置14によって制御している。
循環装置13は以上の構成を有するため、プローバ室12内でパーティクルやオイルミスト等の塵埃が発生しても、制御装置14の制御下にあるファン135によってプローバ室12内の乾燥空気を循環させ、乾燥空気が循環する間にプレフィルタ134及びメインフィルタ139がこれらの塵埃を二段階で除去し、プローバ室12内の乾燥空気を常に清浄化すると共に、プローバ室12内の乾燥空気の露点を略一定に保持することができ、延いては検査の信頼性を高めることができる。
次に、上記検査装置10を用いた本発明の検査方法の一実施形態について説明する。
まず、制御装置14の制御下でローダ室11内のウエハ搬送機構111が駆動し、カセットCから半導体ウエハWを一枚搬出し、プリアライメント機構112を介してプリアライメントした後、プローバ室12内へ搬送し、載置台121上に載置する。この時、プローバ室12内には配管15、15Aを介して乾燥空気に置換されている。この乾燥空気の露点が例えば−70℃に調整されている。
載置台121上に半導体ウエハWが載置されると、載置台121の温度調節機構が載置台121上の半導体ウエハWを冷却し、例えば−60℃に設定する。この間に循環装置13が駆動し、2台のファン135によってプローバ室12内の乾燥空気を表1に示す風量で循環させる。その風量は、吸引側が128〜150L/分の範囲で、吐出側が146〜172L/分の範囲であることが好ましい。吐出側の風量と吸引側の風量の差は、プレフィルタ134等における圧力損失によるものである。上記風量で乾燥空気を循環させることによって、プローバ室12内の乾燥空気の露点の悪化を防止し、所望の露点で安定化させることができる。2台のファン135の風量が上記範囲を逸脱するとプローバ室12内の乾燥空気の露点が不安定になる虞があって、好ましくない。乾燥空気の循環風量は、プローバ室12内の容積によって適宜調節する。尚、上記風量は、プローバ室12の容量が400Lの場合である。
Figure 0005377915
上記風量で乾燥空気を循環させながら半導体ウエハWの電気的特性検査を行うことによって、常に安定した露点を有する清浄な乾燥空気雰囲気下で検査を行うことができ、信頼性の高い検査を行うことができる。
また、送風ユニット131とフィルタユニット132間に放熱器を設けることによってプローバ室12内の露点を更に安定化することができる。
以上説明したように本実施形態によれば、プローバ室12と、プローバ室12の背面に沿って配置され且つプローバ室12内の乾燥空気を循環させる循環装置13と、プローバ室12内で乾燥空気の露点を監視する露点計と、循環装置13及びプローバ室12内の載置台121を含む機器を制御する制御装置14と、を備え、制御装置13の制御下で、露点計で乾燥空気の露点を監視し、この監視の結果に基づいて乾燥空気の温度を半導体ウエハWへの着霜及び氷結を防止する所定の露点に制御する検査装置10を用い、半導体ウエハWを低温領域まで冷却して電気的特性検査を行う際に、載置台121の温度調節機構を用いて半導体ウエハWを低温領域まで冷却する工程と、循環装置13を用いてプローバ室12内の乾燥空気を循環させる工程と、乾燥空気が循環する間に乾燥空気中の塵埃を除去する工程と、制御装置14を用いて循環装置13の風量を制御する工程と、を備えているため、循環装置13をコンパクト化すると共にプローバ室12内の乾燥空気の露点の悪化を防止することにより露点を安定化し、清浄な乾燥空気雰囲気下で信頼性の高い検査を行うことができる。
また、本実施形態によれば、プローバ室12内に乾燥空気を供給する配管15を有するため、プローバ室12内の所定の露点を有する乾燥空気雰囲気を短時間で形成することができる。また、循環装置13が放熱器を備えていることにより、プローバ室12内の乾燥空気の露点を更に安定化することができる。
尚、上記実施形態では2台のファン135を備えた送風ユニット131について説明したが、プローバ室12の容量に即してファン135の設置台数は適宜変更することができる。また、上記実施形態ではプレフィルタ134を備えた送風ユニット131について説明したが、プローバ室12内で発塵しにくい場合などにはプレフィルタ134を設けなくても良い。また、上記実施形態ではプローバ室の空気を循環させる場合について説明したが、ローダ室内の空気も同時に循環させるようにしても良い。
本発明は、半導体ウエハ等の被検査体を検査する検査装置及び検査方法に好適に利用することができる。
図1は本発明の検査装置の一実施形態を示す構成図である。 図1に示す検査装置の正面の一部を破断して示す正面図である。 図1に示す送風ユニットを示す斜視図である。 図3に示す送風ユニットのファンを示す斜視図である。 図1に示す検査装置のフィルタユニットを分解して示す斜視図である。
符号の説明
10 検査装置
12 プローバ室
13 循環装置
14 制御装置
15 乾燥空気を供給する手段
121 載置台
131 送風ユニット
132 フィルタユニット
134 プレフィルタ(第1のフィルタ)
139 メインレフィルタ(第2のフィルタ)
W 半導体ウエハ(被検査体)

Claims (7)

  1. 載置台上に載置された被検査体を低温領域の所定温度に調整して上記被検査体の電気的特性検査を行うプローバ室と、上記プローバ室の側面に沿って配置され且つ上記プローバ室内の乾燥空気を除塵しながら循環させる循環装置と、上記プローバ室内で上記乾燥空気の露点を監視する露点計と、上記循環装置及び上記プローバ室内の載置台を含む機器を制御する制御装置と、を備え、上記制御装置の制御下で、上記露点計で上記乾燥空気の露点を監視し、上記監視の結果に基づいて上記乾燥空気の温度を上記被検査体への着霜及び氷結を防止する所定の露点に制御する検査装置であって、上記循環装置は、上記プローバ室内の乾燥空気を循環させる送風ユニットと、上記送風ユニットを介して循環する乾燥空気中から塵埃を除去するフィルタユニットと、を備えたことを特徴とする検査装置。
  2. 上記プローバ室に乾燥空気を供給する手段を設けたことを特徴とする請求項1に記載の検査装置。
  3. 上記送風ユニットは第1のフィルタ及び送風機を有し、上記フィルタユニットは第2のフィルタを有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の検査装置。
  4. 上記循環装置は放熱機器を有することを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の検査装置。
  5. 載置台上に載置された被検査体を低温領域の所定温度に調整して上記被検査体の電気的特性検査を行うプローバ室と、上記プローバ室の側面に沿って配置され且つ上記プローバ室内の乾燥空気を除塵しながら循環させる循環装置と、上記プローバ室内で上記乾燥空気の露点を監視する露点計と、上記循環装置及び上記プローバ室内の載置台を含む機器を制御する制御装置と、を備え、上記制御装置の制御下で、上記露点計で上記乾燥空気の露点を監視し、上記監視の結果に基づいて上記乾燥空気の温度を上記被検査体への着霜及び氷結を防止する所定の露点に制御する検査装置を用い、上記被検査体を上記低温領域まで冷却して電気的特性検査を行う検査方法であって、上記載置台を用いて上記被検査体を低温領域まで冷却する工程と、上記循環装置を用いて上記プローバ室内に乾燥空気を循環させる工程と、上記乾燥空気が循環する間に上記乾燥空気中の塵埃を除去する工程と、上記制御装置を用いて上記循環装置の風量を制御する工程と、を備えたことを特徴とする検査方法。
  6. 上記プローバ室への上記循環装置の吐出風量を146〜172L/分に設定することを特徴とする請求項5に記載の検査方法。
  7. 上記プローバ室内に乾燥空気を供給する工程を備えたことを特徴とする請求項5または請求項6に記載の検査方法。
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