JP5377053B2 - テンプレート及びその製造方法、並びにパターン形成方法 - Google Patents
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Description
(1)被加工基板上に光硬化性レジストを塗布する(塗布工程)。
(2)被加工基板とテンプレートとの位置合わせをする(アライメント工程)。
(3)テンプレートを光硬化性レジストに接触させる(プレス工程)。
(4)UV光を照射することにより光硬化性レジストを硬化させる(転写工程)。
(5)硬化した光硬化性レジストからテンプレートを離す(離型工程)。
第1の実施形態に係るテンプレートの製造方法を、図1A〜図1Fを用いて説明する。図1A〜図1Fは本実施形態に係るテンプレートの製造工程を示す断面図である。
次に、第2の実施形態について説明する。本実施形態では、第1の実施形態に係るテンプレートのパターン形成領域の少なくとも周辺部(インプリント用パターンの形成されていない余白部)に、光触媒性の物質からなる膜(光触媒膜)を形成する。さらに、インプリントレジストとして、フッ素を含有したものを用いる。
11、12、101 レジスト膜
13、13’、23、33、43、103 テンプレート
13a 第1の側面部
13b 第1の段部
13c 第2の側面部
13d 第2の段部
14、104 パターン形成領域
14a 周辺部
14b 外周部
15、105 エッジ部
16 被膜
17、107 被加工基板
18、108 インプリントレジストパターン
18a インプリントレジストパターン形成領域
19、109 隙間領域
20 光触媒膜
21 フッ素含有インプリントレジスト
21a フッ素膜
31 光硬化性レジスト
103a 側面部
103b 段部
Claims (5)
- 光インプリント法に用いるテンプレートの製造方法であって、
基板上のインプリント用パターンの形成されるパターン形成領域に第1のレジスト膜を形成し、
前記第1のレジスト膜をマスクにして、異方性エッチングにより前記基板を所定の深さまで除去することにより、前記パターン形成領域の外側に配置され、前記パターン形成領域より下方の第1の段部と、前記パターン形成領域と前記第1の段部を繋ぐ第1の側面部とを形成し、
前記パターン形成領域および前記パターン形成領域を囲う外周部に第2のレジスト膜を形成し、
前記第2のレジスト膜をマスクにして、ウェットエッチングにより前記基板を所定の深さまで除去することにより、前記第1の段部の外側に配置され、前記第1の段部より下方の第2の段部と、前記第1の段部と前記第2の段部を繋ぎ、前記第1の側面部よりも大きな表面ラフネスを有する第2の側面部とを形成する、
ことを特徴とするテンプレートの製造方法。 - 光インプリント法に用いるテンプレートであって、
基板と、
前記基板上の領域であって、インプリント用パターンを有する、パターン形成領域と、
前記パターン形成領域の外側に配置され、前記パターン形成領域より下方の第1の段部と、
前記パターン形成領域と前記第1の段部を繋ぐ、第1の側面部と、
前記第1の段部の外側に配置され、前記第1の段部より下方の第2の段部と、
前記第1の段部と前記第2の段部を繋ぎ、前記第1の側面部よりも大きな表面ラフネスを有する、第2の側面部と、
を備えることを特徴とするテンプレート。 - 請求項2に記載のテンプレートであって、
前記第1の側面部に、前記基板よりも撥水性又は撥油性の高い材料からなる被膜を備えていることを特徴とするテンプレート。 - 請求項2又は3に記載のテンプレートを用いるパターン形成方法であって、
被加工基板上のインプリントレジストパターン形成領域の内部及び境界近傍にインプリントレジストを散布し、
前記被加工基板と前記テンプレートとの位置合わせを行い、
前記テンプレートを前記インプリントレジストに接触させ、それにより、前記インプリントレジストを前記インプリントレジストパターン形成領域から隙間領域にはみ出させ、 前記インプリントレジストにUV光を照射して前記インプリントレジストを硬化させる、
ことを特徴とするパターン形成方法。 - インプリントレジストとして、フッ素を含有するインプリントレジストを用い、
テンプレートとして、請求項2又は3に記載のテンプレートであって、前記パターン形成領域の少なくとも周辺部に光触媒膜を備えたテンプレートを用いる、光インプリント法によるパターン形成方法であって、
被加工基板上のインプリントレジストパターン形成領域の内部及び境界近傍にインプリントレジストを散布し、
前記被加工基板と前記テンプレートとの位置合わせを行い、
前記テンプレートを前記インプリントレジストに接触させ、それにより、前記インプリントレジストを前記インプリントレジストパターン形成領域から隙間領域にはみ出させ、 前記インプリントレジストにUV光を照射することにより、前記インプリントレジストを硬化させるとともに、前記インプリントレジストのうち前記光触媒膜と接する部分にフッ素膜を形成する、
ことを特徴とするパターン形成方法。
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