JP6167609B2 - ナノインプリント用テンプレート、ナノインプリント用テンプレートを用いたパターン形成方法、およびナノインプリント用テンプレートの製造方法 - Google Patents
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ナノインプリント用テンプレートの凹凸形状の転写パターンを前記光硬化性膜に押し当てた状態で、前記ナノインプリント用テンプレートを介して光を照射して光硬化性膜を硬化させる工程と、前記ナノインプリント用テンプレートと被転写基板を分離させる工程と、
光硬化性膜が硬化して形成されたパターンを芯材パターンとし、ALD法により側壁材膜を堆積させる工程と、エッチバックにより側壁材膜のループ構造を切断し、芯材パターン側壁に側壁パターンを形成する工程とを有することを特徴とする。
本発明のナノインプリント用テンプレート(以下テンプレート)について説明する。
図1は本発明のテンプレートの構成を模式的に示した断面図である。基板10の基板主面20上に、転写用凹凸形状30のパターンが形成されている。転写用凹凸形状は凸部40と凹部50を有しており、半導体用の回路パターンや磁気記録メディア用の記録素子パターンなどを形成している。
図2は本発明の第1の実施形態に係るテンプレートの構成を模式的に示した平面図であり、図1の転写用凹凸形状のパターンの一部分を抜き出して示したものである。凹部50は基準面35に対して凹形状となっており、凹部50と基準面35の接辺である周辺60を有している。なお本実施形態で基準面35は図1の基板主面20の高さに一致する面としている。図2においては、凹部の平面形状の代表的な形として矩形状の凹部が一定間隔で並列に配置されているラインアンドスペースのパターン例を示している。凹部の平面形状は矩形に限られることはなく種々の形状をしていても良い。凹部の周辺の短辺側には、凹部側壁が傾斜面を有している傾斜形状側壁70が形成されており、長辺側には垂直形状側壁80が形成されている。なお本発明で言う垂直とは側壁転写プロセスでエッチバック時に側壁パターンが問題なく形成できる角度であれば良く、85度から90度が好ましい。
それによりループが切断された側壁材膜の安定した形成が可能となる。
次に、第1の実施形態の第1の変形形態について説明する。
第1の実施形態と同様な機能を果たす部分には同一符号を付し適宜説明を省略する。図6は図2の一点鎖線A−Aの断面図であり、第1の実施形態のテンプレートの第1の変形形態を示す図である。変形形態の平面図は図2と同様であり、図2のα−αの断面も図3(a)と同様である。図2に示すように凹部50の周辺の短辺側には側壁が傾斜面を有している傾斜形状側壁70が形成されており、長辺側には垂直形状側壁80が形成されている。
次に、本発明のナノインプリント用テンプレートの第1の実施形態の第2の変形形態について説明する。第1の実施形態と同様な機能を果たす部分には同一符号を付し適宜説明を省略する。図8は本発明の第2の変形形態に係るテンプレートの構成を示した平面模式図であり、図1の転写用凹凸形状のパターンの一部分を抜き出して示したものである。凹部50は基準面35に対して凹形状となっており、凹部50と基準面35の接辺である周辺60を有している。図8においては、凹部の平面形状の代表的な形として矩形状の凹部が一定間隔で並列に配置されているラインアンドスペースのパターン例を示している。凹部の平面形状は矩形に限られることはなく種々の形状をしていて良い。凹部の周辺の短辺側には、側壁が段差形状となっている段差形状側壁270が形成されており、長辺側には垂直形状側壁80が形成されている。また、図8の一点鎖線β−βの断面は、図3(a)と同一である。
次に本発明の第2の実施形態について説明する。第1の実施形態と同様な機能を果たす部分は同一名称とし適宜説明を省略する。図10は本発明の第2の実施形態に係るテンプレートの構成を模式的に示した平面図であり、図1の転写用凹凸形状のパターンの一部分を抜き出して示したものである。凸部40は基準面36より高く形成された凸形状となっており、凸部40と基準面36の接辺である周辺61を有している。 図10においては、凸部の平面形状の代表的な形として矩形状の凸部が一定間隔で並列に配置されているラインアンドスペースのパターン例を示している。凸部の平面形状は矩形に限られることはなく種々の形状をしていても良い。凸部の周辺の短辺側には、側壁が傾斜面を有している傾斜形状側壁71が形成されており、長辺側には垂直形状側壁81が形成されている。
それによりループが切断された側壁材膜の安定した形成が可能となる。
(第1の製造方法)
次に本発明のナノインプリント用テンプレートの第1の製造方法について説明する。
第1の製造方法は、第1の実施形態、または第1の実施形態の第1の変形形態のテンプレートの製造方法に対応している。図13は第1の製造方法を示すテンプレートの断面図である。まず図13(a)のように基板300上にハードマスク310を有するブランクスを準備する。ハードマスクは被転写基板の加工の際のマスクとなるものであり材質は、例えば、クロム、チタン、タンタル、珪素、アルミニウム等の金属;窒化クロム、酸化クロム、酸窒化クロム等のクロム系化合物、酸化タンタル、酸窒化タンタル、酸化硼化タンタル、酸窒化硼化タンタル等のタンタル化合物、窒化チタン、窒化珪素、酸窒化珪素等を単独で、又は任意に選択した2種以上を組み合わせて用いることができる。またその厚みは数nmから50nm程度のものが好適に用いられる。
次に本発明のナノインプリント用テンプレートの第2の製造方法について説明する。
第2の製造方法は、第1の実施形態の第2の変形形態のテンプレートの製造方法に対応している。図16は第2の製造方法を示すテンプレートの断面図である。まずは基板上にハードマスクを有するブランクスを準備し図16(a)のようにハードマスクをパターニングして、開口部を形成する。ここまでは第1の製造方法と全く同様である。
また、図18は変形例として凹部の矩形状の両方の短辺以外に、段差形状を形成する場合を示す図である。図18(a)はL字状のハードマスク開口部が複数形成されている例である。開口部の端部をレジストで覆うようにレジスト開口部を形成することで、L字状パターンの端部のみに段差形状を形成することができる。図18(b)は矩形状のハードマスク開口部が複数形成されている例であり、パターンの一方の側の短辺のみがレジストで覆われている。そのため矩形の一方の側のみに段差形状を形成することができる。図18(c)は矩形状のハードマスク開口部が複数形成されている例であり、パターンの一方の側の短辺レジストで覆われており、隣接するパターン同士でレジストに覆われている箇所が異なっている。隣接するパターンの端部が交互にレジストに覆われている。そのため矩形状のパターン端部に隣接パターンと交互に段差形状を形成できる。図18のレジスト開口部の形成の仕方は第1の製造方法にも同様に用いることができ、種々の形状のパターンの端部に段差形状または傾斜形状を有する側壁を形成可能である。
次に本発明のナノインプリント用テンプレートの第3の製造方法について説明する。図19は第3の製造方法にて第2の実施形態のテンプレートを作製した例である。まず図19(a)に示すように基板300上にハードマスク310を有する基板を準備し、レジストを塗布する。レジストには電子線感応型レジスト、または、インプリントリソグラフィ用の硬化性樹脂を用いることができる。 次に図19(b)に示すように電子線で描画、現像を行い、レジストをパターニングする。描画の際にはレジストの端部が傾斜形状となるように描画エネルギーに勾配を持たせて描画する。または、別の方法として、本発明の第1の実施形態のテンプレートにてインプリントを行うことでレジストをパターニングすることもできる。次に図19(c)に示すようにハードマスクのエッチングを行いレジスト形状がハードマスクに転写される。このときパターン端部の傾斜形状もハードマスクに転写される。 次に図19(d)に示すようにハードマスクをエッチングマスクとして被転写基板をエッチングする。所望の深さのエッチング後ハードマスクが残っているようなら、基板のエッチング後にハードマスクを除去し、ナノインプリントテンプレートが完成する。傾斜形状の制御は、レジストとハードマスクと基板のエッチングレートの比によって制御することが可能である。
テンプレートブランクスとして、大きさ6インチ角、厚さ0.25インチの合成石英ガラス基板の主面にスパッタリング法により基板エッチングマスクとして機能するハードマスクを形成した。ハードマスクの材質は基板の石英とエッチング選択比が良好なクロム膜を用い、膜厚は7nmとした。次にクロム膜上に電子線レジストを塗布し、電子線描画し、現像してレジストパターンを形成した。レジストパターンは矩形状のパターンを一定の間隔で複数配置したラインアンドスペースパターンとした。次にハードマスクであるクロム膜を酸素と塩素の混合ガスでドライエッチングした。
テンプレートブランクスとして、大きさ6インチ角、厚さ0.25インチの合成石英ガラス基板の主面にスパッタリング法により基板エッチングマスクとして機能するハードマスクを形成した。ハードマスクの材質は基板の石英とエッチング選択比が良好なクロム膜を用い、膜厚は7nmとした。次にクロム膜上に電子線レジストを塗布し、電子線描画し、現像してレジストパターンを形成した。レジストパターンは矩形状のパターンを一定の間隔で複数配置したラインアンドスペースパターンとした。次にハードマスクであるクロム膜を酸素と塩素の混合ガスでドライエッチングした。
被転写基板としては、合成石英ガラス上にハードマスクであるクロム膜が形成されているテンプレートブランクスを用いた。ブランクスにインプリント用のレジストをインクジェットにより滴下し、テンプレートを押し当て、テンプレート側から紫外線を照射させレジストを硬化させた。その後、被転写基板とテンプレートを分離させた。被転写基板上にはテンプレートの凹部と同一形状の転写凸部が形成された。
また本発明のテンプレートの製造方法は、側壁転写プロセスに用いるテンプレートの製造に有用である。その他、複雑な形状を要求する三次元構造パターンのインプリント用テンプレートの製造にも適用可能性がある。
11・・・芯材パターン
13・・・ループ構造
20・・・基板主面
30・・・転写用凹凸形状
35、36・・・基準面
40・・・凸部
50・・・凹部
60、61・・・周辺
70、71・・・傾斜形状側壁
80、81・・・垂直形状側壁
85・・・垂直形状部
90・・・凹部底面
91・・・凸部上面
110・・・被転写基板
120・・・転写凸部
121・・・転写凹部
125、126・・・芯材パターン上面
130・・・傾斜形状部
140・・・側壁材膜
145・・・側壁パターン
200・・・段差断面
210・・・段差側面
270・・・段差形状側壁
310・・・ハードマスク
320、410・・・レジスト
400・・・ハードマスク露出部
401・・・ハードマスク開口部
402・・・レジスト開口部
420・・・レジスト傾斜部
430・・・基板露出部
440・・・ハードマスク開口レジスト被覆部
450・・・短辺
460・・・長辺
Claims (8)
- ナノインプリント用テンプレートであって、
基板主面に、凸部を有する凹凸形状の転写パターンを備え、
前記凸部は、第一の側壁が傾斜形状および垂直形状を有するとともに、前記垂直形状の高さは凸部の高さの1/3以下であり、第二の側壁が垂直形状を有することを特徴とするナノインプリント用テンプレート。 - 前記凸部の平面形状は矩形形状をしており、一対の向かい合う側壁に傾斜形状および垂直形状を有し、他方の向かい合う側壁が垂直形状であることを特徴とする請求項1に記載のナノインプリント用テンプレート
- 前記ナノインプリント用テンプレートは光透過性を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のナノインプリント用テンプレート。
- 請求項3に記載のナノインプリント用テンプレートを用いたパターン形成方法であって、
被転写基板上に光硬化性膜をインクジェットにて滴下する工程と、
前記ナノインプリント用テンプレートの凹凸形状の転写パターンを前記光硬化性膜に押し当てた状態で、前記ナノインプリント用テンプレートを介して光を照射して光硬化性膜を硬化させる工程と、
前記ナノインプリント用テンプレートと被転写基板を分離させる工程と、
光硬化性膜が硬化して形成されたパターンを芯材パターンとし、ALD法により側壁材膜を堆積させる工程と、
エッチバックにより側壁材膜のループ構造を切断し、芯材パターン側壁に側壁パターンを形成する工程と
を有することを特徴とするナノインプリント用テンプレートを用いたパターン形成方法。 - 基板主面に、凹部を有する凹凸形状の転写パターンを備えたナノインプリント用テンプレートの製造方法であって、
ハードマスクを有する基板を準備する工程と、
基板上のハードマスクを加工し、ハードマスクを部分的に開口させ、ハードマスクの開口端を周辺とするハードマスク開口部を形成するハードマスク加工工程と、
基板上に樹脂レジストを設けるレジスト形成工程と、
ハードマスク開口部の周辺が、ハードマスクの開口端がレジストで覆われている第一の辺と、第一の辺を覆うレジストに覆われている箇所以外は、レジストから露出している第二の辺を有するようにレジスト開口部を形成するレジスト開口形成工程と、
前記ハードマスク開口部とレジスト開口部から露出した基板をエッチングし凹部を形成する基板エッチング工程と
を有し、
前記第一の辺を覆うレジストのハードマスク開口部上の端面が傾斜形状を有し、該傾斜形状のレジストにより、第一の辺の側壁には傾斜形状を形成し、
第二の辺の側壁にはレジストから露出したハードマスク開口端により、垂直形状を形成することを特徴とするナノインプリント用テンプレートの製造方法。 - 前記レジストの傾斜形状をしている領域は平面視上、第一の辺のハードマスク開口端を包含しており、前記基板エッチング工程において、基板エッチング中に第一の辺のハードマスク開口端がレジストから露出し、露出させたハードマスク開口端をマスクとして基板をエッチングすることで、第一の辺の側壁の凹部底面側に傾斜形状を形成し、基板主面側には垂直形状を形成することを特徴とする請求項5に記載のナノインプリント用テンプレートの製造方法。
- 基板主面に、凹部を有する凹凸形状の転写パターンを備えたナノインプリント用テンプレートの製造方法であって、
ハードマスクを有する基板を準備する工程と、
基板上のハードマスクを加工し、ハードマスクを部分的に開口させ、ハードマスクの開口端を周辺とするハードマスク開口部を形成するハードマスク加工工程と、
基板上に樹脂レジストを設けるレジスト形成工程と、
ハードマスク開口部の周辺が、ハードマスクの開口端がレジストで覆われている第一の辺と、第一の辺を覆うレジストに覆われている箇所以外は、レジストから露出している第二の辺を有するようにレジスト開口部を形成するレジスト開口形成工程と、
前記ハードマスク開口部とレジスト開口部から露出した基板をエッチングし凹部を形成する基板エッチング工程と、
レジスト表面を減膜させ、レジスト側壁を後退させるレジスト表面処理工程と
を有し、
前記基板エッチング工程と前記レジスト表面処理工程を交互に繰り返し、第一の辺の側壁には段差形状を形成し、第二の辺の側壁にはレジストから露出したハードマスク開口端により垂直形状を形成することを特徴とするナノインプリント用テンプレートの製造方法。 - 前記基板エッチング工程において、段差形状の基板主面側の最上部の段差を形成する基板エッチングは、第一の辺のハードマスク開口端もレジストから露出させておき、露出させたハードマスク開口端をマスクとしてエッチングすることを特徴とする請求項7に記載のナノインプリント用テンプレートの製造方法。
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