JP6972581B2 - インプリントモールド及びインプリントモールドの製造方法 - Google Patents
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図1は、本実施形態に係るインプリントモールドの製造方法において用いられるマスターモールドの概略構成を示す切断端面図であり、図2は、本実施形態に係るインプリントモールドの製造方法において用いられるインプリントモールド用基板の概略構成を示す切断端面図であり、図3(A)及び図3(B)は、本実施形態に係るインプリントモールドの製造方法において用いられるマスターモールドのパターン領域とインプリントモールド用基板の凸構造部との大きさの関係を示す平面図であり、図4は、本実施形態に係るインプリントモールドの製造方法の各工程を切断端面図にて示す工程フロー図であり、図5は、本実施形態に係るインプリントモールドの製造方法の各工程を切断端面図にて示す、図4に続く工程フロー図であり、図6は、本実施形態に係るインプリントモールドの製造方法の各工程を切断端面図にて示す、図5に続く工程フロー図であり、図7は、本実施形態に係るインプリントモールドの製造方法の各工程を切断端面図にて示す、図6に続く工程フロー図であり、図8は、本実施形態におけるインプリントモールド用基板の凸構造部上にレジストパターン及び反転層が形成された状態を概略的に示す部分拡大断面図である。
まず、マスターモールド10(図1参照)及びインプリントモールド用基板20(図2参照)を準備する。図1に示すように、マスターモールド10は、第1面11A及びそれに対向する第2面11Bを有する基部11と、基部11の第1面11A上に設定されたパターン領域13内に形成されている凹凸パターン12とを備える。図2に示すように、インプリントモールド用基板20は、第1面21A及びそれに対向する第2面21Bを有する基部21と、基部21の第1面21A側における平面視略中央部に位置し、当該第1面21Aから突出する凸構造部22と、基部21の第2面21B側における平面視略中央部に形成されてなる窪み部24とを備える。
次に、インプリントモールド用基板20の凸構造部22(ハードマスク層25)上に、インクジェット法によりインプリント樹脂30の液滴を離散的に供給する(図4(A)参照)。インプリント樹脂30の液滴は、マスターモールド10の凹凸パターン12のパターン密度等に応じて凸構造部22(ハードマスク層25)上に配置される。
次に、インプリントモールド用基板20の凸構造部22(ハードマスク層25)上に形成されたレジストパターン31上に、当該レジストパターン31を被覆するように反転層形成材料をスピンコート法により塗布し、反転層41を形成する(図5(A)参照)。スピンコート法により反転層41を形成すると、凸構造部22上に形成される反転層41の外周縁の膜厚TO41がその内側の膜厚TI41よりも増大する(図8参照)。特に、凸構造部22の上面22Aが略矩形状である場合(図3(A)参照)、反転層41の外周縁の膜厚TO41のうち、当該凸構造部22の上面22Aの4つの角部の近傍における反転層41の膜厚は、当該上面22Aの4つの辺上に位置する反転層41の膜厚よりもさらに増大しやすい。同様に、第1面21A(凸構造部22の外側)上に形成される反転層41の外周縁の膜厚は、その内側の膜厚よりも増大する。この反転層41の膜厚のバラツキ(凸構造部22の上面22A、基部21の第1面21A上に形成される反転層41の外周縁の膜厚の増大)は、スピンコート法における塗布条件(例えば、回転数等)や、反転層形成材料の粘度等を調整することにより改善することはできるものの、凸構造部22の上面22A及び基部21の第1面21A上に均一な膜厚の反転層41を形成することは極めて困難である。なお、凸構造部22の上面22Aが略円形状である場合であっても同様に(図3(B)参照)、反転層41の外周縁の膜厚TO41がその内側の膜厚TI41よりも増大するものの、反転層41の外周縁の膜厚TO41は略一定である。
上述のようにして形成された反転層41は、レジストパターン31の凹部311に充填されているとともに、凸部312上にも存在する。この凸部312上に存在する反転層41を除去して凸部312の頂部を露出させるとともに、凹部311に充填されている反転層41を残存させるように、反転層41をエッチングする(図5(B)参照)。
上記反転層パターン42をマスクとして用い、例えば、塩素系(Cl2+O2)のエッチングガスを用いるドライエッチング処理によりインプリントモールド用基板20の凸構造部22の上面22Aに形成されているハードマスク層25をエッチングして、ハードマスクパターン26を形成する(図5(D)参照)。
ハードマスクパターン26をマスクとしてインプリントモールド用基板20にドライエッチング処理を施し、凸構造部22の上面22Aに凹凸パターン4を形成する(図6(B)参照)。図示例において、凹凸パターン4は凹状パターンである。インプリントモールド用基板20のドライエッチングは、当該インプリントモールド用基板20の構成材料の種類に応じて適宜エッチングガスを選択して行われ得る。エッチングガスとしては、例えば、フッ素系ガス等を用いることができる。なお、本実施形態において、反転層パターン42及びレジストパターン31を除去することなく、インプリントモールド用基板20にドライエッチング処理を施し、凸構造部22の上面22Aに凹凸パターン4を形成してもよい。すなわち、図6(A)に示す工程は省略されてもよい。
本実施形態において製造されるインプリントモールド1について説明する。図9は、本実施形態におけるインプリントモールドの概略構成を示す切断端面図であり、図10は、本実施形態におけるインプリントモールドの他の態様の概略構成を示す切断端面図である。
第1面11A及びそれに対向する第2面11Bを有する基部11と、第1面11Aに形成された凹凸パターン12とを有するマスターモールド10と、第1面21A及びそれに対向する第2面21Bを有する基部21と、第1面21Aから突出する凸構造部22と、略矩形状の凸構造部22(図3(A)参照)上に設けられた金属クロムからなるハードマスク層25とを具備する、石英ガラスからなるインプリントモールド用基板20とを準備した。インプリントモールド用基板20の凸構造部22(ハードマスク層25)上に紫外線硬化性樹脂30の液滴をインクジェット法により供給し、当該紫外線硬化性樹脂30の液滴にマスターモールド10を押し当てて凹凸パターン12を転写した。
反転層形成材料をスリットコート法により塗布した以外は、実施例1と同様にして反転層パターン42を形成し、当該反転層パターン42の寸法精度を計測・評価した。その結果、寸法精度(3σ)は、X方向で3nm、Y方向で4nmであった。
2…基部
2A…第1面
2B…第2面
3…凸構造部
3A…パターン部
3B…外縁部
4…凹凸パターン
4A…凸部
4B…凹部
10…マスターモールド
11…基部
11A…第1面
11B…第2面
12…凹凸パターン
20…インプリントモールド用基板
21…基部
21A…第1面
21B…第2面
22…凸構造部
231…パターン領域
232…外縁領域
25…ハードマスク層
26…ハードマスクパターン
31…レジストパターン
41…反転層
42…反転層パターン
51…レジストパターン(レジスト層)
Claims (5)
- 第1面及び当該第1面に対向する第2面を有する基部、並びに前記基部の前記第1面から突出する凸構造部を有する基板を準備する工程と、
前記凸構造部の上面に位置するパターン領域内に、複数の凹部及び凸部を含むレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターン上に反転層形成材料をスピンコート法により塗布することで、前記レジストパターンを被覆する反転層を形成する工程と、
前記レジストパターンの前記凹部に前記反転層を埋設させた状態で、前記凸部の頂部を露出させるように前記反転層をエッチングする工程と、
エッチングされた前記反転層をマスクとして前記レジストパターンをエッチングすることで、前記凸構造部の上面に反転層パターンを形成する工程と、
前記反転層パターンをマスクとして前記基板をエッチングすることで、前記凸構造部の上面の前記パターン領域内に凹凸パターンを形成する工程と、
前記凸構造部の上面に形成された前記凹凸パターンを少なくとも被覆するようにレジスト層を形成する工程と、
前記レジスト層をマスクとして前記基部の前記第1面側にエッチング処理を施す工程と
を含み、
前記レジスト層を形成する工程において、前記凸構造部の上面における前記パターン領域を取り囲む外縁領域と、前記外縁領域に連続する領域であって、前記凸構造部を取り囲む領域とを露出させるように前記レジスト層を形成し、
前記エッチング処理を施す工程において、前記レジスト層の形成により前記第1面において露出する領域をエッチングする、インプリントモールドの製造方法。 - 前記レジストパターンの前記凹部及び前記凸部に対応する凹凸構造を有するレジストパターン形成用モールドを用いて、前記レジストパターンを前記凸構造部の上面の前記パターン領域に形成する、請求項1に記載のインプリントモールドの製造方法。
- 前記レジストパターン形成用モールドにおいて前記凹凸構造を有する凹凸領域の大きさが、前記凸構造部の上面に物理的に包含される大きさである、請求項2に記載のインプリントモールドの製造方法。
- 前記反転層形成材料が、Si及び熱硬化性樹脂を含む、請求項1〜3のいずれかに記載のインプリントモールドの製造方法。
- 第1面及び当該第1面に対向する第2面を有する基部と、
前記基部の前記第1面から突出する凸構造部と、
前記凸構造部の上面に形成されてなる、複数の凸部及び凹部を有する凹凸パターンと
を備え、
前記凸構造部は、前記凹凸パターンが形成されているパターン部と、前記パターン部よりも前記基部の前記第2面側に位置し、前記第1面側からの平面視において前記パターン部を取り囲む外縁部とを有し、
前記基部の前記第1面は、前記凸構造部を取り囲む第1領域と、前記第1領域を取り囲む第2領域とを含み、
前記第1領域は、前記外縁部及び前記第2領域よりも前記基部の前記第2面側に位置し、
前記第2領域は、前記パターン部よりも前記基部の前記第2面側に位置する、インプリントモールド。
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