JP6398284B2 - インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 - Google Patents
インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6398284B2 JP6398284B2 JP2014087188A JP2014087188A JP6398284B2 JP 6398284 B2 JP6398284 B2 JP 6398284B2 JP 2014087188 A JP2014087188 A JP 2014087188A JP 2014087188 A JP2014087188 A JP 2014087188A JP 6398284 B2 JP6398284 B2 JP 6398284B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- convex
- convex structure
- imprint mold
- structure portion
- imprint
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Description
再生対象たるインプリントモールドとして、微細凹凸パターン5を有しない以外は、図1に示す構成を有するインプリントモールド1を被験試料として準備した。
研磨スラリー:コロイダルシリカを含む研磨スラリー
研磨装置:自転公転式研磨装置
研磨パッド:スウェード系研磨パッド
研磨量:1000nm
凸部4を有しない以外は、実施例1と同様の構成を有するインプリントモールドを用意し、実施例1と同様に凸構造部3の上面3Aに研磨処理を施した。
2…基部
2A…第1の面
2B…第2の面
3…凸構造部
4…凸部
5…微細凹凸パターン
6…窪み部
Claims (7)
- 第1の面及び当該第1の面に対向する第2の面を有する基部と、
前記第1の面から突出する凸構造部及び凸部と、
前記凸構造部の上面に形成されている微細凹凸パターンと
を備え、
前記凸部は、前記第1の面側からの平面視において前記凸構造部の周囲に位置しており、
前記凸部の高さは、前記凸構造部の高さと実質的に同一であり、
前記基部の前記第2の面には、窪み部が形成されており、
前記窪み部は、前記基部の平面視において当該窪み部を前記第1の面側に投影した投影領域が前記凸構造部を包摂するように、前記第2の面に形成されており、
前記凸部は、少なくとも、前記第1の面側に前記窪み部を投影した前記投影領域よりも外側に設けられていることを特徴とするインプリントモールド。 - 前記凸部は、前記第1の面上に複数設けられており、
前記各凸部は、前記第1の面側からの平面視において、前記凸構造部を中心とした対称性を有する位置に設けられていることを特徴とする請求項1に記載のインプリントモールド。 - 前記凸構造部は、平面視略矩形状であり、
前記第1の面上における前記凸構造部の周囲の領域に、前記凸構造部と同一形状の矩形領域を複数並列配置したときに、前記凸部は、前記矩形領域のいずれかの辺上に位置することを特徴とする請求項1又は2に記載のインプリントモールド。 - 前記凸構造部は、平面視略矩形状であり、
前記凸構造部の上面は、複数の小領域と隣接する小領域間に位置する境界領域とを含み、
前記微細凹凸パターンは、前記複数の小領域のそれぞれに形成されており、
前記第1の面上における前記凸構造部の周囲の領域に、前記凸構造部と同一形状の矩形領域を複数並列配置したときに、前記凸部は、前記矩形領域内における前記境界領域に相当する領域に位置することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のインプリントモールド。 - 請求項1〜4のいずれかに記載のインプリントモールドの前記凸構造部の上面を研磨する研磨工程を有し、
前記研磨工程において、定盤に取り付けられた研磨具を前記凸構造部の上面及び前記凸部に当接させた状態で、当該研磨具に研磨剤を供給しながら前記定盤を前記インプリントモールドに対して相対的に回転させることにより、前記凸構造部の上面を研磨することを特徴とするインプリントモールド用基板の製造方法。 - 請求項5に記載のインプリントモールド用基板の製造方法により製造された前記インプリントモールド用基板の前記凸構造部の上面に微細凹凸パターンを形成するパターン形成工程を有することを特徴とするインプリントモールドの製造方法。
- 第1の面及び当該第1の面に対向する第2の面を有する基部と、
前記第1の面から突出する凸構造部及び凸部と
を備え、
前記凸部は、前記第1の面側からの平面視において前記凸構造部の周囲に位置しており、
前記凸部の高さは、前記凸構造部の高さと実質的に同一であり、
前記基部の前記第2の面には、窪み部が形成されており、
前記窪み部は、前記基部の平面視において当該窪み部を前記第1の面側に投影した投影領域が前記凸構造部を包摂するように、前記第2の面に形成されており、
前記凸部は、少なくとも、前記第1の面側に前記窪み部を投影した前記投影領域よりも外側に設けられていることを特徴とするインプリントモールド用ブランクス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014087188A JP6398284B2 (ja) | 2014-04-21 | 2014-04-21 | インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014087188A JP6398284B2 (ja) | 2014-04-21 | 2014-04-21 | インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018165676A Division JP6593504B2 (ja) | 2018-09-05 | 2018-09-05 | インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015207655A JP2015207655A (ja) | 2015-11-19 |
JP6398284B2 true JP6398284B2 (ja) | 2018-10-03 |
Family
ID=54604246
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014087188A Expired - Fee Related JP6398284B2 (ja) | 2014-04-21 | 2014-04-21 | インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6398284B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3262677A1 (en) * | 2015-02-23 | 2018-01-03 | M Cubed Technologies Inc. | Film electrode for electrostatic chuck |
JP6486206B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-03-20 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | インプリント用のテンプレート製造装置 |
JP6972581B2 (ja) * | 2017-03-01 | 2021-11-24 | 大日本印刷株式会社 | インプリントモールド及びインプリントモールドの製造方法 |
JP6874736B2 (ja) * | 2018-05-08 | 2021-05-19 | 信越化学工業株式会社 | インプリントモールド用基板の製造方法 |
JP6932271B2 (ja) * | 2018-09-28 | 2021-09-08 | 富士フイルム株式会社 | 賦形シートの製造方法 |
JP2020165785A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 大日本印刷株式会社 | 寸法測定装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6440267A (en) * | 1987-08-07 | 1989-02-10 | Shinetsu Chemical Co | Manufacture of precisely polished glass |
US20080160129A1 (en) * | 2006-05-11 | 2008-07-03 | Molecular Imprints, Inc. | Template Having a Varying Thickness to Facilitate Expelling a Gas Positioned Between a Substrate and the Template |
US7309225B2 (en) * | 2004-08-13 | 2007-12-18 | Molecular Imprints, Inc. | Moat system for an imprint lithography template |
US8850980B2 (en) * | 2006-04-03 | 2014-10-07 | Canon Nanotechnologies, Inc. | Tessellated patterns in imprint lithography |
JP2010109151A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Takashi Yunogami | 使用済み半導体ウエハの再生方法 |
JP5703600B2 (ja) * | 2010-06-21 | 2015-04-22 | 大日本印刷株式会社 | インプリント用モールド、アライメント方法、インプリント方法、およびインプリント装置 |
JP5978552B2 (ja) * | 2010-06-24 | 2016-08-24 | 大日本印刷株式会社 | ナノインプリント用モールドおよびパターン形成方法 |
JP5759195B2 (ja) * | 2011-02-07 | 2015-08-05 | キヤノン株式会社 | 型、インプリント方法及び物品製造方法 |
JP2012187762A (ja) * | 2011-03-09 | 2012-10-04 | Hitachi Maxell Ltd | 微細パターン成形品の製造方法、スタンパおよび微細パターン成形品 |
JP2013168604A (ja) * | 2012-02-17 | 2013-08-29 | Fujifilm Corp | ナノインプリント用モールドの製造方法 |
-
2014
- 2014-04-21 JP JP2014087188A patent/JP6398284B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015207655A (ja) | 2015-11-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6398284B2 (ja) | インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 | |
KR102588457B1 (ko) | 임프린트·리소그래피용 각형 기판 및 그의 제조 방법 | |
TWI461840B (zh) | 光罩基底用基板、光罩基底與光罩及其等之製造方法 | |
JP5935453B2 (ja) | 基板の製造方法、および、ナノインプリントリソグラフィ用テンプレートの製造方法 | |
JP2013088793A (ja) | 半導体用ガラス基板及びその製造方法 | |
TWI618616B (zh) | 方形模具用基板 | |
JP2017010962A (ja) | デバイス基板およびデバイス基板の製造方法並びに半導体装置の製造方法 | |
CN110156343A (zh) | 覆板及其使用方法 | |
JP6060796B2 (ja) | インプリントモールド及びダミーパターン設計方法 | |
TWI538011B (zh) | 經由多階壓印處理之高對比對準標記 | |
JP6593504B2 (ja) | インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 | |
JP6579233B2 (ja) | インプリント用モールドおよびインプリント方法 | |
JP6954436B2 (ja) | レプリカモールドの製造方法及びインプリント装置 | |
JP2017152650A (ja) | インプリントモールド用ガラス板、インプリントモールド用積層板、およびインプリントモールド | |
JP5150926B2 (ja) | インプリントモールドの製造方法 | |
JP7139751B2 (ja) | インプリントモールドの製造方法 | |
JP2016009750A (ja) | インプリントモールド用基材及びインプリントモールド | |
JP6421425B2 (ja) | テンプレート基板の製造方法、および、ナノインプリント用テンプレートの製造方法 | |
JP7192409B2 (ja) | インプリントモールド用基板及びインプリントモールド、並びにそれらの製造方法 | |
JP6972581B2 (ja) | インプリントモールド及びインプリントモールドの製造方法 | |
JP2017111371A (ja) | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用マスクの製造方法 | |
JP2016002664A (ja) | モールド製造用構造体、モールド、モールド製造用構造体の製造方法、およびモールドの製造方法 | |
JP4616061B2 (ja) | 角型基板研磨用ガイドリング及び研磨ヘッド並びに角型基板の研磨方法 | |
JP2015225996A (ja) | モールド製造用構造体の製造方法、およびモールドの製造方法 | |
JP2016039217A (ja) | モールド製造用構造体の製造方法、およびモールドの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180130 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180326 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180807 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180820 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6398284 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |