JP6957917B2 - インプリントモールド用マスクブランク及びその製造方法、インプリントモールド及びその製造方法、並びにインプリント方法 - Google Patents
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図1は、本実施形態に係るインプリントモールド用マスクブランクの概略構成を示す切断端面図であり、図2は、本実施形態に係るインプリントモールド用マスクブランクの凸構造部の近傍の概略構成を示す部分拡大切断端面図であり、図3は、本実施形態に係るインプリントモールド用マスクブランクの変形例(その1)における凸構造部の近傍の概略構成を示す部分拡大切断端面図であり、図4は、本実施形態に係るインプリントモールド用マスクブランクの変形例(その2)における凸構造部の近傍の概略構成を示す部分拡大切断端面図であり、図5は、図3に示すインプリントモールド用マスクブランクの凸構造部の第1側面の近傍の概略構成を示す側面図であり、図6は、図4に示すインプリントモールド用マスクブランクの凸構造部の第2側面の近傍の概略構成を示す側面図である。
上記構成を有するインプリントモールド用マスクブランク10を製造する方法について説明する。図7は、本実施形態におけるインプリントモールド用マスクブランク10の製造工程を切断端面図にて示す工程フロー図であり、図8は、図7に続く工程フロー図である。
本実施形態におけるインプリントモールドについて説明する。図9は、本実施形態におけるインプリントモールドの概略構成を示す切断端面図である。
上述した構成を有するインプリントモールドを製造する方法を説明する。図10は、本実施形態におけるインプリントモールドの製造方法の各工程を切断端面にて示す工程フロー図である。
まず、テンプレート30(図11参照)と、本実施形態に係るインプリントモールド用マスクブランク10(図1参照)とを準備する。図11に示すように、テンプレート30は、第1面311及びそれに対向する第2面312を有する基部31と、基部31の第1面311上に設定されたパターン領域33内に形成されている凹凸パターン32とを備える。
次に、インプリントモールド用マスクブランク10の凸構造部12のパターン形成面121(ハードマスク層)上に、インクジェット法によりインプリント樹脂40の液滴を離散的に供給する(図10(A)参照)。インプリント樹脂40の液滴は、テンプレート30の凹凸パターン32のパターン密度等に応じて凸構造部12のパターン形成面121(ハードマスク層)上に配置される。
上記レジストパターンをマスクとして用い、例えば、塩素系(Cl2+O2)のエッチングガスを用いるドライエッチング処理によりインプリントモールド用マスクブランク10の凸構造部12のパターン形成面121に形成されているハードマスク層をエッチングして、ハードマスクパターンを形成する。
ハードマスクパターンをマスクとしてインプリントモールド用マスクブランク10にドライエッチング処理を施し、凸構造部12のパターン形成面121に凹凸パターン4を形成する(図10(D)参照)。図示例において、凹凸パターン4は凹状パターンである。インプリントモールド用マスクブランク10のドライエッチングは、当該インプリントモールド用マスクブランク10の構成材料の種類に応じて適宜エッチングガスを選択して行なわれ得る。エッチングガスとしては、例えば、フッ素系ガス等を用いることができる。最後にハードマスクパターンを除去することで、インプリントモールド1が製造される(図9参照)。
本実施形態におけるインプリント方法について説明する。図13は、本実施形態におけるインプリント方法の各工程を切断端面にて示す工程フロー図である。
2…基部
2A…第1面
2B…第2面
3…凸構造部
3A…パターン形成面
3B…第1側面
3C…第2側面
10…インプリントモールド用マスクブランク
11…基部
111…第1面
112…第2面
12…凸構造部
121…パターン形成面
123…第1側面
124…第2側面
125…凹状溝部
Claims (13)
- 第1面及び当該第1面に対向する第2面を有する基部と、
前記基部の前記第1面から突出する凸構造部と
を備え、
前記凸構造部は、前記基部の前記第1面に略平行なパターン形成面と、前記パターン形成面の外周縁に一端が連続する第1側面と、前記第1側面の一端に対向する他端に連続する第2側面とを有し、
前記第1側面は、前記パターン形成面に対して90°未満の角度で傾斜しており、
前記第2側面と前記第1面との連続部に、前記凸構造部を取り囲む周状の凹状溝部が形成されている、インプリントモールド用マスクブランク。 - 前記第1側面の前記パターン形成面に対するなす角度は、前記第2側面の前記パターン形成面に対するなす角度よりも小さい、請求項1に記載のインプリントモールド用マスクブランク。
- 前記第1側面の前記パターン形成面に対するなす角度は、30°〜85°である、請求項1又は2に記載のインプリントモールド用マスクブランク。
- 前記第1側面の前記パターン形成面に対するなす角度は、40°〜70°である、請求項1又は2に記載のインプリントモールド用マスクブランク。
- 前記第2側面の前記パターン形成面に対するなす角度は、略90°である、請求項1〜4のいずれかに記載のインプリントモールド用マスクブランク。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のインプリントモールド用マスクブランクを製造する方法であって、
第1面及び当該第1面に対向する第2面を有する基板を準備し、前記基板の前記第1面上に、前記凸構造部に対応するレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記基板の前記第1面をエッチングする工程と
を有し、
前記凸構造部の前記パターン形成面の外周縁に一端が連続する前記第1側面が、前記パターン形成面に対して90°未満の角度で傾斜するように、前記基板の前記第1面をエッチングする、インプリントモールド用マスクブランクの製造方法。 - 第1面及び当該第1面に対向する第2面を有する基部と、
前記基部の前記第1面から突出する凸構造部と、
前記凸構造部における前記基部の前記第1面に略平行なパターン形成面に形成されてなる凹凸パターンと
を備え、
前記凸構造部は、前記パターン形成面の外周縁に一端が連続する第1側面と、前記第1側面の一端に対向する他端に連続する第2側面とを有し、
前記第1側面は、前記パターン形成面に対して90°未満の角度で傾斜しており、
前記第2側面と前記第1面との連続部に、前記凸構造部を取り囲む周状の凹状溝部が形成されている、インプリントモールド。 - 前記第1側面の前記パターン形成面に対するなす角度は、前記第2側面の前記パターン形成面に対するなす角度よりも小さい、請求項7に記載のインプリントモールド。
- 前記第1側面の前記パターン形成面に対するなす角度は、30°〜85°である、請求項7又は8に記載のインプリントモールド。
- 前記第1側面の前記パターン形成面に対するなす角度は、40°〜70°である、請求項7又は8に記載のインプリントモールド。
- 前記第2側面の前記パターン形成面に対するなす角度は、略90°である、請求項7〜10のいずれかに記載のインプリントモールド
- 第1面及び当該第1面に対向する第2面を有する基部、並びに前記基部の前記第1面に形成されてなる凹凸構造を有するテンプレートと、請求項1〜5のいずれかに記載のインプリントモールド用マスクブランクとを準備する工程と、
前記テンプレートの前記第1面と前記インプリントモールド用マスクブランクの前記パターン形成面との間に介在させたレジスト膜に前記凹凸構造を転写し、複数の凹部及び凸部を有するレジストパターンを前記パターン形成面上に形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクとして前記インプリントモールド用マスクブランクの前記パターン形成面をエッチングすることで、前記パターン形成面に凹凸パターンを形成する工程と
を有する、インプリントモールドの製造方法。 - 請求項7〜11のいずれかに記載のインプリントモールドと、第1面及び当該第1面に対向する第2面を有する被転写基板とを準備する工程と、
前記インプリントモールドの前記パターン形成面と前記被転写基板の前記第1面との間にインプリント樹脂を介在させ、前記インプリント樹脂に前記インプリントモールドの凹凸パターンを転写する工程と、
前記凹凸パターンが転写された前記インプリント樹脂と前記インプリントモールドとを引き離す工程と
を有する、インプリント方法。
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JP2017054594A JP6957917B2 (ja) | 2017-03-21 | 2017-03-21 | インプリントモールド用マスクブランク及びその製造方法、インプリントモールド及びその製造方法、並びにインプリント方法 |
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JP2017054594A Active JP6957917B2 (ja) | 2017-03-21 | 2017-03-21 | インプリントモールド用マスクブランク及びその製造方法、インプリントモールド及びその製造方法、並びにインプリント方法 |
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