JP4861044B2 - 基板の加工方法、パターン領域を有する部材の製造方法 - Google Patents
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Description
この技術は、ナノインプリントあるいはナノエンボッシングなどと呼ばれ、数nmオーダーの分解能を持つため、ステッパ、スキャナ等の光露光機に代わる次世代の半導体製造技術としての期待が高まっている。
さらに、立体構造をウエハレベルで一括加工可能なため、フォトニッククリスタル等の光学素子、μ−TAS(Micro Total Analysis System)などのバイオチップの製造技術、等として幅広い分野への応用が期待されている。
このような加工技術は、例えば非特許文献1に紹介されているように、半導体製造技術に適用する場合には以下のように行われる。
基板(例えば半導体ウエハ)上に光硬化型の樹脂層を有するワークに対して、当該樹脂に所望の凹凸パターンが形成されたモールドを押し当て、紫外光を照射することで樹脂を硬化させる。
これにより、樹脂層に上記パターンが転写されるので、この樹脂層をマスク層としてエッチング等を行い、基板へのパターン形成が行われる。
以下、この樹脂層のことをインプリント層と呼ぶ。
これは、モールドの描画精度の維持、重ね合せ時の歪み(熱歪み)などの制御が比較的容易であることによる。
基板501上に転写されたインプリント層502には、パターンの下地に一般に残膜503が存在する(図5(a)参照)。これを除去することにより、基板の加工を行うためのマスク層が完成する。以下、このマスク層をエッチングバリアと呼ぶ。
このような方法によることを、本明細書では単層プロセスと呼ぶことにする。
また、全面をエッチングして均等に膜厚を減らす処理のことを、本明細書ではエッチバックと呼ぶ。
また、特許文献2では、インプリント層を形成する前に下地層701を形成するプロセスが提案されている。
この方法では、インプリント層と下地層はエッチング選択比の取れる材料の組み合わせを用いており、インプリント層をエッチバックして残膜を除去した後、それをマスクに下地層をエッチングすることによりエッチングバリアを得る(図7)。
このように下地層を形成する方法を本明細書では2層プロセスと呼ぶことにする。
この方法では、インプリント層の上に、インプリント層とエッチング選択比の取れる材料による反転層801を塗布し、インプリント層の凸部が露出するまでエッチバックを行う。最後に、インプリント層の凹部に埋め込まれた反転層をマスクに、インプリント層をエッチングする(図8参照)。
このようなプロセスを本明細書では反転プロセスと呼ぶことにする。この方法では、エッチングバリアはより垂直な加工形状となり、かつ寸法精度も高くなるとされている。
また、特許文献3では、反転層にUV硬化樹脂を用い、パターンの存在しない平坦なモールドでインプリントをすることにより、反転層を平坦化し膜厚を均一にする方法が提案されている。これを本明細書ではブランクインプリントと呼ぶ。
例えば、上記特許文献1の単層プロセスを実際に行うと、樹脂層に形成されたパターンは上部のエッジが落ちて三角の形状となってしまい(図6参照)、このエッチングバリアによる基板の加工において、垂直性、及び加工精度を得るのは困難となる場合がある。
また、上記特許文献2の2層プロセスを用いても、インプリント層のエッチバック工程で既にパターンの上部のエッジが落ちた形状になってしまっているため、下地層に転写されるパターンの精度も悪化してしまう場合がある。
また、上記非特許文献2の反転プロセスにも、つぎのような問題が生じる。
このような反転プロセスでの反転層のエッチバックは、インプリント層の凸面が露出するまで行わなければならない。
反転層の塗布膜厚を面内で理想的に均一にするのは難しく、さらにインプリント層のパターンの疎密によっても変化する。
エッチング時間は反転層の膜厚が最も厚い箇所に合わせなければならないが、その一方で、反転層の膜厚の薄い箇所では、インプリント層の凹部に埋め込まれた反転層が消失してしまい、パターンが消滅してしまう場合がある(図9参照)。また、上記特許文献3のブランクインプリントによっても、反転層に用いる材料はUV硬化樹脂に限られてしまうので、材料の選択肢が非常に少ないという問題を有している。
また、この方法を用いる場合、以下に示すような問題もある。1ショット分のインプリントを行った際、図10に示すように、ショット外に樹脂が押し出され、モールド1001の縁に沿うように基板501にはみ出し部分1002を形成してしまう場合がある。
この部分は、例えば502の部分として示されるように、ショット内の有効パターン(本明細書では、実パターンと呼ぶ)の領域1003におけるインプリント層の膜厚よりも厚い場合が多く、しかもその高さの制御は難しい。
これに対してウエハ全面で一括のブランクインプリントを行う場合、はみ出し部分1002を完全に埋め込めるような、非常に厚膜の反転層を形成しなければならない。
この状態で、実パターン領域のインプリント層の膜厚と同じオーダーの膜厚制御を行うことは困難である。
また、厚膜の反転層を均質に形成することは難しい、反転層のエッチバックに多大な時間がかかる等の問題もある。
このようなことから、1ショットごとのステップアンドリピートでブランクインプリントを行わなければならなくなるが、これはスループットを下げてしまうことになる。
また、はみ出し部分1002がある場合、ブランクモールド1101は、パターニングに用いたモールド1001よりも必然的に小さくなる。これにより、インプリント層のはみ出し部分1002の近傍に、反転層によるはみ出し部分1102が形成されてしまう場合がある(図11参照)。
第一に、基板のエッチング後に、エッチングバリアは除去されなければならないが、はみ出し部分は実パターンよりも除去に時間がかかるということである。
エッチングバリアの除去は、通常はアッシング等によるドライ処理によって行うが、はみ出し部分を完全に除去するためには、実パターン領域に対して過剰なアッシングを実施することになる。
これは、スループットを下げるのみならず、デバイスに多大なプラズダメージを与える可能性がある。
第二に、はみ出し部分の近傍と、はみ出し部分から離れたところでエッチングの特性が変化してしまう可能性がある。
実パターンの凹凸が例えば数十nm〜数百nm程度であるのに対し、はみ出し部分1002の厚さは数μm以上になる場合がある。
このように、実パターンと比較してはるかに大きいオーダーの突起状の構造が近傍に存在する場合、エッチング中のプラズマの電界分布を乱したり、エッチングガスの流れを妨げてしまったりする場合がある。
また、エッチングは化学的な反応を含むため、インプリント層と反転層のような異種材料間では、エッチングガスの消費率が異なる。
そのため、インプリント層と反転層の面積の相対比が異なる領域同士では、エッチングガスと反応生成物のバランスが変化することから、一般的にエッチング性能が若干変化する。
はみ出し部分1002が実パターンのインプリント層よりもはるかに膜厚の厚い立体構造を持つ場合、インプリント層の露出面積は非常に大きくなり、はみ出し部分近傍で、エッチング性能の多大な変化を引き起こす場合がある。
本発明の基板の加工方法は、基板上に、凹凸パターンが形成されたパターン形成領域と、該パターン形成領域からはみ出した、はみ出し領域とが形成された第1の層を有する部材を準備する工程と、
前記第1の層における前記パターン形成領域と前記はみ出し領域とを含む層上に、前記パターン形成領域の凹凸パターンにおける凹部を埋めるように第2の層を形成する工程と、
前記第1の層を、前記はみ出し領域のみが露出し、前記パターン形成領域の凸部は露出していない状態まで、機械的除去加工によって平坦化する工程と、
前記第2の層をマスクとして、前記はみ出し領域を前記パターン形成領域の凹凸パターンにおける凹部と同じ膜厚までエッチングする工程と、
前記エッチングされたはみ出し領域を含む前記第2の層上に、第3の層を形成する工程と、
前記第3の層の表面を化学的機械的研磨によって平坦化する工程と、
を有することを特徴とする。
また、本発明の基板の加工方法は、前記平坦化する工程において、前記第3の層の表面を前記化学的機械的研磨によって、前記パターン形成領域の凹凸パターンにおける凸部が露出するまで加工した後、前記第3の層をマスクとして前記基板をエッチングすることを特徴とする。
また、本発明の基板の加工方法は、前記第1の層を有する部材を準備する工程において、前記パターン形成領域の凹凸パターンを、型成形によって形成することを特徴とする。
また、本発明の基板の加工方法は、前記第1の層を、アクリル系、あるいはエポキシ系のUV硬化樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれかによって形成することを特徴とする。
また、本発明の基板の加工方法は、前記第2の層を、無機SOGあるいは有機SOGにおけるSiO2をベースとした材料、またはSiを含有するレジストによる材料のいずれかによって形成することを特徴とする。
また、本発明のパターン領域を有する部材の製造方法は、上記したいずれかに記載の基板の加工方法を用いてパターン領域を有する部材を製造することを特徴とする。
また、本発明のパターン領域を有する部材の製造方法における上記部材は、半導体、光学素子、又は、バイオチップ、のうちのいずれかであることを特徴とする。
これにより、反転層の膜厚を面内で均一にすることにより、パターンの部分的消失を防ぐことができ、同時にインプリント層のはみ出し部分における、実パターン領域の面よりも上に突出している突起部分を容易に除去することが可能となる。
これにより、基板エッチング後のエッチングバリア除去時に過剰なアッシングを行う必要がなくなり、プラズマダメージを抑制することができる。
また、はみ出し部分の近傍でエッチング結果が不均一となるのを防ぐことができる。
基板上にパターン領域とはみ出し領域とからなる第1の層、その上に第2の層を有する部材を表面側から平坦化する際には、上記したCMPが適用できることは勿論であるが、機械的な研削や研磨などを組み合わせて平坦化を行うこともできる。例えば、まず、機械的な平坦化処理(研磨や研削など)により、第1の平坦化処理を行い、その後、CMPによる第2の平坦化処理を行うことができる。
図1に本実施例におけるインプリントを用いた基板の加工方法を示す模式的断面図を示す。
この図1には、ウエハ基板101上に、インプリント層102を形成後、インプリント層102上に反転層103を形成した状態が示されている。
図1において、101は基板、102はインプリント層、103は反転層、104は実パターン領域である。
また、105は、はみ出し部分であり、106は、はみ出し部分の突起部分である。
また反転層103は、例えば無機SOG、有機SOG等のSiO2をベースとしたもの、あるいはSi含有レジスト等が適用可能で、スピンコート、スパッタ、CVD等による方法で形成される。
反転層103をエッチングするガス系は、フルオロカーボン系(CF系)のガス(例えば、CF4、CHF3など)が用いられる。
また、インプリント層をエッチングするガス系は、N2とH2の混合ガス、NH3ガス、N2とNH3の混合ガス、O2ガス等から適宜選択される。
また、化学的除去加工は、材料によって除去されるレートが大きく異なったり、異種材料の面積比によって除去性能が変化してしまったりする場合が多い。
これに対し、CMPによれば、材質に依存せずほぼ均一に除去することが可能である。
例えば、図1の102はアクリル系の光硬化性樹脂やエポキシ系の光硬化性樹脂が硬化した状態を示している。103としては、SOG(Spin On Glass)やSi含有レジストである。このような材料を選択することで、両者間にエッチング選択性が生まれる。
理想的には、図2(c)に示すようにインプリント層の上面が露出するまで平坦化するのが良い。
その理由としては、まず反転層のエッチバックが不要となるため、スループットが高くなるということが挙げられる。
次に、反転層のエッチバックという化学的な反応を多く含む加工を行わずに、CMPによる加工のみで処理を行えば、インプリント層と反転層の面積比によって除去性能が局所的に不均一になるということは起こりにくいということが挙げられる。
その状態で、インプリント層の凸部が露出するまでCMPによる加工を行うと、インプリント層の微細パターンの凹部に埋め込まれている反転層が剥がれて、パターン欠損を引き起こすことがある。
これに対しては、図2(b)に示すように、反転層の平坦化は完了し、実パターン領域のインプリント層の上面は露出していないという状態で、CMPによる加工を止めるという方法を用いる。
反転層の残りは、エッチバックする。この場合においても、はみ出し部分のインプリント層は露出してしまうが、はみ出し部分付近の反転層が多少剥がれることがあったとしても、実パターン領域への影響はない。
また、はみ出し部分のインプリント層の露出がエッチングの均一性に影響する可能性もあるが、少なくとも突起部106が既に除去されているため、影響は少ない。
例えば、エッチングバリアをマスクとして基板のエッチングを行った際、はみ出し部分の下の基板がエッチングされてしまう場合が生じる(図3参照)。
このようなことが問題となる場合には、図2(a)あるいは図2(b)の状態から、追加工を行うことにより、はみ出し部分の下の基板をエッチングしない処理が可能となる。
例えば、図2(a)からの加工例を図4に示す。
この加工例によれば、露出しているインプリント層は、はみ出し部分のみであるので、反転層103をマスクに、はみ出し部分のインプリント層のみをエッチングし、つぎのように加工することができる。
まず、はみ出し部分の上面を、インプリント層の凹部と同等の膜厚になるまでエッチングする(図4(a))。
その後、反転層103の上に第二の反転層401を形成する(図4(b))。
第二の反転層401は、第一の反転層103と同じ材料、あるいは成分が近く、エッチングに対して同等の性質を持つ材料が望ましい。
次に、反転層401を平坦化する(図4(c))。この工程は、CMP等の化学的機械的研磨加工でも良いが、はみ出し部分の突起部分が既に除去されているため、ブランクインプリントによる全面平坦化も可能である。
以上の処理により、はみ出し部分の下の基板をエッチングせずに残すことが出来る(図4(d))。はみ出し領域の下の基板には、アライメント用のマークが形成されている場合があり、図4に記載した手法により、当該マークが除去されたり消失することを避けることができる。また、はみ出し領域とそれに隣接するパターン領域とにおける凹凸の疎密比に大きな隔たりがあると、エッチング特性が変化することがあるが、本実施例によればそのような変化を抑制することもできる。
102:インプリント層
103:反転層
104:実パターン領域
105:はみ出し部分
106:はみ出し部分の突起部分
401:反転層
501:基板
502:インプリント層
503:残膜
701:下地層
801:反転層
1001:モールド
1002:はみ出し部分
1003:実パターン領域
1101:モールド
1102:はみ出し部分
Claims (7)
- 基板上に、凹凸パターンが形成されたパターン形成領域と、該パターン形成領域からはみ出した、はみ出し領域とが形成された第1の層を有する部材を準備する工程と、
前記第1の層における前記パターン形成領域と前記はみ出し領域とを含む層上に、前記パターン形成領域の凹凸パターンにおける凹部を埋めるように第2の層を形成する工程と、
前記第1の層を、前記はみ出し領域のみが露出し、前記パターン形成領域の凸部は露出していない状態まで、機械的除去加工によって平坦化する工程と、
前記第2の層をマスクとして、前記はみ出し領域を前記パターン形成領域の凹凸パターンにおける凹部と同じ膜厚までエッチングする工程と、
前記エッチングされたはみ出し領域を含む前記第2の層上に、第3の層を形成する工程と、
前記第3の層の表面を化学的機械的研磨によって平坦化する工程と、
を有することを特徴とする基板の加工方法。 - 前記平坦化する工程において、前記第3の層の表面を前記化学的機械的研磨によって、前記パターン形成領域の凹凸パターンにおける凸部が露出するまで加工した後、前記第3の層をマスクとして前記基板をエッチングすることを特徴とする請求項1に記載の基板の加工方法。
- 前記第1の層を有する部材を準備する工程において、前記パターン形成領域の凹凸パターンを、型成形によって形成することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板の加工方法。
- 前記第1の層を、アクリル系、あるいはエポキシ系のUV硬化樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれかによって形成することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板の加工方法。
- 前記第2の層を、無機SOGあるいは有機SOGにおけるSiO2をベースとした材料、またはSiを含有するレジストによる材料のいずれかによって形成することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の基板の加工方法。
- パターン領域を有する部材の製造方法であって、
請求項1乃至5のいずれか1項に記載の基板の加工方法を用いてパターン領域を有する部材を製造することを特徴とする部材の製造方法。 - 前記部材は、半導体、光学素子、又は、バイオチップ、のうちのいずれかであることを特徴とする請求項6に記載の部材の製造方法。
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