JP5374848B2 - 投射光学系 - Google Patents
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Description
本発明の実施形態は、投射光学系及び画像投射装置に関する。
PTZ < −0.0115
を満たすことを特徴とする投射光学系である。
Z=X2・x2+Y2・y2+X2Y・x2y+Y3・y3+X4・x4+X2Y2・x2y2+Y4・y4+X4Y・x4y+X2Y3・x2y3+Y5・y5+X6・x6+X4Y2・x4y2+X2Y4・x2y4+Y6・y6+・・(1)
で表される形状である。
実施例1の諸元を表1に示す。
Z=c・r2/[1+√{1−(1+k)c2r2}]+Ar4+Br6+Cr8・・・
という非球面式となり、k、A、B、C・・・の値を与えて形状を特定する。以下他の実施例においても同様である。
PTZ < −0.0115 .......(2)
とすることにより、第2光学系の正の屈折力を持った反射ミラー134の大きさ(面積)を小さくすることが出来る。(本発明の第十四の実施形態)
これは、正の屈折力を持った反射ミラーは、その拡大倍率が大きくなるにつれて画角に起因する像面湾曲が大きくなるので、それを小さくするために、像の大きさを一定とすると、中間像(正の屈折力を持った反射ミラーにとっては物体)を大きくし正の屈折力を持った反射ミラーの持つ拡大倍率を小さくしなければならなかった。しかし、条件式(2)のように第1光学系のペッツバール和を大きなマイナスの値にすることにより、第1光学系が作る像、中間像の像面湾曲を大きく物体側に湾曲することができ、正の屈折力を持った反射ミラーで発生する像面湾曲を大きく打ち消すことが出来るため、正の屈折力を持った反射ミラーの拡大倍率を大きくすることが出来る。このことにより中間像を小さくすることが出来、それに伴い正の屈折力を持った反射ミラー自体も小さくすることができる。
また表22に各実施例の第1光学系のペッツバール和と正の第2光学系の屈折力を持った反射ミラーサイズの表を示す。
付記(1):第一の画像と共役な第二の画像を形成する第一の光学系、及び、該第二の画像からの光を反射する反射光学素子を含むと共に該第二の画像と共役な第三の画像を被投射面に投射する第二の光学系を含む、投射光学系において、前記第一の光学系は、前記第二の光学系のペッツバール和の符号と反対の符号を備えたペッツバール和を有することを特徴とする投射光学系。
第一の画像と共役な第二の画像を形成する第一の光学系、及び、
該第二の画像からの光を反射する反射光学素子を含むと共に該第二の画像と共役な第三の画像を被投射面に投射する第二の光学系
を含む、投射光学系において、
前記第一の光学系は、前記第二の光学系のペッツバール和の符号と反対の符号を備えたペッツバール和を有することを特徴とする投射光学系。
共役面A上にある画像情報を表示する画像形成素子から射出した複数の光束を、共役面Bに斜めから入射させて共役面B上に前記画像形成素子によって形成された画像の拡大画像を形成可能な投射光学系において、
少なくとも第1光学系と第2光学系とを有し、
第1光学系と第2光学系の間に前記複数の光束が略収束化された画像形成素子の中間像を有し、
第1光学系の屈折力を持った光学系は前記光束を透過するレンズ系のみで構成され、第1光学系の屈折力のみで前記中間像を形成し、
第2光学系は前記中間像の直後に前記光束を反射させる正の屈折力を持った反射ミラーを含んだ反射光学系で、
前記第1光学系は、前記第2光学系で発生するペッツバール和成分を補償するように構成させていることを特徴とする投射光学系。
共役面A上にある画像情報を表示する画像形成素子から射出した複数の光束を、共役面Bに斜めから入射させて共役面B上に前記画像形成素子によって形成された画像の拡大画像を形成可能な投射光学系において、
少なくとも第1光学系と第2光学系とを有し、
第1光学系と第2光学系の間に前記複数の光束が略収束化された画像形成素子の中間像を有し、
第1光学系の屈折力を持った光学系は前記光束を透過するレンズ系と第1光学系の光軸に回転対称の負の屈折力を持った反射ミラーで構成され、第1光学系の屈折力のみで前記中間像を形成し、
第2光学系は前記中間像の直後に前記光束を反射させる正の屈折力を持った反射ミラーを含んだ反射光学系で、
前記第1光学系は、前記第2光学系で発生するペッツバール和成分を補償するように構成させていることを特徴とする投射光学系。
構成(2)又は(3)に記載の投射光学系において、
第2光学系の正の屈折力を持ったミラーは、第1光学系の光軸と交わる点から周辺に向かうにしたがって曲率がゆるくなるような曲面形状を持つことを特徴とする投射光学系。
構成(2)又は(3)に記載の投射光学系において、
第2光学系の正の屈折力を持ったミラーは、画像形成素子の短軸方向と長軸方向とでパワーが異なるアナモフィックな多項式自由曲面形状であることを特徴とする投射光学系。
構成(2)又は(3)に記載の投射光学系において、
第2光学系の正の屈折力を持ったミラーは、回転対称の非球面形状であることを特徴とする投射光学系。
構成(2)又は(3)に記載の投射光学系において、
第1光学系のレンズは、少なくとも1面は非球面形状を有していることを特徴とする投射光学系。
構成(7)に記載の投射光学系において、
第1光学系の非球面は、少なくとも1箇所は第3群中に位置していることを特徴とする投射光学系。
構成(8)に記載の投射光学系において、
第1光学系の第3群の非球面は、少なくとも1箇所は正の屈折力を持ったレンズ上に位置していることを特徴とする投射光学系。
構成(7)に記載の投射光学系において、
第1光学系の非球面は、少なくとも1箇所は最も共役面Bに近いレンズ系の面であることを特徴とする投射光学系。
構成(2)又は(3)に記載の投射光学系において、
前記中間像は第1光学系の光軸に垂直な面に対して傾斜湾曲していることを特徴とする投射光学系。
構成(2)又は(3)に記載の投射光学系において、
前記画像形成素子から前記透過屈折光学系の第一面までが略テレセントリックであることを特徴とする投射光学系。
構成(2)又は(3)に記載の投射光学系において、
第1光学系のレンズの間に、反射ミラーを配置したことを特徴とする投射光学系。
構成(2)又は(3)に記載の投射光学系において、
第1光学系のペッツバール和成分は負であることを特徴とする投射光学系。
構成(14)に記載の投射光学系において、
第1光学系のペッツバール和成分をPTZとした時に下記条件
PTZ < −0.0115
を満たすことを特徴とする投射光学系。
構成(1)乃至(15)のいずれかに記載の投射光学系を搭載したことを特徴とする画像投射装置。
012,022,032,082,142,182,222,262,302,362 絞り
013,033,042,072,132,172,212,252,292,353 第1光学系
014,034,043,133,173,253 折り返しミラー
015,035,355 第2光学系
016,046,076,136,176,216,256,296,356,1110,1211 スクリーン
023,083,143,183,223,263,303,363 第1群
024,084,144,184,224,264,304,364 第2群
025,085,145,185,225,265,305,365 第3群
036 中間像
037 光軸
044,074,134,174,214,254,294 第2光学系−1
045,075,135,175,215,255,295 第2光学系−2(折り返しミラー)
047 筐体
073,213,293 回転対称反射ミラー
1101,1201 光源
1102,1202 リフレクター
1103,1203 リレーレンズ
1104,1204 偏光変換素子
1105,1205 照明均一化手段
1106 カラーホイール
1108,1208 偏光分離手段
1109,1210 投射光学系
1206 色分離手段
1209 色合成手段
Claims (3)
- 第一の画像と共役な第二の画像を形成する第一の光学系、及び、
該第二の画像からの光を反射する反射光学素子を含むと共に該第二の画像と共役な第三の画像を被投射面に投射する第二の光学系
を含む、投射光学系において、
前記第一の光学系は、絞り、前記絞りに対して前記第一の画像側における第1群、前記絞りと前記絞りに対して前記第三の画像側における最大の間隔との間における第2群、及び、前記間隔に対して前記第三の画像側における第3群で構成され、
前記第3群は、負レンズ及び前記負レンズのうち最も強い負の屈折力を備えた負レンズに対して前記第三の画像側における非球面レンズを含み、
前記第一の光学系は、前記第二の光学系のペッツバール和の符号と反対の符号を備えたペッツバール和を有すると共に、
前記第三の画像のサイズは、48インチ以上であると共に、
前記反射光学素子のサイズは、20000mm2以下であると共に、
前記第一の光学系のペッツバール和は、−0.0115未満である
ことを特徴とする投射光学系。 - 共役面A上にある画像情報を表示する画像形成素子から射出した複数の光束を、共役面Bに斜めから入射させて共役面B上に前記画像形成素子によって形成された画像の拡大画像を形成可能な投射光学系において、
少なくとも第1光学系と第2光学系とを有し、
第1光学系と第2光学系の間に前記複数の光束が略収束化された画像形成素子の中間像を有し、
第1光学系の屈折力を持った光学系は前記光束を透過するレンズ系のみで構成され、第1光学系の屈折力のみで前記中間像を形成し、
前記第1光学系は、絞りを含み、
前記第1光学系の前記レンズ系は、前記絞りに対して共役面A側における第1群、前記絞りと前記絞りに対して共役面B側における最大の間隔との間における第2群、及び、前記間隔に対して共役面B側における第3群で構成され、
前記第3群は、負レンズ及び前記負レンズのうち最も強い負の屈折力を備えた負レンズに対して共役面B側における非球面レンズを含み、
第2光学系は前記中間像の直後に前記光束を反射させる正の屈折力を持った反射ミラーを含んだ反射光学系で、
前記第1光学系は、前記第2光学系で発生するペッツバール和成分を補償するように構成させていると共に、
前記拡大画像のサイズは、48インチ以上であると共に、
前記反射ミラーのサイズは、20000mm2以下であると共に、
前記第1光学系のペッツバール和は、−0.0115未満である
ことを特徴とする投射光学系。 - 共役面A上にある画像情報を表示する画像形成素子から射出した複数の光束を、共役面Bに斜めから入射させて共役面B上に前記画像形成素子によって形成された画像の拡大画像を形成可能な投射光学系において、
少なくとも第1光学系と第2光学系とを有し、
第1光学系と第2光学系の間に前記複数の光束が略収束化された画像形成素子の中間像を有し、
第1光学系の屈折力を持った光学系は前記光束を透過するレンズ系と第1光学系の光軸に回転対称の負の屈折力を持った反射ミラーで構成され、第1光学系の屈折力のみで前記中間像を形成し、
前記第1光学系は、絞りを含み、
前記第1光学系の前記レンズ系は、前記絞りに対して共役面A側における第1群、前記絞りと前記絞りに対して共役面B側における最大の間隔との間における第2群、及び、前記間隔に対して共役面B側における第3群で構成され、
前記第3群は、負レンズ及び前記負レンズのうち最も強い負の屈折力を備えた負レンズに対して共役面B側における非球面レンズを含み、
第2光学系は前記中間像の直後に前記光束を反射させる正の屈折力を持った反射ミラーを含んだ反射光学系で、
前記第1光学系は、前記第2光学系で発生するペッツバール和成分を補償するように構成させていると共に、
前記拡大画像のサイズは、48インチ以上であると共に、
前記正の屈折力を持った反射ミラーのサイズは、20000mm2以下であると共に、
前記第1光学系のペッツバール和は、−0.0115未満である
ことを特徴とする投射光学系。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2013254229A (ja) * | 2006-09-15 | 2013-12-19 | Ricoh Co Ltd | 画像投射装置 |
Families Citing this family (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4223936B2 (ja) | 2003-02-06 | 2009-02-12 | 株式会社リコー | 投射光学系、拡大投射光学系、拡大投射装置及び画像投射装置 |
JP4668159B2 (ja) | 2006-11-06 | 2011-04-13 | ソニー株式会社 | 投射光学系および投射型画像表示装置 |
JP5030732B2 (ja) * | 2006-12-04 | 2012-09-19 | 株式会社リコー | 投射光学系及び画像投射装置 |
JP5422897B2 (ja) * | 2008-02-27 | 2014-02-19 | 株式会社リコー | 投射光学系及び画像表示装置 |
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JP2009251457A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Fujinon Corp | 投写光学系およびこれを用いた投写型表示装置 |
US20090257117A1 (en) * | 2008-04-09 | 2009-10-15 | Tomoyuki Baba | Projection optical system and projection type display using the same |
JP5359607B2 (ja) | 2008-09-02 | 2013-12-04 | 株式会社リコー | 変倍光学系、プロジェクタ |
JP5359370B2 (ja) | 2009-02-26 | 2013-12-04 | 株式会社リコー | 原稿照明装置並びにそれを用いた画像読取装置 |
KR20110120590A (ko) * | 2010-04-29 | 2011-11-04 | 삼성전자주식회사 | 광학 시스템 및 이를 적용한 영상투사장치 |
JP5703591B2 (ja) * | 2010-05-18 | 2015-04-22 | 株式会社リコー | 投射光学系及び画像投射装置 |
US8534841B2 (en) * | 2010-05-21 | 2013-09-17 | Sony Corporation | 3D optical projection device |
JP2012027113A (ja) * | 2010-07-21 | 2012-02-09 | Ricoh Co Ltd | 投射光学系及び画像投射装置 |
US8992028B2 (en) * | 2011-04-14 | 2015-03-31 | Microvision, Inc. | Free form optical redirection apparatus and devices using same |
JP5648616B2 (ja) * | 2011-10-11 | 2015-01-07 | 株式会社リコー | 画像表示装置 |
US8950874B2 (en) | 2011-09-16 | 2015-02-10 | Ricoh Company, Ltd. | Projection optical system and image display apparatus |
JP5691962B2 (ja) * | 2011-09-16 | 2015-04-01 | 株式会社リコー | 画像表示装置 |
JP5825047B2 (ja) * | 2011-10-28 | 2015-12-02 | 株式会社リコー | 画像表示装置 |
JP5849613B2 (ja) * | 2011-10-31 | 2016-01-27 | 株式会社リコー | 画像表示装置 |
JP5935131B2 (ja) | 2011-10-31 | 2016-06-15 | 株式会社リコー | 画像表示装置 |
JP5696644B2 (ja) | 2011-11-04 | 2015-04-08 | 株式会社リコー | 画像表示装置 |
US20140002802A1 (en) * | 2012-06-27 | 2014-01-02 | Young Optics Inc. | Projection apparatus and projection lens thereof |
US9784956B2 (en) | 2012-10-25 | 2017-10-10 | Young Optics Inc. | Wide-angle projection system |
CN103777314B (zh) | 2012-10-25 | 2017-10-13 | 扬明光学股份有限公司 | 广角投影镜头 |
US9158119B2 (en) | 2012-10-31 | 2015-10-13 | Ricoh Company, Ltd. | Enlargement optical system |
US8922883B2 (en) | 2012-11-05 | 2014-12-30 | Ricoh Company, Ltd. | Magnification optical system |
JP6172431B2 (ja) * | 2012-11-26 | 2017-08-02 | 株式会社リコー | 投射光学系 |
EP2835677B1 (en) * | 2012-12-28 | 2020-05-27 | Nittoh Inc. | Projection optical system and projector device |
JP6496977B2 (ja) * | 2013-03-13 | 2019-04-10 | 株式会社リコー | 投射光学系、およびプロジェクタ装置 |
JP6368988B2 (ja) | 2013-05-20 | 2018-08-08 | 株式会社リコー | 投射光学系および画像表示装置 |
JP5975089B2 (ja) * | 2014-11-13 | 2016-08-23 | 株式会社リコー | 投射光学系および画像表示装置 |
JP6037185B2 (ja) * | 2015-02-04 | 2016-12-07 | 株式会社リコー | 投射光学系および画像表示装置 |
JP5939324B1 (ja) * | 2015-02-18 | 2016-06-22 | セイコーエプソン株式会社 | 投射光学系 |
US9606425B2 (en) * | 2015-06-19 | 2017-03-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Imaging optical system, optical apparatus and image projection apparatus |
JP6206560B2 (ja) | 2015-09-28 | 2017-10-04 | 株式会社リコー | システム |
EP3343264A4 (en) * | 2016-07-04 | 2018-11-14 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Projection optical system and image projection device |
JP6533495B2 (ja) * | 2016-07-19 | 2019-06-19 | 株式会社リコー | 投射光学系および画像表示装置 |
JP2018146784A (ja) * | 2017-03-06 | 2018-09-20 | 矢崎総業株式会社 | 表示像投影装置および表示像投影システム |
JP6873877B2 (ja) * | 2017-09-25 | 2021-05-19 | キヤノン株式会社 | 光学系、および画投影装置 |
JP2019124796A (ja) * | 2018-01-16 | 2019-07-25 | キヤノン株式会社 | 結像光学系、画像投射装置およびカメラシステム |
CN108594411B (zh) * | 2018-06-04 | 2023-06-02 | 凯迈(洛阳)测控有限公司 | 一种长焦距、大口径、多视场中波红外光学系统 |
CN110095868A (zh) * | 2019-03-19 | 2019-08-06 | 北京灵犀微光科技有限公司 | 消除场曲的投影系统和可穿戴设备 |
JP7459523B2 (ja) * | 2020-01-23 | 2024-04-02 | セイコーエプソン株式会社 | 投写光学系およびプロジェクター |
US11738870B2 (en) * | 2020-03-05 | 2023-08-29 | B/E Aerospace, Inc. | Short throw projector as in-flight entertainment display |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2510080A (en) * | 1946-03-18 | 1950-06-06 | Lawrence J Cuneo | Optical projection system |
JPS5997112A (ja) | 1982-11-26 | 1984-06-04 | Olympus Optical Co Ltd | 反射型望遠レンズ |
JPH0691641B2 (ja) | 1986-10-07 | 1994-11-14 | 松下電器産業株式会社 | ビデオプロジエクタ |
JPH03101708A (ja) | 1989-09-14 | 1991-04-26 | Nikon Corp | 反射結像光学装置 |
JPH0691641A (ja) | 1992-09-14 | 1994-04-05 | Matsushita Electric Works Ltd | 熱硬化性樹脂の冷却固化方法 |
DE69427136T2 (de) * | 1993-06-30 | 2001-09-06 | Canon Kk | Bildwiedergabegerät |
US5871266A (en) * | 1995-06-26 | 1999-02-16 | Nissho Giken Kabushiki Kaisha | Projection-type display device |
US6198576B1 (en) * | 1998-07-16 | 2001-03-06 | Nikon Corporation | Projection optical system and exposure apparatus |
US6109756A (en) * | 1998-09-21 | 2000-08-29 | Nikon Corporation | Catoptric reduction projection optical system |
US6033079A (en) * | 1999-03-15 | 2000-03-07 | Hudyma; Russell | High numerical aperture ring field projection system for extreme ultraviolet lithography |
JP2003161885A (ja) * | 2001-11-29 | 2003-06-06 | Minolta Co Ltd | 斜め投影光学系 |
JP2001343589A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-12-14 | Canon Inc | 投影光学系、および該投影光学系による投影露光装置、デバイス製造方法 |
JP3727543B2 (ja) | 2000-05-10 | 2005-12-14 | 三菱電機株式会社 | 画像表示装置 |
JP3808293B2 (ja) | 2000-07-28 | 2006-08-09 | Necビューテクノロジー株式会社 | 反射型結像光学系 |
JP3864699B2 (ja) | 2000-12-06 | 2007-01-10 | 株式会社日立製作所 | 背面投射型デイスプレイ装置 |
JP2002329655A (ja) * | 2001-05-01 | 2002-11-15 | Canon Inc | 反射型縮小投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2004061959A (ja) | 2002-07-30 | 2004-02-26 | Canon Inc | 投射光学系、投射型画像表示装置および画像表示システム |
US6984044B2 (en) * | 2002-07-30 | 2006-01-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system, projection type image display apparatus, and image display system |
JP4223936B2 (ja) * | 2003-02-06 | 2009-02-12 | 株式会社リコー | 投射光学系、拡大投射光学系、拡大投射装置及び画像投射装置 |
JP2005301074A (ja) * | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Konica Minolta Opto Inc | 投影光学系 |
US7677738B2 (en) | 2004-04-27 | 2010-03-16 | Mitsubishi Electric Corporation | Image projector |
TWI289210B (en) * | 2004-10-21 | 2007-11-01 | Sony Corp | Projection optical system and projection type image display device |
JP4890771B2 (ja) * | 2005-02-28 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 投写光学系およびこれを用いた投写型表示装置 |
JP2006251910A (ja) | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 先詰まり検知方法及び装置並びに先詰まり感応制御システム |
JP4948956B2 (ja) | 2006-02-02 | 2012-06-06 | 株式会社ニデック | 角膜切開用ブレードユニットを保管するブレードケース |
-
2007
- 2007-09-04 JP JP2007229442A patent/JP5374848B2/ja active Active
- 2007-09-13 US US11/854,825 patent/US7946717B2/en active Active
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013254229A (ja) * | 2006-09-15 | 2013-12-19 | Ricoh Co Ltd | 画像投射装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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