JP5326751B2 - 固体撮像装置、固体撮像装置の信号処理方法および電子機器 - Google Patents

固体撮像装置、固体撮像装置の信号処理方法および電子機器 Download PDF

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Description

本発明は、固体撮像装置、固体撮像装置の信号処理方法および電子機器に関する。
CCD(Charge Coupled Device)イメージセンサやCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサなどの固体撮像装置において、単位画素は、多くの場合、格子状に縦横決まったピッチで配列されている(例えば、特許文献1参照)。
現在は、信号処理を行い易いという理由から、縦横同ピッチの画素配列が主流となっている。縦横同ピッチで配列された画素、即ち縦横のサイズが同じ画素は正方画素と呼ばれる。これに対して、縦横で異なるピッチで配列された画素、即ち縦横のサイズが異なる画素は長方画素と呼ばれる。
古いタイプのビデオカメラなどに用いられる固体撮像装置としては、縦のサイズが横のサイズよりも長いタイプの長方画素が多い。これは、テレビジョン放送の規格について、縦方向に並ぶ走査線の数は規定されているが、横方向は自由度があるため、テレビジョンに映す目的なら正方格子にするメリットが小さいという理由からである。
一方、パーソナルコンピュータで画像処理したり、マシンビジョンでリアルタイムに画像の特徴を抽出して認識したりする用途では、長方画素よりも正方画素の方が好ましい。したがって、ビデオカメラでもこのタイプの固体撮像装置、即ち正方画素を用いた固体撮像装置の使用が増えてきている。
また、固体撮像装置に新機能を持たせたり特性を上げたりするために、縦方向または横方向において互いに隣接する画素(以下、「隣接画素」と記述する)間で演算する手法が採られることがある。例えば、ダイナミックレンジ拡大の方法として、偶数行の画素と奇数行の画素で蓄積時間を異ならせる方法が知られている(例えば、特許文献2参照)。
しかし、このダイナミックレンジ拡大の方法では、1枚の画像からダイナミックレンジを拡大した場合に縦方向の解像度が半分になる。特許文献2では、2枚の画像を用いて縦方向の解像度を補っているが、その代わり、時間ずれによる動解像度の劣化を起こす。このように、縦方向または横方向の隣接画素間で演算をすると、その方向の解像度が異なり、長方画素からの出力と同等になる。
特開2007−189085号公報 特開平11−150687号公報
最近は、画素配列において、画素ピッチの小さい、2μm以下の画素ピッチが普通になってきている。2μm以下の画素ピッチは、カメラのレンズ(光学系)の解像度よりも小さい。画素ピッチがレンズの解像度よりも小さくなった場合には、従来の延長だと、画素の微細化によって画素の感度が減少したり、取り扱える信号量が減少したりするのに、画素の微細化によって本来上がる筈の解像度が上がらないということになる。すなわち、レンズの解像度が固体撮像装置の解像度の限界ということになる。
レンズの解像度は、一例として、図27に示すようになる。すなわち、絞りを開く(F値を小さくする)と、レンズの収差が大きくなって解像度が低下する。また、絞りを絞る(F値を大きくする)と、光の波動性に起因する回折によってやはり解像度が低下する。波動性による限界は、レイリー限界という名称で呼ばれている。
図27は、F4(F値=4)程度がもっとも解像度の高いレンズの例である。F4でも2μm以下の画素ピッチは解像できない。一眼レフカメラのレンズでは、F8程度が最も解像度が高いためF8程度のものが多い。一眼レフカメラのレンズは、F8程度からレンズの収差の方が大きくなるということなので、5μm以下の画素ピッチは解像できない。さらに、レンズ系が光学ローパスフィルタを持つときは、レンズの解像度と光学ローパスフィルタの解像度のうち悪い方の解像度が光学系の解像度となる。
ここで、画素のサイズは光電変換素子のサイズで規定されるため、画素ピッチは光電変換素子のピッチのことである。入射光が空間的に縦横等間隔でサンプリングされれば正方画素、異なる間隔でサンプリングされれば長方画素ということである。したがって、必ずしも、画素のレイアウト形状が正方形や長方形でなくとも、例えばジグソーパズルのピースのように入り組んでいてもよい。
本発明は、隣接画素間で演算を行って特性を上げたり、機能を付加したりしながら、正方画素品とほぼ同等に扱え、画像処理を容易にしたり、システムを容易に組めるようにした固体撮像装置、固体撮像装置の信号処理方法および電子機器を提供することを目的とする。
本発明はさらに、画素の微細化が解像度の限界を超えたとしても、撮像特性を上げることができる固体撮像装置、固体撮像装置の信号処理方法および電子機器を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、
縦横のサイズが異なる長方画素が複数配置され、当該長方画素を隣り合う複数個組み合わせることによって縦横のサイズが同じ正方画素となる画素アレイ部を有する固体撮像装置において、
前記複数個の長方画素を組として当該複数個の長方画素から信号を読み出し、
前記複数個の長方画素から読み出される複数の信号を処理して一つの信号として出力するようにする。
長方画素を複数個組として正方画素とし、これら複数個の長方画素から読み出される複数の信号を一つの信号として出力することで、一つの信号を正方格子(正方画素)の信号として扱うことができる。入射光が空間的に縦横等間隔でサンプリングされれば正方格子のように見せることができる。一つの信号を正方格子の信号として扱えることで、後段の正方格子対応の信号処理系の構成に変更を加える必要がなくなる。また、一つの信号を、複数個の長方画素の各信号の中から適宜選択した信号、またはこれらを合成した信号とすることで、後段の信号処理系で当該一つの信号を用いてダイナミックレンジを拡大する処理など、撮像特性を上げる処理を行うことができる。その結果、画素の微細化が解像度の限界を超えたとしても、画素の微細化に対応しつつ撮像特性の向上が可能になる。
本発明によれば、縦方向または横方向の隣接画素間で演算を行って特性を上げたり機能を付加したりしながら、正方画素品と同等に扱え、画像処理を容易にしたり、システムを容易に組めるようにすることができる。また、画素の微細化が解像度の限界を超え、画素ピッチが入射光を取り込む光学系の解像度よりも小さくなったとしても撮像特性を上げることができる。
本発明が適用されるCMOSイメージセンサのシステム構成の概略を示すシステム構成図である。 実施例1に係る画素アレイ部の画素配列の一例を示す構成図である。 実施例1に係る画素アレイ部の画素配列に対する走査方法の手順を示す概念図である。 実施例1に係るカラム回路の構成の一例を示すブロック図である。 感度が異なる3つの画素を組とする場合の画素アレイ部の画素配列の一例を示す構成図である。 実施例1の変形例1に係るカラム回路の構成例を示すブロック図である。 実施例1または変形例1に係るカラム回路の動作の時間的順序を示すタイミング図である。 実施例1の変形例2に係るカラム回路の動作の時間的順序を示すタイミング図である。 変形例2の具体例1に係るカラム回路の構成例を示すブロック図である。 変形例2の具体例2に係るカラム回路の構成例を示すブロック図である。 変形例2の具体例3に係るカラム回路の構成例を示すブロック図である。 具体例3に係るカラム回路の信号処理で用いる係数α1とi行目の画素の信号Siとの関係を示す図である。 具体例3に係るカラム回路の信号処理で用いる係数α2とi+1行目の画素の信号Si+1との関係を示す図である。 変形例2の具体例3に係るカラム回路の動作の時間的順序を示すタイミング図である。 実施例1に係る画素回路の構成の一例を示す回路図である。 裏面入射型の画素構造の一例を示す断面図である。 実施例1の変形例を示す構成図である。 実施例2に係る画素アレイ部の画素配列の一例を示す構成図である。 実施例2に係る画素アレイ部の画素配列に対する走査方法の手順を示す概念図である。 実施例2に係る画素回路の構成の一例を示す回路図である。 実施例2に係るカラム回路の構成の一例を示すブロック図である。 実施例3に係る画素回路の構成の一例を示す回路図である。 実施例3に係る画素アレイ部の画素配列に対する走査方法の手順を示す概念図である。 実施例3に係るカラム回路の構成の一例を示すブロック図である。 信号読出し系の変形例を示す構成図である。 本発明による電子機器の一例である撮像装置の構成例を示すブロック図である。 レンズのF値と解像度限界の関係を示す図である。
以下、発明を実施するための形態(以下、「実施形態」と記述する)について図面を用いて詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。

1.本発明が適用される固体撮像装置(CMOSイメージセンサの例)
2.本実施形態の特徴部分
3.変形例
4.電子機器(撮像装置の例)
<1.本発明が適用される固体撮像装置>
図1は、本発明が適用される固体撮像装置、例えばX−Yアドレス型固体撮像装置の一種であるCMOSイメージセンサのシステム構成の概略を示すシステム構成図である。ここで、CMOSイメージセンサとは、CMOSプロセスを応用して、または部分的に使用して作成されたイメージセンサである。
図1に示すように、本適用例に係るCMOSイメージセンサ10は、半導体基板(以下、「チップ」と記述する場合もある)11上に形成された画素アレイ部12と、当該画素アレイ部12と同じチップ11上に集積された周辺回路部とを有する構成となっている。本例では、周辺回路部として、例えば、垂直駆動部13、カラム処理部14、水平駆動部15、出力回路部16およびシステム制御部17が設けられている。
画素アレイ部12には、入射光量に応じた電荷量の光電荷を発生して内部に蓄積する光電変換素子を有する単位画素(以下、単に「画素」と記述する場合もある)が行列状に2次元配置されている。単位画素の具体的な構成については後述する。
画素アレイ部12にはさらに、行列状の画素配列に対して行ごとに画素駆動線121が横方向/行方向(画素行の画素の配列方向)に沿って配線され、列ごとに垂直信号線122が縦方向/列方向(画素列の画素の配列方向)に沿って配線されている。図1では、画素駆動線121について1本として示しているが、1本に限られるものではない。画素駆動線121の一端は、垂直駆動部13の各行に対応した出力端に接続されている。
垂直駆動部13は、シフトレジスタやアドレスデコーダなどによって構成され、画素アレイ部12の各画素を、全画素同時あるいは行単位等で駆動する画素駆動部である。この垂直駆動部13はその具体的な構成については図示を省略するが、一般的に、読出し走査系と掃出し走査系の2つの走査系を有する構成となっている。
読出し走査系は、単位画素から信号を読み出すために、画素アレイ部12の単位画素を行単位で順に選択走査する。単位画素から読み出される信号はアナログ信号である。掃出し走査系は、読出し走査系によって読出し走査が行われる読出し行に対して、その読出し走査よりもシャッタスピードの時間分だけ先行して掃出し走査を行う。
この掃出し走査系による掃出し走査により、読出し行の単位画素の光電変換素子から不要な電荷が掃き出されることで、当該光電変換素子がリセットされる。そして、この掃出し走査系による不要電荷の掃き出し(リセット)により、いわゆる電子シャッタ動作が行われる。ここで、電子シャッタ動作とは、光電変換素子の光電荷を捨てて、新たに露光を開始する(光電荷の蓄積を開始する)動作のことを言う。
読出し走査系による読出し動作によって読み出される信号は、その直前の読出し動作または電子シャッタ動作以降に入射した光量に対応するものである。そして、直前の読出し動作による読出しタイミングまたは電子シャッタ動作による掃出しタイミングから、今回の読出し動作による読出しタイミングまでの期間が、単位画素における光電荷の蓄積期間(露光期間)となる。
垂直駆動部13によって選択走査された画素行の各単位画素から出力される信号は、垂直信号線122の各々を通してカラム処理部14に供給される。カラム処理部14は、画素アレイ部12の画素列ごとに、選択行の各単位画素から垂直信号線122を通して出力される信号に対して所定の信号処理を行うとともに、信号処理後の画素信号を一時的に保持する。
具体的には、カラム処理部14は、各単位画素の信号を受けて当該信号に対して、例えばCDS(Correlated Double Sampling;相関二重サンプリング)によるノイズ除去や、信号増幅や、AD(アナログ−デジタル)変換などの信号処理を行う。ノイズ除去処理により、リセットノイズや増幅トランジスタの閾値ばらつき等の画素固有の固定パターンノイズが除去される。なお、ここで例示した信号処理は一例に過ぎず、信号処理としてはこれらに限られるものではない。
水平駆動部15は、シフトレジスタやアドレスデコーダなどによって構成され、カラム処理部14の画素列に対応する単位回路を順番に選択する。この水平駆動部15による選択走査により、カラム処理部14で信号処理された画素信号が順番に水平バス18に出力され、当該水平バス18によって出力回路部16に伝送される。
出力回路部16は、水平バス18によって伝送される信号を処理して出力する。出力回路部16での処理としては、バッファリングだけの処理の場合もあるし、バッファリングの前に黒レベルを調整したり、列ごとのばらつきを補正したりするなど、各種のデジタル信号処理が挙げられる。
出力回路部16は、例えば、その出力段が差動の信号を出力する差動出力構成となっている。すなわち、出力回路部16の出力段は、水平バス18によって伝送される信号を処理して正相の信号として出力するとともに、その極性を反転して逆相の信号として出力する。
正相の信号は正相の出力端子19Aを介してチップ11の外部に出力され、逆相の信号は逆相の出力端子19Bを介してチップ11の外部に出力される。出力回路部16の出力段を差動出力構成とした場合、チップ11の外部に設けられる信号処理部、例えば信号処理ICは、差動回路構成の入力段で正相および逆相の信号を受けることになる。
このように、出力回路部16の出力段を差動出力構成とし、信号処理ICの入力段を差動回路構成とすることで、出力回路部16の出力段と信号処理ICの入力段との間で電流によって情報を伝達することができる。これにより、出力回路部16の出力段と信号処理ICの入力段との間の伝送経路が長くなっても当該伝送経路での充放電がなくなるため、システムの高速化を図ることができる。
システム制御部17は、チップ11の外部から与えられるクロックや、動作モードを指令するデータなどを受け取り、また、本CMOSイメージセンサ10の内部情報などのデータを出力する。システム制御部17さらには、各種のタイミング信号を生成するタイミングジェネレータを有し、当該タイミングジェネレータで生成された各種のタイミング信号を基に垂直駆動部13、カラム処理部14および水平駆動部15などの周辺回路部の駆動制御を行う。
チップ11の周縁部には、電源端子を含む入出力端子群20,21の各端子が設けられている。入出力端子群20,21は、チップ11の内部と外部との間で電源電圧や信号のやり取りを行う。入出力端子群20,21の配設位置としては、チップ11に対する信号の入る向きや出る向きなどを考慮して使い勝手のよい位置に決められる。
<2.本実施形態の特徴部分>
上述した構成のCMOSイメージセンサ10において、本実施形態では、単位画素の縦横比を1:1(正方画素)以外、即ち単位画素の形状を縦横のサイズが異なる長方形(長方画素)にする。そして、当該単位画素を隣り合う複数個組み合わせることによって縦横のサイズが同じ正方画素となるようにし、これら組となる複数個の単位画素から一つの信号を出力することを特徴とする。
これにより、複数個の画素を単位として出力される一つの信号を正方格子(正方画素)の信号として扱うことができる。入射光が空間的に縦横等間隔でサンプリングされれば正方格子のように見せることができる。一つの信号を正方格子の信号として扱えることで、後段の周知の正方格子対応の信号処理系の構成に変更を加える必要がなくなる。
また、一つの信号を、複数個の画素の各信号の中から適宜選択した信号、またはこれらを合成した信号とすることで、後段の信号処理系で当該一つの信号を用いてダイナミックレンジを拡大する処理など、撮像特性を上げる処理を行うことができる。以下に、具体的な実施例について説明する。
[実施例1]
図2は、実施例1に係る画素アレイ部12の画素配列の一例を示す構成図である。図2に示すように、画素アレイ部12には、光電変換素子を含む単位画素30が多数行列状に2次元配置されている。ここで、単位画素30は、横(行方向)のサイズが縦(列方向)のサイズの2倍長い、即ち縦横のピッチ比が1:2のいわゆる横長の長方画素となっている。
本適用例に係るCMOSイメージセンサ10は、カラー撮像対応の場合、単位画素30の受光面上にカラーフィルタ、例えばオンチップカラーフィルタ40を持つことになる。ここで、単位画素30は、上下方向に並ぶ複数の画素、例えば2画素を組としている。そして、この組となる上下2画素には同じ色のオンチップカラーフィルタ40が配されるものとする。
オンチップカラーフィルタ40は、例えばR(赤色),G(緑色),B(青色)の各色が所定の関係で配置されている。ここでは、一例として、G,B,G,B,……の色配列と、R,G,R,G,……の色配列とが2行ごとに繰り返されるカラーコーディングとなっている。上下2画素が同じ色であるため、カラーフィルタは上下2画素分につき1枚でよい。
画素アレイ部12の画素配列において、単位画素30が縦:横のサイズ比が1:2の横長の長方画素であるため、図2に示すように、上下2画素を組とするカラーフィルタ40の個々の形状は正方形になる。2行ごとに、G,B,G,B,……の色配列と、R,G,R,G,……の色配列とが繰り返される画素配列に対して、正方形のカラーフィルタ40を配することで、全体として、オンチップカラーフィルタ40の色配列はいわゆるベイヤー配列となる。
2画素を単位とした色配列のカラーフィルタ40とすることで、次のような利点が得られる。すなわち、画素はCMOSプロセスの微細化が進展するとともにどんどん微細化されていくが、カラーフィルタについてはその微細化が画素の微細化に追いつきにくくなってきている。何故ならば、角の丸まりや剥がれを、分光特性を維持しながら微細化に対応させるのが難しいからである。
これに対して、上記構成例のカラーフィルタ40の場合、2画素分の大きさでよいために、画素の微細化に対して有利である。すなわち、上述したように、画素個々にカラーフィルタを配置するとした場合、カラーフィルタが画素の微細化に追いつかないが、複数個の画素に対してカラーフィルタを配置する訳であるから、画素の微細化に対応できることになる。
(走査方法)
ここで、実施例1に係る画素アレイ部12の画素配列、即ちG,B,G,B,……の色配列と、R,G,R,G,……の色配列とが2行ごとに繰り返される画素配列に対する走査方法について、図3を用いて説明する。この走査は、図1の垂直駆動部13による駆動の下に実行される。なお、図3を用いて説明する走査方法は公知の走査方法である。
まず、奇数行のシャッタ走査、それから偶数行のシャッタ走査、それから読出し行の走査を行う。ここで、シャッタ走査とは、先述した電子シャッタと呼ばれる走査であり、画素の蓄積開始を規定する走査である。このシャッタ走査において、奇数行の各画素と偶数行の各画素でシャッタタイミングを違えるようにする。
具体的には、図3に示すように、奇数行の各画素は長い蓄積時間となるシャッタタイミングとし、偶数行の各画素は短い蓄積時間となるシャッタタイミングとする。すなわち、隣り合う2行を単位(組)とした場合、一方の行(本例では、奇数行)の各画素の蓄積時間を相対的に長く、他方の行(本例では、偶数行)の各画素の蓄積時間を相対的に短くする。
このようなシャッタ走査により、長い蓄積時間となる奇数行の各画素の信号は、長い蓄積時間に対応した高感度の信号となる。すなわち、奇数行の各画素には長い時間かけて光が入射することになるので、奇数行の各画素の信号は暗いところまで鮮明に捉えられる信号となる。ただし、奇数行の各画素、即ち高感度の画素は光電変換素子がすぐに飽和してしまう。一方、短い蓄積時間となる偶数行の各画素の信号は、短い蓄積時間に対応した低感度の信号となる。すなわち、偶数行の各画素に入射する光量が少ないので、偶数行の各画素の信号は、より明るいところまで飽和せずに捉えられる信号となる。
(カラム処理部)
続いて、上述した走査方法による走査の下に、実施例1に係る画素アレイ部12の各画素30から出力される信号を処理するカラム処理部14について説明する。カラム処理部14は、画素アレイ部12の画素列に対応して設けられた単位回路の集合である。以下、カラム処理部14を構成する単位回路の個々をカラム回路と呼ぶこととする。
図4は、実施例1に係るカラム回路14Aの構成の一例を示すブロック図である。図4に示すように、本実施例1に係るカラム回路14Aは、CDS回路141と、判定回路142と、所定の信号処理、例えばAD変換処理を行うAD変換回路143と、ラッチ144とを有する構成となっている。
垂直駆動部13による駆動の下に、画素アレイ部12からカラム回路14Aに対して画素の信号が感度の高い画素の順に供給される。本例では、奇数行の画素が偶数行の画素よりも高感度であることから、奇数行の画素の信号が先にカラム回路14Aに入力され、次いで偶数行の画素の信号がカラム回路14Aに入力される。
カラム回路14Aにおいて、CDS回路141は、周知のように、画素の信号が乗ったレベル(後述する信号レベル)と、当該信号が乗ってないレベル(後述するリセットレベル)との差をとって、オフセットを除いた信号量を算出するための信号処理を行う。
判定回路142は、システム制御部17による制御の下に、画素アレイ部12から順番に読み出される高感度の画素の信号と低感度の画素の信号が所定値よりも大きいか否かを判定する処理を、これら信号の読み出しの都度行う。判定回路142の判定基準となる所定値としては、例えば画素の飽和レベルが用いられる。
判定回路142、AD変換回路143およびラッチ144は、奇数行の画素の信号と偶数行の画素の信号に対して以下のように異なる処理動作を行う。
〔奇数行に対して〕
判定回路142は、画素の飽和レベルを判定基準とし、奇数行の画素から来た信号が飽和していないかを判定し、飽和していないレベルのときはフラグFLに論理“0”を、飽和しているレベルのときはフラグFLに論理“1”を書き込む。そして、判定回路142は、CDS回路141から受けた信号と共にフラグFLをAD変換回路143に送る。
AD変換回路143は、フラグFLが論理“0”のとき(即ち、飽和していないレベルのとき)に動作し、画素の信号(アナログ信号)をAD変換してラッチ144に渡す。フラグFLが論理“1”のとき(即ち、飽和しているレベルのとき)には、AD変換回路143はスタンバイ状態となってAD変換処理は行わない。フラグFLの値は、AD変換回路143を経由してラッチ144の一部に書き込まれる。
〔偶数行に対して〕
判定回路142は、偶数行の画素から来た信号に対して判定処理を行わず、当該信号を奇数行の画素の信号に対する判定結果、即ちフラグFLの値と共にAD変換回路143に送る。AD変換回路143は、判定回路142からフラグFLの値と共に偶数行の画素の信号を受け取ると、フラグFLが論理“1”のときにだけ動作し、偶数行の画素の信号をAD変換してラッチ144に渡す。
具体的には、AD変換回路143は、判定回路142から受け取ったフラグFLが論理“0”のとき、即ち奇数行の画素の信号が飽和していないレベルのときは、偶数行の画素の信号に対してはスタンバイ状態となってAD変換処理は行わない。また、フラグFLが論理“1”のとき、即ち奇数行の画素の信号が飽和しているレベルのときは、偶数行の画素の信号に対してAD変換処理を行う。
このようにして、奇数行、偶数行の順に2行分の画素(即ち、上下2画素)の信号がカラム回路14Aで処理され、その後ラッチ144から画素の信号の値とフラグFLの値とが、図1に示す水平バス18に読み出される。これにより、上下2画素のうちのどちらか一方の信号がAD変換されて出力される。このとき、他方の信号に対しては、AD変換回路143はスタンバイ状態となってAD変換処理を行わない。この上下2画素は、前に説明した同じ色のフィルタを持つものである。
長時間蓄積の高感度の画素の信号が飽和している場合には、短時間蓄積の低感度の画素の信号が採用されるようになっている。ここで、飽和というのは、入射光量に対して信号がほぼ線形に応答しなくなっているレベルの大きな信号ということである。本例の場合、奇数行の画素から読み出された高感度の信号が飽和していないときは、当該信号レベルとFL=“0”がカラム回路14Aから水平バス18に出力される。奇数行の画素から読み出された信号が飽和しているときは、偶数行の画素から読み出された低感度の信号の信号レベルとFL=“1”がカラム回路14Aから水平バス18に出力される。
そして、後段の信号処理部(例えば、図26のDSP103)において、信号レベルとフラグFLの値を基に信号処理することでダイナミックレンジを拡大することができる。具体的には、後段の信号処理部において、フラグFLが高感度の画素の信号が飽和していないことを示すとき(FL=“0”)は、当該フラグFLと対で与えられる高感度の画素の信号を用いて映像信号を生成する。
フラグFLが高感度の画素の信号が飽和していることを示すとき(FL=“0”)は、当該フラグFLと対で与えられる低感度の画素の信号レベルを用いて映像信号を生成する。このような信号処理を行うことにより、光入力に対するダイナミックレンジを拡大できる。
上下2画素のピッチが、実用上レンズ解像度以下であれば、上下の解像度の低下は起こらず、あたかも正方画素からダイナミックレンジが拡大された信号が出力されてきたように捉えることができる。ここで、レンズ解像度というのは、入射光を取り込む光学系のレンズを通ってCMOSイメージセンサ10の撮像面に結像している像の解像度ということである。
厳密には、光学ローパスフィルタなどのレンズ以外の構成要素で解像度が決まっている場合もあり得る。また、X線や透過光による直接撮像などの、いわゆる「レンズ」が使えないものまで含めると、CMOSイメージセンサ10の撮像面上に像を形成するための光学系の解像度ということである。
上下2画素の信号について、あたかも1つの画素から出力されてきた信号に見えるようにするためには、上下2画素は、オフセットや感度の特性ができるだけ近く、通常の画素ばらつき以下の小さな特性差であることが望ましい。そうでないと、2画素の信号を乗り換える部分で信号に飛びが生じる懸念があるからである。そのために、上下2画素間で画素回路を構成する回路素子の一部を共有する。この回路素子の一部についての画素共有については後述する。
一方、カラム回路14Aでは、先述したように、組となる2つの画素(本例では、高感度の画素と低感度の画素)のうちのどちらか一方の信号をAD変換し、他方の信号についてはAD変換回路143をスタンバイ状態にしてAD変換を行わないようにしている。これにより、2つの画素のいずれの信号に対してもAD変換処理を行う場合に比べて、AD変換回路143がスタンバイ状態になる分だけ消費電力を低減できる利点がある。
なお、ここで説明した信号処理の技術については、長方画素を複数個組として正方画素とし、これら複数個の長方画素から読み出される複数の信号を一つの信号として出力して正方画素の信号として扱う構成のCMOSイメージセンサ10への適用に限られるものではない。すなわち、単位画素30の形状を問わず、当該単位画素30が行列状に2次元配置されてなるCMOSイメージセンサ全般に対して適用可能である。
また、本例では、高感度の画素と低感度の画素の2つの画素を組とする場合を例に挙げて説明したが、組となる画素数は2つに限られものではない。また、画素の信号に対する信号処理についても、AD変換処理に限られるものではない。
すなわち、画素アレイ部12からn個(2≦n)の画素(本例の場合には、n=2)を組として当該n個の画素から順番に読み出されるn個の信号について、その読み出しの都度所定値以上か否かを判定回路142で判定する。そして、その判定結果を基にn個よりも少ないm個(1≦m<n)の信号について所定の信号処理を行うようにする。これにより、(n−m)の信号について、所定の信号処理を行わない分だけ消費電力を低減できることになる。
《n=3の場合のカラム処理》
以下に、n=2以外、例えばn=3の場合、即ち互いに感度が異なる3つの画素を組とする場合を例に挙げて、変形例1に係るカラム処理(カラム回路14Aの信号処理)として説明する。
図5に、感度が異なる3つの画素を組とする場合の画素アレイ部12の画素配列の一例を示す。図5に示すように、本例の場合、G,R,G,R,……の色配列と、B,G,B,G,……の色配列とが3行ごとに繰り返されるカラーコーディングとなっている。そして、上下に隣接する同色の3つの画素を組みとし、これら3つの画素の内、例えば一番上の画素の感度が一番高く、一番下の画素の感度が一番低くなるような感度の高低関係となっている。
ただし、感度の高低関係はこの順番に限られるものではない。いずれの感度の高低関係の場合にも、垂直駆動部13による駆動の下に、感度の高い画素から信号が読み出され、実施例1の変形例1に係るカラム回路14A−1に入力されるのが好ましい。
図6に、実施例1の変形例1に係るカラム回路14A−1の構成例を示す。本変形例に係るカラム回路14A−1は、基本的に、図4に示す実施例1に係るカラム回路14Aと同様の構成となっている。カラム回路14Aと相違する点は、ラッチ144´が2つのラッチ1,2から構成されている点である。
判定回路142、AD変換回路143およびラッチ144′は、1行目、2行目、3行目の各画素の信号に対して以下のように異なる処理動作を行う。
〔1行目に対して〕
判定回路142は、画素の飽和レベルを判定基準とし、1行目の画素から来た信号が飽和していないかを判定し、飽和していないレベルのときはフラグFLに論理“0”を、飽和しているレベルのときはフラグFLに論理“1”を書き込む。そして、判定回路142は、CDS回路141から受けた信号と共にフラグFLをAD変換回路143に送る。
AD変換回路143は、フラグFLが論理“0”のとき(即ち、飽和していないレベルのとき)に動作し、アナログ信号である画素の信号をAD変換してラッチ144´のラッチ1に書き込む。フラグFLが論理“1”のとき(即ち、飽和しているレベルのとき)は、AD変換回路143はスタンバイ状態となってAD変換処理は行わない。フラグFLの値は、AD変換回路143を経由してラッチ144´の一部に書き込まれる。
〔2行目に対して〕
判定回路142は、2行目の画素から来た信号に対して判定処理を行わず、当該信号を1行目の画素の信号に対する判定結果、即ちフラグFLの値と共にAD変換回路143に送る。AD変換回路143は、判定回路142からフラグFLの値と共に2行目の画素の信号を受け取ると、当該フラグFLの値に関わらず動作し、2行目の画素の信号をAD変換する。このとき、AD変換回路143は、フラグFLが論理“0”のときにはAD変換結果をラッチ144´のラッチ2に書き込み、フラグFLが論理“1”のときには、ラッチ144´のラッチ1が空き状態にあるために、当該ラッチ1にAD変換結果を書き込む。
〔3行目に対して〕
判定回路142は、3行目の画素から来た信号に対して判定処理を行わず、当該信号を1行目の画素の信号に対する判定結果、即ちフラグFLの値と共にAD変換回路143に送る。AD変換回路143は、判定回路142からフラグFLの値と共に3行目の画素の信号を受け取ると、フラグFLが論理“1”のときにだけ動作し、3行目の画素の信号をAD変換する。
具体的には、AD変換回路143は、判定回路142から受け取ったフラグFLが論理“0”のとき、即ち1行目の画素の信号が飽和していないレベルのときは、3行目の画素の信号に対してはスタンバイ状態となってAD変換処理は行わない。また、フラグFLが論理“1”のとき、即ち1行目の画素の信号が飽和しているレベルのときは、3行目の画素の信号に対してAD変換処理を行い、そのAD変換結果をラッチ144´のラッチ2に書き込む。
このようにして、3画素分の信号がカラム回路14A−1で処理され、その後ラッチ144´の2つのラッチ1,2から信号の値とフラグFLの値とが、図1に示す水平バス18に読み出される。このカラム回路14A−1による信号処理により、3画素のうちの2画素の信号がAD変換されて出力される。
より具体的には、最初に読み出される高感度の画素の信号が飽和している場合には、当該高感度の画素の信号に対するAD変換処理が行われずに、中感度と低感度の画素の信号についてのAD変換結果がラッチ144´の2つのラッチ1,2に書き込まれる。一方、最初に読み出される高感度の画素の信号が飽和していない場合には、当該高感度の画素の信号と中感度の画素の信号がAD変換されてそのAD変換結果がラッチ144´の2つのラッチ1,2に書き込まれ、低感度の画素の信号に対してはAD変換処理が行われない。
ラッチ144´の2つのラッチ1,2に書き込まれたデジタル信号とフラグの値は、水平バス18に出力される。そして、後段の信号処理部(例えば、図26のDSP103)において、これらの信号とフラグFLの値を基に信号処理することでダイナミックレンジを拡大することができる。
上記の処理例では、組となる3つの画素の信号を順に読み出すが、判定回路142が信号のレベルを判定することで、AD変換回路143は2回しか動作せず、1回はスタンバイとなる。これにより、3つの画素の信号に対してAD変換回路143が3回動作する場合に比べて、消費電力の低減を図ることができる。
ここでは、3画素中、常に2画素をAD変換する例を示したが、2行目ついても判定回路142に信号レベルを判定させ、1行目に引き続いて2行目も飽和していた場合には、2行目についてもAD変換回路143をスタンバイ状態にするようにすることもできる。このときはフラグFLを2ビットにするなど多少の変更は生ずるものの、設計者にとって十分推察できる範囲である。
このように、設計者の思想によってさまざまな応用が可能である。すなわち、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で上記実施形態に多様な変更または改良を加えることができ、そのような変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれる。感度の異なる4つ以上の画素の信号への対応ができることについても、当業者にとっては自明である。
ここで、以上説明したn=2,n=3の場合のカラム処理の概要について、動作の時間的順序を示す図7を用いて総括的に説明する。図7には、2つの処理例(A),(B)を示している。
先ず図7(A)に示すように、感度が一番高い第i行の画素から信号を読み出す。これを受けて判定回路142は、第i行の画素から読み出した信号が飽和しているか否かを判断する。このとき、飽和していないという判断結果であれば、第i行のAD変換期間に第i行の画素の信号をAD変換処理する。
一方、飽和しているという判断結果であれば、第i行のAD変換期間にAD変換回路143をスタンバイ状態にしてAD変換処理を行わない。ここで、画素の信号が飽和しているか否かの判定は画素列ごとに行われる。したがって、第i行の画素の信号について、AD変換処理が行われる画素列も、AD変換処理が行われない画素列もある。
次に、第i行の画素よりも感度が低い第i+1行の画素から信号を読み出す。この第i+1行についてのAD変換期間において、第i行でAD変換処理が行われた画素列ではAD変換回路143をスタンバイ状態にしてAD変換処理を行わず、AD変換処理が行われなかった画素列ではAD変換処理を行う。
このように、例えば実施例1に係るカラム処理の場合には、2行の画素の信号の読み出しに対して2回のAD変換期間が設けられる。そして、AD変換回路143は、2回のAD変換期間のうちの1回動作することになる。図7(B)に示すように、ある行の画素の信号についてのAD変換期間に、次の行の画素からの信号の読み出しを並行して行う処理例の場合にも、AD変換回路143は、2回のAD変換期間のうちの1回動作する。
2回のAD変換期間のうちの1回、AD変換回路143が動作してAD変換処理を行うということは、残りの1回はAD変換回路143がスタンバイ状態にあるということである。その結果、AD変換回路143がスタンバイ状態になる分だけ消費電力を低減できるのである。
上述した実施例1または変形例1に係るカラム処理(カラム回路14Aの信号処理)では、AD変換回路143を常に動作状態にするのではなく、適宜にスタンバイ状態にすることによって消費電力の低減を図るとしている。この消費電力の低減に加えて、信号処理時間の短縮化を可能にするカラム処理について、以下に変形例2に係るカラム処理として説明する。
図8は、変形例2に係るカラム回路の動作の時間的順序を示すタイミング図である。図8には、2つの処理例(A),(B)を示している。変形例2に係るカラム回路には、サンプルホールド(S/H)回路が設けられていることを前提とする。
先ず図8(A)に示すように、例えば奇数行である第i行の画素から信号を読み出す。これを受けて判定回路142は、第i行の画素から読み出した信号が飽和しているか否かを判断する。飽和していないという判断結果であれば、第i行の画素の信号をサンプルホールド回路に保持する。このとき、飽和していない信号についてはサンプルホールド回路に保持しなくとも良い。
次に、偶数行である第i+1行の画素から信号を読み出す。このとき、先ほどの第i行の画素の信号が飽和していなかった場合は、第i+1行の画素の信号はサンプルホールド回路に入らないようブロックされる。逆に第i行の画素の信号が飽和していた場合は、第i+1行の画素の信号がサンプルホールド回路に保持される。次いで、AD変換期間に入り、AD変換回路143は、サンプルホールド回路に保持されている信号に対してAD変換処理を行う。
このように、変形例2に係るカラム処理で、例えばn=2の場合には、2行の画素の信号の読み出しに対して1回のAD変換期間が設けられる。すなわち、2行の読み出しに対してスタンバイ期間を設けないで、AD変換期間を減らすことができるために、2行の読み出しに対して2回のAD変換期間が必要となる実施例1または変形例1のカラム処理に比べて、信号処理の高速化を図ることができる。
また、信号処理時間を実施例1または変形例1のカラム処理と同じ低速で良いとした場合には、低速処理での信号処理の精度、例えばAD変換処理での変換精度の向上を図ることができる。また、2行の読み出しに対してAD変換期間が1回で良いということは、2回必要となる場合よりも低消費電力化を図ることもできる。
図8(B)に示すように、例えば2行分の画素の信号についてのAD変換期間に、次の2行分の画素からの信号の読み出しを並行して行う処理例の場合にも、2行の画素の信号の読み出しに対して1回のAD変換期間を設けるだけで済む。
上述した変形例2に係るカラム処理を実現するカラム回路14Aの具体例について以下に説明する。
図9は、変形例2の具体例1に係るカラム回路14−2の構成例を示すブロック図であり、図中、図4と同等部分には同一符号を付して示している。
図9に示すように、具体例1に係るカラム回路14−2は、CDS回路141´がサンプルホールド回路を含むとともに、判定回路142、AD変換回路143およびラッチ144に加えて、マルチプレクサ(MUX)145を有する構成となっている。以下、CDS回路141´をCDS・S/H回路141´と記述する。
マルチプレクサ145は、垂直信号線122を通して入力される画素の信号を、CDS回路141´に供給するか、容量素子Cを経由してグランドに捨てるかを適宜選択する。CDS・S/H回路141´は、サンプルホールド回路を含む以外は、基本的に実施例1の場合と同じである。また、判定回路142、AD変換回路143およびラッチ144についても、基本的に実施例1の場合と同じである。
続いて、上記構成の具体例1に係るカラム回路14−2の信号処理について説明する。例えば奇数行である第i行の画素の信号が到来するタイミングでは、判定回路142は、第i行の画素の信号をCDS・S/H回路141´に与えるべく、マルチプレクサ145の制御を行う。これにより、第i行の画素の信号はCDS・S/H回路141´でCDS処理され、S/H回路に保持される。
判定回路142は、CDS・S/H回路141´に保持された第i行の画素の信号について飽和しているか否かを判定し、その判定結果をフラグFLに書き込むとともに、第i行の画素の信号であることを示す識別情報を保持する。このとき、飽和していないという判定結果の場合には、判定回路142は、マルチプレクサ145を容量素子C側に切り替える。また、飽和しているという判定結果の場合には、判定回路142は、マルチプレクサ145をそのまま(CDS・S/H回路141´側)とする。
次に、偶数行である第i+1行の画素から信号が読み出される。先ほどの第i行の画素の信号が飽和していなかった場合には、マルチプレクサ145が容量素子C側に切り替えられた状態にあるために、第i+1行の画素の信号は、CDS・S/H回路141´には入力されず、容量素子Cを介してグランドに捨てられる。そして、CDS・S/H回路141´には先ほどの第i行の画素の信号が保持され続ける。第i行の画素の信号が飽和していた場合には、第i+1行の画素の信号がCDS・S/H回路141´に入力され、当該CDS・S/H回路141´でCDS処理され、サンプルホールドされる。
次に、AD変換期間となり、AD変換回路143は、CDS・S/H回路141´から与えられる信号をAD変換して、ラッチ144に渡す。このときに、AD変換回路143は、AD変換した信号が奇数行のものか偶数行のものかを示す識別情報を判定回路142から引き継いでラッチ144に渡す。また、判定回路142は、マルチプレクサ145をCDS・S/H回路141´側にする。そして、第i+2行以降の画素の信号に対して信号処理を同様に繰り返す。
以上の一連の信号処理により、先述したダイナミックレンジの拡大処理が可能な信号を得ることができる。因みに、上述した信号処理において、第i+1行の画素の信号が不要な場合に、垂直信号線122とCDS・S/H回路141´の接続を単純に切るのではなくて、容量素子Cにつなぎ変えるようにしているのは、垂直信号線122の容量を大きく変えないためである。
図10は、変形例2の具体例2に係るカラム回路14−3の構成例を示すブロック図であり、図中、図4と同等部分には同一符号を付して示している。
図10に示すように、具体例2に係るカラム回路14−3は、CDS回路141とAD変換回路143との間にS/H回路146を設け、当該S/H回路146に対して判定回路142を並列的に配置するとともに、ラッチ144に代えて演算回路147を設けた構成となっている。CDS回路141、判定回路142およびAD変換回路143については、基本的に実施例1の場合と同じである。演算回路147の機能の詳細については後述する。
続いて、上記構成の具体例2に係るカラム回路14−3の信号処理について説明する。例えば奇数行である第i行の画素の信号は、CDS回路141に入力され、当該CDS回路141でCDS処理される。判定回路142は、CDS処理跡の第i行の画素の信号について飽和しているか否かの判定を行い、その判定結果をフラグFLに書き込む。
このとき、判定回路142は、S/H回路146に対しての制御も行う。具体的には、判定回路142は、第i行の画素の信号が飽和していなければ、当該信号をS/H回路146に保持させるように当該S/H回路146を動作させる。第i行の画素の信号が飽和しているときは、判定回路142はS/H回路146を動作させても良いし、動作させなくても良い。
その後、偶数行である第i+1行の画素から信号が読み出され、CDS回路141でCDS処理される。このとき、判定回路142はフラグFLを参照して、先ほど第i行の画素の信号が飽和していた場合には、S/H回路146を動作させて第i+1行の画素の信号を保持させる。第i行の画素の信号が飽和していなかった場合には、判定回路142はS/H回路146を動作させず、第i行の画素の信号をS/H回路146に保持させ続ける。
次に、AD変換期間に入り、AD変換回路143は、S/H回路146からの信号をAD変換して演算回路147に渡す。演算回路147は、AD変換回路143でのAD変換結果と、判定回路142からのフラグFLの値を参照して、ダイナミックレンジの拡大処理を行う。演算回路147には、全画素列共通である、第i行と第i+1行の蓄積時間の情報も入力されている。そして、演算回路147は、奇数行由来の信号に対してはそのまま保持し、偶数行由来の信号に対しては蓄積時間比を掛け算して保持する。
これにより、演算回路147の演算結果としてダイナミックレンジ拡大処理された信号を得ることができる。すなわち、具体例2に係るカラム回路14−3によれば、当該カラム回路14−3において先述したダイナミックレンジ拡大処理までも行うことができることになる。
図11は、変形例2の具体例3に係るカラム回路14−4の構成例を示すブロック図であり、図中、図10と同等部分には同一符号を付して示している。具体例1,2に係るカラム回路14−2,14−3の場合は、感度が異なる2行(n=2)の画素の信号を扱う例であったのに対して、具体例3に係るカラム回路14−4は、感度が異なる3行(n=3)の画素の信号を扱う例である。
図11に示すように、具体例3に係るカラム回路14−4は、1つの画素列につきサンプルホールド(S/H)回路146を2つ有する構成となっており、それ以外の構成要素については、基本的に具体例2の場合と同じである。以下、2つのS/H回路1.2をまとめてS/H回路146´と記述する。
画素アレイ部12から読み出される画素の信号は、同じ色の画素の信号がi行目、i+1行目、i+2行目と3つ続けて読み出される(iは3の倍数)。そして、この3つの画素の中で最初に読み出すi行目の画素の感度が一番高く、最後に読み出すi+2行目の画素の感度が一番低くなっている。
CDS回路141の動作については実施例1と同じである。判定回路142、AD変換回路143および演算回路147は、i,i+1,i+2行目の画素の信号に対して以下のように異なる処理動作を行う。
〔i行目に対して〕
まず、判定回路142は、CDS回路141でCDS処理されたi行目の画素の信号が飽和しているか否かを判定し、判定結果をフラグFLに書き込む。具体例2の場合と同様に、判定回路142は、S/H回路146′(S/H回路1,2)に対しての制御も行う。具体的には、i行目の画素の信号が飽和していなければ、判定回路142はS/H回路1を動作させ、i行目の画素の信号を保持させる。i行目の画素の信号が飽和していれば、判定回路142はS/H回路1,2とも動作させない。
〔i+1行目に対して〕
判定回路142は、フラグFLの値を参照し、i行目の画素の信号が飽和していた場合には、CDS回路141でCDS処理されたi+1行目の画素の信号をS/H回路1に取り込ませる。i行目の画素の信号が飽和していなかった場合には、判定回路142は、CDS回路141でCDS処理されたi+1行目の画素の信号をS/H回路2に取り込ませる。
〔i+2行目に対して〕
判定回路142は、フラグFLの値を参照し、i行目の画素の信号が飽和していた場合には、CDS回路141でCDS処理されたi+2行目の画素の信号をS/H回路2に取り込ませる。i行目の画素の信号が飽和していなかった場合には、判定回路142は、S/H回路1,2とも動作させない。
〔AD変換以後〕
次に、AD変換回路143は、S/H回路1に保持されていた信号をAD変換処理して演算回路147に渡す。次いで、AD変換回路143は、S/H回路2に保持されていた信号をAD変換処理して演算回路147に渡す。
演算回路147は、判定回路142から渡されるフラグFLの値と、AD変換回路143での2回のAD変換結果から、ダイナミックレンジ拡大処理を行う。演算回路147には、全列共通である、第i行と第i+1行と第i+2行の蓄積時間の情報も入力されている。
そして、演算回路147は、演算対象の信号がi行目の画素の信号とi+1行目の画素の信号の場合、
i×(1−α1)+Si+1×r1×α1
なる演算処理を行ってその演算結果を保持する。
ここで、Siはi行目の信号、Si+1はi+1行目の信号、r1はi行目の画素とi+1行目画素の感度比、α1は係数である。係数α1は、図12に示すように、i行目の信号Siで決まる0〜1の値をとり、飽和レベルに近い領域では寄与率が高くなる値(1に近い値)に設定される。具体的には、飽和レベルの半分程度まではα1=0で、その以上の領域ではi行目の信号Siに応じてα1=0からα1=1に向けてリニアに変化する。
演算回路147は、演算対象の信号がi+1行目の画素の信号とi+2行目の画素の信号の場合、
i+1×r1×(1−α2)+Si+2×r2×α2
なる演算処理を行ってその演算結果を保持する。
ここで、Si+2はi+2行目の信号、r2はi行目の画素とi+2行目画素の感度比、α2は係数である。係数α2は、図13に示すように、i+1行目の信号Si+1で決まる0〜1の値をとり、飽和レベルに近い領域では寄与率が高くなる値(1に近い値)に設定される。具体的には、飽和レベルの半分程度まではα2=0で、その以上の領域ではi+1行目の信号Si+1に応じてα2=0からα2=1に向けてリニアに変化する。
このようにして、3画素分の信号がカラム回路14A−4で処理され、その処理結果である演算回路147の出力が、図1に示す水平バス18に読み出される。これにより、3画素のうちの2画素の信号が合成されたものが読み出される。
最初に読み出される高感度の画素の信号が飽和している場合には、当該高感度の画素の信号に対するAD変換処理が行われず、中感度と低感度の画素の信号が合成されて出力されるようになっている。また、最初に読み出される高感度の画素の信号が飽和していない場合には、当該高感度の画素の信号と中感度の画素の信号がAD変換されて合成され、低感度の画素の信号についてはAD変換処理が行われない。これにより、AD変換回路143の動作を、3つの信号に対して2回のAD変換処理で済ませている。
図14は、具体例3に係るカラム回路14−4の動作の時間的順序を示すタイミング図である。図14には、2つの処理例(A),(B)を示している。
処理例1(A)は、i行目の画素からi+2行目の画素まで信号を読み出した後、AD変換を2回行う処理となっている。処理例2(B)も基本的に処理例1(A)と同じである。ただし、処理例2(B)は、i+2行目の画素まで読み出した後すぐi+3行目の画素を読み出しながら、AD変換処理をi+3行目の読み出し処理と並行して行う処理となっている。
ここで、飽和というのは、前にも述べたように、入射光量に対して信号がほぼ線形に応答しなくなっているレベルの大きな信号ということである。この具体例3に係るカラム処理では、感度が高い順に画素から信号を読み出しているが、感度が低い順の場合も同様に実現可能である。
以上説明したように、AD変換回路143の動作を、3つの信号に対して2回のAD変換処理で済ますことで、AD変換処理の回数を減らすことができるために、3つの信号に対して3回のAD変換処理を行う場合に比べて信号処理の高速化を図ることができる。また、3つの信号に対して3回のAD変換処理を行う場合と同じ処理速度(低速)で良いとした場合には、低速処理での信号処理の精度、例えばAD変換処理での変換精度の向上を図ることができる。AD変換処理の回数を低減できることで、低消費電力化を図ることもできる。
(画素回路)
図15は、実施例1に係る画素回路の構成の一例を示す回路図である。図15に示すように、上下2画素30U,30Lは、光電変換素子であるフォトダイオード(PD)31U,31Lと、転送トランジスタ32U,32Lとを別々に有している。そして、上下2画素30U,30Lは、回路素子の一部、例えばリセットトランジスタ33、選択トランジスタ34および増幅トランジスタ35の3つのトランジスタを上下2画素間で共有する構成を採っている。
ここでは、画素トランジスタ32U,32L,33〜35として、例えばNチャネルのMOSトランジスタを用いているが、これに限られるものではない。また、転送トランジスタ32U,32L、リセットトランジスタ33および選択トランジスタ34の駆動制御のために、先述した画素駆動線121として、転送制御線1211U,1211L、リセット制御線1212および選択制御線1213が行ごとに配線されている。
転送トランジスタ32U,32Lは、フォトダイオード31U,31Lの各カソード電極とフローティングディフュージョン(FD;浮遊拡散容量)36との間に接続されている。これら転送トランジスタ32U,32Lのゲート電極には、転送制御線1211U,1211Lを介してHighアクティブの転送パルスTRGu,TRGlが与えられる。これにより、転送トランジスタ32U,32Lは、フォトダイオード31U,31Lで光電変換され、その内部に蓄積された光電荷(ここでは、電子)をフローティングディフュージョン36に転送する。フローティングディフュージョン36は、光電荷を電圧信号に変換する電荷電圧変換部として機能する。
リセットトランジスタ33は、電源電圧Vddの電源配線にドレイン電極が、フローティングディフュージョン36にソース電極がそれぞれ接続されている。このリセットトランジスタ33のゲート電極には、フォトダイオード31U,31Lからフローティングディフュージョン36への光電荷の転送に先立って、リセット制御線1212を介してHighアクティブのリセットパルスRSTが与えられる。これにより、リセットトランジスタ33は、フローティングディフュージョン36の電位をリセットする。
選択トランジスタ34は、電源電圧Vddの電源配線にドレイン電極が、選択制御線1213にゲート電極がそれぞれ接続されている。この選択トランジスタ34のゲート電極には、選択制御線1213を介してHighアクティブの選択パルスSELが与えられる。これにより、選択トランジスタ34は単位画素30を選択状態にする。
増幅トランジスタ35は、フローティングディフュージョン36にゲート電極が、選択トランジスタ34のソース電極にドレイン電極が、垂直信号線122にソース電極がそれぞれ接続されている。この増幅トランジスタ35は、選択トランジスタ34によって画素30が選択状態になることで、画素30の信号を垂直信号線122に出力する。
具体的には、増幅トランジスタ35は、リセットトランジスタ33によってリセットされた後のフローティングディフュージョン36の電位をリセットレベルとして出力する。さらに、増幅トランジスタ35は、転送トランジスタ32U,32Lによってフォトダイオード31U,31Lから光電荷が転送された後のフローティングディフュージョン36の電位を信号レベルとして出力する。
なお、ここでは、転送トランジスタ32U/32L、リセットトランジスタ33、選択トランジスタ34および増幅トランジスタ35を含む4トランジスタ構成をベースとする単位画素30の場合を例に挙げたが、これは一例に過ぎない。すなわち、単位画素30としては、4トランジスタ構成をベースとする画素構成に限られるものではなく、例えば、3トランジスタ構成をベースとする画素構成であってもよい。
また、上記構成の画素回路では、選択トランジスタ34については、電源電圧Vddの電源配線と増幅トランジスタ35との間に接続するとしたが、増幅トランジスタ35と垂直信号線122との間に接続する構成を採ることも可能である。
上記構成の画素回路によれば、フォトダイオード31U,31Lからフローティングディフュージョン36に電荷を転送してから当該電荷を検出するため、2つの画素30U,30Lで転送先を同一のフローティングディフュージョン36にすることで、2つの画素30U,30Lの感度の特性が揃う。フローティングディフュージョン36は、増幅トランジスタ35のゲート電極の接続先のノードであり、特に容量素子を作りこまなくても寄生容量を持っている。
上述したように、横長の長方画素である単位画素30が行列状に配置されてなるCMOSイメージセンサ10において、組となる上下2画素30U,30Lの各信号のうち、好ましい方を用いるようにすることで、次のような作用効果を得ることができる。通常、上下2画素30U,30Lの各信号のうちの一方の信号(または、合成した信号)を用いて映像信号を生成すると、縦方向(垂直方向)の解像度が低下する。
しかし、上記構成のCMOSイメージセンサ10では、縦方向と横方向の解像度が等しく、正方画素とほぼ同様に扱える。画像の中で、信号量が上下2画素30U,30Lの切り替わりに当たる領域のみ縦方向のサンプリングピッチが等間隔でなくなるので、完全を期すにはその領域部分の軽微な処理を追加してもよい。
一方、画素の微細化に伴って縦方向の画素ピッチが入射光を取り込む光学系の解像度よりも小さくなった場合に、CMOSイメージセンサ10の解像度は、縦方向の画素ピッチではなく、光学系の解像度で決まることになる。したがって、縦方向の画素ピッチが入射光を取り込む光学系の解像度よりも小さい場合、上述した、信号量が上下2画素30U,30Lの切り替わりに当たる領域部分の軽微な処理もほぼ不要になる。
すなわち、画素の微細化が解像度の限界を超え、縦方向の画素ピッチが入射光を取り込む光学系の解像度よりも小さくなったとしても、上下2画素30U,30Lの各信号のうち好ましい方を用いることで、従来は解像度同等で低下していた撮像特性を上げることができる。一例として、上下2画素30U,30Lの一方の信号を高感度の信号とし、他方の信号を低感度の信号とする場合において、高感度の信号が飽和しているときに、低感度の信号を用いて映像信号を生成することで、光入力に対するダイナミックレンジを拡大できる。
(変形例)
ところで、CMOSイメージセンサでは、感度を上げるために、オンチップカラーフィルタ40の上にオンチップレンズを画素毎に置くことが多い。本実施例1の場合は、単位画素30の形状が横長であるために、オンチップレンズで上手に集光することが難しい。その理由は、オンチップレンズは円形でないと作成が難しいことや、そもそもレンズというものは円形でないと集光が難しいことによる。
〔変形例1〕
このオンチップレンズによる集光の問題を解決するには、裏面入射型や光電変換膜積層型の画素構造として、開口率を100%とし、オンチップレンズを用いない画素構造を採ることが好ましい。裏面入射型は、配線層と反対側から入射光を取り込む構造のものである。光電変換膜積層型は配線層よりも入射光側に積層された光電変換膜にて光電変換を行う構造のものである。以下に、一例として、裏面入射型の画素構造について説明する。
図16は、裏面入射型の画素構造の一例を示す断面図である。ここでは、2画素分の断面構造を示している。
図16において、シリコン部41には、フォトダイオード42や画素トランジスタ43が形成される。すなわち、シリコン部41は素子形成部である。ここで、フォトダイオード42は図15のフォトダイオード31に相当する。また、画素トランジスタ43は図15のトランジスタ32U,32L,33〜35に相当する。
シリコン部41の一方の面側には、層間膜44を介してカラーフィルタ45が作り込まれる。これにより、シリコン部41の一方の面側から入射する光は、カラーフィルタ45を経由してフォトダイオード42の受光面に導かれる。シリコン部41の他方の面側には、画素トランジスタ43のゲート電極や金属配線が配線される配線部46が形成される。配線部46のシリコン部41と反対側の面には、接着剤47によって支持基板48が貼り付けられる。
上記の画素構造において、フォトダイオード42や画素トランジスタ43が形成されるシリコン部41の配線部46側を表面側と呼び、シリコン部41の配線部46と反対側を裏面側と呼ぶこととする。このような定義の下に、本画素構造は、シリコン部41の裏面側から入射光を取り込むことになるため裏面入射型の画素構造となる。
この裏面入射型の画素構造によれば、配線部46と反対の面側から入射光を取り込むため、開口率を100%とすることができる。また、入射光を取り込む側に配線部46が存在しないため、オンチップレンズを用いなくても入射光をフォトダイオード42の受光面に集光できる。その結果、単位画素30を縦横のサイズが異なる長方画素とした場合のオンチップレンズによる集光の問題を解決できる。
〔変形例2〕
上記実施例1では、シャッタ走査を奇数行と偶数行とで違えて、蓄積時間の差によって上下2画素の感度を違えるとしたが、それ以外の感度を違える方法を採用してもよい。例えば、偶数行のみND(neutral density filter)フィルタを貼り付けたり、図17に示すように、奇数行の単位画素30のみにオンチップレンズ49を設けたりすることで、上下2画素の感度を違えることができる。ここで、NDフィルタとは、色に影響を与えずに、可視域の光量をほぼ均一に減光させる光量調整フィルタである。
[実施例2]
図18は、実施例2に係る画素アレイ部12の画素配列の一例を示す構成図である。図18に示すように、画素アレイ部12には、光電変換素子を含む単位画素30が多数行列状に2次元配置されている。ここで、単位画素30は、縦(列方向)のサイズが横(行方向)のサイズの2倍長い、即ち縦横のピッチ比が2:1のいわゆる縦長の長方画素となっている。
カラー撮像対応の場合、単位画素30は、左右方向に並ぶ複数の画素、例えば2画素を組としている。そして、この組となる左右2画素には同じ色のオンチップカラーフィルタ40が配される。具体的には、奇数行がG,G,B,B,G,G,B,B,……の色配列となり、偶数行がR,R,G,G,R,R,G,G,……の色配列となっている。左右2画素が同じ色であるため、カラーフィルタは左右2画素分につき1枚でよい。
画素アレイ部12の画素配列において、単位画素30が縦:横のサイズ比が2:1の縦長の長方画素であるため、図18に示すように、左右2画素を組とするカラーフィルタ40の個々の形状は正方形になる。2列ごとに、G,R,G,R,……の色配列と、B,G,B,G,……の色配列とが繰り返される画素配列に対して、正方形のカラーフィルタ40を配することで、全体として、オンチップカラーフィルタ40の色配列はベイヤー配列となる。
2画素を単位とした色配列のカラーフィルタ40とすることで、実施例1の場合と同様の利点が得られる。すなわち、画素はCMOSプロセスの微細化が進展するとともにどんどん微細化されていくが、カラーフィルタについてはその微細化が画素の微細化に追いつきにくくなってきている。何故ならば、角の丸まりや剥がれを、分光特性を維持しながら微細化に対応させるのが難しいからである。これに対して、上記構成例のカラーフィルタ40の場合、2画素分の大きさでよいため、画素の微細化に対して有利である。
(走査方法)
ここで、実施例2に係る画素アレイ部12の画素配列、即ちG,R,G,R,……の色配列と、B,G,B,G,……の色配列とが2列ごとに繰り返される画素配列に対する走査方法について、図19を用いて説明する。この走査は、図1の垂直駆動部13による駆動の下に実行される。
本実施例2に係る走査では、偶数列と奇数列で異なる電子シャッタ行を走らせる。それにより、偶数列と奇数列で蓄積時間を違えて、両列間で感度を異ならせる。読出しは、1行を2回に分けて、まず奇数列を読み出し、それから偶数列を読み出す。ここでは、奇数列の各画素の信号が長時間蓄積の高感度の信号となり、偶数列の各画素の信号が短時間蓄積の低感度の信号となる。
(画素回路)
図20は、実施例2に係る画素回路の構成の一例を示す回路図であり、図中、図15と同等部分には同一符号を付して示している。
図20に示すように、本実施例2に係る画素回路では、隣り合う同色の左右2画素間のオフセットや感度の特性を合わせるためと、奇数列と偶数列でシャッタや読み出しを別にするために、左右2画素間で回路の一部を共有させる構成を採っている。ここでは、左側の画素30を奇数列の画素30oと呼び、右側の画素30を偶数列の画素30eと呼ぶこととする。
具体的には、左右の2画素30o,30eは、フォトダイオード(PD)31o,31eと、転送トランジスタ32o,32eを別々に有している。そして、2画素30o,30eは、回路素子の一部、例えばリセットトランジスタ33、増幅トランジスタ34および選択トランジスタ35の3つのトランジスタを2画素間で共有している。
実施例1の場合のように、通常は、同じ行の画素は同じ配線で駆動される。これに対して、本実施例2では、転送トランジスタ32(32o,32e)のゲート電極を駆動する配線を奇数列と偶数列とで分けている。具体的には、奇数列の画素30oの転送トランジスタ32oのゲート電極を奇数列用の転送線1211oによって駆動し、偶数列の画素30eの転送トランジスタ32eのゲート電極を偶数列用の転送線1211eによって駆動するようにする。
リセットトランジスタ33、選択トランジスタ34および増幅トランジスタ35の接続関係については、基本的に、実施例1に係る画素回路の場合と同じである。ただし、本実施例2に係る画素回路では、選択トランジスタ34が増幅トランジスタ35と垂直信号線122との間に接続されている。これに対して、実施例1に係る画素回路では、選択トランジスタ34が電源電圧Vddの電源配線と増幅トランジスタ35との間に接続されている。実施例1に係る画素回路と同様に、選択トランジスタ34を電源電圧Vddの電源配線と増幅トランジスタ35との間に接続する構成を採ることも可能である。
上記構成の画素回路において、奇数列のシャッタでは、リセットトランジスタ33のゲート電極にHighアクティブのリセットパルスRSTを与えるとともに、奇数列の転送トランジスタ32oのゲート電極にHighアクティブの転送パルスTRGoを与える。これにより、フローティングディフュージョン36の電荷を捨ててから奇数列の蓄積を開始する。一方、偶数列のシャッタでは、リセットトランジスタ33のゲート電極にHighアクティブのリセットパルスRSTを与えるとともに、偶数列の転送トランジスタ32eのゲート電極にHighアクティブの転送パルスTRGeを与える。これにより、フローティングディフュージョン36の電荷を捨ててから偶数列の蓄積を開始する。
(カラム処理部)
図21は、実施例2に係るカラム回路14Bの構成の一例を示すブロック図であり、図中、図4と同等部分には同一符号を付して示している。
実施例2では、隣り合う左右2画素30o,30eを組としていることから、実施例2に係るカラム回路14Bは隣り合う2列につき1つずつ設けられることになる。そして、本カラム回路14Bは、CDS回路141、判定回路142、AD変換回路143およびラッチ144に加えて、入力部に奇数列と偶数列とを選択する例えばスイッチからなる選択部145を有する構成となっている。
選択部145は、先に奇数列の信号を選択し、後で偶数列の信号を選択する。この選択部145による選択により、奇数列の信号と偶数列の信号とが、CDS回路141、判定回路142、AD変換回路143およびラッチ144にて順番に処理される。CDS回路141、判定回路142、AD変換回路143およびラッチ144は、実施例1の場合と同様の処理動作を行う。
上述したように、縦:横のサイズ比が2:1の縦長の長方画素である単位画素30が行列状に配置されてなるCMOSイメージセンサ10によれば、画素の微細化が解像度の限界を超え、横方向の画素ピッチが入射光を取り込む光学系の解像度よりも小さくなったとしても、撮像特性を上げることができる。一例として、左右2画素30o,30eの一方の信号を高感度の信号とし、他方の信号を低感度の信号とする場合において、高感度の信号が飽和しているときに、低感度の信号を用いて映像信号を生成することで、光入力に対するダイナミックレンジを拡大できる。
[実施例3]
実施例2では、画素回路の一部を左右2画素30o,30e間で共有するとしたが、本実施例3では、大判のCMOSイメージセンサを前提として、左右2画素30o,30e間で画素回路の一部を共有しない構成を採る。大判のCMOSイメージセンサのようにプロセスに余裕がある場合には、画素回路の一部を共有しなくても、隣り合う左右2画素30o,30e間のオフセットや感度の特性を揃えることができる。画素の配列およびカラーコーディングについては実施例2の場合と同じである。
(画素回路)
図22は、実施例3に係る画素回路の構成の一例を示す回路図であり、図中、図20と同等部分には同一符号を付して示している。
図22に示すように、本実施例3に係る画素回路は、左右2画素30o,30e間で画素回路の一部を共有しないが、転送トランジスタ32o,32eのゲート電極を駆動する配線については、同じ行でも奇数列と偶数列とで別配線としている。具体的には、奇数列の画素30oのゲート電極を奇数列用の転送線1211oによって駆動し、偶数列の画素30eのゲート電極を偶数列用の転送線1211eによって駆動するようにする。左右2画素30o,30eの各信号(信号レベルおよびリセットレベル)は、奇数列と偶数列で別々の垂直信号線122o,122eに読み出される。
(走査方法)
同じ行でも奇数列と偶数列とで別配線の転送線1211o,1211eにて転送駆動するようにすることで、シャッタについては奇数列と偶数列で別々に走査して、読み出しについては奇数列と偶数列で同時に行うことができる。図23に走査手順を示す。図23に示すように、シャッタについては奇数列と偶数列で別々に行われるが、読み出しについては1行同時に行われる。
(カラム処理部)
図24は、実施例3に係るカラム回路14Cの構成の一例を示すブロック図であり、図中、図4と同等部分には同一符号を付して示している。
本実施例3では、左右2画素30o,30eの各画素ごとに、信号レベルとリセットレベルが別々の垂直信号線122o,122eを通して供給される。したがって、実施例3に係るカラム回路14Cは、奇数列と偶数列で別々のCDS回路141o,141eを有する構成となっている。
このカラム回路14Cにおいて、CDS回路141o,141eは、奇数列と偶数列で別々のノイズ除去処理を行い、ノイズ除去後の奇数列と偶数列の各信号を判定回路142に供給する。判定回路142は、奇数列と偶数列の各信号のどちらの信号を採用するかを判定する。例えば、奇数列の長時間蓄積の信号が飽和レベルに達していなければ奇数列の信号を採用し、飽和レベルに達していれば、偶数列の信号を採用する。そして、採用する方の信号を選択して、その信号と判定結果を出力する。
AD変換回路143は、判定回路142から供給される信号をAD変換して、ラッチ144に書き込む。判定結果は、AD変換回路143を通ってラッチ144にフラグFLとして書き込まれる。そして、判定結果と信号を後段で処理することで、ダイナミックレンジを拡大した画像が得られる。実施例2と比べて、各行の読み出しが1回で済むので、高速化に有利である。
実施例3の場合にも、実施例2の場合と同様の作用効果を得ることができる。一例として、左右2画素30o,30eの一方の信号を高感度の信号とし、他方の信号を低感度の信号とする場合において、高感度の信号が飽和しているときに、低感度の信号を用いて映像信号を生成することで、光入力に対するダイナミックレンジを拡大できる。
<3.変形例>
以上説明した実施例1〜3では、単位画素30として、縦横のサイズ比が1:2(2:1)の長方画素を用い、上下または左右の2画素を組とするとしたが、これに限られるものではない。例えば、縦横のサイズ比が1:3、1:4、…とし、上下または左右の3画素、4画素、…を組として、3画素や4画素の信号を扱うことも可能である。
また、組となる2つの画素のうち、どちらかの信号を出力するとしたが、両方から一つの信号を合成するようにしても良い。このように、組となる複数画素から一つを選択、または一つの信号を作ることにより、擬似的に正方画素の場合のような信号を得ることができる。
また、実施例1〜3では、信号処理として、ダイナミックレンジの拡大を図る場合を例に挙げたが、この例に限られるものではない。例えば、2画素を組とする場合において、一方の画素の信号については、発光ダイオードなどの光源から物体検出のために被写体に光を当てたときの当該被写体からの光に基づく被写体信号とし、他方の画素の信号については、被写体の背景光に基づく背景信号とする。そして、2つの画素の信号を減算処理することにより、その減算結果として、背景光を除去した上で正方画素(正方格子)に見える信号を得ることができる。
このように、ダイナミックレンジの拡大の応用例の他にも、いろいろな応用が考えられる。いずれの場合にも、画素配列の縦方向の画素ピッチ、横方向の画素ピッチのうち、短い方のピッチが、入射光を取り込む光学系の解像度以下であることが、正方画素の信号として扱う上で好ましい。
また、実施例1〜3では、R,G,Bの各画素の信号を共通の垂直信号線122に読み出すとしたが、R,G,Bの各画素の信号を別々の垂直信号線に読み出すようにすることも可能である。例えば、図25に示すように、Gの画素の信号とB,Rの画素の信号とを別の垂直信号線122g,122brに読み出すようにする。
この場合、例えば、画素アレイ部12の下側にG用のカラム回路14gを配置し、上側にB,R用のカラム回路14brを配置する。そして、Gの画素の信号を垂直信号線122gによって図の下側に読み出してカラム回路14gで、R,Bの画素の信号を垂直信号線122brによって図の上側に読み出してカラム回路14brでそれぞれノイズ除去等の信号処理を行うようにすればよい。
また、実施例1〜3では、カラー撮像対応のCMOSイメージセンサに適用した場合を例に挙げて説明したが、モノクロ撮像対応のCMOSイメージセンサにも同様に適用可能である。
以上では、可視光の光量に応じた信号電荷を物理量として検知する単位画素が行列状に配置されてなるCMOSイメージセンサに適用した場合を例に挙げて説明したが、本発明はCMOSイメージセンサへの適用に限られるものではなく、CCDイメージセンサなど固体撮像装置全般に対して適用可能である。
なお、固体撮像装置はワンチップとして形成された形態であってもよいし、撮像部と、信号処理部または光学系とがまとめてパッケージングされた撮像機能を有するモジュール状の形態であってもよい。
<4.電子機器>
本発明に係る固体撮像装置は、画像取込部(光電変換部)に固体撮像装置を用いる電子機器全般に搭載して用いることができる。電子機器としては、デジタルスチルカメラやビデオカメラ等の撮像装置(カメラシステム)や、携帯電話機などの撮像機能を有する携帯端末装置や、画像読取部に固体撮像装置を用いる複写機などが挙げられる。なお、電子機器に搭載される上記モジュール状の形態、即ちカメラモジュールを撮像装置とする場合もある。
(撮像装置)
図26は、本発明に係る電子機器の一つである例えば撮像装置の構成の一例を示すブロック図である。図26に示すように、本発明に係る撮像装置100は、レンズ群101等を含む光学系、撮像素子102、カメラ信号処理部であるDSP回路103、フレームメモリ104、表示装置105、記録装置106、操作系107および電源系108等を有している。そして、DSP回路103、フレームメモリ104、表示装置105、記録装置106、操作系107および電源系108がバスライン109を介して相互に接続された構成となっている。
レンズ群101は、被写体からの入射光(像光)を取り込んで撮像素子102の撮像面上に結像する。撮像素子102は、レンズ群101によって撮像面上に結像された入射光の光量を画素単位で電気信号に変換して画素信号として出力する。この撮像素子102として、先述した実施形態に係るCMOSイメージセンサ10等の固体撮像装置を用いることができる。
ここで、撮像素子102の画素配列の縦方向/横方向の画素ピッチのうち、短い方の画素ピッチが、レンズ群101を含む光学系の解像度以下となっている。DSP回路103は、撮像素子102から画素の信号と、その信号が長時間蓄積の高感度の信号か短時間蓄積の低感度の信号かを示す信号(図4、図21、図24のフラグFL)を受け取り、ダイナミックレンジ拡大のための信号処理を行う。
具体的には、DSP回路103は、撮像素子102から与えられるフラグFLが高感度の信号が飽和していないことを示すとき(FL=“0”)は、当該フラグFLと対で与えられる高感度の信号を用いて映像信号を生成する。フラグFLが高感度の信号が飽和していることを示すとき(FL=“0”)は、当該フラグFLと対で与えられる低感度の信号レベルを用いて飽和レベルに合成することで映像信号を生成する。このような信号処理を行うことにより、光入力に対するダイナミックレンジを拡大できる。
DSP回路103の処理は、正方画素からの信号を処理する場合の信号処理と同じである。もちろん、画素の実際の配置を考慮した処理であっても構わない。ただし、正方画素からの信号に対する信号処理と同じ方が、画素の実際の配置を考慮した信号処理に変更する必要がないため、画素の実際の配置を考慮した信号処理を行う場合よりも低コストにてほぼ変りのない画像を生成できる。さらに、複数の画素から信号量を減らした上で、正方画素のように見せることができるため、低消費電力にて信号処理を実現できるとともに、汎用性が高い。
表示装置105は、液晶表示装置や有機EL(electro luminescence)表示装置等のパネル型表示装置からなり、撮像素子102で撮像された動画または静止画を表示する。記録装置106は、撮像素子102で撮像された動画または静止画を、ビデオテープやDVD(Digital Versatile Disk)等の記録媒体に記録する。
操作系107は、ユーザによる操作の下に、本撮像装置が持つ様々な機能について操作指令を発する。電源系108は、DSP回路103、フレームメモリ104、表示装置105、記録装置106および操作系107の動作電源となる各種の電源を、これら供給対象に対して適宜供給する。
上述したように、カメラシステム、さらには携帯電話機等のモバイル機器向けカメラモジュールなどの撮像装置において、その撮像素子52として先述した実施形態に係るCMOSイメージセンサ10を用いることで、次のような作用効果を得ることができる。すなわち、撮像素子102の画素配列の短い方の画素ピッチが、レンズ群101を含む光学系の解像度以下となっていても、撮像特性を上げることができる。
10…CMOSイメージセンサ、11…半導体基板(チップ)、12…画素アレイ部、13…垂直駆動部、14…カラム処理部、14A,14A−1〜14A−4,14B,14C…カラム回路、15…水平駆動部、16…出力回路部、17…システム制御部、18…水平バス、30,30U,30L,30o,30e…単位画素、31U,31L,31o,31e…フォトダイオード(PD)、32U,32L,32o,32e…転送トランジスタ、33…リセットトランジスタ、34…選択トランジスタ、35…増幅トランジスタ、36…フローティングディフュージョン(FD)、40,45…オンチップカラーフィルタ、49…オンチップレンズ

Claims (17)

  1. 縦横のサイズが異なる長方画素が複数配置され、当該長方画素を隣り合う複数個組み合わせることによって縦横のサイズが同じ正方画素となる画素アレイ部と、
    前記複数個の長方画素を組として当該複数個の長方画素から読み出される複数の信号を一つの信号として出力する処理を行う信号処理部と
    を備え
    前記複数の信号は、高感度の画素の信号と低感度の画素の信号の2つの信号であり、
    高感度の画素と低感度の画素とは、オンチップレンズの有無によって互いに感度が異なる固体撮像装置。
  2. 前記複数個の長方画素の縦横短い方の画素ピッチは、前記画素アレイ部へ入射光を取り込む光学系の解像度よりも小さい請求項1記載の固体撮像装置。
  3. 前記複数個の長方画素は、同色のカラーフィルタを持つ請求項1記載の固体撮像装置。
  4. 記信号処理部は、前記高感度の画素の信号が飽和していないレベルのときは当該高感度の画素の信号を出力し、前記高感度の画素の信号が飽和しているレベルのときは前記低感度の画素の信号を出力する請求項1に記載の固体撮像装置。
  5. 前記複数個の長方画素は、画素回路を構成する回路素子の一部を共有する請求項1記載の固体撮像装置。
  6. 前記複数個の長方画素は、配線が形成される層と反対側から入射光を取り込む裏面入射型の画素構造、または配線が形成される層よりも入射光側に積層された光電変換膜にて光電変換を行う光電変換膜積層型の画素構造である請求項1記載の固体撮像装置。
  7. 画素が行列状に2次元配置された画素アレイ部と、
    前記画素アレイ部からn個(2≦n)の画素を組として当該n個の画素から順番に読み出されるn個の信号が所定値以上か否かを前記n個の信号の読み出しの都度判定する判定回路を有し、当該判定回路の判定結果を基にn個よりも少ないm個(1≦m<n)の信号について所定の信号処理を行う信号処理部と
    を備え
    前記複数の信号は、高感度の画素の信号と低感度の画素の信号の2つの信号であり、
    高感度の画素と低感度の画素とは、オンチップレンズの有無によって互いに感度が異なる固体撮像装置。
  8. 前記n個の信号は、前記判定回路に対して感度の高い画素の信号から入力され、
    前記信号処理部は、前記n個の信号のうち、前記判定回路によって前記所定値以上と判定された信号については前記所定の信号処理を行わない請求項7に記載の固体撮像装置。
  9. 前記信号処理部は、前記m個の信号が前記n個の信号のうちどの信号に由来するかを識別する情報を保持する請求項7に記載の固体撮像装置。
  10. 前記信号処理部は、前記画素アレイ部の画素列ごとに配されている請求項7に記載の固体撮像装置。
  11. 前記信号処理部は、前記m個の信号を保持し、前記n個の信号を読み出した後に前記m個の信号について前記所定の信号処理を行う請求項7に記載の固体撮像装置。
  12. 前記信号処理部は、前記所定の信号処理を行った後の前記m個の信号についてダイナミックレンジを拡大するための演算処理を行う請求項11に記載の固体撮像装置。
  13. 縦横のサイズが異なる長方画素が複数配置され、当該長方画素を隣り合う複数個組み合わせることによって縦横のサイズが同じ正方画素となる画素アレイ部を備え、
    前記複数の信号は、高感度の画素の信号と低感度の画素の信号の2つの信号であり、
    高感度の画素と低感度の画素とは、オンチップレンズの有無によって互いに感度が異なる固体撮像装置の信号処理に当たって、
    前記複数個の長方画素を組として当該複数個の長方画素から信号を読み出し、
    前記複数個の長方画素から読み出される複数の信号を処理して一つの信号として出力する固体撮像装置の信号処理方法。
  14. 記高感度の画素の信号が飽和していないレベルのときは当該高感度の画素の信号を用いて映像信号を生成し、
    前記高感度の画素の信号が飽和しているレベルのときは前記低感度の画素の信号を用いて映像信号を生成する請求項13に記載の固体撮像装置の信号処理方法。
  15. 前記一つの信号は、正方格子の信号である請求項13に記載の固体撮像装置の信号処理方法。
  16. 縦横のサイズが異なる長方画素が複数配置され、当該長方画素を隣り合う複数個組み合わせることによって縦横のサイズが同じ正方画素となる画素アレイ部を有し、前記複数個の長方画素を組として当該複数個の長方画素から読み出される複数の信号を処理して一つの信号として出力する固体撮像装置と、
    前記固体撮像装置の撮像面に入射光を取り込む光学系と
    を具備し、
    前記複数の信号は、高感度の画素の信号と低感度の画素の信号の2つの信号であり、
    高感度の画素と低感度の画素とは、オンチップレンズの有無によって互いに感度が異なる電子機器。
  17. 前記複数個の長方画素の縦横短い方の画素ピッチは、前記光学系の解像度よりも小さい請求項16に記載の電子機器。
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