JP5313413B2 - 抵抗変化素子の駆動方法、及び不揮発性記憶装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 125
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 90
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 198
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 39
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 31
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 24
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 23
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 claims description 12
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 claims description 11
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 213
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 62
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 33
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 7
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 6
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 5
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011232 storage material Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0007—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising metal oxide memory material, e.g. perovskites
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0064—Verifying circuits or methods
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
- G11C2013/0073—Write using bi-directional cell biasing
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
- G11C2013/009—Write using potential difference applied between cell electrodes
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- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0021—Auxiliary circuits
- G11C13/0069—Writing or programming circuits or methods
- G11C2013/0092—Write characterized by the shape, e.g. form, length, amplitude of the write pulse
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- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
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- G11C2213/00—Indexing scheme relating to G11C13/00 for features not covered by this group
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- G11C2213/32—Material having simple binary metal oxide structure
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Description
[抵抗変化素子の構成]
まず、本発明の実施の形態1の抵抗変化素子の構成について説明する。
次に、抵抗変化素子10の製造方法について説明する。
次に、上述した製造方法により得られた抵抗変化素子10の動作について説明する。
以下、上述した本発明の実施の形態1における低抵抗化過程及び高抵抗化過程の詳細について、説明する。
上述したとおり、本実施の形態では、電圧値VH1の高抵抗化電圧パルス及び電圧値VH2の高抵抗化電圧パルス(VH1>VH2)をこの順に連続して印加する。これにより、抵抗変化層の抵抗状態が高抵抗状態、低抵抗状態の何れであるのかを正確に判別することができ、安定した動作を実現することができる。このような効果がVH1>VH2の条件を満たすことによって奏されることは上述したとおりであるが、より一層の安定動作の実現を目的とした場合、VH2には望ましい範囲があると考えられる。この望ましい範囲について考察したので、以下に説明する。
上述したとおり、本実施の形態では、高抵抗化過程において合計2回の高抵抗化電圧パルス(第1の高抵抗化電圧パルスと、その後の第2の高抵抗化電圧パルス)を印加しているが、その印加回数は3回以上であってもよい。図13は、低抵抗化過程及び高抵抗化過程における本発明の実施の形態1に係る抵抗変化素子10の他の動作例を示す図である。
実施の形態2に係る不揮発性記憶装置は、基本単位となるメモリセルが、1つのトランジスタと1つの不揮発性記憶部とが直列に接続されて構成された1トランジスタ/1不揮発性記憶部型(1T1R型)の不揮発性記憶装置であり、実施の形態1で示した抵抗変化素子を有する。以下、この不揮発性記憶装置の構成及び動作について説明する。
図18は、本実施の形態に係る不揮発性記憶装置の構成の一例を示すブロック図である。図18に示すように、1T1R型の不揮発性記憶装置100は、半導体基板上にメモリ本体部101を備えており、このメモリ本体部101は、メモリアレイ102と、行選択回路/ドライバ103と、列選択回路104と、情報の書き込みを行うための書き込み回路105と、選択ビット線に流れる電流量を検出し、4値のデータのうちの何れのデータが記憶されているかの判定を行うセンスアンプ106と、端子DQを介して入出力データの入出力処理を行うデータ入出力回路107とを具備している。
実施の形態3に係る不揮発性記憶装置は、互いに交差するように配列された複数のワード線と複数のビット線との交差する位置にメモリセルが配置されたクロスポイント型の不揮発性記憶装置であり、実施の形態1で示した抵抗変化素子を有する。以下、この不揮発性記憶装置の構成及び動作について説明する。
図19は、本実施の形態に係る不揮発性記憶装置の構成の一例を示すブロック図である。図19に示すように、本実施の形態に係る不揮発性記憶装置200は、半導体基板上にメモリ本体部201を備えており、このメモリ本体部201は、メモリアレイ202と、行選択回路/ドライバ203と、列選択回路/ドライバ204と、情報の書き込みを行うための書き込み回路205と、選択ビット線に流れる電流量を検出し、4値のデータのうちの何れのデータが記憶されているかの判別を行うセンスアンプ206と、端子DQを介して入出力データの入出力処理を行うデータ入出力回路207とを具備している。
実施の形態4に係る不揮発性記憶装置の駆動方法は、高抵抗状態の書き込み動作においてベリファイ動作を含むものである。以下、この不揮発性記憶装置の動作について説明する。
上記の各実施の形態において、抵抗変化層はタンタル酸化物の積層構造で構成されていたが、本発明はこれに限定されるわけではない。例えば、ジルコニウム(Zr)酸化物の積層構造またはハフニウム(Hf)酸化物の積層構造などであってもよい。
2 第1電極
3 抵抗変化層
3a 第1タンタル酸化物層
3b 第2タンタル酸化物層
4 第2電極
5 電源
10 抵抗変化素子
11 第1端子
12 第2端子
100 不揮発性記憶装置
101 メモリ本体部
102 メモリアレイ
103 行選択回路/ドライバ
104 列選択回路
105 書き込み回路
106 センスアンプ
107 データ入出力回路
108 VCP電源
109 アドレス入力回路
110 制御回路
200 不揮発性記憶装置
201 メモリ本体部
202 メモリアレイ
203 行選択回路/ドライバ
204 列選択回路/ドライバ
205 書き込み回路
206 センスアンプ
207 データ入出力回路
208 アドレス入力回路
209 制御回路
Claims (15)
- 第1電極と、第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に介在する抵抗変化層と、を備えた抵抗変化素子の駆動方法において、
前記抵抗変化層は、
第1の金属の酸化物で構成される第1の金属酸化物層と、
第2の金属の酸化物で構成され、かつ前記第1の金属酸化物層よりも酸素不足度が小さい第2の金属酸化物層とが積層されて構成され、
前記第1電極および前記第2電極間に印加された電圧パルスに応じて、酸素イオンが移動することにより可逆的に抵抗値が変化し、
前記抵抗変化素子の駆動方法は、
第1の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、
前記第1の極性とは異なる第2の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを有し、
前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより1回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、
前記高抵抗化過程において、前記第1電極と前記第2電極間に、電圧値がVH1である第1の高抵抗化電圧パルスを印加するステップと、
前記第1の高抵抗化電圧パルスよりも後に与えられ、電圧値がVH1よりも小さいVH2である第2の高抵抗化電圧パルスを印加するステップとを含む、
抵抗変化素子の駆動方法。 - 前記高抵抗化過程において、前記第1の高抵抗化電圧パルスを印加するステップに引き続き、前記第2の高抵抗化電圧パルスを印加するステップを実行する、
請求項1に記載の抵抗変化素子の駆動方法。 - 前記第2電極は、前記第2の金属酸化物層に接し、
前記第2の極性とは、前記第1電極の電位を基準としたときに前記第2電極の電圧が正となる極性である、
請求項1に記載の抵抗変化素子の駆動方法。 - 前記第1の金属は第1の遷移金属であり、前記第2の金属は第2の遷移金属である、
請求項1または3に記載の抵抗変化素子の駆動方法。 - 第1電極と、第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に介在し、前記第1電極および前記第2電極間に印加する電圧パルスに基づいて可逆的に抵抗値が変化する抵抗変化層と、を備えた抵抗変化素子を駆動する駆動方法において、
第1の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、
前記第1の極性とは異なる第2の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを有し、
前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより1回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、
前記高抵抗化過程において、前記第1電極と前記第2電極間に、電圧値がVH1である第1の高抵抗化電圧パルスを印加するステップと、
前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していることを確認するステップと、
前記第1の高抵抗化電圧パルスよりも後に与えられ、電圧値がVH1よりも小さいVH2である第2の高抵抗化電圧パルスを印加するステップとを含み、
前記確認するステップにおいて前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していることが確認されたときは、前記第2の高抵抗化電圧パルスを印加するステップにおいて前記抵抗変化層に前記第2の高抵抗化電圧パルスを印加し、
前記確認するステップにおいて前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していないことが確認されたときは、前記第1の高抵抗化電圧パルスを再度印加する、
抵抗変化素子の駆動方法。 - 前記確認するステップにおいて、前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していないことが確認されたときは、前記第2の高抵抗化電圧パルスを印加するステップの前に、前記第1の高抵抗化電圧パルスを印加するステップを再度行うことにより、前記抵抗変化素子に前記第1の高抵抗化電圧パルスを再度印加する、
請求項5に記載の抵抗変化素子の駆動方法。 - 前記確認するステップにおいて、前記抵抗変化層が高抵抗状態へ変化していないことが確認されたときは、前記第2の高抵抗化電圧パルスを印加するステップにおいて、前記第2の高抵抗化電圧パルスを印加する前に前記第1の高抵抗化電圧パルスを印加し、引き続き、前記第2の高抵抗化電圧パルスを印加する、
請求項5に記載の抵抗変化素子の駆動方法。 - 不揮発性の抵抗変化素子と、電圧パルス印加装置とを備える不揮発性記憶装置であって、
前記抵抗変化素子は、
第1電極と、第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に介在する抵抗変化層と、を備え、
前記抵抗変化層は、
第1の金属の酸化物で構成される第1の金属酸化物層と、
第2の金属の酸化物で構成され、かつ前記第1の金属酸化物層よりも酸素不足度が小さい第2の金属酸化物層とが積層されて構成され、
前記第1電極および前記第2電極間に印加された電圧パルスに応じて、酸素イオンが移動することにより可逆的に抵抗値が変化し、
前記電圧パルス印加装置は、
第1の極性の低抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を高抵抗状態から低抵抗状態へ変化させる低抵抗化過程と、
前記第1の極性とは異なる第2の極性の高抵抗化電圧パルスを前記抵抗変化層に印加することによって、当該抵抗変化層を低抵抗状態から高抵抗状態へ変化させる高抵抗化過程とを実行するように構成され、
前記高抵抗化過程は、少なくとも複数の前記高抵抗化電圧パルスを印加することにより1回の高抵抗化が完了する高抵抗化過程であり、
前記高抵抗化過程においては、前記第1電極と前記第2電極間に、少なくとも、電圧値がVH1である第1の高抵抗化電圧パルスを印加する処理と、前記第1の高抵抗化電圧パルスを印加する処理の後、電圧値がVH1よりも小さいVH2である第2の高抵抗化電圧パルスを印加する処理とを実行する、
不揮発性記憶装置。 - 前記電圧パルス印加装置は、前記第1電極と前記第2電極間に、前記第1の高抵抗化電圧パルスを印加し、引き続き第2の高抵抗化電圧パルスを印加する、
請求項8に記載の不揮発性記憶装置。 - 前記第2の金属酸化物層の抵抗値は、前記第1の金属酸化物層の抵抗値よりも大きい、
請求項8に記載の不揮発性記憶装置。 - 前記第1の金属と、前記第2の金属とは同一である、
請求項10に記載の不揮発性記憶装置。 - 前記第1の金属は第1の遷移金属であり、前記第2の金属は第2の遷移金属である、
請求項8、10、11のいずれか1項に記載の不揮発性記憶装置。 - 前記抵抗変化層は、
TaOx(但し、0.8≦x≦1.9)で表される組成を有する酸素不足型の第1のタンタル酸化物層と、TaOy(但し、2.1≦y)で表される組成を有する第2のタンタル酸化物層と、を有する、
請求項8または9に記載の不揮発性記憶装置。 - 前記第1の金属と、前記第2の金属とは互いに異なり、前記第2の金属の標準電極電位は、前記第1の金属の標準電極電位より低い、
請求項8に記載の不揮発性記憶装置。 - 前記第2の高抵抗化電圧パルスを印加するステップにおいて、前記第1の高抵抗化電圧パルスを印加することにより前記抵抗変化層に生じた酸素空孔を、酸素イオンで埋めるように抵抗変化させる、
請求項1〜7のいずれか1項に記載の抵抗変化素子の駆動方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013516872A JP5313413B2 (ja) | 2011-06-13 | 2012-06-11 | 抵抗変化素子の駆動方法、及び不揮発性記憶装置 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011130860 | 2011-06-13 | ||
JP2011130860 | 2011-06-13 | ||
JP2013516872A JP5313413B2 (ja) | 2011-06-13 | 2012-06-11 | 抵抗変化素子の駆動方法、及び不揮発性記憶装置 |
PCT/JP2012/003791 WO2012172773A1 (ja) | 2011-06-13 | 2012-06-11 | 抵抗変化素子の駆動方法、及び不揮発性記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5313413B2 true JP5313413B2 (ja) | 2013-10-09 |
JPWO2012172773A1 JPWO2012172773A1 (ja) | 2015-02-23 |
Family
ID=47356780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013516872A Expired - Fee Related JP5313413B2 (ja) | 2011-06-13 | 2012-06-11 | 抵抗変化素子の駆動方法、及び不揮発性記憶装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9142289B2 (ja) |
JP (1) | JP5313413B2 (ja) |
WO (1) | WO2012172773A1 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8958233B2 (en) | 2011-10-18 | 2015-02-17 | Micron Technology, Inc. | Stabilization of resistive memory |
JP6230090B2 (ja) * | 2013-01-28 | 2017-11-15 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 多機能電気伝導素子 |
FR3004577A1 (ja) | 2013-04-15 | 2014-10-17 | Commissariat Energie Atomique | |
FR3004576B1 (fr) | 2013-04-15 | 2019-11-29 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Cellule memoire avec memorisation de donnees non volatile |
FR3009421B1 (fr) * | 2013-07-30 | 2017-02-24 | Commissariat Energie Atomique | Cellule memoire non volatile |
US9269432B2 (en) * | 2014-01-09 | 2016-02-23 | Micron Technology, Inc. | Memory systems and memory programming methods |
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---|---|---|---|---|
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WO2008153124A1 (ja) | 2007-06-15 | 2008-12-18 | Nec Corporation | 半導体装置及びその駆動方法 |
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JP4846813B2 (ja) | 2009-03-12 | 2011-12-28 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
KR101136936B1 (ko) | 2009-10-26 | 2012-04-20 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 및 그 동작방법 |
-
2012
- 2012-06-11 WO PCT/JP2012/003791 patent/WO2012172773A1/ja active Application Filing
- 2012-06-11 JP JP2013516872A patent/JP5313413B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-06-11 US US13/883,075 patent/US9142289B2/en active Active
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JP2012022742A (ja) * | 2010-07-13 | 2012-02-02 | Toshiba Corp | 抵抗変化型メモリ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012172773A1 (ja) | 2012-12-20 |
US20130223131A1 (en) | 2013-08-29 |
US9142289B2 (en) | 2015-09-22 |
JPWO2012172773A1 (ja) | 2015-02-23 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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