JP5278174B2 - シリコンエピタキシャルウェーハおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
特に、ボロンを高濃度にドープしたシリコンウェーハの表面にシリコンエピタキシャル層を成長させたp/p+シリコンエピタキシャルウェーハでは、ボロンがドープされたシリコンウェーハとドープされていないエピタキシャル層との格子定数の差が大きいため、エピタキシャル成長させた後のウェーハの反り量が大きいという問題があった。また、結晶方位が(110)のシリコンウェーハの表面にシリコンエピタキシャル層を成長させた場合は、結晶方位が(100)のシリコンウェーハの表面にシリコンエピタキシャル層を成長させた場合に比べてより反り易い傾向があることが判明した。
ゲルマニウムが、
また、シリコンエピタキシャル膜の膜厚は4μm以上20μm以下であることが好ましい。膜厚が4μm未満の場合は、反りは発生しない。一方、膜厚が20μmを超える場合は、反りの発生を抑制するためにゲルマニウム濃度を高くする必要があり、ウェーハの製造コストの上昇につながる。
CZ法により結晶方位が(110)のシリコン単結晶インゴットを育成する際、シリコン融液にボロンおよびゲルマニウムを、ボロン濃度が2.01×1019atoms/cm3、ゲルマニウム濃度が2.03×1019atoms/cm3となるようにドープし、これをスライスして直径300mm、厚さ774μmのウェーハを作製した。
実施例1に対して、シリコン融液にドープするボロンの濃度を1.98×1019atoms/cm3、ゲルマニウムの濃度を1.01×1020atoms/cm3、ウェーハの厚みを775μm、エピタキシャル膜の膜厚を6μmとした以外は実施例1と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。また、上記(式1)の左辺の計算値も表1に示す。
実施例1に対して、シリコン融液にドープするボロンの濃度を1.21×1019atoms/cm3、ゲルマニウムの濃度を9.00×1018atoms/cm3、エピタキシャル膜の膜厚を4μmとした以外は実施例1と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。また、上記(式1)の左辺の計算値も表1に示す。
実施例1に対して、シリコン融液にドープするボロンの濃度を1.21×1019atoms/cm3、ゲルマニウムの濃度を4.03×1019atoms/cm3、ウェーハの厚みを775μm、エピタキシャル膜の膜厚を6μmとした以外は実施例1と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。また、上記(式1)の左辺の計算値も表1に示す。
実施例1に対して、シリコン融液にドープするボロンの濃度を9.81×1018atoms/cm3、ゲルマニウムの濃度を2.01×1019atoms/cm3、ウェーハの厚みを775μm、エピタキシャル膜の膜厚を6μmとした以外は実施例1と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。また、上記(式1)の左辺の計算値も表1に示す。
実施例1に対して、シリコン融液にドープするボロンの濃度を1.95×1019atoms/cm3、ゲルマニウムの濃度を1.01×1020atoms/cm3、ウェーハの厚みを775μm、エピタキシャル膜の膜厚を20μmとした以外は実施例1と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。また、上記(式1)の左辺の計算値も表1に示す。
実施例1の比較例として、シリコン融液にドープするボロンの濃度を2.02×1019atoms/cm3、ウェーハの厚みを773μmとし、ゲルマニウムをドープしなかったこと以外は実施例1と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。
実施例3の比較例として、シリコン融液にドープするボロンの濃度を2.01×1019atoms/cm3、ウェーハの厚みを775μmとし、ゲルマニウムをドープしなかったこと以外は実施例3と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。
実施例2の比較例として、シリコン融液にドープするボロンの濃度を1.90×1019atoms/cm3とし、ゲルマニウムをドープしなかったこと以外は実施例2と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。
実施例2の比較例として、シリコン融液にドープするボロンの濃度を2.01×1019atoms/cm3、ゲルマニウムの濃度を3.04×1019atoms/cm3としたこと以外は実施例2と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。また、上記(式1)の左辺の計算値も表1に示す。
実施例3の比較例として、シリコン融液にドープするボロンの濃度を1.23×1019atoms/cm3、ウェーハの厚みを775μmとし、ゲルマニウムをドープしなかったこと以外は実施例3と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。
実施例4の比較例として、シリコン融液にドープするボロンの濃度を1.20×1019atoms/cm3とし、ゲルマニウムをドープしなかったこと以外は実施例4と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。
実施例5の比較例として、シリコン融液にドープするボロンの濃度を9.70×1018atoms/cm3、ウェーハの厚みを774μmとし、ゲルマニウムをドープしなかったこと以外は実施例5と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。
実施例5の比較例として、シリコン融液にドープするゲルマニウムの濃度を2.10×1018atoms/cm3としたこと以外は実施例5と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。また、上記(式1)の左辺の計算値も表1に示す。
実施例1の参考例として、ウェーハの直径を200mm、ウェーハの厚みを723μmとし、ゲルマニウムをドープしなかったこと以外は実施例1と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。
実施例3の参考例として、ウェーハの直径を200mm、シリコン融液にドープするボロンの濃度を1.80×1019atoms/cm3、ウェーハの厚みを726μmとし、ゲルマニウムをドープしなかったこと以外は実施例3と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。
実施例2の参考例として、ウェーハの直径を200mm、ウェーハの厚みを721μmとし、ゲルマニウムをドープしなかったこと以外は実施例2と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。
実施例1の参考例として、シリコン融液にドープするボロンの濃度を1.20×1019atoms/cm3とし、ゲルマニウムをドープしなかったこと以外は実施例1と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。
実施例1の参考例として、シリコン融液にドープするボロンの濃度を9.70×1018atoms/cm3、エピタキシャル膜の膜厚を2.27μmとし、ゲルマニウムをドープしなかったこと以外は実施例1と同じ条件でシリコンエピタキシャルウェーハを作製し、このシリコンエピタキシャルウェーハの反り測定を、エピタキシャル成長させる前後において実施し、それらの反り量の変化の絶対値を算出した。この結果を表1に示す。
実施例1〜6に示すとおり、式1を満たすゲルマニウム濃度のウェーハにエピタキシャル膜を成長させた300mmのエピタキシャルウェーハによれば、反り量の変化が最大でも17.8μmと良好であった。
2…シリコンエピタキシャル層
Claims (8)
- チョクラルスキー法により育成され、ボロンおよびゲルマニウムがドープされた単結晶インゴットをスライスして作製された直径300mm以上のシリコンウェーハの表面に、シリコンエピタキシャル膜を成長させたシリコンエピタキシャルウェーハであって、
前記ボロンが8.5×1018(atoms/cm3)以上の濃度でドープされ、
前記ゲルマニウムが、
(ただし、[B]は前記ボロンの濃度(atoms/cm3)、[Ge]は前記ゲルマニウムの濃度(atoms/cm3)、rは前記シリコンウェーハの半径(μm)、tepiは前記エピタキシャル膜の成長厚さ(μm)、tsubは前記シリコンウェーハの厚さ(μm)を示す。) - 前記シリコンウェーハの結晶方位が(110)であることを特徴とする請求項1記載のシリコンエピタキシャルウェーハ。
- 前記シリコンエピタキシャル膜の膜厚が4μm以上20μm以下であることを特徴とする請求項1記載のシリコンエピタキシャルウェーハ。
- 前記シリコンエピタキシャル膜の膜厚が4μm以上20μm以下であることを特徴とする請求項2記載のシリコンエピタキシャルウェーハ。
- チョクラルスキー法によりボロンとゲルマニウムとが添加されたシリコン単結晶インゴットを育成する工程と、
このインゴットをスライスして直径300mm以上のシリコンウェーハを作製する工程と、
前記シリコンウェーハの表面にエピタキシャル膜を成長させる工程と、を有するシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法であって、
前記ボロンが8.5×1018(atoms/cm3)以上の濃度でドープされ、
前記ゲルマニウムが、
(ただし、[B]は前記ボロンの濃度(atoms/cm3)、[Ge]は前記ゲルマニウムの濃度(atoms/cm3)、rは前記シリコンウェーハの半径(μm)、tepiは前記エピタキシャル膜の成長厚さ(μm)、tsubは前記シリコンウェーハの厚さ(μm)を示す。) - 前記シリコンウェーハの結晶方位が(110)であることを特徴とする請求項5記載のシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法。
- 前記シリコンエピタキシャル膜の膜厚が4μm以上20μm以下であることを特徴とする請求項5記載のシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法。
- 前記シリコンエピタキシャル膜の膜厚が4μm以上20μm以下であることを特徴とする請求項6記載のシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法。
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Family Cites Families (14)
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FR2556521B1 (fr) * | 1983-12-13 | 1986-08-29 | Jeumont Schneider | Dispositif d'alimentation d'une charge notamment un moteur a courant continu pour locomotives ferroviaires du type bi-courant |
JPS61141700A (ja) * | 1984-12-13 | 1986-06-28 | アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニー | エピタキシヤル構造およびその形成方法 |
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JP3536087B2 (ja) * | 2000-11-07 | 2004-06-07 | 信州大学長 | 無転位シリコン単結晶の製造方法 |
JP2003146795A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-05-21 | Silicon Technology Co Ltd | 高耐熱衝撃性シリコンウエハ |
JP2003160395A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-06-03 | Silicon Technology Co Ltd | 耐反りシリコンウエハ |
JP4165073B2 (ja) * | 2002-01-16 | 2008-10-15 | 株式会社Sumco | エピタキシャルシリコン単結晶ウェーハ並びにその製造方法 |
JP4708697B2 (ja) * | 2002-11-11 | 2011-06-22 | 株式会社Sumco | エピタキシャルシリコンウェーハ |
KR100679737B1 (ko) * | 2003-05-19 | 2007-02-07 | 도시바세라믹스가부시키가이샤 | 왜곡층을 가지는 실리콘기판의 제조방법 |
DE10336271B4 (de) * | 2003-08-07 | 2008-02-07 | Siltronic Ag | Siliciumscheibe und Verfahren zu deren Herstellung |
JP4590876B2 (ja) * | 2004-02-04 | 2010-12-01 | 株式会社Sumco | エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法及びその方法で製造されたシリコンウェーハ |
JP2006080278A (ja) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 歪みシリコンウエハおよびその製造方法 |
JP2007070131A (ja) * | 2005-09-05 | 2007-03-22 | Sumco Corp | エピタキシャルウェーハの製造方法およびエピタキシャルウェーハ |
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