JP5274454B2 - エーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法 - Google Patents
エーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法 Download PDFInfo
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- -1 isocyanate compound Chemical class 0.000 title claims description 133
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 title claims description 59
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 56
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 36
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 147
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 60
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 57
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Natural products CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 38
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 10
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 8
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 47
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 description 30
- GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminoethoxy)ethanol Chemical compound NCCOCCO GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 22
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 11
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 11
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 9
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 238000010504 bond cleavage reaction Methods 0.000 description 5
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 5
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 5
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 4
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 4
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N dodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 238000003918 potentiometric titration Methods 0.000 description 4
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HNRMPXKDFBEGFZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylbutane Chemical compound CCC(C)(C)C HNRMPXKDFBEGFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFEFOYRSMXVNEL-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tritert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 PFEFOYRSMXVNEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AWSSTZZQBPIWKZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-2-methylpropanoic acid Chemical compound ClCC(C)C(O)=O AWSSTZZQBPIWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFEOZHBOMNWTJB-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane Chemical compound CCC(C)CC PFEOZHBOMNWTJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 2
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 2
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000001577 simple distillation Methods 0.000 description 2
- BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N tetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC BGHCVCJVXZWKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N tridecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCC IIYFAKIEWZDVMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N triethylazanium;chloride Chemical compound Cl.CCN(CC)CC ILWRPSCZWQJDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- XNCRUNXWPDJHGV-BQYQJAHWSA-N (e)-2-methyl-3-phenylprop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C1=CC=CC=C1 XNCRUNXWPDJHGV-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- XFQWFWOZFVCMFS-UHFFFAOYSA-N 1-(1-aminopropan-2-yloxy)propan-2-ol Chemical compound CC(O)COC(C)CN XFQWFWOZFVCMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKPDVAVDCVXWKV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminopropoxy)propan-1-ol Chemical compound CC(N)COC(C)CO JKPDVAVDCVXWKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRSPXGAIHKTVBK-UHFFFAOYSA-N 2-(3-aminobutan-2-yloxy)butan-2-ol Chemical compound CCC(C)(O)OC(C)C(C)N IRSPXGAIHKTVBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-M 2-Methyl-2-butenoic acid Natural products C\C=C(\C)C([O-])=O UIERETOOQGIECD-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- ASDQMECUMYIVBG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-aminoethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound NCCOCCOCCO ASDQMECUMYIVBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHBFFEAZFAMESA-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-2-methyl-3-phenylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C(Cl)C1=CC=CC=C1 AHBFFEAZFAMESA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALNZQZSGWGRUBS-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-3-methylbutanoic acid Chemical compound CC(C)(Cl)CC(O)=O ALNZQZSGWGRUBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWRFKKLFZMJBBK-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-3-phenylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)CC(Cl)C1=CC=CC=C1 GWRFKKLFZMJBBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEEMVPPCXNTVNP-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobutanoic acid Chemical compound CC(Cl)CC(O)=O XEEMVPPCXNTVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVLLWBPWBDJZIZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropentanoic acid Chemical compound CCC(Cl)CC(O)=O OVLLWBPWBDJZIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEYMMOKECZBKAC-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCl QEYMMOKECZBKAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INUNLMUAPJVRME-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropanoyl chloride Chemical compound ClCCC(Cl)=O INUNLMUAPJVRME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYXAXTKAKYKXOZ-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-3-methylbutanoic acid Chemical compound ClCC(C)CC(O)=O RYXAXTKAKYKXOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPLKGJHGWCVSOG-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobutanoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCl IPLKGJHGWCVSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTGIPHNDQJAHEO-UHFFFAOYSA-N 4-chloropentanoic acid Chemical compound CC(Cl)CCC(O)=O LTGIPHNDQJAHEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N Angelic acid Natural products CC=C(C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CC(C)OC(*)C(*)C(C)(C)N Chemical compound CC(C)OC(*)C(*)C(C)(C)N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGRURXZWJCSNKU-UHFFFAOYSA-N Isopropenylacetic acid Chemical compound CC(=C)CC(O)=O IGRURXZWJCSNKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N TEMPO Chemical group CC1(C)CCCC(C)(C)N1[O] QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- YIYBQIKDCADOSF-UHFFFAOYSA-N alpha-Butylen-alpha-carbonsaeure Natural products CCC=CC(O)=O YIYBQIKDCADOSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000021235 carbamoylation Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005548 dental material Substances 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002990 phenothiazines Chemical class 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N tiglic acid Chemical compound C\C=C(/C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N tiglic acid Natural products CC(C)=C(C)C(O)=O UAXOELSVPTZZQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIYBQIKDCADOSF-ONEGZZNKSA-N trans-pent-2-enoic acid Chemical compound CC\C=C\C(O)=O YIYBQIKDCADOSF-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C263/00—Preparation of derivatives of isocyanic acid
- C07C263/10—Preparation of derivatives of isocyanic acid by reaction of amines with carbonyl halides, e.g. with phosgene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C265/00—Derivatives of isocyanic acid
- C07C265/02—Derivatives of isocyanic acid having isocyanate groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C265/06—Derivatives of isocyanic acid having isocyanate groups bound to acyclic carbon atoms of an unsaturated carbon skeleton
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Description
反応に用いる溶媒は、全ての反応工程、つまり後述する工程(1)、(2)、(3)および(4)において連続で使用してもよい。溶媒の具体例としては、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン、クメンなどの芳香族系炭化水素類;ペンタン、ヘキサン、2−メチルペンタン、3−メチルペンタン、2,2−ジメチルブタン、ヘプタン、2,2,4−トリメチルペンタン、デカン、ウンデカン、テトラデカン、ドデカン、トリデカン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂肪族系炭化水素類などが挙げられる。
キシレン 0.0575 モル%
ペンタン 0,0047 モル%
ヘキサン 0.0112 モル%
ヘプタン 0.0147 モル%
2,2,4−トリメチルペンタン 0.0154 モル%
デカン 0.0298 モル%
ドデカン 0.0314 モル%
シクロヘキサン 0.0154 モル%
これらの中では、塩化水素の溶解性の低さ及び取り扱いの容易さの観点から、芳香族炭化水素類が好ましく、トルエンがより好ましい。これらの溶媒は、エーテル結合の開裂や、不飽和基またはNCO基への塩酸付加の抑制に有効である。これは、これらの溶媒に対して塩化水素ガスの溶解度が低いことが影響していると考えられる。
本発明における反応温度は、エーテル結合を有するアミノアルコールからエーテル結合を有するエチレン性不飽和二重結合含有イソシアネート化合物を得るまでの全工程について、0〜100℃、好ましくは10〜100℃の範囲である。
エーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を得るための反応工程について具体的に説明する。なお、以下において、例えば、式(I)で表される化合物を「化合物(I)」のように表記することがあり、他の式で表される化合物についても同様に表記することがある。
本発明の方法における工程(1)は、下記式(I)で表されるアミノアルコールと塩酸とから下記式(III)で表されるヒドロキシアミン塩酸塩化合物を得る工程である。
本発明における工程(2)は、上記ヒドロキシアミン塩酸塩化合物(III)と、下記式(IV)または(V)で表される化合物とから、下記式(VI)または(VII)で表されるエステル化合物を得る工程である。
本発明の方法における工程(3)は、上記エステル化合物(VI)または(VII)とホスゲンとからイソシアネート化合物を得る工程である。以下、上記化合物(VI)から誘導する場合を「工程(3a)」と称し、上記化合物(VII)から誘導する場合を「工程(3b)」と称する。
本発明の方法における工程(3a)は、上記エステル化合物(VI)とホスゲンとから、下記式(VIII)で表されるイソシアネート化合物を得る工程である。
本発明の方法における工程(3b)は、上記エステル化合物(VII)とホスゲンとから、下記式(II)で表されるエーテル結合を有する不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程である。
本発明の方法における工程(4)は、上記イソシアネート化合物(VIII)または(II)を3級窒素を含有する塩基性窒素化合物と接触させる工程である。以下、上記化合物(VIII)から誘導する場合を「工程(4a)」と称し、上記化合物(II)から誘導する場合を「工程(4b)」と称する。
上記工程(1)で用いられるアミノアルコール(I)は特に限定されず、たとえば、2−(2−アミノエトキシ)エタノール、2−メチル−2−(2−アミノ−2−メチルエトキシ)エタノール、2−(2−アミノ−1−メチルエトキシ)−1−メチル−エタノール、(2−アミノ−2−メチル−1−メチルエトキシ)−1−メチル−2−メチルエタノール、2−(2−(2−アミノエトキシ)エトキシ)エタノールなどが挙げられる。これらの中では、2−(2―アミノエトキシ)エタノールが好ましい。
上記工程(2)で用いられる上記化合物(IV)としては、特に制限されず、市販されているものを使用できる。たとえば、3−クロロプロピオン酸、3−クロロ酪酸、4−クロロ酪酸、3−クロロ−2−メチルプロピオン酸、4−クロロ吉草酸、3−クロロ吉草酸、4−クロロ−3−メチル酪酸、3−クロロ−3−メチル酪酸、3−クロロ−3−フェニルプロピオン酸、3−クロロ−3−フェニル−2−メチルプロピオン酸、および前記カルボン酸の酸クロリド化合物、前記カルボン酸と炭素数1〜6の直鎖状または分岐状のアルコール化合物とからなるエステル化合物などが挙げられる。本発明の製造方法では、上記化合物(IV)として、カルボン酸の酸クロリド化合物(Y1が塩素原子)を用いることが好ましく、3−クロロ−2−メチルプロピオン酸の酸クロリドまたは3−クロロプロピオン酸の酸クロリドを用いることがより好ましい。
上記工程(3a)の反応温度は、使用する化合物の種類によって異なるが、好ましくは65〜100℃、より好ましくは70〜95℃である。反応温度が低過ぎると、反応速度が遅くなる可能性があり、反応温度が高過ぎると、熱により脱塩化水素反応が進行し、これにより生成した不飽和結合が重合する可能性があるだけでなく、反応によって発生する塩化水素ガスによってエーテル結合が開裂し、収率の低下を起こすおそれがある。
本発明の方法における工程(4a)は、上記イソシアネート化合物(VIII)を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素することにより、下記式(II)で表されるエーテル結合を有する不飽和基含有イソシアネート化合物を得る工程である。
上記工程(3b)の反応温度は、使用する化合物の種類によって異なるが、好ましくは65〜100℃、より好ましくは70〜95℃である。反応温度が低過ぎると、反応速度が遅くなる可能性があり、反応温度が高過ぎると、熱により脱塩化水素反応が進行し、これにより生成した不飽和結合が重合する可能性があるだけでなく、反応によって発生する塩化水素ガスによってエーテル結合が開裂し、収率の低下を起こすおそれがある。
本発明の製造方法では、上記工程(3b)の反応を減圧下で行うことが好ましい。減圧の条件としては、たとえば700〜750torrの微減圧でよい。減圧下で反応を行うことにより、反応中に副生物として生成する塩化水素を効率的に除去することができる。また、この時に窒素等の不活性ガスを反応液中にバブリングさせて反応を行ってもよい。
本発明の製造方法では、上記工程(3b)で得られたエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物(II)を、3級窒素を含有する塩基性窒素化合物と接触させる工程(4b)を行うことが好ましい。
上記反応工程の後に、上記工程(4a)または(4b)で得られた生成物を水と接触させる水洗工程をさらに行うことが好ましい。イソシアネート化合物は水と反応して分解することがあるが、上記工程(4a)または(4b)で得られたエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物(II)は、水と接触させても分解することがない。そのため、水洗工程を行うことによって、反応液中に残存するアミンの塩酸塩等を効率的に除去することができる。
得られたエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物(II)は、一般的な操作、例えば濾過、抽出、再結晶、蒸留などにより精製することができる。上記化合物(II)を精製するための操作および装置は特に限定されない。操作としては単蒸留または精留のどちらでも構わない。単蒸留においては、一般的なバッチ式の蒸留に加え薄膜蒸留装置を使用することもできる。また、精留においては、精留塔および還流装置を有する蒸留設備を使用することができる。蒸留温度は低いほうが不要な熱履歴を回避することができるため好ましい。具体的な蒸留温度条件としては、釜内温度もしくは伝熱面温度が、好ましくは150℃以下、より好ましくは130℃以下である。
分析機器:Agilent Tecnologies社製 6850
カラム:DB−1(J&W社製)、Length 30m、ID 0.32mm、Film 1μm
カラム温度:50℃から10℃/minで300℃まで昇温し、300℃で5分ホールド
インテグレーター:Agilent Tecnologies社製 ケミステーション
インジェクション温度:250℃
ディテクター温度:250℃ FID
検出器:FID H2 40mL/min Air 450mL/min
キャリアーガス:He 10mL/min
<自動滴定装置>
分析機器:平沼産業社製 COM−550。
300ml共栓付三角フラスコに試料0.5gを正確に測りとり、メタノール/精製水混合液(容量比:70/30)100mlを加えた後、30%水酸化ナトリウム水溶液10mlを加えた。この三角フラスコに冷却管を取り付けて、80℃の水浴で1時間加熱還流させた後、室温まで冷却した。次いで、得られた溶液を200mlビーカーに取り、精製水100mlを加え、(1+1)硝酸1mlを添加し、1/50規定硝酸銀溶液を用いて電位差滴定をし、アルカリ分解性塩素の濃度を求めた。なお、電位差滴定装置(平沼産業社製「COM−550」)を用いて行った。
<工程(1)>
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた500mLの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、2−(2−アミノエトキシ)エタノール35.0g(0.33mol)とトルエン(25℃、分圧1atmにおける塩化水素ガスの溶解度:0.0425モル%、「SOLUBILITY DATA SERIES Vol.42 -HYDROGEN HALIDES IN NON-AQUEOUS SOLVENTS-」参照)350mLとを仕込んだ。30℃に加熱して2−(2−アミノエトキシ)エタノールを溶融させ、75〜90℃の温度にて塩化水素ガスを150mL/minの流量で1時間供給した。
工程(1)で得られた反応液を80℃に加熱し、フェノチアジン0.2gを添加した後に、メタクリル酸クロリド40.0g(0.38mol)を1.5時間かけて供給し、80℃で0.5時間加熱を継続した。
工程(2)で得られた反応液を85℃に保ちながら、フェノチアジン0.2gを添加した後に、ホスゲン53.7g(0.55mol)を5時間かけて供給し、85℃で1時間加熱を継続した。その後、反応液中に溶存しているホスゲンを、窒素を導入して除去した。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、2−(イソシアナトエチルオキシ)エチルメタクリレート(以下「MOI−EG」と称する。)が39.7g(0.20mol)、収率59.8%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)で得られていた。
上記反応液から、真空ポンプで圧力を5kPaに減圧し、溶媒を留去した。その濃縮液を100mLフラスコに仕込み、フェノチアジン39.5gを加え、0.1kPaに減圧し、蒸留して91〜95℃の留分を得た。MOI−EGが35.8g(0.18mol)、収率53.0%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)で得られた。
<工程(1)>
実施例1の工程(1)と同様の操作を行った。
工程(1)で得られた液を表1に示す温度(X℃)に加熱し、フェノチアジン0.2gを添加した後に、メタクリル酸クロリド40.0g(0.38mol)を1.5時間かけて供給し、X℃で0.5時間加熱を継続した。
工程(2)で得られた液を85℃に保ちながら、フェノチアジン0.2gを添加した後にホスゲン53.7g(0.55mol)を5時間かけて供給し、85℃で1時間加熱を継続した。その後、反応液中に溶存しているホスゲンを、窒素を導入して除去した。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、MOI−EGが表1に示す収率Y%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)で得られていた。また、MOI−EGの不飽和基に塩化水素(HCl)が付加した副生物の収率は表1に示すZ%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)であった。前記X、Y、Zの関係を下記表1に示す。
<工程(1)>
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた500mLの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、2−(2−アミノエトキシ)エタノール20.0g(0.19mol)とトルエン(25℃、分圧1atmにおける塩化水素ガスの溶解度:0.0425モル%、「SOLUBILITY DATA SERIES Vol.42 -HYDROGEN HALIDES IN NON-AQUEOUS SOLVENTS-」参照)200mLとを仕込んだ。25℃に加熱して2−(2−アミノエトキシ)エタノールを溶融させ、75〜90℃の温度にて塩化水素ガスを150mL/minの流量で1時間供給した。
工程(1)で得られた反応液にフェノチアジン0.2gを添加した後に、系内を720torr、N2を10mL/minでバブリングさせながら、内温85℃にてメタクリル酸クロリド23.9g(0.23mol)を1.7時間かけて供給し、さらに85℃で5.0時間加熱を継続した。
工程(2)で得られた反応液を90℃に保ちながら、フェノチアジン0.2gを添加した後に、ホスゲン34.0g(0.34mol)を5時間かけて供給し、90℃で1時間加熱を継続した。その後、反応液中に溶存しているホスゲンを、窒素を導入して除去した。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、MOI−EGが27.7g(0.14mol)、収率73.3%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)で得られていた。MOI−EGの不飽和基に塩化水素(HCl)が付加した副生物の収率は3.2%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)であった。
<工程(1)>
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた500mLの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、2−(2−アミノエトキシ)エタノール20.0g(0.19mol)とトルエン(25℃、分圧1atmにおける塩化水素ガスの溶解度:0.0425モル%、「SOLUBILITY DATA SERIES Vol.42 -HYDROGEN HALIDES IN NON-AQUEOUS SOLVENTS-」参照)200mLとを仕込んだ。30℃に加熱して2−(2−アミノエトキシ)エタノールを溶融させ、75〜90℃の温度にて塩化水素ガスを150mL/minの流量で1時間供給した。
工程(1)で得られた反応液を95℃に加熱し、フェノチアジン0.2gを添加した後に、メタクリル酸クロリド21.9g(0.21mol)を1.0時間かけて供給し、95℃で3.0時間加熱を継続した。
工程(2)で得られた反応液を90℃に保ちながら、フェノチアジン0.2gを添加した後に、ホスゲン34.0g(0.34mol)を5時間かけて供給し、90℃で1時間加熱を継続した。その後、反応液中に溶存しているホスゲンを、窒素を導入して除去し、210.7gの反応液を得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、MOI−EGが収率73.4%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)で得られていた。さらに、反応液の溶媒を、内温65℃、圧力12〜10kPaの条件下で留去し、トルエン濃度を20%に濃縮した。
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた1000mLの四つ口フラスコに、工程(3)で得られた濃縮後の反応液を500g(MOI−EG 294.0g)、フェノチアジン3gを仕込んだ。なお、上記濃縮後の反応液中に含まれるアルカリ分解性塩素の測定結果から、上記濃縮後の反応液500g中に含まれるアルカリ分解性塩素の量は0.83molであった。次いで、反応液にトリエチルアミン84.1g(0.83mol)を内温60℃で120分かけて供給し、さらに90℃で5時間加熱を継続した。室温へ冷却後、ろ過によりトリエチルアミン塩酸塩を除去し、トルエンにてリンスを実施した。さらに内温65℃、圧力12〜10kPaの条件下で減圧濃縮し、MOI−EG 293.6gを含むトルエン濃縮液478.0gを得た。
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた2000mLの四つ口フラスコに、工程(4)で得られたトルエン濃縮液300.0g(MOI−EG 184.3g)を仕込み、さらに塩化メチレン1500mLを仕込んだ。内温を10℃に保ち、水600mLを供給し、さらに30分間攪拌した。10分間静置し、2層に分離した下層を回収したところ、2300gの塩化メチレン溶液を得た。得られた塩化メチレン溶液を常圧下で濃縮し、さらに13〜10kPaの条件下で塩化メチレンを留去することにより、MOI−EG 184.1gを含む濃縮液312gを得た。続いて、薄膜蒸留器にて精製することで153.4gのMOI−EGを得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、MOI−EGの収率が80.0%であることを確認した。
<工程(1)>
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた500mLの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、2−(2−アミノエトキシ)エタノール20.0g(0.19mol)とトルエン(25℃、分圧1atmにおける塩化水素ガスの溶解度:0.0425モル%、「SOLUBILITY DATA SERIES Vol.42 -HYDROGEN HALIDES IN NON-AQUEOUS SOLVENTS-」参照)200mLとを仕込んだ。30℃に加熱して2−(2−アミノエトキシ)エタノールを溶融させ、75〜90℃の温度にて塩化水素ガスを150mL/minの流量で1時間供給した。
工程(1)で得られた反応液を95℃に加熱し、フェノチアジン0.2gを添加した後に、3−クロロプロピオン酸クロリド26.5g(0.21mol)を1.0時間かけて供給し、95℃で3.0時間加熱を継続した。
工程(2)で得られた反応液を90℃に保ちながら、フェノチアジン0.2gを添加した後に、ホスゲン34.0g(0.34mol)を5時間かけて供給し、90℃で1時間加熱を継続した。その後、反応液中に溶存しているホスゲンを、窒素を導入して除去し、207.1gの反応液を得た。反応液中に含まれるアルカリ分解性塩素の量を測定した結果、4.0%であった。
工程(3)で得られた反応液にフェノチアジン0.2gを添加した後、内温60℃に調整し、22.1gのトリエチルアミン(0.22mol)を滴下し、8.0時間加熱を継続した。室温に冷却後、ろ過によりトリエチルアミン塩酸塩を除去し、トルエンにてリンスを実施した。フェノチアジンを0.2g添加し、内温65℃、圧力12〜10kPaの条件下で減圧濃縮し、トルエン濃縮液36.7gを得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、2−(イソシアナトエチルオキシ)エチルアクリレート(以下「AOI−EG」と称する。)が24.8g、収率70.4%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)であることを確認した。
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた500mLの四つ口フラスコに、工程(4)で得られたトルエン濃縮液36.7g(AOI−EG 24.8g)を仕込み、さらに塩化メチレン165mLを仕込んだ。内温を10℃に保ち、水66mLを供給し、さらに30分間攪拌した。10分間静置し、2層に分離した下層を回収したところ、247gの塩化メチレン溶液を得た。得られた塩化メチレン溶液を常圧下で濃縮し、さらに13〜10kPaの条件下で塩化メチレンを留去することにより、濃縮液37.8gを得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、AOI−EGが24.6g、収率73.3%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)であることを確認した。さらに、フェノチアジン0.2gを添加したところで、真空ポンプで圧力を0.5kPaに減圧し、初留1.7gをカットし、続いて主留17.2gを得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、AOI−EG収率48.9%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)であることを確認した。
<工程(1)>
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた500mLの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、2−(2−アミノエトキシ)エタノール20.0g(0.19mol)と酢酸ブチル(25℃、分圧1atmにおける塩化水素ガスの溶解度:0.318モル%、「SOLUBILITY DATA SERIES Vol.42 -HYDROGEN HALIDES IN NON-AQUEOUS SOLVENTS-」参照)200mLとを仕込んだ。25℃に加熱して2−(2−アミノエトキシ)エタノールを溶融させ、75〜90℃の温度にて塩化水素ガスを150mL/minの流量で1時間供給した。
工程(1)で得られた反応液を95℃に加熱し、フェノチアジン0.2gを添加した後に、メタクリル酸クロリド21.9g(0.21mol)を1.0時間かけて供給し、95℃で3.0時間加熱を継続した。
工程(2)で得られた反応液を90℃に保ちながら、フェノチアジン0.2gを添加した後に、ホスゲン34.0g(0.34mol)を5時間かけて供給し、90℃で1時間加熱を継続した。その後、反応液中に溶存しているホスゲンを、窒素を導入して除去した。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、MOI−EGが14.9g(0.075mol)、収率39.4%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)で得られていた。MOI−EGの不飽和基に塩化水素(HCl)が付加した副生物の収率は15.2%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)であった。
<工程(1)>
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた500mLの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、2−(2−アミノエトキシ)エタノール20.0g(0.19mol)と2,2,4−トリメチルペンタン(25℃、分圧1atmにおける塩化水素ガスの溶解度:0.0154モル%、「SOLUBILITY DATA SERIES Vol.42 -HYDROGEN HALIDES IN NON-AQUEOUS SOLVENTS-」参照)200mLとを仕込んだ。30℃に加熱して2−(2−アミノエトキシ)エタノールを溶融させ、75〜90℃の温度にて塩化水素ガスを150mL/minの流量で1時間供給した。
工程(1)で得られた反応液を95℃に加熱し、フェノチアジン0.2gを添加した後に、メタクリル酸クロリド21.9g(0.21mol)を1.0時間かけて供給し、95℃で3.0時間加熱を継続した。
工程(2)で得られた反応液を90℃に保ちながら、フェノチアジン0.2gを添加した後に、ホスゲン34.0g(0.34mol)を5時間かけて供給し、90℃で1時間加熱を継続した。その後、反応液中に溶存しているホスゲンを、窒素を導入して除去し、167.4gの反応液を得た。反応液を静置して2層分離させた。各層をガスクロマトグラフィーで分析したところ、各層合計でMOI−EGが収率62.4%(2−(2−アミノエトキシ)エタノール基準)で得られていた。
Claims (11)
- エーテル結合を有するアミノアルコールからエーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物を製造する方法であって、25℃における塩化水素の溶解度が0.1モル%以下である反応溶媒を用いることを特徴とする、エーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
- 前記反応溶媒が芳香族系炭化水素類または脂肪族炭化水素類であることを特徴とする請求項1に記載のエーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
- 前記反応溶媒がトルエンであることを特徴とする請求項1に記載のエーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
- 0〜100℃の温度で行われる反応工程を含むことを特徴とする請求項1に記載のエーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
- 前記反応工程が、
下記一般式(I)で表される、エーテル結合を有するアミノアルコール(I)と塩酸とを反応させて下記一般式(III)で表される化合物(III)を得る工程(1)と、
前記化合物(III)と下記一般式(IV)で表される化合物(IV)または下記一般式(V)で表される化合物(V)とを反応させて、下記一般式(VI)で表される化合物(VI)または下記一般式(VII)で表される化合物(VII)を得る工程(2)と、
前記化合物(VI)または(VII)とホスゲンとを反応させて、下記一般式(VIII)で表される化合物(VIII)または下記一般式(II)で表される化合物(II)を得る工程(3)と、
前記化合物(VIII)または(II)を3級窒素を含有する塩基性窒素化合物と接触させる工程(4)と
を含むことを特徴とする請求項4に記載のエーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
- 前記工程(4)で得られた生成物を水と接触させる水洗工程をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載のエーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
- 前記工程(2)における反応温度が65〜100℃であることを特徴とする請求項5に記載のエーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
- 前記化合物(IV)または(V)のY1が塩素原子であり、かつ、前記工程(2)における反応が減圧下で行われることを特徴とする請求項5に記載のエーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
- 前記工程(2)における反応が、さらに不活性ガスを反応液に導入させて行われることを特徴とする請求項8に記載のエーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
- 前記工程(3)における反応が減圧下で行われることを特徴とする請求項5に記載のエーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
- 前記工程(3)における反応が、さらに不活性ガスを反応液へ導入させて行われることを特徴とする請求項10に記載のエーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009515222A JP5274454B2 (ja) | 2007-05-21 | 2008-05-19 | エーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007133935 | 2007-05-21 | ||
JP2007133935 | 2007-05-21 | ||
PCT/JP2008/059117 WO2008143207A1 (ja) | 2007-05-21 | 2008-05-19 | エーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法 |
JP2009515222A JP5274454B2 (ja) | 2007-05-21 | 2008-05-19 | エーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008143207A1 JPWO2008143207A1 (ja) | 2010-08-05 |
JP5274454B2 true JP5274454B2 (ja) | 2013-08-28 |
Family
ID=40031905
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009515222A Active JP5274454B2 (ja) | 2007-05-21 | 2008-05-19 | エーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100174109A1 (ja) |
EP (1) | EP2163540B1 (ja) |
JP (1) | JP5274454B2 (ja) |
KR (1) | KR101140086B1 (ja) |
CN (1) | CN101679221A (ja) |
TW (1) | TW200911737A (ja) |
WO (1) | WO2008143207A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI648249B (zh) * | 2013-07-25 | 2019-01-21 | 日商昭和電工股份有限公司 | 反應促進劑、以及使用其之胺甲酸乙酯化合物、硫基胺甲酸乙酯化合物、醯胺化合物或尿素化合物之製造方法 |
US11401237B2 (en) | 2018-08-20 | 2022-08-02 | Showa Denko K.K. | Composition, production method for composition, and production method for unsaturated compound |
TWI727397B (zh) * | 2018-08-20 | 2021-05-11 | 日商昭和電工股份有限公司 | 組成物、組成物的製造方法,以及不飽和化合物的製造方法 |
CN114929668A (zh) * | 2020-01-06 | 2022-08-19 | 昭和电工株式会社 | 具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯化合物及其制造方法 |
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Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US3465023A (en) * | 1965-12-07 | 1969-09-02 | Gen Mills Inc | Preparation of nonaromatic polyisocyanates |
DE19535506A1 (de) | 1995-09-25 | 1997-03-27 | Bayer Ag | Herstellung von Etherisocyanaten durch Gasphasenphosgenierung von Etheraminen |
-
2008
- 2008-05-19 WO PCT/JP2008/059117 patent/WO2008143207A1/ja active Application Filing
- 2008-05-19 US US12/600,572 patent/US20100174109A1/en not_active Abandoned
- 2008-05-19 EP EP08752937.6A patent/EP2163540B1/en active Active
- 2008-05-19 KR KR1020097026450A patent/KR101140086B1/ko active IP Right Grant
- 2008-05-19 CN CN200880015630A patent/CN101679221A/zh active Pending
- 2008-05-19 JP JP2009515222A patent/JP5274454B2/ja active Active
- 2008-05-21 TW TW097118767A patent/TW200911737A/zh unknown
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200911737A (en) | 2009-03-16 |
JPWO2008143207A1 (ja) | 2010-08-05 |
US20100174109A1 (en) | 2010-07-08 |
EP2163540B1 (en) | 2014-01-08 |
WO2008143207A1 (ja) | 2008-11-27 |
CN101679221A (zh) | 2010-03-24 |
KR101140086B1 (ko) | 2012-04-30 |
EP2163540A1 (en) | 2010-03-17 |
KR20100008797A (ko) | 2010-01-26 |
EP2163540A4 (en) | 2013-02-20 |
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