JP5247626B2 - リードフレーム、樹脂パッケージ、半導体装置及び樹脂パッケージの製造方法 - Google Patents

リードフレーム、樹脂パッケージ、半導体装置及び樹脂パッケージの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5247626B2
JP5247626B2 JP2009190089A JP2009190089A JP5247626B2 JP 5247626 B2 JP5247626 B2 JP 5247626B2 JP 2009190089 A JP2009190089 A JP 2009190089A JP 2009190089 A JP2009190089 A JP 2009190089A JP 5247626 B2 JP5247626 B2 JP 5247626B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
lead
lead frame
pressure loss
resin package
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009190089A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2010074152A (ja
Inventor
泰夫 松見
光男 前田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2009190089A priority Critical patent/JP5247626B2/ja
Publication of JP2010074152A publication Critical patent/JP2010074152A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5247626B2 publication Critical patent/JP5247626B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • H01L23/49565Side rails of the lead frame, e.g. with perforations, sprocket holes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/565Moulds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49541Geometry of the lead-frame
    • H01L23/49548Cross section geometry
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01012Magnesium [Mg]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01019Potassium [K]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/0102Calcium [Ca]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01078Platinum [Pt]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)

Description

本発明は、リードフレーム、樹脂パッケージ、半導体装置及び樹脂パッケージの製造方法に関する。
従来、リードフレームは、中央に長方形のダイパッドを備えており、ダイパッド自体は、リードフレーム本体からダイパッドの対角線に沿って延びた4本の吊りリードによって、リードフレーム本体に固定されている。ダイパッドの周囲には、複数のダイボンディング用リードが配置されている。また、吊りリードが、外枠とダイパッド本体を接続する構造のものも知られている。このようなリードフレームは、例えば特許文献1に記載されている。特許文献1に記載のリードフレームにおいては、樹脂成型時に樹脂材料を金型に注入した場合において、樹脂材料が退避できる開口領域を備えている。
特開平5−315512号公報
しかしながら、従来のリードフレームを用いて製造された樹脂パッケージは必ずしも気密性が十分であるとはいえず、このように気密性が不十分な樹脂パッケージによって半導体装置を得た場合、当該半導体装置の信頼性を低下させる場合があった。したがって、より気密性に優れた高品位の樹脂パッケージが求められていた。
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、高品質の樹脂パッケージを形成可能なリードフレーム、高品質の樹脂パッケージ及びその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するためにリードフレームについて検討し、従来のリードフレームでは、樹脂パッケージ製造時において、注入された樹脂材料が、注入位置から複数の樹脂流に分かれて流れる場合、その合流位置において、ウェルドが発生する傾向が高く、製造される樹脂パッケージの品質が低下することを見出した。
そこで、本発明に係るリードフレームは、平面形状が多角形の樹脂パッケージの樹脂成形時に適用されるリードフレームであって、外枠と、外枠から内側に向かって延びた複数のボンディング用リードと、外枠の内側に配置され、ボンディング用リードと離間したダイパッドと、外枠とダイパッドを連結する複数の接続用リードと、外枠に設けられ樹脂成形時の余剰樹脂を溜めるための余剰樹脂蓄積部と、外枠とダイパッドとの間の空間と余剰樹脂蓄積部とを連通させる圧力損失部とを備え、圧力損失部は、多角形の樹脂パッケージの1つの角部に相当する位置から延びており、樹脂成形時の圧力損失部内の樹脂流動方向に垂直な圧力損失部の開口面積の最小値をS1、樹脂成形時の余剰樹脂蓄積部内の樹脂流動方向に垂直な余剰樹脂蓄積部の開口面積の平均値をS2とすると、S1<S2を満たし、前記外枠は厚みt1を有し、前記圧力損失部は最小の深さt2を有し、t2<t1を満たし、複数の前記接続用リードのうち前記角部に近いものは、屈曲しており、屈曲した前記接続用リードは、この接続用リードに隣接する前記ボンディング用リードに平行な第1リード部と、前記角部を通る前記多角形樹脂パッケージの対角線に沿った第2リード部と、が連続してなることを特徴とする。多角形とは例えば四角形である。
樹脂注入時においてリードフレームを金型で挟み、1つの角部から樹脂材料を金型で挟まれた空間内に注入すると、この角部の対角線上に位置する角部において樹脂材料が合流するが、この角部には圧力損失部を介して余剰樹脂蓄積部が連続している。すなわち、角部に集中する傾向のある樹脂材料を圧力損失部が余剰樹脂蓄積部に転送することで、かかる角部におけるウェルドの形成を抑制すると共に、圧力損失部の樹脂流動方向に垂直な方向の開口面積の最小値S1が小さいので、圧力損失部が角部における樹脂圧力を適度に維持し、この周辺においても隅々まで樹脂材料が充填される。
また、上述のように、本発明のリードフレームにおいて、外枠は厚みt1を有し、圧力損失部は最小の深さt2を有し、t2<t1を満たすすなわち、圧力損失部は該当箇所をハーフエッチングするなどで形成することができる。この場合、圧力損失部の樹脂流動方向に垂直な開口面積は、同一平面形状の貫通孔を外枠に形成した場合の樹脂流動方向に垂直な開口面積よりも、小さくなる。したがって、圧力損失部は、十分に樹脂流動を抑制し、上述の効果を奏することができる。
上述のように、本発明のリードフレームにおいて、複数の接続用リードのうち角部に近いものは、屈曲している本発明のリードフレームでは圧力損失部を備えているので、接続用リードは、圧力損失部の接続位置を避けて設けられるが、樹脂注入時に接続用リードにかかる樹脂圧力は、接続用リードが屈曲していることによって低減され、接続用リードの変形が抑制される。
上述のように、本発明のリードフレームにおいて、屈曲した接続用リードは、この接続用リードに隣接するボンディング用リードに平行な第1リード部と、角部を通る多角形樹脂パッケージの対角線に沿った第2リード部とが連続してなるこの場合、樹脂注入時に第1リード部に衝突した樹脂流は流れの向きを変更し、第1リード部と第2リード部とを跨いで、角部に流れ込む。圧力損失部の設けられる角部においては、異なる方向から流れ込む2つの樹脂流の衝突によってウェルドが生じやすいが、第1リード部と第2リード部とを跨いだ樹脂流は、もう一方の樹脂流と角部を若干避けた位置において合流するため、ウェルドの形成が抑制される。
本発明のリードフレームにおいて、リードフレームの表面は黒化処理されていることが好ましい。リードフレームを黒化処理すると、樹脂材料とリードフレーム表面との接着強度が著しく高くなり、製造された樹脂パッケージからリードフレームが剥離しにくくなる。
また、上述のリードフレームを用いた樹脂パッケージの製造方法は、上記リードフレームを用意する工程と、対向する2つの金型で挟まれた空間内にリードフレームを配置する工程と、空間内に樹脂材料を注入する工程とを備えたことを特徴とする。
この製造方法によれば、上記リードフレームを用いているので、角部におけるウェルドの発生を抑制することができる。
また、本発明に係る樹脂パッケージの製造方法においては、樹脂材料が液晶ポリマーであることが好ましい。液晶ポリマーを用いた場合には、剛性の高い樹脂パッケージを製造することができるという利点がある。
また、本発明の樹脂パッケージの製造方法においては、樹脂材料の注入時の金型の温度T1(℃)、及び樹脂材料の流動開始温度T2(℃)は、以下の関係式:T1(℃)≧T2(℃)−70(℃)、を満たすことが好ましい。このような温度で、樹脂が注入されると、金型内で十分に樹脂が流動し、外観の整った樹脂成形体を形成することができる。また、リードフレームと樹脂との接着強度がより向上するという利点もある。
また、本発明の樹脂パッケージは、リードフレームのダイパッド及びボンディング用リードの一部分の表面が空気に対して露出するよう、リードフレームを樹脂材料内に埋め込んでなることを特徴とする。この樹脂パッケージは、ウェルドの形成が抑制された高品質なものとなる。
また、本発明に係る半導体装置は、上述の樹脂パッケージと、ダイパッドに固定された半導体素子とを備えたことを特徴とする。この半導体装置は、樹脂パッケージが高品質であるため、樹脂パッケージの劣化に起因する半導体素子の劣化を抑制することができる。
本発明のリードフレームによれば、高品質の樹脂パッケージを形成することが可能であり、このリードフレームを用いて製造した樹脂パッケージは高品質なものとなる。
リードフレームの平面図である。 リードフレーム内の単位パターン1(表面)の平面図である。 リードフレーム内の単位パターン1(裏面)の平面図である。 図3に示した領域IVの拡大斜視図である。 図3に示した領域Vの拡大斜視図である。 樹脂材料の流れについて説明するための単位パターン1(裏面)の平面図である。 樹脂パッケージの平面図である。 樹脂パッケージの斜視図である。 図7に示した樹脂パッケージのIX−IX矢印断面図である。 比較例に係る単位パターン(裏面)の平面図である。 余剰樹脂蓄積部H4の変形例を示すリードフレーム特定部位の平面図である。 気密性試験に使用した気密性検査装置の構成を表す摸式断面図である。
以下、実施の形態に係るリードフレーム及びこれを用いた樹脂パッケージ及びその製造方法について説明する。なお、以下の説明において、同一要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
図1は、実施の形態に係るリードフレーム100の平面図である。図中のX軸、Y軸及びZ軸は、三次元直交座標系を構成している。
リードフレーム100は、可撓性の金属板からなるリードフレーム本体10に、複数の単位パターン1をマトリックス状に配置したものである。同図では、X軸方向に沿って15個の単位パターン1が配置されており、Y軸方向に沿って4個配置されており、合計で60個の単位パターン1が1枚のリードフレーム100に設けられている。1つの単位パターン1内に1つの樹脂パッケージが形成される。すなわち、リードフレーム100は、樹脂パッケージの樹脂成形時に適用される。
リードフレーム本体10のY軸方向の両端には、リードフレーム100の位置決めを行い、リードフレーム100をX軸方向に沿って搬送するためのピンが挿入される複数の孔2が、X軸方向に沿って複数設けられている。リードフレーム100の厚み方向は、Z軸方向である。
図2はリードフレーム内の単位パターン1(表面)の平面図である。
単位パターン1の最も外側にはリードフレーム本体の外枠Fが位置している。単位パターン1は、外枠Fと、外枠Fから内側に向かって延びた複数のボンディング用リードL2と、外枠Fの内側に配置され、ボンディング用リードL2と離間したダイパッド(アイランド)Dと、外枠FとダイパッドDを連結する複数の接続用リードL1、(L31、L32)と、外枠Fに設けられ樹脂成形時の余剰樹脂を溜めるための余剰樹脂蓄積部H3,H4,H5と、外枠FとダイパッドDとの間の空間と余剰樹脂蓄積部H3とを連通させる圧力損失部H1,H2とを備えている。なお、接続用リードは、吊りリードとも呼ばれる。
外枠Fの内縁形状は正方形などの長方形であり、ダイパッドDの形状も正方形などの長方形であり、これらの略正方形の各辺に垂直な方向に沿ってボンディング用リードL2が四方から延びている。ボンディング用リードL2と、ダイパッドDの中央に固定される半導体素子とは、図示しないボンディングワイヤを介して接続される。このリードフレームを用いることにより、その平面形状が、略正方形のダイパッドDの各辺に平行な4辺を有する樹脂パッケージが製造される。樹脂パッケージの平面形状は、四角形以外の多角形とすることも可能である。
圧力損失部H1,H2は、平面形状が多角形の樹脂パッケージの1つの角部に相当する位置から延びている。圧力損失部H1,H2内では、樹脂成形における樹脂注入工程において、X軸の正方向に沿って樹脂材料が流れる。樹脂成形時の圧力損失部内の樹脂流動方向(X軸正方向)に垂直な圧力損失部H1、H2の開口面積の最小値をS1とする。また、樹脂成形時の余剰樹脂蓄積部H3,H4,H5内の樹脂流動方向(Y軸正方向)に垂直な余剰樹脂蓄積部H3,H4,H5の開口面積の平均値をS2とする。ここで、S1<S2が満たされている。なお、余剰樹脂蓄積部H5の終端には、樹脂注入時において内部気体を吸いだすために用いられる溝H6が、裏面側で連続している。溝6はX軸方向に沿って延びており、この上に設けられる金型に、気体吸出し用の通路が設けられており、当該通路の吸出口が溝6内に位置する。
圧力損失部H2、及び余剰樹脂蓄積部H3,H5は、リードフレームの外枠Fを厚み方向(Z軸方向)に沿って、表面及び裏面間を貫通する貫通孔である。
図3はリードフレーム内の単位パターン1(裏面)の平面図である。
圧力損失部H1、余剰樹脂蓄積部H4及び気体吸出し用の溝H6は、リードフレームの裏面側において、裏面をハーフエッチングすることによって形成された溝によって構成されている。ハーフエッチングされた領域は斜線で示されている。ボンディング用リードL2の先端部、ダイパッドDの周縁領域、接続用リードL1、(L31、L32)も、ハーフエッチングされている。該リードフレームが銅製である場合、銅のハーフエッチング用の溶液としては、例えば、塩化第2銅溶液を用いることができる。また、圧力損失部H1は、樹脂パッケージの角部に位置するが、ダイパッドDの1つの角部と、外枠Fとの間の略四角形状の空間Jに連続(連通)している。この空間Jには、同じく裏面をハーフエッチングすることによって形成された溝からなる圧力損失部V1が連続している。圧力損失部H1,H2はX軸方向に沿って延びているが、圧力損失部V1はY軸方向に沿って延びて長方形の開口VL1に連続している。
開口VL1は、リードフレームの表面及び裏面間を貫く貫通孔であり、Y軸方向を長手方向とする。開口HL1は、リードフレームの表面及び裏面を貫く貫通孔であり、X軸方向を長手方向とする。これらの開口VL1,HL1は、成形される樹脂パッケージの各角部から外方に向けて延びており、リードフレームを切断する際の目印となり、また、強度が弱いため、これらの部分においてリードフレームが切断し易いという利点がある。
余剰樹脂蓄積領域H3〜H5は、外枠Fにおける外側領域Cと、内側領域Bとの間に位置しており、内側領域Bからボンディング用リードL2が複数延びており、内側領域Bに空間Jが隣接している。
図4は図3に示した領域IVの拡大斜視図である。
空間Jには、溝からなる圧力損失部H1が連通しており、圧力損失部H1には、貫通孔からなる圧力損失部H2が連続している。圧力損失部H1は、幅w1、深さt2を有しており、X軸に垂直な開口面積は(w1×t2)となる。圧力損失部H2は、幅w1、深さt1を有しており、X軸に垂直な開口面積は(w1×t1)となる。t1>t2であるため、圧力損失部H1,H2のX軸に垂直な開口面積の最小値S1=w1×t2となる。圧力損失部H2は、余剰樹脂蓄積部H3に連通している。
余剰樹脂蓄積部H3は、幅w2、深さt1を有しており、樹脂流動方向(Y軸正方向)に垂直な開口面積S2(H3)=w2×t1である。なお、w2>w1である。また、外枠の厚みはt1である。また、空間Jには、幅w1、深さt2の圧力損失部V1が連続しており、圧力損失部V1は、幅w1、深さt1の開口VL1に連続している。
空間Jから外方に向けて流れ出す樹脂材料は、圧力損失部H1によって最も強く流出が抑制され、続いて、圧力損失部H2によって次に強く流出が抑制され、しかる後、余剰樹脂蓄積部H3に至る。また、空間Jから外方に向けて流れ出す樹脂材料の一部は、圧力損失部V1によっても強く流出が抑制され、続いて、開口VL1内に至る。
以上のように、外枠Fは厚みt1を有し、圧力損失部H1は最小の深さt2を有し、t2<t1を満たしている。圧力損失部H1は該当箇所をハーフエッチングするなどして形成することができるが、圧力損失部H1の樹脂流動方向に垂直な開口面積は、同一平面形状の貫通孔を外枠に形成した場合の樹脂流動方向に垂直な開口面積よりも、小さくなる。したがって、圧力損失部H1は、十分に樹脂流動を抑制し、上述の効果を奏することができる。
図5は図3に示した領域Vの拡大斜視図である。
余剰樹脂蓄積部H3の後段には、圧力損失部としても機能する余剰樹脂蓄積部H4が連続しており、余剰樹脂蓄積部H4は幅w2、深さt2を有する。すなわち、余剰樹脂蓄積部H3内の空間が無制限に連続していると、樹脂流出に抑制力が働きにくいが、余剰樹脂蓄積部H3の後段に、Y軸方向に垂直な開口面積が小さい余剰樹脂蓄積部H4が連続していることにより、無制限の樹脂流出を抑制し、樹脂パッケージ形成空間内の樹脂圧力の極端な低下を抑制することができる。余剰樹脂蓄積部H4における樹脂流動方向(Y軸正方向)に垂直な開口面積S2(H4)=w2×t2である。
余剰樹脂蓄積部H4には、貫通孔としての余剰樹脂蓄積部H5が連続しており、余剰樹脂蓄積部H5は幅w2、深さt1を有しており、Y軸方向に垂直な開口面積S2(H5)=w2×t1が大きくなり、十分に樹脂を蓄積することができる。余剰樹脂蓄積部H5には、幅w1、深さt2の溝H6が連続しており、溝6における、樹脂が流動するX軸方向に垂直な開口面積はw1×t2となる。
余剰樹脂蓄積部H3,H4,H5のY軸方向の長さの比率は、例えば3:2:1であり、これらのY軸に垂直な開口面積S2の平均値(={S2(H3)×3+S2(H4)×2+S2(H5)×1}/6)は、圧力損失部の開口面積の最小値S1よりも大きくなる。なお、開口面積S2がY軸に沿って連続して変化する場合、Y軸方向の各微小区間におけるそれぞれの面積S2を、微小区間の数だけ積算してから、微小区間の数で除算すれば、開口面積S2の平均値を求めることができる。なお、図4及び図5に示されるリードフレームの上下面は、樹脂注入時においては、上下の金型の平坦な面に接触しており、上述の各開口面積を規定する形状は長方形となる。
図6は樹脂材料の流れについて説明するための単位パターン1(裏面)の平面図である。
樹脂注入時において、リードフレームを、Z軸に垂直な対向面を有する一対の金型で挟み、樹脂パッケージの1つの角部の空間Kに設けられた樹脂注入口(ゲート)IJから、樹脂材料を金型間の空間内に注入する。樹脂注入口IJは、一方の金型に設けられているが、ここでは樹脂パッケージの裏面側に設けられていることとする。この角部の空間Kの対角線上に位置する角部の空間Jにおいて、矢印の如く樹脂材料が合流するが、この角部の空間Jには、圧力損失部H1,H2を介して余剰樹脂蓄積部H3〜H5が連続している。
すなわち、この角部の空間Jに集中する傾向のある樹脂材料を、圧力損失部H1,H2が余剰樹脂蓄積部H3〜H5に転送することで、かかる角部におけるウェルドの形成を抑制することができる。また、圧力損失部H1,H2の樹脂流動方向に垂直な方向の開口面積の最小値S1が小さいので、圧力損失部H1,H2が、当該角部の空間J内における樹脂圧力を適度に維持し、この周辺においても隅々まで樹脂材料が充填される。また、樹脂材料の一部は圧力損失部V1を介して開口VL1内に至る。
一対の接続用リードL1が、ダイパッドの一対の角部間を結ぶ対角線に沿って延びており、これらの接続用リードL1は、外枠Fに連続している。残りの接続用リードL31,L32は、これらの接続用リードL1よりも、角部の空間K,Jに近く位置しており、屈曲している。このリードフレームは圧力損失部H1,H2を備えているので、接続用リードL31,L32は、圧力損失部H1の接続位置を避けて設けられている。樹脂注入時に接続用リードL31,L32にかかる樹脂圧力は、接続用リードが屈曲していることによって低減されるため、接続用リードL31,L32の変形が抑制される。
屈曲した接続用リードL31,L32は、この接続用リードL31,L32に隣接するボンディング用リードL2に平行な第1リード部L31と、角部を通る多角形樹脂パッケージの対角線に沿って延びた第2リード部L32とが連続してなる。この場合、樹脂注入時に第1リード部L31に衝突した樹脂流は流れの向きを変更し、第1リード部L31と第2リード部L32とを跨いで、角部の空間Jに流れ込む。圧力損失部H1の設けられる角部の空間Jにおいては、異なる方向から流れ込む2つの樹脂流の衝突によってウェルドが生じやすいが、第1リード部L31と第2リード部L32とを跨いだ樹脂流は、矢印の如く、もう一方の樹脂流と、角部を若干避けた位置において合流するため、ウェルドの形成が抑制される。
なお、ボンディング用リードL2の裏面の先端部、第1リード部L31及び第2リード部L32の裏面は、ハーフエッチングされており、金型に挟まれた場合においても、これらのハーフエッチング領域は樹脂材料の通行を許容している。
図7は樹脂パッケージの平面図である。
なお、樹脂材料は点線で示してある。樹脂パッケージの平面形状は略正方形であり、中央に凹部を有し、この凹部を規定する4つの側壁を備えている。これらの側壁の外面WL1と内面WL2との間に樹脂材料が充填されており、また、樹脂成形時においては、開口HL1,VL1の長手方向に沿った4本の直線によって囲まれ、略正方形領域OL内に樹脂が充填される。略正方形領域OLは金型間の樹脂充填空間を規定している。略正方形領域OLの外縁、すなわち成形時の樹脂パッケージの側壁の外側面に沿うようにして樹脂材料ごとリードフレームは切断され、樹脂パッケージが完成する。必要に応じてパッケージの外側面は研磨してもよい。
図8は樹脂パッケージの斜視図である。
樹脂パッケージの中央の凹部DP内には、ダイパッドDが位置している。リードフレームのダイパッドD及びボンディング用リードL2の一部分の表面は、空気に対して露出しており、リードフレームの残りの部分は樹脂材料内に埋め込まれている。側壁SWの下部にはボンディング用リードL2の一部が埋め込まれている。なお、ダイパッドDの上には、半導体素子SMがダイボンディングされ、この半導体素子SMとボンディング用リードL2の露出面とは、ボンディングワイヤWによって電気的に接続されている。この樹脂パッケージは、上述のように、切断前のリードフレームが圧力損失部等を備えているため、ウェルドの形成が抑制された高品質なものとなる。
また、側壁SWの頂面上には透明の平板からなる蓋材LIDが固定され、パッケージ内部の気密性が保持される。このように、実施形態に係る半導体装置は、上述の樹脂パッケージと、ダイパッドDに固定された半導体素子SMとを備えている。この半導体装置は、樹脂パッケージが高品質であるため、樹脂パッケージの劣化に起因する半導体素子の劣化を抑制することができる。蓋材LIDは、半導体素子SMが発光素子又は光検出素子である場合には透明な材料からなるが、そうでない場合には不透明材料から構成することとしてもよい。
図9は図7に示した樹脂パッケージのIX−IX矢印断面図であり、リードフレーム100が金型M1,M2に挟まれている様子を示している。
リードフレーム100の材質は銅からなり、その表面は黒化処理されている。黒化処理溶液としては、たとえば、亜塩素酸ナトリウム、リン酸三ナトリウム及び水酸化ナトリウムを含む水溶液を用いることができる。リードフレームを黒化処理すると、樹脂材料とリードフレーム表面との接着強度が著しく高くなり、製造された樹脂パッケージからリードフレームが剥離しにくくなる。
樹脂パッケージの製造においては、このようなリードフレーム100を用意し、次に、リードフレーム100を対向する2つの金型M1,M2で挟む。すなわち、リードフレーム100は、金型M1、M2間の空間内に配置される。この空間内に樹脂材料REを、樹脂注入口IJを介して注入する。なお、樹脂注入口IJは、金型M1に設けられた樹脂注入通路の出射口であり、樹脂注入通路は樹脂材料REの入射口IJ1を金型M1の外面上に有している。なお、金型M1,M2の対向表面は、長方形領域OL(図7参照)の外側では平坦であり、長方形領域OLの内側では樹脂パッケージの凹部DP(図8参照)に対応する箇所が長方形柱として突出し、側壁に対応する箇所が矩形環状溝として凹み空間CSWを構成している。
樹脂注入口IJから、金型M1,M2で挟まれた角部の空間K内に樹脂材料を注入すると、樹脂材料は、側壁SWに対応する側壁用空間CSW、リードL2間の隙間を通り、空間Jに至る。しかる後、余った樹脂材料の一部は、圧力損失部H1,H2を経て、余剰樹脂蓄積部H3に至る。この製造方法によれば、上述のリードフレーム100を用いているので、角部の空間J内におけるウェルドの発生を抑制することができる。
なお、樹脂材料の注入時の金型の温度T1(℃)、及び樹脂材料の流動開始温度T2(℃)は、T1(℃)≧T2(℃)−70(℃)を満たすことが好ましい。このような温度で、樹脂材料が注入されると、金型M1,M2内で十分に樹脂が流動し、外観の整った樹脂成形体を形成することができる。特に、樹脂材料が液晶ポリマーの場合には、剛性の高い樹脂パッケージを製造することが可能である。また、リードフレームと樹脂との接着強度がより向上するという利点もある。さらに、液晶ポリマーは一般に低吸湿性であることから、ダイパッドDに配置される半導体素子の信頼性が良好に維持されるようになり、バリ発生も抑制できるために樹脂パッケージの生産性向上も期待できる。
例えば、双方の金型温度T1が300℃に到達した時点で溶融した液晶ポリマー(住友化学株式会社製:E6008、流動開始温度T2:320℃)を金型間の空間内に充填する。しかる後、金型温度が252℃に到達した時点で、金型から成形された樹脂成形体を取出す。なお、樹脂パッケージの成形後、黒化処理した表面の酸化銅を剥離し、この上にAuなどの導電性のメッキを施し、樹脂パッケージを完成させる。
図10は比較例に係る単位パターン(裏面)の平面図である。
この単位パターン1においては、ダイパッドDの4つの角部からそれぞれ対角線に沿って4本の接続用リードL1が延びている。このような形状の場合、注入口IJから樹脂を注入すると、その対角線上の位置において、矢印で示される樹脂流が衝突し、ウェルドが形成されてしまう。
一方、上述の実施形態に係るリードフレームを用いた場合、ウェルドが形成されにくいため、高品質の樹脂パッケージを形成することが可能であり、このリードフレームを用いて製造した樹脂パッケージは高品質なものとなる。
なお、樹脂材料としては、熱可塑性樹脂を用いることが好ましく、このような熱可塑性樹脂としては、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、フッ素樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、液晶ポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂等が例示でき、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、液晶ポリエステル樹脂が好ましく使用され、流動性、耐熱性、剛性に優れているという観点からは液晶ポリエステル樹脂(液晶ポリマー)がもっとも好ましく使用される。これらの樹脂は単独で用いても複数を同時に用いてもよい。
また、該樹脂材料には適切な無機充填材を混入して使用することもできる。
樹脂材料に混入できる無機充填材としては、例えば、ガラス繊維(ミルドガラスファイバー、チョップドガラスファイバー等)、ガラスビーズ、中空ガラス球、ガラス粉末、マイカ、タルク、クレー、シリカ、アルミナ、チタン酸カリウム、ウォラストナイト、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸ソーダ、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、亜硫酸カルシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、珪酸カルシウム、けい砂、けい石、石英、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、グラファイト、モリブデン、アスベスト、シリカアルミナ繊維、アルミナ繊維、石膏繊維、炭素繊維、カーボンブラック、ホワイトカーボン、珪藻土、ベントナイト、セリサイト、シラス、黒鉛等の無機充填材、チタン酸カリウムウィスカ、アルミナウィスカ、ホウ酸アルミニウムウィスカ、炭化珪素ウィスカ、窒化珪素ウィスカ等の金属ウィスカ又は非金属ウィスカ類を例示することができる。
図11は、圧力損失部としても機能する余剰樹脂蓄積部H4の変形例を示すリードフレーム特定部位の平面図である。
上述の余剰樹脂蓄積部H4はリードフレームのハーフエッチングを行うことによって形成されていたが、余剰樹脂蓄積部H4は、その幅w3を幅w2よりも狭くすることによって、圧力損失部としても機能させることができる。この場合、余剰樹脂蓄積部H4は、ハーフエッチングが行われた状態でもよいが、貫通孔から構成されていてもよい。また、他の箇所の圧力損失部も同様の変形が可能である。
次に、上述の樹脂パッケージの実施例について説明する。
(樹脂パッケージの製造)
(実施例1)
図2及び図3に示すリードフレームを用意し、このリードフレームを、亜塩素酸ナトリウム、リン酸三ナトリウム及び水酸化ナトリウムを含む水溶液に浸して黒化処理を行った。次いで、黒化処理を行ったリードフレームを、金型M1、M2間の空間内に配置した。金型を加熱し、双方の金型M1、M2の温度(T1)がともに300℃に到達した時点で溶融した液晶ポリマー(住友化学株式会社製:E6008、流動開始温度T2:320℃)を該金型の空間内に充填した。しかる後、金型を冷却し、金型温度が252℃に到達した時点で、金型から成形された樹脂パッケージを取出した。
(実施例2)
図2及び図3に示すリードフレームにおいて、ハーフエッチングによって形成された溝H6を貫通孔に変更したリードフレームを用いた以外は、実施例1と同様に樹脂パッケージの製造を行った。
(実施例3)
図2及び図3に示すリードフレームにおいて、余剰樹脂蓄積部H4及び溝H6を貫通孔に変更したリードフレームを用いた以外は、実施例1と同様に樹脂パッケージの製造を行った。
(比較例1)
図2及び図3に示すリードフレームにおいて、圧力損失部H1及び溝H6を貫通孔に変更したリードフレームを用いた以外は、実施例1と同様に樹脂パッケージの製造を行った。
(比較例2)
図10に示すリードフレームを用いた以外は、実施例1と同様に樹脂パッケージの製造を行った。
(実施例4)
金型M1,M2の温度(T1)がともに261℃に到達した時点で、溶融した液晶ポリマーを、当該金型M1,M2の空間内に充填した以外は、実施例1と同様に行った。
(実施例5)
金型M1,M2の温度(T1)がともに261℃に到達した時点で、溶融した液晶ポリマーを、当該金型M1,M2の空間内に充填した以外は、実施例2と同様に樹脂パッケージの製造を行った。
(実施例6)
金型M1,M2の温度(T1)がともに261℃に到達した時点で、溶融した液晶ポリマーを、当該金型M1,M2の空間内に充填した以外は、実施例3と同様に樹脂パッケージの製造を行った。
(比較例3)
金型M1,M2の温度(T1)がともに261℃に到達した時点で、溶融した液晶ポリマーを、当該金型M1,M2の空間内に充填した以外は、比較例1と同様に樹脂パッケージの製造を行った。
(比較例4)
金型M1,M2の温度(T1)がともに261℃に到達した時点で、溶融した液晶ポリマーを、当該金型M1,M2の空間内に充填した以外は、比較例2と同様に樹脂パッケージの製造を行った。
(気密性試験)
次に、実施例1〜6及び比較例1〜4の樹脂パッケージを用いて気密性試験を行った。
なお、該気密性試験は以下のようにして行った。
図12は、該気密性試験に用いられた気密性検査装置101を示す概略図である。図12に示すように、気密性検査装置101は、チャンバ102と、チャンバ102内に不活性Heガスを供給するガス供給部103と、チャンバ102の底面からチャンバ102内の空気を排気するガス排気部104とを備えている。
まず、上記の樹脂パッケージ105を逆にして樹脂パッケージ105の側壁SWがチャンバ102の底面のガス排気部104を囲むようにチャンバ102の底面に樹脂パッケージを設置した。その後に、樹脂パッケージ105の側壁SWとチャンバ102とによって形成された空間Sの空気をガス排気部104で引き、樹脂パッケージ105をチャンバ102の底面に固定した。次に、ガス供給部103を介してチャンバ102内にHeを供給し、ガス排気部104でHeを検出することで樹脂パッケージの本体部の気密性を調べた。
この試験の結果を表1及び表2に示す。以下の表1に示される気密性の値が高いほど、樹脂パッケージ105の気密性が優れていることを意味する。製造した樹脂パッケージ105の個数をα、1×10−8Pa・m/sec未満のHeリーク値を示した樹脂パッケージ105の個数をαとすると、気密性はα/α×100%で与えられる。
Figure 0005247626
Figure 0005247626
本発明の実施形態に関わるリードフレームを用いた場合、ウェルドが形成し難いため、気密性の高い高品質の樹脂パッケージを製造できることが明らかとなった。すなわち、実施例1−3によれば、温度T1(℃)が300℃の場合には、73%以上の気密性を得ることができ、実施例4−6によれば、温度T1(℃)が261℃の場合には、24%以上の気密性を得ることができたが、これらは同一条件における比較例の気密性のデータ(T1=300(℃)では気密性は49%、T1=261(℃)では気密性は15%)よりも高い値を示している。
本発明は、リードフレーム、樹脂パッケージ、半導体装置及び樹脂パッケージの製造方法に利用することができる。
L2・・・ボンディング用リード,D・・・ダイパッド、L1,L31,L32・・・接続用リード、H1,H2・・・圧力損失部、H3,H4,H5・・・余剰樹脂蓄積部。



Claims (7)

  1. 平面形状が多角形の樹脂パッケージの樹脂成形時に適用されるリードフレームであって、
    外枠と、
    前記外枠から内側に向かって延びた複数のボンディング用リードと、
    前記外枠の内側に配置され、前記ボンディング用リードと離間したダイパッドと、
    前記外枠と前記ダイパッドを連結する複数の接続用リードと、
    前記外枠に設けられ樹脂成形時の余剰樹脂を溜めるための余剰樹脂蓄積部と、
    前記外枠と前記ダイパッドとの間の空間と前記余剰樹脂蓄積部とを連通させる圧力損失部と、を備え、
    前記圧力損失部は、前記多角形の樹脂パッケージの1つの角部に相当する位置から延びており、
    樹脂成形時の前記圧力損失部内の樹脂流動方向に垂直な前記圧力損失部の開口面積の最小値をS1、樹脂成形時の前記余剰樹脂蓄積部内の樹脂流動方向に垂直な前記余剰樹脂蓄積部の開口面積の平均値をS2とすると、S1<S2を満たし、
    前記外枠は厚みt1を有し、
    前記圧力損失部は最小の深さt2を有し、
    t2<t1を満たし、
    複数の前記接続用リードのうち前記角部に近いものは、屈曲しており、
    屈曲した前記接続用リードは、
    この接続用リードに隣接する前記ボンディング用リードに平行な第1リード部と、
    前記角部を通る前記多角形樹脂パッケージの対角線に沿った第2リード部と、が連続してなる、ことを特徴とするリードフレーム。
  2. 前記リードフレームの表面は黒化処理されていることを特徴とする請求項1に記載のリードフレーム。
  3. 請求項1又は2に記載のリードフレームを用意する工程と、
    対向する2つの金型で挟まれた空間内に前記リードフレームを配置する工程と、
    前記空間内に樹脂材料を注入する工程と、
    を備えたことを特徴とする樹脂パッケージの製造方法。
  4. 前記樹脂材料が液晶ポリマーであることを特徴とする請求項3に記載の樹脂パッケージの製造方法。
  5. 前記樹脂材料の注入時の前記金型の温度T1(℃)、及び
    前記樹脂材料の流動開始温度T2(℃)は、
    以下の関係式:
    T1(℃)≧T2(℃)−70(℃)、
    を満たすことを特徴とする請求項3又は4に記載の樹脂パッケージの製造方法。
  6. 請求項1又は2に記載のリードフレームの前記ダイパッド及び前記ボンディング用リードの一部分の表面が空気に対して露出するよう、前記リードフレームを樹脂材料内に埋め込んでなる樹脂パッケージ。
  7. 請求項6に記載の樹脂パッケージと、
    前記ダイパッドに固定された半導体素子と、
    を備えたことを特徴とする半導体装置。
JP2009190089A 2008-08-22 2009-08-19 リードフレーム、樹脂パッケージ、半導体装置及び樹脂パッケージの製造方法 Active JP5247626B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009190089A JP5247626B2 (ja) 2008-08-22 2009-08-19 リードフレーム、樹脂パッケージ、半導体装置及び樹脂パッケージの製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008214349 2008-08-22
JP2008214349 2008-08-22
JP2009190089A JP5247626B2 (ja) 2008-08-22 2009-08-19 リードフレーム、樹脂パッケージ、半導体装置及び樹脂パッケージの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010074152A JP2010074152A (ja) 2010-04-02
JP5247626B2 true JP5247626B2 (ja) 2013-07-24

Family

ID=41695582

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009190089A Active JP5247626B2 (ja) 2008-08-22 2009-08-19 リードフレーム、樹脂パッケージ、半導体装置及び樹脂パッケージの製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8410589B2 (ja)
JP (1) JP5247626B2 (ja)
KR (1) KR101591094B1 (ja)
CN (1) CN101656243B (ja)
TW (1) TWI479625B (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4961398B2 (ja) * 2008-06-30 2012-06-27 株式会社日立製作所 半導体装置
JP2012089563A (ja) * 2010-10-15 2012-05-10 Sanken Electric Co Ltd 半導体モジュール
WO2015179733A1 (en) * 2014-05-23 2015-11-26 Materion Corporation Air cavity package
WO2017181399A1 (en) * 2016-04-22 2017-10-26 Texas Instruments Incorporated Improved lead frame system
US10573581B2 (en) * 2016-09-29 2020-02-25 Texas Instruments Incorporated Leadframe
US10186478B2 (en) * 2016-12-30 2019-01-22 Texas Instruments Incorporated Packaged semiconductor device with a particle roughened surface
JP7021970B2 (ja) * 2018-02-13 2022-02-17 株式会社三井ハイテック リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、樹脂付きリードフレームの製造方法および半導体装置の製造方法
JP6986539B2 (ja) * 2019-11-25 2021-12-22 Towa株式会社 樹脂成形済リードフレームの製造方法、樹脂成形品の製造方法、及びリードフレーム

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05315512A (ja) 1992-05-07 1993-11-26 Nec Corp 半導体装置用リードフレーム
JP2985549B2 (ja) * 1992-12-18 1999-12-06 ジェイエスアール株式会社 半導体の封止方法
JPH0740389A (ja) 1993-07-26 1995-02-10 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 立体配線基板の成形法
JPH07111305A (ja) * 1993-10-12 1995-04-25 Fujitsu Miyagi Electron:Kk 半導体装置の製造方法及びこれに使用する金属支持枠及びモールド金型
JP2787907B2 (ja) * 1995-12-15 1998-08-20 日本電気株式会社 半導体装置用樹脂封止金型
JP2000058734A (ja) 1998-08-05 2000-02-25 Sony Corp リードフレーム
JP2000141411A (ja) 1998-11-04 2000-05-23 Sekisui Chem Co Ltd 射出成形用金型
CN100370612C (zh) * 1998-12-02 2008-02-20 株式会社日立制作所 半导体装置
KR100355796B1 (ko) * 1999-10-15 2002-10-19 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체패키지용 리드프레임 및 이를 봉지하기 위한 금형 구조
KR100355794B1 (ko) * 1999-10-15 2002-10-19 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 리드프레임 및 이를 이용한 반도체패키지
US6911719B1 (en) * 2000-02-22 2005-06-28 Oki Electric Industry Co., Ltd. Lead frame for resin sealed semiconductor device
JP3751496B2 (ja) * 2000-03-02 2006-03-01 松下電器産業株式会社 リードフレーム及びそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
US6979595B1 (en) * 2000-08-24 2005-12-27 Micron Technology, Inc. Packaged microelectronic devices with pressure release elements and methods for manufacturing and using such packaged microelectronic devices
TW508774B (en) * 2000-09-15 2002-11-01 Samsung Techwin Co Ltd Lead frame, semiconductor package having the same, method of manufacturing semiconductor package, molding plates and molding machine for manufacturing semiconductor package
JP3628971B2 (ja) * 2001-02-15 2005-03-16 松下電器産業株式会社 リードフレーム及びそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP2003258184A (ja) * 2002-02-27 2003-09-12 Nec Kyushu Ltd 半導体装置およびリードフレーム
JP3883543B2 (ja) * 2003-04-16 2007-02-21 新光電気工業株式会社 導体基材及び半導体装置
JP4421934B2 (ja) 2004-04-30 2010-02-24 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置の製造方法
US7125750B2 (en) * 2004-11-22 2006-10-24 Asm Assembly Materials Ltd. Leadframe with enhanced encapsulation adhesion
US7482683B2 (en) 2006-05-12 2009-01-27 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit encapsulation system with vent
JP4800141B2 (ja) * 2006-08-07 2011-10-26 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
JP2009032906A (ja) * 2007-07-27 2009-02-12 Seiko Instruments Inc 半導体装置パッケージ

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100023766A (ko) 2010-03-04
TWI479625B (zh) 2015-04-01
JP2010074152A (ja) 2010-04-02
US8410589B2 (en) 2013-04-02
CN101656243B (zh) 2013-06-12
US20100044844A1 (en) 2010-02-25
KR101591094B1 (ko) 2016-02-02
CN101656243A (zh) 2010-02-24
TW201025536A (en) 2010-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5247626B2 (ja) リードフレーム、樹脂パッケージ、半導体装置及び樹脂パッケージの製造方法
KR101890084B1 (ko) 리드 프레임 및 반도체 장치
JP4857791B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2007207986A5 (ja)
JP2017183620A (ja) リードフレーム、パッケージ及び発光装置、並びにこれらの製造方法
JP6021416B2 (ja) 光半導体装置用リフレクタ付リードフレームおよびそれを用いた光半導体装置並びにその製造方法
US9615493B2 (en) Light emitting device, and method for manufacturing circuit board
JP6477328B2 (ja) パッケージの製造方法及び発光装置の製造方法、並びにパッケージ及び発光装置
JP2014116579A (ja) 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP6357684B2 (ja) リードフレーム、光半導体装置用樹脂付きリードフレーム及びこれらの製造方法、並びに光半導体装置
US20210135075A1 (en) Package
CN208970480U (zh) 易于清理的模具套件
JP5884789B2 (ja) リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレーム、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体
JP5941614B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2017027991A (ja) 樹脂付きリードフレーム、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体、樹脂付きリードフレーム用金型
JP2020004777A (ja) パッケージ及び発光装置
JP2012182180A (ja) Led素子用リードフレーム基板および発光素子
JP2015195389A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP6604193B2 (ja) 発光装置、並びにパッケージ及びその製造方法
JP6414405B2 (ja) リードフレーム
JP6172253B2 (ja) リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレーム、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置
JP6111683B2 (ja) 樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体
JP2017069590A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2015201607A (ja) リードフレーム、樹脂付リードフレームおよびその製造方法、ならびにledパッケージおよびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120703

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121226

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130108

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130311

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130402

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130409

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5247626

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160419

Year of fee payment: 3