JP5242128B2 - 半導電性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
1.2種類以上の導電性フィラーを含有する半導電性樹脂組成物であって、前記導電性フィラーのうちの少なくとも2種類の導電性フィラーのパーコレーション閾値の差が10質量%以上50質量%以下である半導電性樹脂組成物。
2.前記少なくとも2種類の導電性フィラーそれぞれの炭素含有量が98質量%以上でありそれぞれの体積固有抵抗が101Ωcm以下である前記1記載の半導電性樹脂組成物。
3.導電性フィラーを樹脂に単独で添加したときに得られるパーコレーション閾値の差が20質量%以上40質量%以下である少なくとも2種類の導電性フィラーを含有する前記1または2記載の半導電性樹脂組成物。
4.導電性フィラーを樹脂に単独で添加したときに得られるパーコレーション閾値が2質量%以上10質量%以下の導電性フィラー(A)と導電性フィラーを樹脂に単独で添加したときに得られるパーコレーション閾値が13質量%以上60質量%以下の導電性フィラー(B)を含有する前記1〜3のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物。
5.熱可塑性樹脂に導電性フィラー(A)を1質量%以上10質量%以下、導電性フィラー(B)を5質量%以上19質量%以下含有する前記4記載の半導電性樹脂組成物。
6.熱可塑性樹脂中の導電性フィラー((A)+(B))含有率が20質量%以下である前記5記載の半導電性樹脂組成物。
7.導電性フィラー(A)が繊維径3.5〜120nmの黒鉛質繊維である前記4〜6のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物。
8.導電性フィラー(B)が繊維径120〜500nmの黒鉛質繊維、繊維径3〜12μm炭素繊維、粒径1〜500μmの炭素粒子のいずれかである前記4〜7のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物。
9.熱可塑性樹脂が、ポリプロピレン、ポリスチレン、ABS樹脂、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルイミド、液晶ポリマー、シクロオレフィンポリマー、フッ素樹脂、ポリイミド、及びポリベンズイミダゾールから選択される少なくとも1種である前記5〜8のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物。
10.樹脂中の導電性フィラー合計量が10〜20質量%の範囲において樹脂複合体の体積固有抵抗の変化が10X±1Ωcm(2≦X≦11)である領域を有する前記1〜9のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物。
11.2種類以上の導電性フィラーを含有する半導電性樹脂組成物の製造方法であって、前記導電性フィラーのうちの少なくとも2種類の導電性フィラーのパーコレーション閾値の差が10質量%以上50質量%以下である2種類以上の導電性フィラーを熱可塑性樹脂に配合することを特徴とする半導電性樹脂組成物の製造方法。
12.前記少なくとも2種類の導電性フィラーそれぞれの炭素含有量が98質量%以上でありそれぞれの体積固有抵抗が101Ωcm以下である前記11記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
13.導電性フィラーを樹脂に単独で添加したときに得られるパーコレーション閾値の差が20質量%以上40質量%以下である少なくとも2種類の導電性フィラーを含有する前記11または12記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
14.導電性フィラーを樹脂に単独で添加したときに得られるパーコレーション閾値が2質量%以上10質量%以下の導電性フィラー(A)と導電性フィラーを樹脂に単独で添加したときに得られるパーコレーション閾値が13質量%以上60質量%以下の導電性フィラー(B)を含有する前記11〜13のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
15.熱可塑性樹脂に導電性フィラー(A)を1質量%以上10質量%以下、導電性フィラー(B)を5質量%以上19質量%以下含有する前記14記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
16.熱可塑性樹脂中の導電性フィラー((A)+(B))含有率が20質量%以下である前記15記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
17.導電性フィラー(A)が繊維径3.5〜120nmの黒鉛質繊維である前記14〜16のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
18.導電性フィラー(B)が繊維径120〜500nmの黒鉛質繊維、繊維径3〜12μm炭素繊維、粒径1〜500μmの炭素粒子のいずれかである前記14〜17のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
19.熱可塑性樹脂が、ポリプロピレン、ポリスチレン、ABS樹脂、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルイミド、液晶ポリマー、シクロオレフィンポリマー、フッ素樹脂、ポリイミド、及びポリベンズイミダゾールから選択される少なくとも1種である前記15〜18のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
20.熱可塑性樹脂に導電性フィラー(A)及び導電性フィラー(B)を溶融混合する際の導電性フィラー(A)が黒鉛質繊維であり、当該黒鉛質繊維の破断を20%以下に抑える前記14〜17のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
21.樹脂中の導電性フィラー合計量が10〜20質量%の範囲において樹脂複合体の体積固有抵抗の変化が10X±1Ωcm(2≦X≦11)である領域を有する前記11〜20のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
22.前記1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた成形体。
23.前記1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた射出成形体。
24.射出成形体の各位置における体積固有抵抗の変化が10X±1Ωcm(2≦X≦11)である前記23記載の射出成形体。
25.前記1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた圧縮成形体。
26.圧縮成形体の各位置における体積固有抵抗の変化が10X±1Ωcm(2≦X≦11)である前記25記載の圧縮成形体。
27.前記1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた押出成形体。
28.押出成形体の各位置における体積固有抵抗の変化が10X±1Ωcm(2≦X≦11)である前記27記載の押出成形体。
29.前記1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いたシート成形体。
30.シート成形体の各位置における体積固有抵抗の変化が10X±1Ωcm(2≦X≦11)である前記29記載のシート成形体。
31.前記1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた成形体において、純水500ml中に、表面積100〜1000cm2の成形体を浸漬し、40KHzの超音波を60秒間印加したときに、成形体表面から脱落する粒径1μm以上のパーティクルの数が該成形体の単位表面積当り5000pcs/cm2以下である前記22〜28のいずれか1項記載の成形体。
32.前記1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた成形体において、ヘッドスペースガスクロマトグラムによる測定における、加熱温度85℃、平衡時間16時間の条件で測定した表面積12.6cm2からの総アウトガス量が1μg/g以下、塩化メチレン発生量が0.1μg/g以下、及び炭化水素発生量が0.5μg/g以下である前記22〜28のいずれか1項記載の成形体。
33.前記22〜28のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物成形体からなる搬送用部品。
34.前記22〜28のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物成形体からなるクリーンルーム内で使用される搬送用部品。
35.前記1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた物品。
36.物品がスピンチャック、ICテストソケット、複写機に使用される各種ロール、シームレスベルト、軸受け、帯電防止繊維、静電塗装用部材、燃料チューブ、燃料周辺部品、または薬液チューブである前記35記載の物品。
(1)微細黒鉛質繊維としては、繊維径50〜500nm、アスペクト比100〜1000のものが好ましい。これについては後でさらに詳細に述べる。(2)カーボンナノチューブとしては繊維径1〜50nm、アスペクト比が100〜1000のものが好ましい。
アスペクト比の異なる微細黒鉛質繊維を樹脂に添加して検討を行った結果、アスペクト比の大きな微細黒鉛質繊維を用いた方が、樹脂に導電性を付与するために必要な添加量を低減することができ、パーコレーション閾値を小さくできるということが判明した。
樹脂の体積固有抵抗を106Ωcm以下にするために、微細黒鉛質繊維を10質量%より多く添加しなければなくなると、導電性フィラー(B)とのパーコレーション閾値差が小さくなり導電性の安定化が低下してしまう傾向がある。
一方、2質量%より少ない微細黒鉛質繊維の添加で樹脂の体積固有抵抗が106Ωcm以下になると、導電性フィラー(A)のわずかな秤量誤差で樹脂の抵抗値がバラツクようになる傾向がある。
微細黒鉛質繊維の添加量が1質量%より少なくなると導電性フィラー((A)+(B))含有率が10質量%変化したときの樹脂の体積固有抵抗率の変化が10±1Ωcmより大きくなる傾向がある。
一方、微細黒鉛質繊維の添加量が10質量%を超えると、樹脂の体積固有抵抗が106Ωcmより小さくなり、半導電領域を逸脱してしまう傾向がある。
微細黒鉛質繊維の原料となる炭素源(有機化合物)の例としては、トルエン、ベンゼン、ナフタレン、エチレン、アセチレン、エタン、天然ガス、一酸化炭素等のガスが挙げられ、それらの混合物も使用可能である。中でもトルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素が好ましい。
有機遷移金属化合物は、触媒となる遷移金属を含む。遷移金属は、周期律表第4〜10の元素である。好ましい有機遷移金属化合物としてはフェロセン、ニッケロセン等が挙げられる。
本発明に用いられる導電性フィラー(B)としては、ポリアクリロニトリル系、ピッチ系、レーヨン系炭素繊維を粉砕したミルドファイバーを用いることができる。その繊維径は3〜12μmがよく、好ましくは4〜10μm、より好ましくは5〜8μmがよい。繊維径が12μmを超えると、成形体表面に炭素繊維による凹凸が生じ、平滑な平面を得ることが難しくなる。
炭素繊維の面間隔d002としては、0.338〜0.350nmが好ましく、より好ましくは0.340〜0.348nm、さらに好ましくは0.342〜0.346nmである。
炭素粒子の面間隔d002としては、0.336〜0.350nmが好ましく、より好ましくは0.338〜0.348nm、さらに好ましくは0.340〜0.346nmである。
一方、22質量%より少ない導電性フィラー(B)の添加で樹脂の体積固有抵抗が106Ωcm以下になると、導電性フィラー(A)とのパーコレーション閾値差が小さくなり導電性の安定化が低下してしまう傾向がある。
導電性フィラー(B)の添加量が5質量%より少なくなると導電性フィラー(A)の導電経路に対する補助効果が小さくなり、混練や成形加工の条件変化に対する導電性の安定性が低下する。
導電性フィラー(B)の添加量が20質量%より多くなると、加工時における樹脂の流動性低下、成形加工品の柔軟性低下が顕著になる傾向がある。
樹脂中に含まれる導電性フィラー(A)と導電性フィラー(B)の合計量が20質量%以上になると、加工時の流動性及び/または成形加工品の柔軟性が低下する傾向がある。
微細黒鉛質繊維の破断を極力抑えた混練は、例えば、以下のような手法を用いることにより行うことができる。
先ず、実施例で用いた原料及び試料の作製方法を説明する。
[微細黒鉛質繊維:VGCF-Sの作製方法]
ベンゼンとフェロセンとチオフェンを質量比92:7:1の割合で混合し、原料液を調製した。この原料液を400℃に設定した蒸発器に供給し気化させる。この気化させた原料ガスをキャリア水素ガスにより1250℃に加熱したSiC製反応炉(内径120mm、高さ2000mm)に供給した。このときの原料供給量は10g/min、水素流量は60L/minである。
前記1000℃で焼成した微細炭素質繊維80gを黒鉛製坩堝(内径100mm、高さ150mm)に充填し、高周波加熱炉を用いてアルゴン雰囲気中3000℃で30分黒鉛化を実施した。
(1)昭和電工(株)社製 カーボンナノファイバー 商品名 気相法炭素繊維(以下、VGCF−Sと略記する。)、
(2)ライオン・アグゾ社製 カーボンブラック 商品名 ケッチェンブラックEC600JD(以下、KBと略記する。)、
(3)カーボンナノチューブ(以下、CNTと略記する。)。
実施例及び比較例で使用した導電性フィラー(B)
(4)昭和電工(株)社製 カーボンナノファイバー 商品名 気相法炭素繊維(以下、VGCFと略記する。)、
(5)東邦テナックス社製 カーボンファイバー 商品名 HTA−CMF−0160−OH(以下、CF1と略記する。)、
(6)東邦テナックス社製 カーボンファイバー 商品名 HTA−CMF−0040−OH(以下、CF2と略記する。)、
(7)昭和電工(株)社製 黒鉛粒子 商品名UF−G30、
(8)昭和電工(株)社製 黒鉛粒子 商品名UF−G5、
(9)炭素前駆体として、石油系コークスまたはピッチ系コークスを粉砕して20μmに粒度調整したもの。
実施例1〜15、及び比較例1〜11:
混練にはベルストルフ社製 同方向2軸押出機(ZE40A×40D;スクリュー径43mm、L/D=37)を使用した。ホッパーから樹脂及び導電性フィラー(B)を投入し、サイドフィーダーから導電性フィラー(A)を投入した。
混練条件は、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)は樹脂温度を380℃、スクリュー回転数100rpmで混練を実施した。また、ポリカーボネート(PC)は樹脂温度を270℃、スクリュー回転数100rpmで実施した。
[パーコレーション閾値の評価方法]
混練には東洋精機(株)製 ラボプラストミルを使用した。はじめに樹脂をミル内に投入し、樹脂が溶融したところで導電性フィラー(A)または導電性フィラー(B)を投入した。
混練にはベルストルフ社製 同方向2軸押出機(ZE40A×40D;スクリュー径43mm、L/D=37)を使用した。ホッパーから樹脂を投入し、導電性フィラー(A)をサイドフィーダーあるいはホッパーから投入した。
混練は、樹脂温度を270℃、スクリュー回転数100rpmの条件で実施した。
実施例1〜17、及び比較例1〜12:
射出成形は、クロックナー社製 射出成形機(F−45)を使用して、平板(100×100×2mm厚)を成形した。
成形条件は、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)については成形温度400℃、金型温度180℃、射出スピード50mm/secで実施した。また、ポリカーボネート(PC)については成形温度280℃、金型温度100℃、射出スピード50mm/secで実施した。
圧縮成形は、ニッポーエンジニアリング社製 熱成形機を使用して、成形温度280℃、プレス圧力200kgf/cm2でプレス成形を行った。
シート成形は、Tダイ(ダイス幅250mm、厚さ200μm)を使用し、30mmΦ単軸押出機(創研(株)製)を使用し、PCは280℃、PEEKは370℃で実施した。評価結果を表2に示す。表2中、体積固有抵抗の変化が10X±1(2≦X≦11)であるものは「○」とし、それを満たさないものは「×」とした。
導電性フィラーの形状パラメーターの測定方法を以下に述べる。
導電性フィラーを走査型電子顕微鏡の100〜3万倍像で観察した。観察した写真を画像解析装置((株)ニレコ製LUZEX−AP)に取り込み、導電性フィラー300個分の繊維径または短径を計測して、数平均繊維径または粒径として求めた。
ケッチェンブラックは透過型電子顕微鏡50万倍で観察を行い、同様の解析を実施した。
導電性フィラーを走査型顕電子顕微鏡の100〜3千倍像で連続的にパノラマ状に観察した。観察した写真を画像解析装置に取り込み、導電性フィラー300個分の繊維長または長径を計測して、数平均繊維長として求めた。
アスペクト比は平均繊維長/平均繊維径として求めた。
比表面積は、窒素ガス吸着法(ユアサアイオニクス(株)製NOVA1000)により測定した。
嵩密度は、100mlのメスシリンダーに導電性フィラー1g入れ、振盪器で1分処理を行った時の容量を計測して求めた。
比抵抗は、炭素フィラーよりも比抵抗の低い、銀ペーストを使用し、銀ペーストに炭素フィラーを添加し、炭素フィラーの含有量を増し、炭素フィラー100%に外挿して求めた。
PEEK樹脂組成物の場合、組成物1gを熱濃硫酸中に10時間浸漬させ、フィルターろ過、水洗、乾燥を行い樹脂中に含まれるフィラーを回収した。
PC樹脂組成物の場合、組成物1gをクロロホルム中に10時間浸漬させ、フィルターろ過、水洗、乾燥を行い樹脂中に含まれるフィラーを回収した。
シクロオレフィンポリマー(COP)樹脂組成物の場合、組成物1gを黒鉛製坩堝に入れ、アルゴン雰囲気中1000℃で焼成することにより樹脂を分解させフィラーのみを回収した。
回収した繊維を電子顕微鏡により観察し、画像解析により数平均繊維長を求め、以下の式により繊維の破断率を計算した。
炭素繊維の破断率(%)={1−(組成物成形品の炭素繊維の繊維長/原料の気相法炭素繊維の繊維長)}×100
純水500mL中に、100mm×100mm×2mmの平板サンプルを浸漬し、40KHzの超音波を60秒間印加した。その後、抽出した純水を液中パーティクルカウンターにて吸引し、粒径1μm以上の数量を測定した。この数量が単位表面積1cm2当り5000個以下のものを「○」、5000個を超えるものを「×」として評価した。
ヘッドスペースガスクロマトグラムを用いて、特開2001−118222号公報に記載の方法に従って、n−ヘプタン、塩化メチレン及び総アウトガスの量を測定した。具体的な測定方法は以下の通りである。
成形体より分析サンプルとして22mm×10mm×3mmのサンプルを2ピース(総表面積12.6cm2)切り出して、内部標準物質としてn−オクタンを10μL添加した容量22mLのバイアル中で、加熱温度85℃、平衡時間16時間の条件でガスを抽出した。バイアル中に発生したガスをガスクロマトグラム(GC/MS)にて測定した。このときの測定条件は以下の通りである。
カラム:CHROMPAK PORAPLOT Q 0.32mm×25m、
カラム温度:35〜240℃(10℃/min)、
注入口温度:230℃、
インターフェース温度:280℃、
キャリアガス:ヘリウム、
注入口圧力:100KPas、
全流量:60mL/min、
注入量:2mL。
塩化メチレン発生量(μg/g)=(塩化メチレンピーク面積)/(n−オクタンのピーク面積/n−オクタンの質量(g))×1/(サンプル質量(g))、
ヘプタン発生量(μg/g)=(ヘプタンピーク面積)/(n−オクタンのピーク面積/n−オクタンの質量(g))×1/(サンプル質量(g))。
総アウトガス量が1μg/g以下、塩化メチレン発生量が0.1μg/g以下及び炭化水素発生量が0.5μg/g以下のすべての条件を満たすものを「○」とし、いずれか一つ以上の条件を満たさないものを「×」として評価した。
Claims (36)
- 2種類以上の導電性フィラーを含有する半導電性樹脂組成物であって、前記導電性フィラーのうちの少なくとも2種類の導電性フィラーのパーコレーション閾値の差が10質量%以上50質量%以下である半導電性樹脂組成物。
- 前記少なくとも2種類の導電性フィラーそれぞれの炭素含有量が98質量%以上でありそれぞれの体積固有抵抗が101Ωcm以下である請求項1記載の半導電性樹脂組成物。
- 導電性フィラーを樹脂に単独で添加したときに得られるパーコレーション閾値の差が20質量%以上40質量%以下である少なくとも2種類の導電性フィラーを含有する請求項1または2記載の半導電性樹脂組成物。
- 導電性フィラーを樹脂に単独で添加したときに得られるパーコレーション閾値が2質量%以上10質量%以下の導電性フィラー(A)と導電性フィラーを樹脂に単独で添加したときに得られるパーコレーション閾値が13質量%以上60質量%以下の導電性フィラー(B)を含有する請求項1〜3のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物。
- 熱可塑性樹脂に導電性フィラー(A)を1質量%以上10質量%以下、導電性フィラー(B)を5質量%以上19質量%以下含有する請求項4記載の半導電性樹脂組成物。
- 熱可塑性樹脂中の導電性フィラー((A)+(B))含有率が20質量%以下である請求項5記載の半導電性樹脂組成物。
- 導電性フィラー(A)が繊維径3.5〜120nmの微細黒鉛質繊維である請求項4〜6のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物。
- 導電性フィラー(B)が繊維径120〜500nmの微細黒鉛質繊維、繊維径3〜12μm炭素繊維、粒径1〜500μmの炭素粒子のいずれかである請求項4〜7のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物。
- 熱可塑性樹脂が、ポリプロピレン、ポリスチレン、ABS樹脂、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルイミド、液晶ポリマー、シクロオレフィンポリマー、フッ素樹脂、ポリイミド、及びポリベンズイミダゾールから選択される少なくとも1種である請求項5〜8のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物。
- 樹脂中の導電性フィラー合計量が10〜20質量%の範囲において樹脂複合体の体積固有抵抗の変化が10X±1Ωcm(2≦X≦11)である領域を有する請求項1〜9のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物。
- 2種類以上の導電性フィラーを含有する半導電性樹脂組成物の製造方法であって、前記導電性フィラーのうちの少なくとも2種類の導電性フィラーのパーコレーション閾値の差が10質量%以上50質量%以下である2種類以上の導電性フィラーを熱可塑性樹脂に配合することを特徴とする半導電性樹脂組成物の製造方法。
- 前記少なくとも2種類の導電性フィラーそれぞれの炭素含有量が98質量%以上でありそれぞれの体積固有抵抗が101Ωcm以下である請求項11記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
- 導電性フィラーを樹脂に単独で添加したときに得られるパーコレーション閾値の差が20質量%以上40質量%以下である少なくとも2種類の導電性フィラーを含有する請求項11または12記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
- 導電性フィラーを樹脂に単独で添加したときに得られるパーコレーション閾値が2質量%以上10質量%以下の導電性フィラー(A)と導電性フィラーを樹脂に単独で添加したときに得られるパーコレーション閾値が13質量%以上60質量%以下の導電性フィラー(B)を含有する請求項11〜13のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
- 熱可塑性樹脂に導電性フィラー(A)を1質量%以上10質量%以下、導電性フィラー(B)を5質量%以上19質量%以下含有する請求項14記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
- 熱可塑性樹脂中の導電性フィラー((A)+(B))含有率が20質量%以下である請求項15記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
- 導電性フィラー(A)が繊維径3.5〜120nmの黒鉛質繊維である請求項14〜16のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
- 導電性フィラー(B)が繊維径120〜500nmの黒鉛質繊維、繊維径3〜12μm炭素繊維、粒径1〜500μmの炭素粒子のいずれかである請求項14〜17のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
- 熱可塑性樹脂が、ポリプロピレン、ポリスチレン、ABS樹脂、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリエーテルイミド、液晶ポリマー、シクロオレフィンポリマー、フッ素樹脂、ポリイミド、及びポリベンズイミダゾールから選択される少なくとも1種である請求項15〜18のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
- 熱可塑性樹脂に導電性フィラー(A)及び導電性フィラー(B)を溶融混合する際の導電性フィラー(A)が黒鉛質繊維であり、微細当該黒鉛質繊維の破断を20%以下に抑える請求項14〜17のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
- 樹脂中の導電性フィラー合計量が10〜20質量%の範囲において樹脂複合体の体積固有抵抗の変化が10X±1Ωcm(2≦X≦11)である領域を有する請求項11〜20のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物の製造方法。
- 請求項1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた成形体。
- 請求項1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた射出成形体。
- 射出成形体の各位置における体積固有抵抗の変化が10X±1Ωcm(2≦X≦11)である請求項23記載の射出成形体。
- 請求項1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた圧縮成形体。
- 圧縮成形体の各位置における体積固有抵抗の変化が10X±1Ωcm(2≦X≦11)である請求項25記載の圧縮成形体。
- 請求項1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた押出成形体。
- 押出成形体の各位置における体積固有抵抗の変化が10X±1Ωcm(2≦X≦11)である請求項27記載の押出成形体。
- 請求項1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いたシート成形体。
- シート成形体の各位置における体積固有抵抗の変化が10X±1Ωcm(2≦X≦11)である請求項29記載のシート成形体。
- 請求項1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた成形体において、純水500ml中に、表面積100〜1000cm2の成形体を浸漬し、40KHzの超音波を60秒間印加したときに、成形体表面から脱落する粒径1μm以上のパーティクルの数が該成形体の単位表面積当り5000pcs/cm2以下である請求項22〜28のいずれか1項記載の成形体。
- 請求項1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた成形体において、ヘッドスペースガスクロマトグラムによる測定における、加熱温度85℃、平衡時間16時間の条件で測定した表面積12.6cm2からの総アウトガス量が1μg/g以下、塩化メチレン発生量が0.1μg/g以下、及び炭化水素発生量が0.5μg/g以下である請求項22〜28のいずれか1項記載の成形体。
- 請求項22〜28のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物成形体からなる搬送用部品。
- 請求項22〜28のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物成形体からなるクリーンルーム内で使用される搬送用部品。
- 請求項1〜10のいずれか1項記載の半導電性樹脂組成物を用いた物品。
- 物品がスピンチャック、ICテストソケット、複写機に使用される各種ロール、シームレスベルト、軸受け、帯電防止繊維、静電塗装用部材、燃料チューブ、燃料周辺部品、または薬液チューブである請求項35記載の物品。
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