JP5239936B2 - 有機el素子用ガラス基板及びその製造方法 - Google Patents
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質量%で表1に示すガラス組成となるように、各原料を調合し、均一に混合した。次いで、混合した原料を白金ルツボに入れ、1300℃で2時間溶融した後、溶融ガラスを薄板状に成形した。次に、これらをボールミルにて粉砕し、気流分級して平均粒径D50が2.1μm、最大粒径Dmaxが9.2μmのガラス粉末を得た。
各試料粉末をプレス成形し、得られた成形体を580℃で10分間焼成した後、直径4mm、長さ40mmの円柱状に研磨加工した。この試料を用いて、JIS(日本工業規格)R3102に準拠して、30〜300℃の温度範囲における熱膨張係数を求めた。
マクロ型示差熱分析計を用いて、ガラス粉末の軟化点を求めた。第4の変曲点の値を軟化点とした。
粉末にする前のガラスブロックを切り出して、Vブロック法にて精密屈折率計により測定し、ndの値を求めた。
表1に示したガラス粉末の各試料を用いてガラスペーストを作製した。樹脂バインダーとしてエチルセルロース(ダウケミカル社製、重量平均分子量(Mw)約18万)を用い、有機溶剤としてテルピネオールを用い、ガラス粉末:樹脂バインダー:有機溶剤の重量比が70:2:28となるようにこれらを混合し、3本ロールミルにて混練を行い、ガラスペーストを作製した。
ガラス板としては、日本電気硝子株式会社社製、商品名「PP−8C」(厚み1.8mm、熱膨張係数84×10−7/℃)を5cm角に分割したものを用いた。このガラス板の表面を、サンドブラスト法で処理し、その後超音波洗浄して、表面に凹凸面を形成した。ガラス板の表面に形成した凹凸面の表面粗さRaは、0.9μmであった。
ガラス板の凹凸面及びガラス焼成膜の表面の表面粗さRaは、東京精密社製サーフコムを用いて、JIS B0633(2001)に準拠して測定した。
上記のようにして作製したガラス基板のガラス焼成膜の上に、保護膜としてTa2O5膜を50nmの厚みでスパッタリング法により形成した。次に、透明導電膜として、ITO膜を300nmの厚みとなるようにスパッタリン法により形成した。
上記のようにして作製した有機EL装置を積分球内に取り付けて10A/m2の電流密度を与えて発光させ、積分球内に備えた検出器により素子から外部へ取り出された光子数を測定した。電流値と検出した光子数から外部量子効率を求め、比較例を100とした相対値を光取り出し効率として算出した。得られた光取り出し効率を表2に示す。
1a…凹凸面が形成されたガラス板の表面
2…ガラス焼成膜
2a…ガラス焼成膜の表面
3…有機EL素子用ガラス基板
4…透明導電膜
5…有機EL素子層
6…陰極
7…有機EL素子形成用基板
Claims (8)
- 表面に透明導電膜が形成され、該透明導電膜の上に有機EL素子が形成される有機EL素子用ガラス基板であって、
前記透明導電膜が形成される側の表面に、前記有機EL素子からの光を散乱するための凹凸面が形成されたガラス板と、
前記ガラス板より高い屈折率を有し、前記ガラス板の前記凹凸面の上に設けられるガラス焼成膜とを備え、
前記ガラス焼成膜が、ガラス組成としてモル百分率で、Bi 2 O 3 20〜40%、ZnO 0〜30%、B 2 O 3 20〜50%、SiO 2 1〜30%、CaO+BaO 0〜15%、Na 2 O+Li 2 O+K 2 O 0〜6%を含有するとともに、前記ガラス板の前記凹凸面の凹凸を平坦化することによって、前記透明導電膜が形成される表面を前記ガラス焼成膜が与えることを特徴とする有機EL素子用ガラス基板。 - 前記ガラス焼成膜の屈折率ndが1.8〜2.2の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子用ガラス基板。
- 前記ガラス焼成膜中のアルカリ金属酸化物含有量が、モル百分率で14%以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL素子用ガラス基板。
- 前記透明導電膜が、インジウム錫酸化物から形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機EL素子用ガラス基板。
- 前記有機EL素子が照明用の有機EL素子であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機EL素子用ガラス基板。
- 請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機EL素子用ガラス基板と、
前記ガラス基板の前記ガラス焼成膜の上に形成される透明導電膜とを備えることを特徴とする有機EL素子形成用基板。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機EL素子用ガラス基板を製造する方法であって、
前記ガラス板に前記凹凸面を形成する工程と、
前記凹凸面の上にガラスペーストを塗布する工程と、
塗布した前記ガラスペーストを焼成して前記ガラス焼成膜を形成する工程とを備えることを特徴とする有機EL素子用ガラス基板の製造方法。 - 請求項6に記載の基板の上に、有機EL素子が形成されたことを特徴とする有機EL装置。
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