JP5236095B1 - 膜、膜を有する装置、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - Google Patents

膜、膜を有する装置、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 長期間の使用によっても、表面の凹凸形状が無くなっていくことによる摩擦係数の増大が起きにくい膜および該膜を有する装置を提供する。
【解決手段】 硬度の異なる第１部分および第２部分を有し、第１部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ１［ＧＰａ］）が０．０１〜３ＧＰａであり、第１部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ１［ＧＰａ］）に対する第２部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ２［ＧＰａ］）の比の値（Ｈ２／Ｈ１）が１．２〜３０である膜であって、膜の表面が第１部分で構成される面および第２部分で構成される面を有し、第１部分および第２部分がそれぞれ連続して膜の膜厚方向に膜の膜厚の７５％以上延在しており、膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分で構成される面の面積率が１０〜８０％であって、かつ、第１部分で構成される面および第２部分で構成される面の合計の面積率が５０％以上である。
【選択図】 図３

Description

本発明は、新規な構造を有する膜および該膜を有する装置に関する。また、本発明は、表面層として該膜を有する電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。
従来から部材の表面に特定の形状を設けることで摩擦を制御する技術が知られている。例えば、工業用機械材料の分野においては、特許文献１に記載されているように、軸受部材の表面に凸形状を設けることで、接触部材である軸との摩擦を低減させる技術がある。
また、特許文献３に記載されているように、磁気ヘッドのスライダー面にハニカム形状のテクスチュアを設けることで摩擦力を低減させる技術がある。
また、有機機能部材への応用として、特許文献２には、電子写真感光体や中間転写体などのトナー像担持体の表面（外周面）に凹凸形状を設けることで、表面に残留したトナーに対する高いクリーニング性と、接触部材であるクリーニングブレードの巻き込み（ブレード捲れ）の抑制とを両立する技術が開示されている。
また、特許文献４には、電子写真感光体の表面を滑らかな曲面の凸部を有する凹凸面とすることでクリーニングブレードの反転などを抑制する技術が開示されている。
さらに、摩擦を制御する他の技術として、部材に潤滑剤を含有させる技術も知られている。
特開２００２−１０６５７８号公報 特開２００５−１２８５１０号公報 特開平０９−２１９０７７号公報 特開平０７−０９２６９７号公報
しかしながら、表面に凹凸形状を有する部材は、接触部材との長期間の接触により、凹凸形状の摩耗が発生することがある。長期間の使用によって、部材の表面の凹凸形状が摩耗し、無くなっていくことで、部材の表面の摩擦係数が大きくなっていく。
本発明の目的は、長期間の使用によっても、表面の凹凸形状が無くなっていくことによる摩擦係数の増大が起きにくい膜および該膜を有する装置を提供することにある。また、本発明は、表面層として該膜を有する電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。
本発明は、硬度の異なる第１部分および第２部分を有し、該第１部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ１［ＧＰａ］）が０．０１〜３ＧＰａであり、該第１部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ１［ＧＰａ］）に対する該第２部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ２［ＧＰａ］）の比の値（Ｈ２／Ｈ１）が１．２〜３０である膜であって、該膜の表面が該第１部分で構成される面および該第２部分で構成される面を有し、
該第１部分および該第２部分がそれぞれ連続して該膜の膜厚方向に該膜の膜厚の７５％以上延在しており、
該膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、該第２部分で構成される面の面積率が１０〜８０％であって、かつ、該第１部分で構成される面および該第２部分で構成される面の合計の面積率が５０％以上である
ことを特徴とする膜である。
本発明の膜を作製する方法としては、例えば、アクリレート、不飽和ポリエステル、エポキシ、オキセタン、ビニルエーテルなどの紫外線硬化性樹脂または電子線硬化性樹脂のモノマー（ならびに必要に応じて後述の潤滑剤）で形成した樹脂膜に対して、フォトマスクまたは電子線マスクを介して紫外線または電子線を照射して樹脂膜中の架橋密度を変えることで、各部分に硬度差をつけ、第１部分および第２部分を形成する方法が挙げられる。
また、本発明は、上記膜を含む部材、および、該膜の表面と相対速度をもって接触しうる接触部材を有することを特徴とする装置である。
また、本発明は、表面層として上記膜を有することを特徴とする電子写真感光体である。
また、本発明は、電子写真感光体と、該電子写真感光体の表面をクリーニングするためのクリーニング手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジにおいて、該電子写真感光体が、上記電子写真感光体であり、該クリーニング手段が、該電子写真感光体の表面に接触しうるクリーニングブレードを有することを特徴とするプロセスカートリッジである。
また、本発明は、電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、および、該電子写真感光体の表面をクリーニングするためのクリーニング手段を有する電子写真装置において、該電子写真感光体が、上記電子写真感光体であり、該クリーニング手段が、該電子写真感光体の表面に接触しうるクリーニングブレードを有することを特徴とする電子写真装置である。
本発明の膜においては、第２部分よりも第１部分が低硬度であり、摩耗しやすくなっていることで、使用により、第１部分が凹部となり、第２部分が凸部となるため、膜の表面における接触部材と接触する面積を減らすことができる。そのため、接触部材との摩擦を低減することが可能である。そして、使用により、低硬度の第１部分が高硬度の第２部分と比較してより削れることによって、長期間使用しても、第１部分と第２部分の高低差がほぼ一定の第２部分を凸部とした凹凸形状を維持することが可能となる。これにより、膜の表面の小さい摩擦係数を長期間維持することが可能となる。
本発明の膜の例を膜の表面の真上方向から見た図である。 本発明の膜の例を断面方向から見た図である。 本発明の膜の例を使用し、凹凸形状が形成された状態を断面方向から見た図である。 本発明の膜の別の例を膜の表面の真上方向から見た図である。 本発明の膜のさらに別の例を膜の表面の真上方向から見た図である。 本発明の膜のさらに別の例を断面方向から見た図である。 本発明の膜のさらに別の例を使用し、凹凸形状が形成され、凹部に潤滑性のある摩耗粉が溜まった状態を断面方向から見た図である。 スクエア型のニッケルメッシュ／平織りタイプステンレス鋼メッシュにおける線幅および開孔サイズを示す図である。 ハニカム型のニッケルメッシュにおける線幅および開孔サイズを示す図である。 フォトマスクを電子写真感光体の表面に巻き付ける方法を説明する図である。 ウレタンゴム製のブレードを電子写真感光体に対して当接させて摩擦係数を測定する方法を説明する図である。 本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す図である。
図１は、本発明の膜の例を膜の表面の真上方向から見た図であり、図２は、断面方向から見た図である。また、図３は、本発明の膜の例を使用し、凹凸形状が形成された状態を断面方向から見た図である。図１〜３中、１０は膜の第２部分であり、１１は膜の第１部分である。また、図２および３中の膜の上側が接触部材と接触する表面である。
膜の第１部分１１は第２部分１０に比べて低硬度であるため、膜を接触部材と相対速度をもって接触させて使用することによって、第１部分１１が第２部分１０と比較してより削れ、図３のように、第２部分１０を凸部、第１部分１１を凹部とした凹凸形状ができる。これによって、膜の接触部材との接触面積が減少することで摩擦を低減することができる。そして、第２部分１０が摩耗した分、第１部分１１は速やかに削れることで、膜の表面の凹凸形状は維持され続けるため、長期間使用しても、凹凸形状を維持することが可能となる。そのため、膜の表面の小さい摩擦係数を維持することが可能となる。
また、第１部分１１の屈折率が第２部分１０の屈折率と同程度になるように材料に選択することで、光散乱による外観の変化を抑制することができるため好ましい。この場合、光学部材ならば、解像度低下を抑制することができるため、本発明を好適に用いることのできる分野としては、電子写真分野が挙げられる。
また、例えば図４のように、膜の表面において、第１部分４１１で構成される面が第２部分４１０で構成される面に取り囲まれているようにすることもできる。図４は、本発明の膜の別の例を膜の表面の真上方向から見た図である。図４のように、膜の表面において第１部分４１１で構成される面が第２部分４１０で構成される面に取り囲まれていることにより、使用によって凹部となる第１部分４１１（第１部分４１１で構成される面）が凸部となる第２部分４１０に囲まれた閉空間を成すようになり、膜と接触部材との間で空気を閉じ込めることができるようになる。そのため、圧縮空気による反発力が生じやすくなる。この反発力によって、荷重圧力（膜と接触部材との接触圧力）が減少し、接触部材との摩擦をさらに低減させることが可能である。ここで、閉空間とは、膜が接触部材と接触したときに凹部と接触部材によって形成される閉じられた空間を意味する。
本発明の膜を作製する方法としては、例えば、アクリレート、不飽和ポリエステル、エポキシ、オキセタン、ビニルエーテルなどの紫外線硬化性樹脂または電子線硬化性樹脂のモノマー（ならびに必要に応じて後述の潤滑剤）で形成した樹脂膜に対して、フォトマスクまたは電子線マスクを介して紫外線または電子線を照射して樹脂膜中の架橋密度を変えることで、各部分に硬度差をつけ、第１部分および第２部分を形成する方法が挙げられる。
紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂のモノマーとしては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
Figure 0005236095
Figure 0005236095
Figure 0005236095
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また、マイクロメートルオーダー、さらにはナノメートルオーダーレベルの微細で、多数のロッドなどが一定の方向を向いている真鍮製などのマイクロ剣山に、（必要に応じて後述の潤滑剤を含有する）ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリエチレンなどの樹脂溶液を流し込み、乾燥させることでも作製することができる。
また、例えば図５〜７のように、膜に潤滑剤を含有させることもできる。図５は、本発明の膜のさらに別の例を膜の表面の真上方向から見た図であり、図６は、本発明の膜のさらに別の例を断面方向から見た図である。また、図７は、本発明の膜のさらに別の例を使用し、凹凸形状が形成され、凹部に潤滑性のある摩耗粉が溜まった状態を断面方向から見た図である。図６および７中の膜の上側が接触部材と接触する表面である。図５および６のように、膜が潤滑剤５１２を含有していることにより、使用によって膜の表面が摩耗すると、図７のように、膜の表面には潤滑性のある摩耗粉５１３が生じる。そして、潤滑性のある摩耗粉５１３は、第２部分５１０を凸部、第１部分５１１を凹部とした凹凸形状の凹部に溜まるため、摩擦系から流出しにくく、摩擦系に長期間存在することになる。そのため、膜の表面の摩擦係数はさらに小さくなり、その小さい摩擦係数を長期間維持することが可能となる。凹部に溜まった潤滑性のある摩耗粉によって接触部材との摩擦をより低減するという観点からも、膜の表面において、第１部分で構成される面は第２部分で構成される面に取り囲まれていることが好ましい。第１部分で構成される面が第２部分で構成される面に取り囲まれていることにより、使用によって凹部となる第１部分（第１部分で構成される面）が凸部となる第２部分に囲まれた閉空間を成すようになり、この閉空間に潤滑性のある摩耗粉が溜まるようにすることによって、摩耗粉の摩耗系からの流出をさらに抑制することができるようになる。また、潤滑剤５１２は、第１部分５１１および第２部分５１０の少なくとも一方に含有されていることが好ましい。
膜に含有させる潤滑剤としては、固体潤滑剤または半固体潤滑剤であることが好ましい。
固体潤滑剤としては、例えば、フッ素原子含有化合物の重合体や、マイカ、タルクなどの層状酸化物や、グラファイトなどの層状炭化水素化合物や、二硫化モリブデンなどの金属硫化物や、シリコーンや、メラミンシアヌレートや、チッ化ホウ素などの粒子が挙げられる。フッ素原子含有化合物としては、例えば、四フッ化エチレン、三フッ化塩化エチレン、六フッ化エチレンプロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、二フッ化塩化エチレンなどが挙げられる。これらの中でも、固体潤滑剤としては、四フッ化エチレンの重合体の粒子、すなわち、ポリテトラフルオロエチレン粒子が好ましい。
潤滑剤が粒子である場合、その平均粒径は０．０１〜１０μｍであることが好ましい。
半固体潤滑剤としては、例えば、フッ素グリース（増ちょう剤：ポリテトラフルオロエチレンなど、基油：パーフロロポリエーテルなど）、シリコーングリース（増ちょう剤：リチウム石鹸など、基油：フェニルメチルポリシロキサン、ジメチルポリシロキサンなど）、フルオロシリコーングリース（増ちょう剤：リチウム石鹸など、基油：フルオロシリコーンなど）、エステルグリース（増ちょう剤：ウレア、リチウム石鹸など）、ペンタフェニルエーテル・テトラフェニルエーテルなどのポリフェニルエーテルを基油とするポリフェニルエーテル系グリース（増ちょう剤：ベントナイトなど）などが挙げられる。
膜中の潤滑剤の含有量は、膜の全体積に対して２０体積％以下であることが好ましい。膜中の潤滑剤の量を多くするほど、紫外線や電子線の照射などによって膜に硬度差をつけることが難しくなる傾向がある。これらの潤滑剤は１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよく、また、潤滑剤の分散剤とともに用いてもよい。
潤滑剤の大きさは、第２部分のサイズ以下であることが好ましい。潤滑剤のサイズが大きいほど、紫外線や電子線の照射などによって膜に硬度差をつけることが難しくなる傾向がある。
また、接触面積を減らして摩擦を低減させるという観点から、第１部分および第２部分の形状としては、任意の形状を選択することができるが、上記使用によって第１部分が凹部になり、第２部分が凸部になったときの形状としては、例えば、ホール型、ピラー型、ライン＆スペース（Ｌ＆Ｓ）型、スクエア型、ハニカム型などが挙げられる。これらの中でも、上述のように、閉空間に閉じ込めた空気によって接触部材との摩擦を低減させる場合や、潤滑性のある摩耗粉を閉空間に留めて摩耗粉の摩耗系からの流出を抑制する場合は、膜の表面を真上から見たときの閉空間の形状としては、ホール型、スクエア型、ハニカム型などが挙げられる。これらの中でも、ハニカム型が好ましい。
本発明においては、上記のとおり、膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分で構成される面の面積率は１０〜８０％でなければならないが、摩擦低減により効果的であり、摩耗もしにくくなるという観点から、２０〜７０％であることが好ましい。第２部分で構成される面の面積率が１０％未満では、接触部材との接触面積が小さくなることで、凸部になった第２部分が接触部材の荷重に耐え切れずに破壊されやすくなる。第２部分で構成される面の面積率が８０％超では、接触部材との接触面積が大きくなることで、摩擦低減効果が十分に得られず、摩擦係数が大きくなる。
また、本発明においては、上記のとおり、膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第１部分で構成される面および第２部分で構成される面の合計の面積率は５０％以上でなければならないが、９０％以上であることが好ましく、１００％であることがより好ましい。第１部分で構成される面および第２部分で構成される面の合計の面積率が５０％未満では、第１部分を凹部とし、第２部分を凸部とした凹凸形状によって、膜の表面の小さい摩擦係数を長期間維持するという効果が乏しくなる。
また、本発明においては、上記のとおり、第１部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ１［ＧＰａ］）に対する第２部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ２［ＧＰａ］）の比の値（Ｈ２／Ｈ１）は１．２〜３０でなければならないが、第１部分と第２部分の高低差をより適度に維持するためには、１．５〜３０であることが好ましい。第１部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ１［ＧＰａ］）に対する第２部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ２［ＧＰａ］）の比の値（Ｈ２／Ｈ１）が１．２未満では、第１部分と第２部分の摩耗速度に十分な差が出ないため、第１部分と第２部分の高低差を十分に得ることができず、摩擦低減効果が十分に得られない。第１部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ１［ＧＰａ］）に対する第２部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ２［ＧＰａ］）の比の値（Ｈ２／Ｈ１）が３０超では、第１部分と第２部分の高低差が大きくなることで、凸部になった第２部分が接触部材の荷重に耐え切れずに破壊されやすくなる。
また、本発明においては、上記のとおり、第１部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ１［ＧＰａ］）は、０．０１〜３ＧＰａである。第１部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ１［ＧＰａ］）が０．０１ＧＰａ以上であれば、第１部分と第２部分の高低差が適度に維持される。第１部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ１［ＧＰａ］）が３ＧＰａ以下であれば、上記使用によって第２部分が適度に凸部になる。
また、本発明においては、上記のとおり、第１部分および第２部分がそれぞれ連続して膜の膜厚方向に膜の膜厚の７５％以上延在していなければならないが、第１部分を凹部とし、第２部分を凸部とした凹凸形状をより長く維持するためには、９０％以上延在していることが好ましく、さらには、第１部分および第２部分はそれぞれ膜を貫通している（＝膜の膜厚の１００％延在している）ことがより好ましい。膜の膜厚の７５％未満では、第１部分を凹部とし、第２部分を凸部とした凹凸形状を長期間維持しにくくなる。
膜の膜厚は、１〜１００μｍであることが好ましい。
上記使用によって第１部分がスペース状の凹部になり、第２部分がライン状の凸部になったときの第１部分および第２部分のサイズは、それぞれ、０．１〜５０μｍであることが好ましい。ここで、第２部分のサイズとは、ライン＆スペース型ではライン部の幅、ホール型ではホール径、ピラー型ではピラー径、ハニカム型では対向する頂点間距離を用いることができる。また、その他の形状であっても、例えば、表面における第２部分の連続領域において、最も狭い幅の距離を用いることができる。
また、膜の表面において第１部分で構成される面が第２部分で構成される面に取り囲まれているようにする場合、使用によって凸部となる第２部分に囲まれた閉空間の最長径は、閉じ込めた空気によって接触部材との摩擦を低減させるという観点から、０．１〜１００μｍであることが好ましい。ここで、閉空間の最長径とは、例えば、閉空間の形状が円状のホール型である場合はホールの直径であり、閉空間の形状がハニカム型である場合は対向する頂点間距離のうち最も長い距離である。その他の形状であっても、例えば、閉空間を挟む２本の平行線を引いたとき、これらの平行線の距離が最も長くなる場合の距離が閉空間の最長径である。
これらの値（サイズ）は、例えば、（株）ニレコ製の画像解析装置（商品名：ＬｕｚｅｘＡＰ）などの画像解析装置で簡便に算出することができる。
本発明において、膜の各種硬度は、特に断りがない場合、連続剛性測定法による硬度を意味する。連続剛性測定法による硬度は、超微小硬度計を用い、連続剛性測定法に従って測定することができる。そのように測定された第１部分の連続剛性測定法による硬度をＨ１［ＧＰａ］とし、第２部分の連続剛性測定法による硬度をＨ２［ＧＰａ］とする。ここで、連続剛性測定法とは、押しこみ試験中に圧子を微小振動させ、振動に対する応答振幅、位相差を時間の関数として取得し、押しこみ深さの連続的変化に対応して、除荷時の初期勾配を連続的に算出する方法である。具体的な測定方法は、試料に対して、正三角錐圧子（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子）を用いて押し込み負荷／除荷試験を行い、荷重−押しこみ深さ線図を取得する方法である。
上記第１部分で構成される面や第２部分で構成される面の面積率は、試料に垂直方向の微小振動を加え、表面の粘弾性の違いによって変化するカンチレバーのたわみ振幅を検出することにより、粘弾性像を得ることができ、これにより第２部分の面積率を算出することができる。
本発明を好適に用いられる分野として、電子写真分野がある。電子写真感光体の電荷輸送層や保護層などの表面層（最外層）において、本発明の膜を好適に用いることができる。その場合、接触部材としては、クリーニングブレードなどが挙げられる。クリーニングブレードにはウレタンゴム製部材が一般的に用いられる。
本発明を好適に用いられるその他の分野としては、自動車の機能部品が挙げられる。例えば、ワイパーや開閉可能な窓ガラスの、雨や雪が摺擦ですり抜けないよう、接触部材が相対速度を持って接触している面に、本発明の膜を用いたり、ワイパーや窓ガラスと接触する部材側に本発明の膜を用いたりすることができる。
以下、電子写真感光体の材料、層構成などについて説明する。
電子写真感光体は、支持体および支持体上に形成された感光層を有するものが一般的である。
感光層は、電荷輸送物質と電荷発生物質を同一の層に含有する単層型感光層であってもよいし、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とに分離した積層型（機能分離型）感光層であってもよい。電子写真特性の観点からは、積層型感光層が好ましい。また、積層型感光層には、支持体側から電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した順層型感光層と、支持体側から電荷輸送層、電荷発生層の順に積層した逆層型感光層がある。電子写真特性の観点からは、順層型感光層が好ましい。また、電荷発生層や電荷輸送層自体をそれぞれ積層構成とすることができる。
支持体としては、導電性を有していればよく（導電性支持体）、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼などの金属製（合金製）の支持体を用いることができる。また、真空蒸着によって形成したアルミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム−酸化スズ合金などの被膜を有する金属製支持体やプラスチック製支持体を用いることもできる。また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、銀粒子などの導電性粒子を含有させたプラスチック製支持体や紙製支持体や、導電性結着樹脂製の支持体などを用いることもできる。また、支持体の形状としては、円筒状、ベルト状などが挙げられるが、円筒状が好ましい。
支持体と感光層（電荷発生層、電荷輸送層）または後述の下引き層との間には、レーザー光などの散乱による干渉縞の抑制や、支持体の傷の被覆などを目的とした、導電層を設けてもよい。
導電層は、カーボンブラック、金属粒子、金属酸化物粒子などの導電性粒子を結着樹脂および溶剤とともに分散処理することによって得られる導電層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥および／または硬化させることによって形成することができる。
導電層に用いられる結着樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド酸、ポリビニルアセタール、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリエステルなどが挙げられる。
導電層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、アルコール、スルホキシド、ケトン、エーテル、エステル、脂肪族ハロゲン化炭化水素、ハロゲン化芳香族化合物、芳香族化合物などの有機溶剤が挙げられる。
導電層の膜厚は、１〜４０μｍであることが好ましく、２〜２０μｍであることがより好ましい。
また、支持体または導電層と感光層（電荷発生層、電荷輸送層）との間には、感光層の接着性改良、支持体からの電荷注入性改良、感光層の電気的破壊に対する保護などを目的とした、バリア機能や接着機能を有する下引き層を設けてもよい。
下引き層は、樹脂（結着樹脂）を溶剤に溶解させることによって得られる下引き層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥および／または硬化させることによって形成することができる。
下引き層に用いられる樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エチルセルロース樹脂、エチレン−アクリル酸コポリマー、エポキシ樹脂、カゼイン樹脂、シリコーン樹脂、ゼラチン樹脂、フェノール樹脂、ブチラール樹脂、ポリアクリレート、ポリアセタール、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリアリルエーテル、ポリイミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリブタジエン、ポリプロピレン、ユリア樹脂などが挙げられる。
また、酸化アルミニウムなどの材料を用いて下引き層を形成してもよい。
下引き層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、アルコール、スルホキシド、ケトン、エーテル、エステル、脂肪族ハロゲン化炭化水素、芳香族化合物などが挙げられる。
下引き層の膜厚は、０．０５〜７μｍであることが好ましく、０．１〜２μｍであることがより好ましい。
電子写真感光体に用いられる電荷発生物質としては、例えば、モノアゾ、ジスアゾ、トリスアゾなどのアゾ顔料や、金属フタロシアニン、非金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や、インジゴ、チオインジゴなどのインジゴ顔料や、ペリレン酸無水物、ペリレン酸イミドなどのペリレン顔料や、アンスラキノン、ピレンキノンなどの多環キノン顔料や、スクワリリウム色素や、ピリリウム塩およびチアピリリウム塩や、トリフェニルメタン色素や、セレン、セレン−テルル、アモルファスシリコンなどの無機物質や、キナクリドン顔料や、アズレニウム塩顔料や、シアニン染料や、キサンテン色素や、キノンイミン色素や、スチリル色素や、硫化カドミウムや、酸化亜鉛などが挙げられる。これら電荷発生物質は１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。
感光層が積層型感光層である場合、電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、スチレン−ブタジエンコポリマー、フェノール樹脂、ブチラール樹脂、ベンザール樹脂、ポリアクリレート、ポリアセタール、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリアリルエーテル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリビニルアセタール、ポリブタジエン、ポリプロピレン、メタクリル樹脂、ユリア樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、酢酸ビニル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ブチラール樹脂が好ましい。これらは、単独、混合または共重合体として、１種または２種以上用いることができる。
電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂および溶剤とともに分散処理することによって得られる電荷発生層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥および／または硬化させることによって形成することができる。分散方法としては、例えば、ホモジナイザー、超音波分散機、ボールミル、サンドミル、ロールミル、振動ミル、アトライター、液衝突型高速分散機などを用いた方法が挙げられる。電荷発生物質と結着樹脂との割合は、１：０．５〜１：４（質量比）の範囲が好ましい。
電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、アルコール、スルホキシド、ケトン、エーテル、エステル、脂肪族ハロゲン化炭化水素、ハロゲン化芳香族化合物、芳香族化合物などの有機溶剤が挙げられる。
電荷発生層の膜厚は、０．００１〜６μｍであることが好ましく、０．０１〜２μｍであることがより好ましい。
また、電荷発生層には、種々の増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。
電子写真感光体に用いられる電荷輸送物質としては、例えば、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物、トリアリールメタン化合物などが挙げられる。これら電荷輸送物質は１種のみ用いてもよく、２種以上用いてもよい。
感光層が積層型感光層である場合、電荷輸送層に用いられる結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、アクリロニトリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ブチラール樹脂、ポリアクリルアミド、ポリアセタール、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリアリルエーテル、ポリアリレート、ポリイミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリビニルブチラール、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリプロピレン、メタクリル樹脂、ユリア樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリアリレート、ポリカーボネートが好ましい。これらは、単独、混合または共重合体として、１種または２種以上用いることができる。
電荷輸送層は、電荷輸送物質と結着樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥および／または硬化させることによって形成することができる。電荷輸送物質と結着樹脂との割合は、２：１〜１：２（質量比）の範囲が好ましい。
電荷輸送層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル、クロロベンゼン、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン原子で置換された炭化水素などが挙げられる。
電荷輸送層の膜厚は、５〜３０μｍであることが好ましく、６〜２５μｍであることがより好ましい。
また、電荷輸送層には、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤などを必要に応じて添加することもできる。
感光層が単層型感光層である場合、該単層型感光層は、上記電荷発生物質および上記電荷輸送物質を上記結着樹脂および上記溶剤とともに分散処理することによって得られる単層型感光層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥および／または硬化させることによって形成することができる。
また、感光層上には、該感光層を保護することを目的とした保護層を設けてもよい。保護層は、上述した各種結着樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる保護層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥および／または硬化させることによって形成することができる。
保護層の膜厚は、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．１〜７μｍであることがより好ましい。
上記各層用の塗布液を塗布する際には、例えば、浸漬コーティング法（浸漬塗布法）、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ローラーコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法などの塗布方法を用いることができる。
接触部材であるクリーニングブレードを電子写真感光体の表面に強く押し当てることで、残留トナーのクリーニングを行うことが一般的であるが、強く押し当てていることで、電子写真感光体の回転トルクが大きくなる。また、電子写真感光体の表面に形成した凹凸形状の破壊（特に凸部の破壊）が起こりやすい。
本発明の膜を電子写真感光体の表面層に用いることで、摩擦を低減することができるため、電子写真感光体の回転トルクを減らすことができる。また、電子写真感光体の表面の凹凸形状を長期間維持することができることから、小さい摩擦係数での接触の維持が可能となり、クリーニングブレードの巻き込み（ブレード捲れ）を抑制することができる。
図１２に、本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す。
図１２において、本発明の円筒状の電子写真感光体１２０１は、軸１２０２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。
回転駆動される電子写真感光体１２０１の表面（周面）は、帯電手段１２０３により正または負の電位に帯電され、次いで、露光手段（不図示）から出力される露光光（画像露光光）１２０４を受ける。こうして電子写真感光体１２０１の表面には、目的の画像に対応した静電潜像が形成されていく。帯電手段としては、例えば、コロトロン、スコロトロンなどを用いたコロナ帯電手段や、ローラー、ブラシ、フィルムなどを用いた接触帯電手段などが挙げられる。また、帯電手段に印加する電圧は、直流電圧のみであってもよいし、交流電圧を重畳した直流電圧であってもよい。また、露光手段としては、例えば、スリット露光、レーザービーム走査露光などが挙げられる。
電子写真感光体１２０１の表面に形成された静電潜像は、現像手段１２０５のトナーにより現像されてトナー画像となる。現像方式としては、磁性または非磁性の一成分または二成分トナーを接触または非接触させて現像する方式が挙げられる。トナーとしては、例えば、懸濁重合、乳化重合などによる重合トナーや、機械式粉砕法や球形化処理などによって球形化処理されたトナーなどが挙げられる。トナーの重量平均粒径は４〜７μｍであることが好ましく、トナーの平均円形度は０．９５〜０．９９であることが好ましい。
電子写真感光体１２０１の表面に形成されたトナー画像は、転写手段１２０６によって、転写材（紙など）１２０７に順次転写されていく。転写材１２０７は、転写材供給手段（不図示）から電子写真感光体１２０１と転写手段１２０６との間（当接部）に電子写真感光体１２０１の回転と同期して取り出されて給送される。
トナー画像が転写された転写材１２０７は、電子写真感光体１２０１の表面から分離されて定着手段１２０８へ導入されて像定着を受けることにより、画像形成物（プリント、コピー）として電子写真装置外へプリントアウトされる。
トナー画像転写後の電子写真感光体１２０１の表面は、クリーニング手段に備わるクリーニングブレード１２０９によって転写残トナーの除去を受けた後、前露光手段（不図示）からの前露光光１２１０により除電処理され、繰り返し画像形成に使用される。
上述の電子写真感光体１２０１、帯電手段１２０３、現像手段１２０５、転写手段１２０６、クリーニング手段（クリーニングブレード１２０９）などから選択される構成要素のうち、複数のものを容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に結合して構成し、このプロセスカートリッジを電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図１２では、電子写真感光体１２０１と、帯電手段１２０３、現像手段１２０５およびクリーニングブレード１２０９とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段１２１２を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ１２１１としている。
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明は、これらに限定されるものではない。
（１）硬度の測定
上記連続剛性測定法による硬度の測定には、ＭＴＳシステムズ（株）製の超微小硬度計（商品名：Ｎａｎｏ Ｉｎｄｅｎｔｅｒ ＤＣＭ）を用いた。使用圧子は、ダイヤモンド製正三角錐圧子であり、室温（２５℃）・大気中にて、連続剛性測定法による硬度の測定を行った。
（２）第２部分の面積率の算出
上記第２部分で構成される面の面積率は、エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）製の走査型プローブ顕微鏡（商品名：Ｓ−ｉｍａｇｅ）を用いて算出した。
（３）膜の作製
（実施例１−１）
シリコンウエハーの上に、信越化学工業（株）製のネガ型フォトレジスト材料である感光性シリコーンポリマー（商品名：ＳＩＮＲ−３１７０ＰＸ）をスピンナーコートし、塗膜を形成した。次いで、塗膜に対して紫外線照射を２回行った。１回目の紫外線照射は塗膜の全面に対して行い、２回目の紫外線照射時に、ライン幅：４μｍ、スペース幅：４μｍのフォトマスクを用いて照射を行った。１回目と２回目の紫外線照射量と紫外線照射時間は、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．５となるように、および、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．１５ＧＰａとなるように調整した。その後、塗膜を２分間９０℃で乾燥させた。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５１％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例１−２）
第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．２となるように、および、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．１５ＧＰａとなるように１回目と２回目の紫外線照射量と紫外線照射時間を調整した以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１６μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５３％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．２であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１６ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例１−３）
縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ０．７５ｍｍのアルミニウム板の上に、下記組成の電荷輸送層用塗布液をマイヤーバーコートし、得られた塗膜を乾燥させることによって、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
・電荷輸送層用塗布液
ビスフェノールＺ型のポリカーボネート：１０質量部
下記構造式（１０１）で示される化合物（電荷輸送物質）：９質量部
Figure 0005236095
クロロベンゼン：１００質量部
次に、上記電荷輸送層の上に、下記組成の表面層用塗布液をスプレーコートすることによって、膜厚５μｍの塗膜を得た。
・表面層用塗布液
上記構造式（２８）で示される化合物（電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物）：１０質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート：１０質量部
２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（光重合開始剤、商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＢＡＳＦ社製）：１質量部
クロロベンゼン：１００質量部
次いで、塗膜に対して紫外線照射を２回行った。１回目の紫外線照射は塗膜の全面に対して行い、２回目の紫外線照射時に、ライン幅：４μｍ、スペース幅：４μｍのフォトマスクを用いて照射を行った。１回目と２回目の紫外線照射量と紫外線照射時間は、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１０となるように、および、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．１５ＧＰａとなるように調整した。その後、塗膜を２分間９０℃で乾燥させた。乾燥して得られた表面層（膜）の膜厚は５μｍであった。
得られた表面層（膜）の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５１％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた表面層（膜）について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は８．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例１−４）
縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ０．７５ｍｍのアルミニウム板の上に、下記組成の電荷輸送層用塗布液をマイヤーバーコートし、得られた塗膜を乾燥させることによって、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
・電荷輸送層用塗布液
ビスフェノールＺ型のポリカーボネート：１０質量部
上記構造式（１０１）で示される化合物（電荷輸送物質）：９質量部
クロロベンゼン：１００質量部
次に、上記電荷輸送層の上に、下記組成の表面層用塗布液をスプレーコートすることによって、膜厚５μｍの塗膜を得た。
・表面層用塗布液
上記構造式（２８）で示される化合物（電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物）：１０質量部
メチルエチルケトン：１００質量部
次いで、塗膜に対して電子線照射を２回行った。１回目の電子線照射は塗膜の全面に対して行い、２回目の電子線照射時に、ライン幅：４μｍ、スペース幅：４μｍのメタルマスクを用いて照射を行った。電子線照射時は、窒素パージをし、加速電圧は３０ｋＶとした。１回目と２回目の電子線照射線量と電子線照射時間は、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約３０となるように、および、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．１５ＧＰａとなるように調整した。その後、塗膜を２分間９０℃で乾燥させた。乾燥して得られた表面層（膜）の膜厚は５μｍであった。
得られた表面層（膜）の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた表面層（膜）について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は２７．３であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１５ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例１−５）
第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．５となるように、および、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．０５ＧＰａとなるように紫外線照射量と紫外線照射時間を調整した以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１５μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．５であり、低硬度部分の硬度は０．０５ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例１−６）
第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．７となるように、および、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．５０ＧＰａとなるように紫外線照射量と紫外線照射時間を調整した以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１６μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は４９％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．７であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．５１ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例１−７）
２回目の紫外線照射時に、ライン幅：２０μｍ、スペース幅：２０μｍのフォトマスクを用いた以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５１％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１３ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例１−８）
２回目の紫外線照射時に、ライン幅：４μｍ、スペース幅：２２．７μｍのフォトマスクを用いた以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１６μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は１６％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．７であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例１−９）
２回目の紫外線照射時に、ライン幅：４μｍ、スペース幅：１．３μｍのフォトマスクを用いた以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は７７％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．７であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例１−１０）
表面層用塗布液における光重合開始剤の量を３質量部とし、かつ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．５となるように、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．１５ＧＰａとなるように、および、第２部分（高硬度部分）の膜の膜厚方向に延在している長さが約４μｍとなるように紫外線照射量と紫外線照射時間を調整した以外は、実施例１−３と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は５μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）は膜を貫通しており、第２部分（高硬度部分）は膜の膜厚方向に膜の膜厚の７５％延在していた。
（比較例１−１）
１回目の紫外線照射で膜の表面の硬度が約０．２２ＧＰａとなるように紫外線照射量と紫外線照射時間を調整し、かつ、２回目の紫外線照射を行わなかった以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜について硬度を測定したところ、硬度の異なる第１部分および第２部分の存在は認められず、膜の表面の硬度は０．２２ＧＰａであった。
（比較例１−２）
１回目の紫外線照射で膜の表面の硬度が約０．１５ＧＰａとなるように紫外線照射量と紫外線照射時間を調整し、２回目の紫外線照射を行わなかった以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜について硬度を測定したところ、硬度の異なる第１部分および第２部分の存在は認められず、膜の表面の硬度は０．１５ＧＰａであった。
（比較例１−３）
中心に直径５１ｍｍの円形の空洞が空いている直径８１ｍｍ、厚さ１ｍｍのポリカーボネートの基板に対して、ライン幅：４μｍ、スペース幅：４μｍ、ラインとスペースの高低差：２μｍのパターンを持つ縦８５ｍｍ×横８５ｍｍ×厚さ０．８ｍｍのニッケル製のスタンパーモールドを用いて、ポリカーボネートの基板側を１００℃に加熱し、スタンパーモールド側を１９０℃に加熱して、６５００Ｎの荷重で５分間インプリントの処理を行い、スタンパーモールドのパターンをポリカーボネートの基板に転写して膜を得た。
得られた膜について硬度を測定したところ、硬度の異なる第１部分および第２部分の存在は認められず、膜の表面の硬度は０．１８ＧＰａであった。
（比較例１−４）
２回目の紫外線照射時に、ライン幅：５００μｍ、スペース幅：２０００μｍ（２ｍｍ）のフォトマスクを用いた以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１９μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率が１００％となる場合があった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．５であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１９ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（比較例１−５）
第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．１となるように、および、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．１５ＧＰａとなるように紫外線照射量と紫外線照射時間を調整した以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１６μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５１％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．１であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１５ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（比較例１−６）
第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約３５となるように、および、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．１５ＧＰａとなるように紫外線照射量と紫外線照射時間を調整した以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１５μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５１％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は３４．５であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１５ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（比較例１−７）
２回目の紫外線照射時に、ライン幅：４μｍ、スペース幅：７６μｍのフォトマスクを用いた以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は６％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１５ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（比較例１−８）
２回目の紫外線照射時に、ライン幅：４μｍ、スペース幅：０．７μｍのフォトマスクを用いた以外は、実施例１−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は８５％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１５ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（比較例１−９）
表面層用塗布液における光重合開始剤を５質量部とし、かつ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．５となるように、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．１５ＧＰａとなるように、および、第２部分（高硬度部分）の膜の膜厚方向に延在している長さが約０．２μｍとなるように紫外線照射量と紫外線照射時間を調整した以外は、実施例１−３と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は５μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．７であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）は膜を貫通しており、第２部分（高硬度部分）は膜の膜厚方向に膜の膜厚の４％延在していた。
（比較例１−１０）
以下の溶液１および溶液２を、インクジェット塗布装置（商品名：ＰｉｘｅｌＪｅｔ１２８、Ｔｒｉｄｅｎｔ社製）の２つの溶液タンクにそれぞれ充填した。このインクジェット塗布装置は、２つの液体吐出手段を有しており、２つの液体吐出手段は、それぞれ複数のノズルを有している。
−溶液１−
以下の成分を混合したものを溶液１とした。
・フルオロカーボンシロキサンゴム組成物（商品名：サイフェル６１０、信越化学工業（株）製）：７５質量％
・フッ素系溶剤（商品名：Ｘ−７０−５８０、信越化学工業（株）製）：２５質量％
−溶液２−
以下の成分を混合したものを溶液２とした。
・フルオロカーボンシロキサンゴム組成物（商品名：サイフェル６５０、信越化学工業（株）製）：７５質量％
・フッ素系溶剤（商品名：Ｘ−７０−５８０、信越化学工業（株）製）：２５質量％
上記２つの液体吐出手段のそれぞれ２０個のノズルを使用し、ノズルの吐出面とポリイミド板（厚さ１ｍｍの正方形板（縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ））との間隔が１０ｍｍとなるように配置し、２つの液体吐出手段からそれぞれ溶液１および溶液２を、駆動周波数２．６ｋＨｚ、液体吐出手段の移動速度４５０ｍｍ／分の条件で、溶液１および溶液２のそれぞれの幅が４μｍのライン状となるように、かつ、溶液１のラインと溶液２のラインの間隔が密接するように、かつ、溶液１のラインおよび溶液２のラインがポリイミド板の一辺と平行となるように、ポリイミド板の一端から対向する他端まで吐出させた。この工程を繰り返すことで、溶液１のラインの幅が４μｍで、溶液２のラインの幅が４μｍで、溶液１のラインと溶液２のラインが密接に平行配置された、真上方向から見たときに図１に示すようなパターンを持つ塗膜をポリイミド板上に得た。その後、塗膜を３０分間１２０℃で一次加熱し、次いで、１２０分間２００℃で二次加熱した。加熱して得られたポリイミド板上の膜の膜厚は２０μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は２．８であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．０００３８ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
実施例１−１〜１−１０および比較例１−１〜１−１０をまとめて表１に示す。
Figure 0005236095
（実施例２−１）
シリコンウエハーの上に、信越化学工業（株）製のネガ型フォトレジスト材料である感光性シリコーンポリマー（商品名：ＳＩＮＲ−３１７０ＰＸ）をスピンナーコートし、塗膜を形成した。次いで、塗膜に対して紫外線照射を２回行った。１回目の紫外線照射は塗膜の全面に対して行い、２回目の紫外線照射時に、正六角形の一辺の長さが１０μｍ、壁の厚さが２μｍのハニカム型のフォトマスクを用いて照射を行った。１回目と２回目の紫外線照射量と紫外線照射時間は、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．６になるように、および、第２部分（高硬度部分）の硬度が約０．２２ＧＰａとなるように調整した。その後、塗膜を２分間９０℃で乾燥させた。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は２３％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．２２ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例２−２）
２回目の紫外線照射時に、正六角形の一辺の長さが１０μｍ、壁の厚さが１μｍのハニカム型のフォトマスクを用いた以外は、実施例２−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１８μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は１２％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．７であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４（０．１３５）ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．２３ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例２−３）
２回目の紫外線照射時に、正六角形の一辺の長さが１０μｍ、壁の厚さが６μｍのハニカム型のフォトマスクを用いた以外は、実施例２−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は６９％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．２３ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例２−４）
第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．２となるように、および、第２部分（高硬度部分）の硬度が約０．１９ＧＰａとなるように１回目と２回目の紫外線照射量と紫外線照射時間を調整した以外は、実施例２−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１６μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は２３％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．２であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１５ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．１８ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例２−５）
縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ０．７５ｍｍのアルミニウム板の上に、下記組成の電荷輸送層用塗布液をマイヤーバーコートし、得られた塗膜を乾燥させることによって、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
ビスフェノールＺ型のポリカーボネート：１０質量部
上記構造式（１０１）で示される化合物（電荷輸送物質）：９質量部
クロロベンゼン：１００質量部
次に、上記電荷輸送層の上に、下記組成の表面層用塗布液をスプレーコートすることによって、膜厚５μｍの塗膜を得た。
・表面層用塗布液
上記構造式（１４）で示される化合物（電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物）：１０質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート：１０質量部
光重合開始剤：１質量部
クロロベンゼン：１００質量部
次いで、塗膜に対して紫外線照射を２回行った。１回目の紫外線照射は塗膜の全面に対して行い、２回目の紫外線照射時に、正六角形の一辺の長さが１０μｍ、壁の厚さが２μｍのハニカム型のフォトマスクを用いて照射を行った。１回目と２回目の紫外線照射量と紫外線照射時間は第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約３０となるように、および、第２部分（高硬度部分）の硬度が約０．３０ＧＰａとなるように調整した。その後、塗膜を２分間９０℃で乾燥させた。乾燥して得られた表面層（膜）の膜厚は５μｍであった。
得られた表面層（膜）の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は２３％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は２６．８であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．０１（０．０１０４４）ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．２８ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例２−６）
第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．４となるように、および、第２部分（高硬度部分）の硬度が約０．０２ＧＰａとなるように１回目と２回目の紫外線照射量と紫外線照射時間を調整した以外は、実施例２−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は２３％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．４であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．０１（０．０１４）ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．０２ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例２−７）
縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ０．７５ｍｍのアルミニウム板の上に、下記組成の電荷輸送層用塗布液をマイヤーバーコートし、得られた塗膜を乾燥させることによって、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
ビスフェノールＺ型のポリカーボネート：１０質量部
上記構造式（１０１）で示される化合物（電荷輸送物質）：１０質量部
クロロベンゼン：１００質量部
次に、上記電荷輸送層の上に、下記組成の表面層用塗布液をスプレーコートすることによって、膜厚５μｍの塗膜を得た。
電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物（例示化合物Ｎｏ．９（上記構造式（９）で示される化合物））：１０質量部
メチルエチルケトン：１００質量部
次いで、塗膜に対して電子線照射を２回行った。１回目の電子線照射は塗膜の全面に対して行い、２回目の電子線照射時に、正六角形の一辺の長さが１０μｍ、壁の厚さが２μｍのハニカム型の電子線マスクを用いて照射を行った。電子線照射時は、窒素パージをし、加速電圧は３０ｋＶとした。１回目と２回目の電子線照射線量と電子線照射時間は、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．６となるように、および、第２部分（高硬度部分）の硬度が約５．００ＧＰａとなるように調整した。その後、塗膜を２分間９０℃で乾燥させた。乾燥して得られた表面層（膜）の膜厚は５μｍであった。
得られた表面層（膜）の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は２３％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．８であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は２．６９ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は４．８４ＧＰａであった。
（実施例２−８）
２回目の紫外線照射時に、直径が０．２μｍ、中心間距離が０．４μｍの円状のホール型のフォトマスクを用いた以外は、実施例２−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は２１％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．７であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１３ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．２２ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例２−９）
２回目の紫外線照射時に、正六角形の一辺の長さが５０μｍ、壁の厚さが１０μｍのハニカム型のフォトマスクを用いた以外は、実施例２−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１８μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は２３％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．２３ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（比較例２−１）
塗膜の全面に対する１回目の紫外線照射を行わず、正六角形の一辺の長さが１０μｍ、壁の厚さが２μｍのハニカム型のフォトマスクを用いて紫外線照射を行った後に、紫外線を照射しなかった部分をエッチングした以外は、実施例２−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
また、得られた膜について硬度を測定したところ、硬度の異なる第１部分および第２部分の存在は認められず、膜の表面の硬度は０．２４ＧＰａであった。また、凹凸が認められ、凹凸の高低差は１７μｍであった。
（比較例２−２）
２回目の紫外線照射時に、正六角形の一辺の長さが１０μｍ、壁の厚さが０．５μｍのハニカム型のフォトマスクを用いた以外は、実施例２−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は６％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．２３ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（比較例２−３）
２回目の紫外線照射時に、正六角形の一辺の長さが１０μｍ、壁の厚さが８μｍのハニカム型のフォトマスクを用いた以外は、実施例２−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は９２％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．５であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１５ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．２２ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（比較例２−４）
第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約４０．０となるように、および、第２部分（高硬度部分）の硬度が約５．００ＧＰａとなるように１回目と２回目の紫外線照射量と紫外線照射時間を調整した以外は、実施例２−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１６μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は２３％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は３７．３であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１３ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は４．８５ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（比較例２−５）
表面層用塗布液における光重合開始剤を５質量部とし、かつ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．６となるように、第２部分（高硬度部分）の硬度が約０．２２ＧＰａとなるように、および、第２部分（高硬度部分）の膜の膜厚方向に延在している長さが約１μｍとなるように１回目と２回目の紫外線照射量と紫外線照射時間を調整した以外は、実施例２−５と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は５μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の表面面積率は２３％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．５であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１３ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．２０ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）は膜を貫通しており、第２部分（高硬度部分）は膜の膜厚方向に膜の膜厚の２０％延在していた。
（実施例３−１）
信越化学工業（株）製のネガ型フォトレジスト材料である感光性シリコーンポリマー（商品名：ＳＩＮＲ−３１７０ＰＸ）に、潤滑剤としてのダイキン工業（株）製の平均粒径０．５μｍのポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）粒子（商品名：ルブロンＬ−２）、および、東亜合成（株）製の界面活性剤（商品名：ＧＦ−３００）を加えて混合液を得た。混合液中のポリテトラフルオロエチレン粒子の量（分散濃度）は１０体積％になるようにした。これをシリコンウエハーの上にスピンナーコートし、得られた塗膜を２分間９０℃で乾燥（前乾燥）させた。
次いで、塗膜に対して紫外線照射を２回行った。１回目の紫外線照射は塗膜の全面に対して行い、２回目の紫外線照射時に、ライン幅：４．０μｍ、スペース幅：４．０μｍのフォトマスクを用いて照射を行った。１回目と２回目の紫外線照射量と紫外線照射時間は、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．６となるように、および、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．１４ＧＰａとなるように調整した。その後、塗膜を２分間９０℃で乾燥（後乾燥）させた。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５１％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−２）
潤滑剤として平均粒径１．０μｍのポリテトラフルオロエチレン粒子を用いた以外は、実施例３−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１６μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５３％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１５ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−３）
潤滑剤として平均粒径４．０μｍのポリテトラフルオロエチレン粒子を用いた以外は、実施例３−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は４０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−４）
潤滑剤として平均粒径１０μｍのポリテトラフルオロエチレン粒子を用いた以外は、実施例３−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は２０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−５）
ポリテトラフルオロエチレン粒子の分散濃度を１体積％とした以外は、実施例３−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５５％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−６）
ポリテトラフルオロエチレン粒子の分散濃度を５体積％とした以外は、実施例３−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−７）
ポリテトラフルオロエチレン粒子の分散濃度を２０体積％とした以外は、実施例３−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は３０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−８）
フォトマスクとして直径４．０μｍであるホール構造を有するフォトマスクを用いた以外は、実施例３−２と同様に膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５２％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１３ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−９）
フォトマスクとして最大頂点間距離が４．０μｍのハニカム構造を有するフォトマスクを用いた以外は、実施例３−２と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１６μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５１％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−１０）
潤滑剤としてコープケミカル（株）製の平均粒径０．５μｍのマイカ粒子（商品名：ＭＫ−１００）を用いた以外は、実施例３−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１６μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．７であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−１１）
潤滑剤としてＭＡＲＵＫＡ社製の平均粒径０．５μｍの窒化ホウ素（ＢＮ）粒子（商品名：ＡＰ−２０Ｓ）を用いた以外は、実施例３−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．７であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−１２）
潤滑剤として堺化学工業（株）製の平均粒径０．５μｍのメラミンシアヌレート（ＭＣＮ）粒子（商品名：ＭＣ−５Ｆ）を用いた以外は、実施例３−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−１３）
潤滑剤として宇部日東化成（株）製の平均粒径０．５μｍのシリカ粒子（商品名：ハイプレシカ）を用いた以外は、実施例３−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−１４）
縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ０．７５ｍｍのアルミニウム板の上に、下記組成の電荷輸送層用塗布液をマイヤーバーコートし、得られた塗膜を乾燥させることによって、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
・電荷輸送層用塗布液
ビスフェノールＺ型のポリカーボネート：１０質量部
上記構造式（１０１）で示される化合物（電荷輸送物質）：９質量部
クロロベンゼン：１００質量部
次に、上記電荷輸送層上に、下記組成の表面層用塗布液をスプレーコートすることによって、膜厚５μｍの塗膜を得た。
・表面層用塗布液
上記構造式（２８）で示される化合物（電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物）：１０質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート：１０質量部
ポリテトラフルオロエチレン粒子（平均粒径１．０μｍ）：１質量部（１０体積％相当）
東亜合成（株）製の界面活性剤（商品名：ＧＦ−３００）：０．０５質量部
２．２−ジメトキシ−１．２−ジフェニルエタン−１−オン（光重合開始剤、商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＢＡＳＦ社製）：１質量部
クロロベンゼン：１００質量部
次いで、塗膜に対して紫外線照射を２回行った。１回目の紫外線照射は塗膜の全面に対して行い、２回目の紫外線照射時に、ライン幅：４．０μｍ、スペース幅：４．０μｍのフォトマスクを用いて照射を行った。１回目と２回目の紫外線照射量と紫外線照射時間は、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．５となるように、および、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．１５ＧＰａとなるように調整した。その後、塗膜を２分間９０℃で乾燥させた。乾燥して得られた表面層（膜）の膜厚は５μｍであった。
得られた表面層（膜）の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５１％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１４ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（実施例３−１５）
縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ０．７５ｍｍのアルミニウム板の上に、下記組成の電荷輸送層用塗布液をマイヤーバーコートし、得られた塗膜を乾燥させることによって、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。
ビスフェノールＺ型のポリカーボネート：１０質量部
上記構造式（１０１）で示される化合物（電荷輸送物質）：１０質量部
クロロベンゼン：１００質量部
次に、上記電荷輸送層上に、下記組成の表面層用塗布液をスプレーコートすることによって、膜厚５μｍの塗膜を得た。
・表面層用塗布液
上記構造式（２８）で示される化合物（電荷輸送性構造を有するラジカル重合性化合物）：１０質量部
ポリテトラフルオロエチレン粒子（平均粒径１．０μｍ）：１質量部（１０体積％相当）
東亜合成（株）製の界面活性剤（商品名：ＧＦ−３００）：０．０５質量部
メチルエチルケトン：１００質量部
次いで、塗膜に対して電子線照射を２回行った。１回目の電子線照射は塗膜の全面に対して行い、２回目の電子線照射時にライン幅：４．０μｍ、スペース幅：４．０μｍの電子線マスク（メタルマスク）を用いた。電子線照射時は、窒素パージをし、加速電圧は３０ｋＶとした。１回目と２回目の電子線照射線量は、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値が約１．６となるように、および、第１部分（低硬度部分）の硬度が約０．１５ＧＰａとなるように調整した。その後、塗膜を２分間９０℃で乾燥させた。乾燥して得られた表面層（膜）の膜厚は５μｍであった。
得られた表面層（膜）の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は５０％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。また、得られた膜について硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は１．６であり、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１５ＧＰａであった。また、第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに膜を貫通していた。
（比較例３−１）
信越化学工業（株）製のネガ型フォトレジスト材料である感光性ポリイミドシリコーン（商品名：ＳＰＳ−７７５０）に、潤滑剤としてのダイキン工業（株）製の平均粒径０．５μｍのポリテトラフルオロエチレン粒子（商品名：ルブロンＬ−２）、および、東亜合成（株）製の界面活性剤（商品名：ＧＦ−３００）を加えて混合液を得た。混合液中のポリテトラフルオロエチレン粒子の量（分散濃度）は１０体積％になるようにした。これをシリコンウエハーの上にスピンナーコートし、得られた塗膜を２分間９０℃で乾燥（前乾燥）させた。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜について硬度を測定したところ、硬度の異なる第１部分および第２部分の存在は認められず、膜の表面の硬度は０．１４ＧＰａであった。
（比較例３−２）
潤滑剤としてコープケミカル（株）製の平均粒径０．５０μｍのマイカ粒子（商品名：ＭＫ−１００）を用いた以外は、比較例３−１と同様にして膜を得た。乾燥して得られた膜の膜厚は１７μｍであった。
得られた膜について硬度を測定したところ、硬度の異なる第１部分および第２部分の存在は認められず、膜の表面の硬度は０．１４ＧＰａであった。
実施例３−１〜３−１５および比較例３−１〜３−２をまとめて表２に示す。
Figure 0005236095
（４）摩擦係数（動摩擦係数）の評価
膜の表面の摩擦係数の評価は、新東科学（株）製のトルク式摩擦抵抗測定機（商品名：ＴＹＰＥ：２０）を用いて行った。測定機のターンテーブル（直径１２．７ｍｍ）に測定対象の膜を設置し、厚さ３ｍｍ×幅１ｃｍ×長さ１ｃｍのウレタンゴム製部材（ＪＩＳ−Ａ硬度：７０度）を膜の円周端に２４°（ゴム部材と膜が平行で接する場合を０°とする）の角度で従動方向（ウィズ方向）に当接させ、３０ｇ重の荷重をかけ、ターンテーブルに設置した膜（半径３３ｍｍ）を回転数４７．８ｒｐｍで回転させ、膜とウレタンゴム製部材との間にかかる力から、摩擦係数（動摩擦係数）を求めた。
摩擦係数（動摩擦係数）の値として、実施例１−１〜１−１０および比較例１−１〜１−１０に関しては、ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間または３０時間回転させたときの値を用い、実施例２−１〜２−９、比較例２−１〜２−５、実施例３−１〜３−１５および比較例３−１〜３−２に関しては、ウレタンゴム製部材を当接させて１時間または２０時間回転させたときの値を用いた。
（５）表面の凹凸形状の評価
膜の表面の凹凸形状の評価は、ＴＥＮＣＯＲ社製の表面形状測定装置（商品名：ＴＥＮＣＯＲＰ−１０）を用いて行った。第２部分による凸部と第１部分による凹部のそれぞれの幅と凸部と凹部の高低差を評価した。
（６）スティックアンドスリップの評価
スティックアンドスリップの評価は、実施例１−１〜１−１０および比較例１−１〜１−９に関して、新東科学（株）製のトルク式摩擦抵抗測定機（商品名：ＴＹＰＥ：２０）を用いて行った。上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後、上記ウレタンゴム製部材を膜の円周端に２４°（ゴム部材と膜が平行で接する場合を０°とする）の角度で逆動方向（カウンター方向）に当接させ、３０ｇ重の荷重をかけ、ターンテーブルに設置した膜（半径３３ｍｍ）回転数２３．９ｒｐｍ（遅い回転）、４７．８ｒｐｍ（速い回転）で回転させたときの上記ウレタンゴム製部材の挙動をスティックアンドスリップの評価に用いた。スティックアンドスリップの評価結果を、以下の３段階に分類した。
Ａ：回転数２３．９ｒｐｍおよび４７．８ｒｐｍの回転で問題なく回転する挙動を示す。
Ｂ：回転数２３．９ｒｐｍの回転では上記ウレタンゴム製部材が連続して飛び上がる挙動を示すが、回転数４７．８ｒｐｍの回転では問題なく回転する挙動を示す。
Ｃ：回転数２３．９ｒｐｍおよび４７．８ｒｐｍの回転のどちらでも上記ウレタンゴム製部材が連続して飛び上がる挙動を示す。
スティックアンドスリップは、低い摩擦係数では発生しにくく、高い摩擦係数で発生しやすい傾向がある。
（７）凸部の破壊の評価
膜の表面において凸部になった第２部分の破壊の評価は、実施例１−１〜１−１０、比較例１−１〜１−１０、実施例２−１〜２−９および比較例２−１〜２−５に関して、（株）キーエンス製の超深度形状測定顕微鏡（商品名：ＶＫ−９５１０）と（株）ニレコ製の画像解析装置（商品名：ＬｕｚｅｘＡＰ）を用いて行った。
実施例１−１〜１−１０および比較例１−１〜１−１０に関しては、上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の凸部の破壊の評価結果を、以下の２段階に分類した。
Ａ：一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積が凸部全体の面積の２０％未満である。
Ｃ：一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積が凸部全体の面積の３０％以上である。
また、実施例２−１〜２−９および比較例２−１〜２−５に関しては、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の凸部の破壊の評価結果を、以下の３段階に分類した。
Ａ：一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積が凸部全体の面積の１０％未満である。
Ｂ：一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積が凸部全体の１０％以上２０％未満である。
Ｃ：一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積が凸部全体の２０％以上である。
（８）評価結果その１
（実施例１−１）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４４であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２４μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４２であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップは見られず、凸部の破壊も見られなかった。上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後も表面の形状を維持し、低い摩擦係数を維持していることがわかった。
（実施例１−２）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．１８μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．５６であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．１９μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．５０であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップは見られず、凸部の破壊も見られなかった。上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後も表面の形状を維持し、低い摩擦係数を維持していたが、実施例１−１よりも高い摩擦係数となった。
（実施例１−３）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．３０μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４９であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．３１μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．５２であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップは見られず、凸部の破壊も見られなかった。上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後も表面の形状を維持し、低い摩擦係数を維持していることがわかった。
（実施例１−４）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．３８μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．６８であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．３９であり、膜の表面の摩擦係数は０．７３であった。遅い回転ではスティックアンドスリップが見られたが、速い回転ではスティックアンドスリップは見られなかった。また、凸部の破壊は見られなかった。上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間および３０時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数は、実施例１−１よりも高い摩擦係数となった。
（実施例１−５）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．３６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．６２であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．３６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．６８であった。遅い回転ではスティックアンドスリップが見られたが、速い回転ではスティックアンドスリップは見られなかった。また、凸部の破壊は見られなかった。上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間および３０時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数は、実施例１−１よりも高い摩擦係数となった。
（実施例１−６）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２７μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．６１であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２８μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．６６であった。遅い回転ではスティックアンドスリップが見られたが、速い回転ではスティックアンドスリップは見られなかった。また、凸部の破壊は見られなかった。上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間および３０時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数は、実施例１−１よりも高い摩擦係数となった。
（実施例１−７）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、２０μｍ幅の第１部分による凹部と２０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．５１μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．７１であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、２０μｍ幅の第１部分による凹部と２０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．５１μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．７０であった。遅い回転ではスティックアンドスリップが見られたが、速い回転ではスティックアンドスリップは見られなかった。また、凸部の破壊は見られなかった。上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間および３０時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数は、実施例１−１よりも高い摩擦係数となった。
（実施例１−８）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、２２．７μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．５７μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．５３であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、２２．７μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．５８μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．５４であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップは見られず、凸部の破壊も見られなかった。上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後も表面の形状を維持し、低い摩擦係数を維持していることがわかった。
（実施例１−９）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、１．３μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．１５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．７５であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、１．３μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．１６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．７３であった。遅い回転ではスティックアンドスリップが見られたが、速い回転ではスティックアンドスリップは見られなかった。また、凸部の破壊は見られなかった。上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間および３０時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数は、実施例１−１よりも高い摩擦係数となった。
（実施例１−１０）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４５であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４３であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップは見られず、凸部の破壊も見られなかった。上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後も表面の形状を維持し、低い摩擦係数を維持していることがわかった。
（比較例１−１）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は１．７７であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、やはり凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は１．７４であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップが発生し、不安定な摩擦挙動が認められた。
（比較例１−２）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は０．９５であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、やはり凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は０．９１であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップが発生し、不安定な摩擦挙動が認められた。
（比較例１−３）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は１．６８μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．９９であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は１．０５μｍであり、上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させたことにより、凸部が摩耗したことで、凹凸形状が無くなりつつあることがわかった。膜の表面の摩擦係数は１．２４であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップが発生し、不安定な摩擦挙動が認められ、凸部形状が破壊された面積が凸部全体の面積に対して４１％見られた。
（比較例１−４）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、２０００μｍ幅の第１部分による凹部と５００μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は１．８９μｍであり、膜の表面の摩擦係数は１．８８であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、２０００μｍ幅の第１部分による凹部と５００μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は１．９３μｍであり、膜の表面の摩擦係数は１．８６であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップが発生し、不安定な摩擦挙動が認められた。凸部の破壊は見られなかった。
（比較例１−５）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．１１μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．９７であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．１０μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．９７であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップが発生し、不安定な摩擦挙動が認められた。凸部の破壊は見られなかった。
（比較例１−６）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．６６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．９９であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．６４μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．９２であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップが発生し、不安定な摩擦挙動が認められた。凸部の破壊は見られなかった。
（比較例１−７）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、７６μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．７７μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．９５であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、７６μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．７５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は１．２３であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップが発生し、不安定な摩擦挙動が認められ、凸部の形状が破壊された面積が凸部全体の面積に対して３６％見られた。
（比較例１−８）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、０．７μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．１１μｍであり、膜の表面の摩擦係数は１．０５であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、０．７μｍ幅の第１部分による凹部と４μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．１３μｍであり、膜の表面の摩擦係数は１．０３であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップが発生し、不安定な摩擦挙動が認められた。凸部の破壊は見られなかった。
（比較例１−９）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は１．０６であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、やはり凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は１．０２であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップが発生し、不安定な摩擦挙動が認められた。
（比較例１−１０）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は１．９０であった。
上記ウレタンゴム製部材を当接させて３０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、やはり凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は１．８８であった。遅い回転および速い回転のどちらでもスティックアンドスリップが発生し、不安定な摩擦挙動が認められた。
（実施例２−１）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは１０μｍであり、壁の厚さは２μｍであり、凸部と凹部の高低差は０．２２μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４４であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ハニカム形状の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４３であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の１０％未満であった。
（実施例２−２）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは１０μｍであり、壁の厚さは１μｍであり、凸部と凹部の高低差は０．３３μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４８であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ハニカム形状の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．３４μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．５２であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の１４％であった。
（実施例２−３）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは１０μｍであり、壁の厚さは６μｍであり、凸部と凹部の高低差は０．１１μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．７５であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ハニカム形状の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．１２μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．７２であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の１０％未満であった。
（実施例２−４）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは１０μｍであり、壁の厚さは２μｍであり、凸部と凹部の高低差は０．１６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．８１であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ハニカム形状の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．１７μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．８１であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の１２％であった。
（実施例２−５）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは１０μｍであり、壁の厚さは２μｍであり、凸部と凹部の高低差は０．２４μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４５であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ハニカム形状の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．３４μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．８５であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の１０％未満であった。
（実施例２−６）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは１０μｍであり、壁の厚さは２μｍであり、凸部と凹部の高低差は０．１６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．８１であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ハニカム形状の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．１６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．８６であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の１５％であった。
（実施例２−７）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは１０μｍであり、壁の厚さは２μｍであり、凸部と凹部の高低差は０．２７μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．５３であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ハニカム形状の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．３５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．８８であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の１０％未満であった。
（実施例２−８）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に直径が０．２μｍであり、中心間距離が０．４μｍである円状のホール型の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．０３μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．８５であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ホール型の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．０３μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．８４であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の１０％未満であった。
（実施例２−９）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは５０μｍであり、壁の厚さは１０μｍであり、凸部と凹部の高低差は０．８４μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．８３であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ハニカム形状の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．８９μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．８６であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の１５％であった。
（比較例２−１）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは１０μｍであり、壁の厚さは２μｍであり、凸部と凹部の高低差は１７μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．７８であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ハニカム形状の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は１６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．９２であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の２３％であった。
（比較例２−２）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは１０μｍであり、壁の厚さは０．５μｍであり、凸部と凹部の高低差は０．３５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．５４であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ハニカム形状の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．３９μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．９４であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の２７％であった。
（比較例２−３）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは１０μｍであり、壁の厚さは８μｍであり、凸部と凹部の高低差は０．０７μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．９６であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ハニカム形状の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．０７μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．９５であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の１０％未満であった。
（比較例２−４）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは１０μｍであり、壁の厚さは２μｍであり、凸部と凹部の高低差は０．２７μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４９であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、ハニカム形状の凹凸が認められ、凸部と凹部の高低差は０．４２μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．９９であった。一辺１ｍｍの正方形１つあたり、凸部の形状が破壊された面積は凸部全体の面積の１０％未満であった。
（比較例２−５）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、表面に正六角形を凹部とし、それを取り囲む壁を凸部としたハニカム形状の凹凸が認められ、正六角形の一辺の長さは１０μｍであり、壁の厚さは２μｍであり、凸部と凹部の高低差は０．２２μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４７であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は１．６１であった。
（摩擦係数の値の分類）
実施例１−１〜１−１０および比較例１−１〜１−９に関しては、摩擦係数の値を、以下の３段階に分類した。
Ａ：上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間または３０時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数の値が０．６０以下である。
Ｂ：上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間または３０時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数の値が０．６１以上０．８０以下である。
Ｃ：上記ウレタンゴム製部材を当接させて１０時間または３０時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数の値が０．８１以上である。
また、実施例２−１〜１−９および比較例２−１〜２−５に関しては、摩擦係数の値を、以下の３段階に分類した。
Ａ：上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間または２０時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数の値が０．６０以下である。
Ｂ：上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間または２０時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数の値が０．６１以上０．９０以下である。
Ｃ：上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間または２０時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数の値が０．９１以上である。
以上をまとめて表３に示す。
Figure 0005236095
（９）評価結果その２
（実施例３−１）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３３であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２４μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３３であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉（潤滑剤を含有する膜が摩耗することによって発生した、潤滑性のある摩耗粉のこと。以下同じ。）が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−２）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２２μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３２であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２１μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．２７であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−３）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２８μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３７であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２４μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３５であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−４）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２３μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３５であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２３μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３５であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−５）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２７μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．６５であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．６４であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−６）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．５３であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．５０であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−７）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．２６であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．２６であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−８）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、直径４．０μｍでホール形状が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３２であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、直径４．０μｍのホール形状が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．２２であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−９）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、最大対頂点距離が４．０μｍのハニカム形状が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２４μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３２であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、最大対頂点距離が３．９μｍのハニカム形状が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２４μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．２０であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−１０）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３５であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．２μｍ幅の第１部分による凹部と３．８μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３１であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−１１）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２６μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．５２であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．１μｍ幅の第１部分による凹部と３．９μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４７であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−１２）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３２であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．２８であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−１３）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．４２であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３８であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−１４）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３２であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．２７であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（実施例３−１５）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．３２であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、４．０μｍ幅の第１部分による凹部と４．０μｍ幅の第２部分による凸部が認められ、凸部と凹部の高低差は０．２５μｍであり、膜の表面の摩擦係数は０．２８であった。凹凸形状の凹部を確認したところ、摩耗粉が凹部に溜まっていることを光学顕微鏡で確認することができた。
（比較例３−１）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は０．３３であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、やはり凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は０．５２であった。摺擦による摩耗粉の発生は確認できたが、すぐに摩擦系からなくなってしまった。
（比較例３−２）
上記ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は０．３５であった。
また、上記ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面を確認・評価したところ、やはり凹凸は認められず、膜の表面の摩擦係数は０．５３であった。摺擦による摩耗粉の発生は確認できたが、すぐに摩擦系からなくなってしまった。
摩耗粉の摩耗系からの流出による摩擦係数の増大を抑える効果の指標として、以下のように定義される低減率を用いて評価した。低減率が０％未満である場合、使用によって、摩擦係数の増大が起きていることを意味する。
低減率＝｛（ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数−ウレタンゴム製部材を当接させて２０時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数）÷ウレタンゴム製部材を当接させて１時間回転させた後の膜の表面の摩擦係数｝×１００
以上をまとめて表４に示す。
Figure 0005236095
（電子写真感光体作製用のフォトマスク）
以下のとおり電子写真感光体作製用のフォトマスクを準備した。なお、スクエア型のニッケルメッシュ／平織りタイプステンレス鋼メッシュにおける線幅および開孔サイズは図８に示すとおりであり、ハニカム型のニッケルメッシュにおける線幅および開孔サイズは図９に示すとおりである。
〈電子写真感光体作製用のフォトマスク１〉
線幅が１０μｍであり、開孔サイズが６μｍであり、開孔率が１４％であるスクエア型のニッケルメッシュ（商品名：＃１５００、（株）くればぁ製）を電子写真感光体作製用のフォトマスク１とした。
〈電子写真感光体作製用のフォトマスク２〜５〉
表５に示す線幅、開孔サイズおよび開孔率を有するスクエア型のニッケルメッシュをそれぞれ電子写真感光体作製用のフォトマスク２〜５とした。
〈電子写真感光体作製用のフォトマスク６〜８〉
表５に示す線幅、開孔サイズおよび開孔率を有するハニカム型のニッケルメッシュをそれぞれ電子写真感光体作製用のフォトマスク６〜８とした。
〈電子写真感光体作製用のフォトマスク９〉
厚さ４０μｍの透明樹脂膜（商品名：ゼオノアフィルムＺＦ１４−０４０、（株）オプテス製）の表面をコロナ処理により親水化した後、上記フォトマスク１をこの透明樹脂膜上に被せ、厚さ１００ｎｍの金蒸着を施すことで、スクエア型のパターン（蒸着した金パターンの面積率：６４％）を作製した。これを電子写真感光体作製用のフォトマスク９とした。フォトマスク９の蒸着した金パターンの面積率は６４％である。また、フォトマスク９のスクエア型のパターンのサイズ（図８の開孔サイズに対応）は１５μｍである。
〈電子写真感光体作製用のフォトマスク１０〜１６〉
電子写真感光体作製用のフォトマスク９の作製において、金蒸着の際に透明樹脂膜上に被せたフォトマスクを上記フォトマスク２〜８にした以外は同様にしてスクエア型のパターンを作製した。これらをそれぞれ電子写真感光体作製用のフォトマスク１０〜１６とした。フォトマスク１０の蒸着した金パターンの面積率は３６％であり、フォトマスク１１の蒸着した金パターンの面積率は４６％であり、フォトマスク１２の蒸着した金パターンの面積率は６４％であり、フォトマスク１３の蒸着した金パターンの面積率は７８％であり、フォトマスク１４の蒸着した金パターンの面積率は３４％であり、フォトマスク１５の蒸着した金パターンの面積率は２３％であり、フォトマスク１６の蒸着した金パターンの面積率は６２％である。また、フォトマスク１０のスクエア型のパターンのサイズ（図８の開孔サイズに対応）は１５μｍであり、フォトマスク１１のスクエア型のパターンのサイズ（図８の開孔サイズに対応）は１７μｍであり、フォトマスク１２のスクエア型のパターンのサイズ（図８の開孔サイズに対応）は２５μｍであり、フォトマスク１３のスクエア型のパターンのサイズ（図８の開孔サイズに対応）は４５μｍであり、フォトマスク１４のハニカム型のパターンのサイズ（図９の開孔サイズに対応）は１６μｍであり、フォトマスク１５のハニカム型のパターンのサイズ（図９の開孔サイズに対応）は１６μｍであり、フォトマスク１６のハニカム型のパターンのサイズ（図９の開孔サイズに対応）は２１μｍである。
〈電子写真感光体作製用のフォトマスク１０１〉
線幅が１０００μｍであり、開孔サイズが１５００μｍであり、開孔率が３６％であるスクエア型の平織りタイプステンレス鋼メッシュを電子写真感光体作製用のフォトマスク１０１とした。
〈電子写真感光体作製用のフォトマスク１０２〉
線幅が１８μｍであり、開孔サイズが７μｍであり、開孔率が８％であるスクエア型のニッケルメッシュ（商品名：＃１０００、（株）くればぁ製）を電子写真感光体作製用のフォトマスク１０２とした。
〈電子写真感光体作製用のフォトマスク１０３〉
線幅が４．５μｍであり、開孔サイズが４６．５μｍであり、開孔率が８３％であるスクエア型のニッケルメッシュ（商品名：＃５００、（株）くればぁ製）を電子写真感光体作製用のフォトマスク１０３とした。
〈電子写真感光体作製用のフォトマスク１０４〜１０６〉
電子写真感光体作製用のフォトマスク９の作製において、金蒸着の際に透明樹脂膜上に被せたフォトマスクを上記フォトマスク１０１〜１０３にした以外は同様にしてスクエア型のパターンを作製した。これらをそれぞれ電子写真感光体作製用のフォトマスク１０４〜１０６とした。フォトマスク１０４の蒸着した金パターンの面積率は２２％であり、フォトマスク１０５の蒸着した金パターンの面積率は８％であり、フォトマスク１０６の蒸着した金パターンの面積率は８３％である。また、フォトマスク１０４のスクエア型のパターンのサイズ（図８の開孔サイズに対応）は１５００μｍであり、フォトマスク１０５のスクエア型のパターンのサイズ（図８の開孔サイズに対応）は７μｍであり、フォトマスク１０６のスクエア型のパターンのサイズ（図８の開孔サイズに対応）は４６．５μｍである。
Figure 0005236095
（電子写真感光体）
〈電子写真感光体１〉
直径３０ｍｍ、長さ３５７．５ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍのアルミニウムシリンダーを支持体（導電性支持体）とした。
次に、ポリアミド（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ（株）製）のメタノールに溶解させることによって、下引き層用塗布液（ポリアミド５質量％含有）を調製した。この下引き層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって、膜厚が０．５μｍの下引き層を形成した。
次に、ＣｕＫαの特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の７．４°および２８．２°に強いピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶（電荷発生物質）３．５質量部、ポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製）１質量部、および、シクロヘキサノン１２０質量部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、３時間分散処理し、その後、これに酢酸エチル１２０質量部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
次に、実施例１−３と同様に調製した電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を８０分間１２５℃で乾燥させることによって、膜厚が２０μｍの電荷輸送層を形成した。このようにして得られた電子写真感光体を電子写真感光体１とした。電子写真感光体１は複数作製した。
〈電子写真感光体２〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：カヤラッドＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）６０質量部、分散処理前の平均粒径が０．０３μｍの酸化スズ粒子６０質量部、光重合開始剤としての２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＢＡＳＦ社製）２０質量部、および、メタノール４００質量部をサンドミルに入れ、６６時間分散処理することによって、表面層用塗布液を調製した。この表面層用塗布液を電子写真感光体１の電荷輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜にその硬度が約０．１４ＧＰａとなるように高圧水銀灯にて紫外線を照射することによって、表面層を形成した。このようにして得られた電子写真感光体を電子写真感光体２とした。電子写真感光体２は複数作製した。電子写真感光体２の表面の硬度はいずれも０．１４ＧＰａであり、表面層の膜厚はいずれも３μｍであった。
〈電子写真感光体３〉
電子写真感光体２のうちの１つに対して、再度、表面に高圧水銀灯にて紫外線を照射し光硬化させた後に、１時間１３０℃でポストベーク処理をすることによって、電子写真感光体３を作製した。電子写真感光体３の表面の硬度は０．５２ＧＰａであり、表面層の膜厚は３μｍであった。
〈電子写真感光体４〉
電子写真感光体作製用のフォトマスク１を幅５ｃｍに切り、図１０（図１０中、１００１は電子写真感光体であり、１００２はフォトマスクである。）に示すように、電子写真感光体２のうちの１つの表面に巻き付け、再度、高圧水銀灯にて紫外線を照射し、光硬化させた。次いで、巻き付けてあったフォトマスク１を剥がし取った後に、１時間１３０℃でポストベーク処理をすることによって、電子写真感光体４を作製した。電子写真感光体４の表面の硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１８ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．４８ＧＰａであり、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は２．７であった。電子写真感光体４の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は１４％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。電子写真感光体４の表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。
〈電子写真感光体５〜９および１０１〜１０５〉
電子写真感光体４の作製において用いた電子写真感光体作製用のフォトマスク１を表６に示すフォトマスクに変更した以外は、電子写真感光体４と同様にして電子写真感光体５〜９および１０１〜１０５を作製した。電子写真感光体５〜９および１０１〜１０５の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率、ならびに、電子写真感光体５〜９および１０１〜１０５の表面の第１部分（低硬度部分）の硬度、第２部分（高硬度部分）の硬度、および、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値を表６に示す。電子写真感光体５〜９および１０１〜１０５のいずれも、表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。電子写真感光体５〜９および１０１〜１０５のいずれも、表面の第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。
〈電子写真感光体１０〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：カヤラッドＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）６０質量部、分散処理前の平均粒径が０．０３μｍの酸化スズ粒子６０質量部、光重合開始剤としての２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＢＡＳＦ社製）２０質量部、メタノール４００質量部をサンドミルに入れ、６６時間分散処理することによって、表面層用塗布液を調製した。この表面層用塗布液を電子写真感光体１の電荷輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜にその硬度が約０．３１ＧＰａとなるように高圧水銀灯にて紫外線を照射することによって、膜厚が３μｍの表面層を形成し、電子写真感光体を得た。
次に、電子写真感光体作製用のフォトマスク１２を幅５ｃｍに切り、図１０に示すように、上記電子写真感光体の表面に巻き付け、再度、高圧水銀灯にて紫外線を照射し、光硬化させた。次いで、巻き付けてあったフォトマスク１２を剥がし取った後に、１時間１３０℃でポストベーク処理をすることによって、電子写真感光体１０を作製した。電子写真感光体１０の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域における、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率、ならびに、電子写真感光体１０の表面の第１部分（低硬度部分）の硬度、第２部分（高硬度部分）の硬度、および、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値を表６に示す。電子写真感光体１０の表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。電子写真感光体１０の表面の第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。
Figure 0005236095
〈電子写真感光体１１〉
電子写真感光体２の作製において用いた表面層用塗布液を以下のように調製した表面層用塗布液に変更した以外は、電子写真感光体２と同様にして電子写真感光体１１を作製した。電子写真感光体１１は複数作製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：カヤラッドＤＰＨＡ、日本化薬（株））６０質量部、分散処理前の平均粒径が０．０４μｍの酸化スズ粒子６０質量部、ポリテトラフルオロエチレン粒子（平均粒径０．１８μｍ）５０質量部、光重合開始剤としての２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＢＡＳＦ社製）２０質量部、および、メタノール４００質量部をサンドミルに入れ、６６時間分散処理することによって、表面層用塗布液を調製した。電子写真感光体１１の表面の硬度は０．１４ＧＰａであり、表面層の膜厚は３μｍであった。
〈電子写真感光体１２〉
電子写真感光体３の作製において用いた表面層用塗布液を以下のように調製した表面層用塗布液に変更した以外は、電子写真感光体３と同様にして電子写真感光体１２を作製した。電子写真感光体１２の表面の硬度は０．５２ＧＰａであり、表面層の膜厚は３μｍであった。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：カヤラッドＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）６０質量部、分散処理前の平均粒径が０．０４μｍの酸化スズ粒子６０質量部、ポリテトラフルオロエチレン粒子（平均粒径０．１８μｍ）５０質量部、光重合開始剤としての２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＢＡＳＦ社製）２０質量部、および、メタノール４００質量部をサンドミルに入れ、６６時間分散処理することによって、表面層用塗布液を調製した。
〈電子写真感光体１３〉
電子写真感光体作製用のフォトマスク１を幅５ｃｍに切り、図１０に示すように、電子写真感光体１１のうちの１つの表面に巻き付け、再度、高圧水銀灯にて紫外線を照射し、光硬化させた。次いで、巻き付けてあったフォトマスクを剥がし取った後に、１時間１３０℃でポストベーク処理をすることによって、電子写真感光体１３を作製した。電子写真感光体１３の表面の硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１９ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．４８ＧＰａであり、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は２．５であった。電子写真感光体１３の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は１３％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。電子写真感光体１３の表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。
〈電子写真感光体１４〜２７〉
電子写真感光体１３の作製において用いた電子写真感光体作製用のフォトマスク１を表７に示すフォトマスクに変更した以外は、電子写真感光体１３と同様にして電子写真感光体１４〜２７を作製した。電子写真感光体１４〜２７の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域における、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率、ならびに、電子写真感光体１４〜２７の表面の第１部分（低硬度部分）の硬度、第２部分（高硬度部分）の硬度、および、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値を表７に示す。電子写真感光体１４〜２７のいずれも、表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。電子写真感光体１４〜２７のいずれも、表面の第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。
〈電子写真感光体２８および２９〉
電子写真感光体２４の作製において、フォトマスクを巻き付けた後の紫外線の照射強度を上げて、電子写真感光体の表面の第１部分（低硬度部分）の硬度、第２部分（高硬度部分）の硬度、および、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値を表７に示すようになるように変更した以外は、電子写真感光体２４と同様にして電子写真感光体２８および２９を作製した。電子写真感光体２８および２９の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域における、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率、ならびに、電子写真感光体２８および２９の表面の第１部分（低硬度部分）の硬度、第２部分（高硬度部分）の硬度、および、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値を表７に示す。電子写真感光体２８および２９のいずれも、表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。電子写真感光体２８および２９のいずれも、表面の第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。
Figure 0005236095
〈電子写真感光体３０〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：カヤラッドＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）５質量部、および、例示化合物Ｎｏ．１４（上記構造式（１４）で示される化合物）２０質量部を、エタノール６０質量部／メチルエチルケトン１５質量部の混合溶剤に溶解させることによって、表面層用塗布液を調製した。この表面層用塗布液を電子写真感光体１の電荷輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜にその硬度が約０．２０ＧＰａとなるように電子線を照射することによって、表面層を形成した。このようにして得られた電子写真感光体を電子写真感光体３０とした。電子写真感光体３０は複数作製した。電子写真感光体３０の表面の硬度はいずれも０．２０ＧＰａであり、表面層の膜厚はいずれも３μｍであった。
〈電子写真感光体３１〉
電子写真感光体３０の作製において、電子線の照射線量を上げ、その後、１時間１２０℃でポストベーク処理をすることによって、電子写真感光体３１を作製した。電子写真感光体３１の表面の硬度は０．７５ＧＰａであり、表面層の膜厚は３μｍであった。
〈電子写真感光体３２〉
電子写真感光体作製用のフォトマスク１を幅５ｃｍに切り、図１０に示すように、電子写真感光体３０のうちの１つの表面に巻き付け、再度、電子線を照射し、電子線硬化させた。次いで、巻き付けてあったフォトマスクを剥がし取った後に、１時間１２０℃でポストベーク処理をすることによって、電子写真感光体３２を作製した。電子写真感光体３２の表面の硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．２０ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．７４ＧＰａであり、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は３．７であった。電子写真感光体３２の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は１５％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。電子写真感光体３２の表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。
〈電子写真感光体３３〜３９および２０１〜２０３〉
電子写真感光体３２の作製において用いた電子写真感光体作製用のフォトマスク１を表８に示すフォトマスクに変更した以外は、電子写真感光体３２と同様にして電子写真感光体３３〜３９および２０１〜２０３を作製した。電子写真感光体３３〜３９および２０１〜２０３の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域における、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率、ならびに、電子写真感光体３３〜３９および２０１〜２０３の表面の第１部分（低硬度部分）の硬度、第２部分（高硬度部分）の硬度、および、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値を表８に示す。電子写真感光体３３〜３９および２０１〜２０３のいずれも、表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。電子写真感光体３３〜３９および２０１〜２０３のいずれも、表面の第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。
〈電子写真感光体４０〉
電子写真感光体３４の作製において、フォトマスクを巻き付けた後の電子線の照射線量を上げて、電子写真感光体の表面の第１部分（低硬度部分）の硬度、第２部分（高硬度部分）の硬度、および、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値を表８に示すようになるように変更した以外は、電子写真感光体３４と同様にして電子写真感光体４０を作製した。電子写真感光体４０の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域における、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率、ならびに、電子写真感光体４０の表面の第１部分（低硬度部分）の硬度、第２部分（高硬度部分）の硬度、および、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値を表８に示す。電子写真感光体４０の表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。電子写真感光体４０の表面の第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。
Figure 0005236095
〈電子写真感光体４１〉
フッ素原子含有樹脂（商品名：ＧＦ−３００、東亞合成（株）製）１．２５質量部を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）製）３７．５質量部／１−プロパノール３７．５質量部の混合溶剤に溶解させた後、潤滑剤としてのポリテトラフルオロエチレン粒子（商品名：ルブロンＬ−２、ダイキン工業（株）製）２５質量部を加え、これを高圧分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０ＥＨ、米Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ社製）に入れ、５８．８ＭＰａ（６００ｋｇｆ／ｃｍ２）の圧力で３回の分散処理を施すことによって、潤滑剤分散液を調製した。
次に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：カヤラッドＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２０質量部、例示化合物Ｎｏ．１４（上記構造式（１４）で示される化合物）８０質量部、上記潤滑剤分散液４５質量部、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフロオロシクロペンタン６６．７質量部、および、１−プロパノール６６．７質量部を混合し、攪拌した後、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）製の５μｍメンブレンフィルターで加圧濾過を行うことによって、表面層用塗布液を調製した。この表面層用塗布液を用いて、電子写真感光体１の電荷輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜にその硬度が約０．１９ＧＰａとなるように電子線を照射することによって、表面層を形成した。このようにして得られた電子写真感光体を電子写真感光体４１とした。電子写真感光体４１は複数作製した。電子写真感光体４１の表面の硬度はいずれも０．１９ＧＰａであり、表面層の膜厚はいずれも３μｍであった。
〈電子写真感光体４２〉
電子写真感光体４１の作製において、電子線の照射線量を上げ、その後、１時間１２０℃でポストベーク処理をすることによって、電子写真感光体４２を作製した。電子写真感光体４２の表面の硬度は０．７４ＧＰａであり、表面層の膜厚は３μｍであった。
〈電子写真感光体４３〉
電子写真感光体作製用のフォトマスク１を幅５ｃｍに切り、図１０に示すように、電子写真感光体４１のうちの１つの表面に巻き付け、再度、電子線を照射し、電子線硬化させた。次いで、巻き付けてあったフォトマスクを剥がし取った後に、１時間１２０℃でポストベーク処理をすることによって、電子写真感光体４３を作製した。電子写真感光体４３の表面の硬度を測定したところ、第１部分（低硬度部分）の硬度は０．１９ＧＰａであり、第２部分（高硬度部分）の硬度は０．７５ＧＰａであり、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値は３．９であった。電子写真感光体４３の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率は１３％であり、第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。電子写真感光体４３の表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。
〈電子写真感光体４４〜５８、６２および３０１〜３０３〉
電子写真感光体４３の作製において用いた電子写真感光体作製用のフォトマスクを表９に示すフォトマスクに変更した以外は、電子写真感光体４３と同様にして電子写真感光体４４〜５８、６２および３０１〜３０３を作製した。電子写真感光体４４〜５８、６２および３０１〜３０３の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域における、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率、ならびに、電子写真感光体４４〜５８、６２および３０１〜３０３の表面の第１部分（低硬度部分）の硬度、第２部分（高硬度部分）の硬度、および、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値を表９に示す。電子写真感光体４４〜５８、６２および３０１〜３０３のいずれも、表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。電子写真感光体４４〜５８、６２および３０１〜３０３のいずれも、表面の第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。
〈電子写真感光体５９〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名：カヤラッドＤＰＨＡ、日本化薬（株））１０質量部、および、例示化合物Ｎｏ．２７（上記構造式（２７）で示される化合物）１０質量部を、エタノール６０質量部／メチルエチルケトン１５質量部の混合溶剤に溶解させることによって、表面層用塗布液を調製した。この表面層用塗布液を電子写真感光体１の電荷輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜にその硬度が約０．１０ＧＰａとなるように電子線を照射することによって、表面層を形成した。このようにして得られた電子写真感光体を電子写真感光体４１−２とした。電子写真感光体４１−２は複数作製した。電子写真感光体４１−２の表面の硬度はいずれも０．１０ＧＰａであり、表面層の膜厚はいずれも３μｍであった。
次に、電子写真感光体作製用のフォトマスク３を幅５ｃｍに切り、図１０に示すように、電子写真感光体４１−２のうちの１つの表面に巻き付け、再度、電子線を照射し、電子線硬化させた。次いで、巻き付けてあったフォトマスクを剥がし取った後に、１時間１２０℃でポストベーク処理をすることによって、電子写真感光体５９を作製した。電子写真感光体５９の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域における、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率、ならびに、電子写真感光体５９の表面の第１部分（低硬度部分）の硬度、第２部分（高硬度部分）の硬度、および、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値を表９に示す。電子写真感光体５９の表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。電子写真感光体５９の表面の第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。
〈電子写真感光体６０、６１および６３〉
電子写真感光体５９の作製において、フォトマスクを巻き付けた後の電子線の照射線量を上げて、電子写真感光体の表面の第１部分（低硬度部分）の硬度、第２部分（高硬度部分）の硬度、および、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値を表９に示すようになるように変更した以外は、電子写真感光体５９と同様にして電子写真感光体６０、６１および６３を作製した。電子写真感光体６０、６１および６３の表面層の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域における、第２部分（高硬度部分）で構成される面の面積率、ならびに、電子写真感光体６０、６１および６３の表面の第１部分（低硬度部分）の硬度、第２部分（高硬度部分）の硬度、および、第１部分（低硬度部分）の硬度に対する第２部分（高硬度部分）の硬度の比の値を表９に示す。電子写真感光体６０、６１および６３のいずれも、表面層の第１部分（低硬度部分）および第２部分（高硬度部分）はともに表面層を貫通していた。電子写真感光体６０、６１および６３のいずれも、表面の第１部分（低硬度部分）で構成される面および第２部分（高硬度部分）で構成される面の合計の面積率は１００％であった。
Figure 0005236095
〈電子写真感光体６４〉
電子写真感光体３の表面を、ラッピングテープにより研磨し、Ｒｚ＝０．５μｍの状態に粗面化することによって、電子写真感光体６４を作製した。
〈電子写真感光体６５〉
電子写真感光体３１の表面を、ラッピングテープにより研磨し、Ｒｚ＝０．５μｍの状態に粗面化することによって、電子写真感光体６５を作製した。
〈電子写真感光体６６〉
電子写真感光体１の表面に、表面に凹部を有する金属モールドに圧接させながら、電子写真感光体１を回転させることによって、表面に四角柱状の凸部（四角柱の底面：６μｍ×６μｍ、高さ０．２μｍ、一辺１ｍｍの正方形の領域において四角柱が占める面積は１４％）を形成した。これを電子写真感光体６６とした。
（実施例４−１〜４−６および比較例４−１〜４−８）
電子写真感光体２〜１０および１０１〜１０５の評価を行った。
〈クリーニングブレードの状態の評価〉
電子写真感光体２〜１０および１０１〜１０５を、キヤノン（株）製のモノクロ複写機のＧＰ−２１５（商品名）に装着し、温度３０℃／湿度８０％ＲＨの環境下で、１００００枚の画像を出力し、電子写真感光体に接触（当接）するクリーニングブレード（ウレタンゴム製のブレード）の状態（ブレード捲れ、ブレード鳴き）を評価した。なお、評価に使用したモノクロ複写機のＧＰ−２１５（商品名）は、電子写真感光体の表面をクリーニングするためのクリーニング手段を有し、このクリーニング手段が電子写真感光体の表面に接触するクリーニングブレードを有する複写機である。
ブレード捲れ、ブレード鳴きともに、１００００枚の画像を出力するまでにブレード捲れ、ブレード鳴きが発生した場合をＢ、発生しなかった場合をＡとする。
〈摩擦係数の評価〉
上記の１００００枚の画像を出力後、新東科学（株）製の表面性測定機（商品名：Ｔｙｐｅ１４ＦＷ）を用い、垂直荷重３０ｇ、摺擦速度１００ｍｍ／ｍｉｎの条件で、図１１に示すように、ウレタンゴム製のブレード（ウレタンブレード）を電子写真感光体に対して２６°傾けて当接させ、垂直荷重を加えた摩擦係数を測定した。図１１中、３ａは電子写真感光体であり、３ｂはウレタンゴム製のブレード（ウレタンブレード）であり、３ｃは電子写真感光体の留め具である。
〈摩耗量の評価〉
上記の１００００枚の画像を出力後、（株）キーエンス製の超深度形状測定顕微鏡（商品名：ＶＫ−９５１０）と（株）ニレコ製の画像解析装置（商品名：ＬｕｚｅｘＡＰ）を用いて電子写真感光体の表面の摩耗量を測定した。
実施例４−１〜４−６および比較例４−１〜４−８の結果を表１０に示す。
Figure 0005236095
実施例４−１〜４−６では、第１部分の硬度に対する第２部分の硬度の比の値が１．２〜３０の範囲にあり、第２部分で構成される面の面積率が１０〜８０％の範囲にあるため、１００００枚の画像を出力後も低い摩擦係数となっていた。
比較例４−１および４−２では、第１部分および第２部分が形成されていないため、第１部分と第２部分の高低差による摩擦低減効果が得られなかった。
比較例４−３では、第１部分の硬度に対する第２部分の硬度の比の値が１．２未満であるため、第１部分と第２部分の高低差を十分に得ることができず、摩擦低減効果が十分に得られなかった。
比較例４−５では、第２部分で構成される面の面積率が１０％未満であるため、接触部材であるクリーニングブレードとの接触面積が小さくなることで、凸部になった第２部分が接触部材の荷重に耐え切れずに破壊されやすくなり、摩擦低減効果が十分に得られなかった。
比較例４−６および４−８では、第２部分で構成される面の面積率が８０％超であるため、接触部材であるクリーニングブレードとの接触面積が大きくなり、摩擦低減効果が十分に得られなかった。
比較例４−４および４−７では、第２部分で構成される面の面積率が１０％未満であるところと、第２部分で構成される面の面積率が８０％超であるところとが混在しており、摩擦低減効果が十分に得られなかった。
（実施例４−７〜４−２３および比較例４−９〜４−１０）
電子写真感光体１１〜２９の評価を、実施例４−１〜４−６および比較例４−１〜４−８と同様にして行った。
実施例４−７〜４−２３および比較例４−９〜４−１０の結果を表１１に示す。
Figure 0005236095
（実施例４−２４〜４−３２および比較例４−１１〜４−１５）
電子写真感光体３０〜４０および２０１〜２０３の評価を、実施例４−１〜４−６および比較例４−１〜４−８と同様にして行った。ただし、評価に使用した電子写真装置をキヤノン（株）製のモノクロ複写機のＧＰ−２１５（商品名）からキヤノン（株）製のモノクロ複写機のＧＰ−４０５（商品名）に変更した。また、画像出力枚数を１００００枚から２００００枚に変更した。ＧＰ−４０５（商品名）も、電子写真感光体の表面をクリーニングするためのクリーニング手段を有し、このクリーニング手段が電子写真感光体の表面に接触するクリーニングブレードを有する複写機である。
実施例４−２４〜４−３２および比較例４−１１〜４−１５の結果を表１２に示す。
Figure 0005236095
（実施例４−３３〜４−５１および比較例４−１６〜４−２５）
電子写真感光体４１〜６３および３０１〜３０３の評価を、実施例４−２４〜４−３２および比較例４−１１〜４−１５と同様にして行った。
実施例４−３３〜４−５１および比較例４−１６〜４−２５の結果を表１３に示す。
Figure 0005236095

Claims (11)

  1. 硬度の異なる第１部分および第２部分を有し、該第１部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ１［ＧＰａ］）が０．０１〜３ＧＰａであり、該第１部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ１［ＧＰａ］）に対する該第２部分の連続剛性測定法による硬度（Ｈ２［ＧＰａ］）の比の値（Ｈ２／Ｈ１）が１．２〜３０である膜であって、
    該膜の表面が該第１部分で構成される面および該第２部分で構成される面を有し、
    該第１部分および該第２部分がそれぞれ連続して該膜の膜厚方向に該膜の膜厚の７５％以上延在しており、
    該膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、該第２部分で構成される面の面積率が１０〜８０％であって、かつ、該第１部分で構成される面および該第２部分で構成される面の合計の面積率が５０％以上であり、
    該第１部分および該第２部分が紫外線硬化性樹脂または電子線硬化性樹脂で形成されている
    ことを特徴とする膜。
  2. 前記第１部分および前記第２部分が紫外線硬化性樹脂で形成されている請求項１に記載の膜。
  3. 前記第１部分および前記第２部分が電子線硬化性樹脂で形成されている請求項１に記載の膜。
  4. 前記第２部分が前記膜を貫通している請求項１〜３のいずれか１項に記載の膜。
  5. 前記膜の表面の任意の位置に配置された一辺１ｍｍの正方形の領域において、前記第１部分で構成される面および前記第２部分で構成される面の合計の面積率が１００％である請求項１〜４のいずれか１項に記載の膜。
  6. 前記膜の表面において、前記第１部分で構成される面が前記第２部分で構成される面に取り囲まれている請求項１〜５のいずれか１項に記載の膜。
  7. 前記膜が潤滑剤を含有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の膜。
  8. 請求項１〜７のいずれか１項に記載の膜を含む部材、および、該膜の表面と相対速度をもって接触しうる接触部材を有することを特徴とする装置。
  9. 表面層として請求項１〜７のいずれか１項に記載の膜を有することを特徴とする電子写真感光体。
  10. 電子写真感光体と、該電子写真感光体の表面をクリーニングするためのクリーニング手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジにおいて、
    該電子写真感光体が、請求項９に記載の電子写真感光体であり、該クリーニング手段が、該電子写真感光体の表面に接触するクリーニングブレードを有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
  11. 電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、および、該電子写真感光体の表面をクリーニングするためのクリーニング手段を有する電子写真装置において、
    該電子写真感光体が、請求項９に記載の電子写真感光体であり、該クリーニング手段が、該電子写真感光体の表面に接触するクリーニングブレードを有することを特徴とする電子写真装置。
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