JP5194462B2 - インクジェット用インク - Google Patents
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Description
しかしながら、これらのインクジェット用インクから形成された硬化膜は、十分な難燃性を有してはいなかった。
本発明は以下のようなインクジェット用インク等を提供する。
(式中、Rは水素、ヒドロキシまたは炭素数1〜100の有機基であり、nは1〜20の整数である。)
2.Rが水素、ヒドロキシまたは炭素数1〜70の有機基であり、nは1〜15の整数である項1に記載のインクジェット用インク。
3.Rが水素、ヒドロキシまたは炭素数1〜40の有機基であり、nは1〜10の整数である項1に記載のインクジェット用インク。
5.二重結合がラジカル重合性二重結合である項4に記載のインクジェット用インク。
6.Rがヒドロキシを有している項1〜5のいずれかに記載のインクジェット用インク。
7.Rがオキシランを有している項1〜6のいずれかに記載のインクジェット用インク。
8.Rがオキセタンを有している項1〜7のいずれかに記載のインクジェット用インク。
9.Rがカルボキシを有している項1〜8のいずれかに記載のインクジェット用インク。
10.Rがアミノを有している項1〜9のいずれかに記載のインクジェット用インク。
12.重合性モノマー(B)がヒドロキシを有している項11に記載のインクジェット用インク。
14.重合性モノマー(B)が、下記式(2)で表される化合物である、請求項13に記載のインクジェット用インク。
(式中、R21は環状構造を有してよい炭素数2〜12のアルキレンであり、R22は炭素数1〜3のアルキルまたは水素であり、nは1〜30の整数である。)
15.R21は環状構造を有してよい炭素数2〜12のアルキレンであり、R22はメチルまたは水素であり、nは1〜10の整数である請求項14に記載のインクジェット用インク。
16.R21は環状構造を有してよい炭素数2〜12のアルキレンであり、R22はメチルまたは水素であり、nは1〜5の整数である請求項14に記載のインクジェット用インク。
17.重合性モノマー(B)が多官能重合性モノマーおよびヒドロキシを有している単官能モノマーを含有することを特徴とする項13に記載のインクジェット用インク。
19.光重合開始剤(C)が、下記式(3)または式(4)の化合物である項18に記載のインクジェット用インク。
(式中、R1〜R15はそれぞれ独立に、水素、炭素数1〜5のアルキルまたは置換基を有してよいフェニルである。)
21.下記式(5)の構造を有する化合物(A)、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる1以上である重合性モノマー(B)、2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドあるいは2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイドから選ばれる1以上である光重合開始剤(C)とを含むインクジェット用インク。
(式(5)中、R50のうちn個は式(5−1)であり、m個は式(5−2)であり、nは1〜5の整数、mは1〜5の整数を表し、n+mは6であり、R2は水素またはメチルであり、R3は水素またはメチルである)
24.項23に記載された電子回路基板を有する電子部品。
25.項24に記載された方法を用いて形成された硬化膜を有する表示素子。
本発明のインクジェット用インクは、少なくとも上記式(1)で表される化合物(A)を含むインクジェット用インクである。
本発明のインクジェット用インクは、上記式(1)で表される化合物(A)を含めば特に限定されないが、さらに、重合性モノマー(B)、光重合開始剤(C)等を混合または溶解することにより得ることができる。
本発明のインクジェット用インクは、式(1)の化合物(A)を含有すると形成される硬化膜の難燃性が高いので好ましい。式(1)の化合物(A)はインクジェット用インクの溶媒以外の全量に対し10重量%以上含有すると難燃性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると10〜70重量%含有することが好ましい。
(式中、Rは水素、ヒドロキシまたは炭素数1〜100の有機基であり、nは1〜20の整数である。)
(式(5)中、R50のうちn個は式(5−1)であり、m個は式(5−2)であり、nは1〜5の整数、mは1〜5の整数を表し、n+mは6であり、R2は水素またはメチルであり、R3は水素またはメチルである)
(式(10)中、R101は環状構造を有してよい炭素数2〜12のアルキレンであり、R102は炭素数1〜3のアルキルまたは水素であり、nは1〜30の整数である。)
(式(11)中、R111は環状構造を有してよい炭素数2〜12のアルキレンであり、R112は炭素数1〜3のアルキルまたは水素であり、nは1〜30の整数である。)
(式(12)中、R120のうちn個は式(12−1)であり、m個は式(12−2)であり、nは1〜3の整数、mは1〜3の整数を表し、n+mは4であり、R2は水素またはメチルであり、R3は水素またはメチルである)
これらの中でも、式(5)の化合物を用いると、得られる硬化膜の強度が高いので好ましい。
本発明のインクジェット用インクに含まれる重合性モノマー(B)は、ラジカル重合性を有している化合物であれば特に限定されないが、ヒドロキシを有する重合性モノマーであると得られる硬化膜の基材への密着性が高いので好ましい。ヒドロキシを有する重合性モノマーが単官能モノマーであると、インクジェット用インクとして必要な特性であるジェッティング性が良好であるので特に好ましい。
(式中、R21は環状構造を有してよい炭素数2〜12のアルキレンであり、R22は炭素数1〜3のアルキルまたは水素であり、nは1〜30の整数である。)
重合性モノマー(B)である多官能(メタ)アクリレートは、重合性モノマー(B)全体の20〜80重量%であると高感度と柔軟性のバランスがよいので好ましい。
本発明のインクジェット用インクに含まれる光重合開始剤(C)は、紫外線あるいは可視光線の照射によりラジカルを発生することのできる化合物であれば特に限定されない。光重合開始剤(C)の具体例としては、式(3)の化合物、式(4)の化合物、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−エチルアントラキノン、アセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−4’−イソプロピルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4,4’−ジ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,4,4’−トリ(t−ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2−(4’−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3’,4’−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2’,4’−ジメトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(2’−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4’−ペンチルオキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−[p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)]−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(2’−クロロフェニル)−s−トリアジン、1,3−ビス(トリクロロメチル)−5−(4’−メトキシフェニル)−s−トリアジン、2−(p−ジメチルアミノスチリル)ベンズオキサゾール、2−(p−ジメチルアミノスチリル)ベンズチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、3,3’−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)、2−(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、3−(2−メチル−2−ジメチルアミノプロピオニル)カルバゾール、3,6−ビス(2−メチル−2−モルホリノプロピオニル)−9−n−ドデシルカルバゾール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム等を挙げることができる。中でも式(3)の化合物または式(4)の化合物を使用すると、得られる硬化膜の難燃性が向上するので好ましい。
本発明のインクジェット用インクは、インクの吐出特性、保存安定性や、得られる硬化膜の耐久性等を向上させるために、溶媒、重合禁止剤、アルカリ可溶性ポリマー、エポキシ樹脂、着色剤等を含むことができる。これらの成分は1種の化合物であっても、2種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
本発明のインクジェット用インクは、インクの吐出特性を向上させるために溶媒を含んでもよい。本発明のインクジェット用インクに含まれる溶媒としては沸点が100℃以上の溶媒が好ましい。
本発明のインクジェット用インクにおいて、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含んでもよい。
本発明のインクジェット用インクはアルカリ可溶性ポリマーを含んでもよい。
アルカリ可溶性ポリマーを含むインクジェット用インクは、例えば、パターニングをインクジェットで行い、パターン以外の部分をエッチング等で処理した後に、パターンをアルカリで剥離する使用方法(エッチングレジスト)として使用することができる。
本発明のインクジェット用インクは、さらにエポキシ樹脂を含んでもよい。インクジェット用インクがエポキシ樹脂を含むと、インクを硬化して得られた硬化膜の耐久性が向上するため好ましい。
インクジェット用インクから形成される硬化膜の状態を検査する際に基板との識別を容易にするために、本発明のインクジェット用インクは、着色剤を重合性モノマー(B)100重量部に対し1〜50重量部程度含んでもよい。
本発明のインクジェット用インクは、必要な成分を混合して得られた溶液を、ろ過することにより調整するのが好ましい。ろ過には、例えばフッ素樹脂製のメンブレンフィルターなどが用いられる。
本発明のインクジェット用インクは、25℃における粘度が3〜300mPa・sであるとインクの吐出特性が良好となるので好ましい。25℃における粘度が20mPa・sを超える場合は、インクジェットヘッドを加熱して吐出時の粘度を下げると、より安定した吐出が可能になる。
本発明のインクジェット用インクは、−20〜20℃で保存すると粘度変化が小さく、保存安定性が良好である。
本発明のインクジェット用インクは、公知のインクジェット方法で塗布する工程を有するインクジェット塗布方法に用いることができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクを塗布させる方法、および、インクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布させる塗布方法等がある。インクジェット塗布方法を用いることにより、インクジェット用インクを予め定められたパターン状にインクを塗布することができる。これによって、必要な箇所だけにインクを塗布でき、コストの削減となる。
塗布ヘッドとしては、例えば、金属および/または金属酸化物を含有する発熱部接液面を有するものである。前記金属および/または金属酸化物の具体例は、例えば、Ta、Zr、Ti、Ni、Al等の金属、および、これらの金属の酸化物等が挙げられる。
本発明の硬化膜は、公知のインクジェット塗布方法を用いて本発明のインクジェット用インクを基板の表面に吐出した後に、インクに紫外線や可視光線等の光を照射して得られる。光が照射された部分のインクはアクリルモノマーの重合により三次元化架橋体となって硬化し、インクの広がりを効果的に抑えられる。したがって、本発明のインクジェット用インクを用いると、高精細なパターンの描画が可能になる。インクジェット用インクの組成に依存するが、照射する光として紫外線を用いた場合には、照射する紫外線の量は、ウシオ電機(株)製の受光器UVD−365PDを取り付けた積算光量計UIT−201で測定して、10〜1,000mJ/cm2程度が好ましい。
4−ヒドロキシブチルアクリレート(以下、「4HBA」という)10.0g、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキシド(以下、「HCA」という)3.0g、トリフェニルフォスフィン0.2gを90℃で5時間加熱攪拌し、25℃での回転粘度が58mPa・sである合成液1を得た。
合成液1、リポキシHF−DPHA30(商品名;昭和高分子(株)製;ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとHCAとの付加反応物(式(5)の化合物)とプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの80:20(重量比)混合物;以下、「HF−DPHA」という)、ヒドロキシを有する単官能重合性モノマーとして4HBA、光重合開始剤として2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド[(チバスペシャリティーケミカルズ(株)製)DAROCUR(商品名)TPO;以下、「TPO」という]、エポキシ樹脂として三井化学(株)製のテクモア(商品名)VG3101L(以下、「VG3101L」という)]、および、重合禁止剤としてフェノチアジンを下記組成にて混合溶解し、0.2μmのフッ素樹脂製のメンブレンフィルターでろ過し、インクジェット用インク1を調製した。
HF−DPHA 45.00g
4HBA 15.00g
TPO 5.00g
VG3101L 2.00g
フェノチアジン 0.02g
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート;以下、「DPHA」という、ヒドロキシを有する単官能重合性モノマーとして4HBA、光重合開始剤としてTPO、エポキシ樹脂としてVG3101L、および、重合禁止剤としてフェノチアジンを下記組成にて混合溶解し、0.2μmのフッ素樹脂製のメンブレンフィルターでろ過し、インクジェット用インク2を調製した。
4HBA 110.00g
TPO 5.00g
VG3101L 2.00g
フェノチアジン 0.02g
Claims (11)
- 下記式(5)の構造を有する化合物(A)
および、
下記式(2)で表される重合性モノマー(B)、
- R21は環状構造を有してよい炭素数2〜12のアルキレンであり、R22はメチルまたは水素であり、nは1〜10の整数である請求項1に記載のインクジェット用インク。
- R21は環状構造を有してよい炭素数2〜12のアルキレンであり、R22はメチルまたは水素であり、nは1〜5の整数である請求項1に記載のインクジェット用インク。
- 重合性モノマー(B)が多官能重合性モノマーおよびヒドロキシを有している単官能モノマーを含有することを特徴とする請求項1に記載のインクジェット用インク。
- さらに光重合開始剤(C)を含有している請求項1〜4のいずれかに記載のインクジェット用インク。
- 光重合開始剤(C)が、下記式(3)または式(4)の化合物である請求項5に記載のインクジェット用インク。
- 光重合開始剤(C)が、式(3)中のR1、R3、R5、R6、R8およびR10がメチルであり、R2、R4、R7、R9、R11、R12、R13、R14およびR15が水素であるビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、あるいは式(4)中のR6、R8およびR10がメチルであり、R1、R2、R3、R4、R5、R7、R9、R11、R12、R13、R14およびR15が水素である2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイドのいずれかである請求項6に記載のインクジェット用インク。
- 下記式(5)の構造を有する化合物(A)、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレートからなる群から選ばれる1以上である重合性モノマー(B)、2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドあるいは2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイドから選ばれる1以上である光重合開始剤(C)とを含むインクジェット用インク。
- 請求項1〜8のいずれかに記載されたインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布してから光を照射することによって硬化膜を形成する工程を含む硬化膜形成方法。
- 請求項9に記載された硬化膜形成方法を用いて基板上に難燃性硬化膜が形成された電子回路基板。
- 請求項10に記載された電子回路基板を有する電子部品。
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