JP5163748B2 - 弾性波素子と、これを用いた電子機器 - Google Patents
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Description
本発明は、弾性波素子と、これを用いた電子機器に関する。
図１０は従来の弾性波素子の断面模式図である。図１０において、従来の弾性波素子１は、ニオブ酸リチウムからなる圧電体２と、圧電体２の上に配置されたＩＤＴ（Ｉｎｔｅｒｄｉｇｉｔａｌ Ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ）電極３と、ＩＤＴ電極３を覆うように圧電体２の上に配置された酸化ケイ素からなる第１誘電体層４と、第１誘電体層４の上に配置されて第１誘電体層４を伝搬する横波より速い横波が伝搬する媒質からなる第２誘電体層５と、を備える。
なお、この出願に関する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献１が知られている。
上記従来の弾性波素子１は、第１誘電体層４の膜厚、ＩＤＴ電極３の膜厚、基板のカット角を設計することにより、不要波であるストンリー波の電気機械結合係数を抑制していた。しかし、主要波であるＳＨ波の電気機械結合係数は小さく、最大でも０．１５しかない。このため、従来の弾性波素子１を例えばＵＭＴＳのバンドＩ等の広い送信受信帯域ギャップを有するデュプレクサに適用する場合、良好なフィルタ特性を得ることが困難であった。
本発明は、主要波の電気機械結合係数を向上させる。
弾性波素子は、圧電体と、前記圧電体の上に配置されたＩＤＴ電極と、前記ＩＤＴ電極を覆うように前記圧電体の上に配置されて前記圧電体とは逆の周波数温度特性を有する媒質からなる第１誘電体層と、前記第１誘電体層の上に配置されて前記第１誘電体層を伝搬する横波より速い横波が伝搬する媒質からなる第２誘電体層と、を備え、前記第１誘電体層は、前記ＩＤＴ電極の上方における前記第１誘電体層の上面に凸部を有し、前記圧電体と前記第１誘電体層との境界面と前記凸部の下端までの高さをｔ１とし、前記凸部の上端から前記凸部の下端までの高さをｔ２とし、前記ＩＤＴ電極の膜厚をｈとし、前記ＩＤＴ電極で励振される主要波の波長をλとしたとき、０．２５λ≦ｔ１≦０．２８λ、かつ、０＜ｔ２≦１．５ｈ、又は、０．２８λ＜ｔ１≦０．３λ、かつ、０＜ｔ２≦０．５８ｈを満たすことを特徴とする。
本発明の弾性波素子は、上記凸部により、主要波であるＳＨ波の電気機械結合係数が大きくなり、弾性波素子を例えばＵＭＴＳのバンドＩ等の広い送信受信帯域ギャップを有するデュプレクサに適用する場合、良好なフィルタ特性を得ることが容易となる。
（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１に係る弾性波素子の断面模式図である。図１において、弾性波素子６は、圧電体７と、この圧電体７の上に配置されたＩＤＴ電極８と、ＩＤＴ電極８を覆うように圧電体７の上に配置された酸化ケイ素からなる第１誘電体層９と、この第１誘電体層９の上に配置されて第１誘電体層９を伝搬する横波より速い横波が伝搬する媒質からなる第２誘電体層１０と、を備える。第１誘電体層９は、ＩＤＴ電極８の上方における第１誘電体層９の上面に凸部１１を有する。ここで、凸部１１のピッチ幅をＬとし、ＩＤＴ電極８のピッチ幅をｐとした場合、Ｌ≒ｐを満たしている。
図１は本発明の実施の形態１に係る弾性波素子の断面模式図である。図１において、弾性波素子６は、圧電体７と、この圧電体７の上に配置されたＩＤＴ電極８と、ＩＤＴ電極８を覆うように圧電体７の上に配置された酸化ケイ素からなる第１誘電体層９と、この第１誘電体層９の上に配置されて第１誘電体層９を伝搬する横波より速い横波が伝搬する媒質からなる第２誘電体層１０と、を備える。第１誘電体層９は、ＩＤＴ電極８の上方における第１誘電体層９の上面に凸部１１を有する。ここで、凸部１１のピッチ幅をＬとし、ＩＤＴ電極８のピッチ幅をｐとした場合、Ｌ≒ｐを満たしている。
圧電体７は、例えば、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、又はニオブ酸カリウム系の圧電基板からなる。
ＩＤＴ電極８は、例えば銅（比重８．９５）、若しくは銅を主成分とする金属であるが、これに限るものではない。
第１誘電体層９は、例えば、酸化ケイ素からなる。しかし、圧電体７とは逆の周波数温度特性を有する媒質であればよい。これにより、周波数温度特性を向上することができる。
第２誘電体層１０は、第１誘電体層９を伝搬する横波の速度よりも速い横波が伝搬する媒質からなり、例えば、ダイアモンド、シリコン、窒化シリコン、窒化アルミニウム、または酸化アルミニウムである、また、この第２誘電体層１０の膜厚はＩＤＴ電極８のピッチ幅ｐの１．６倍以上である。これにより、主要波であるＳＨ波のエネルギーを、弾性波素子６の中に閉じ込めることができる。
弾性波素子６は、圧電体７と第１誘電体層９との境界面と凸部１１の下端までの高さをｔ１とし、凸部１１の上端から凸部１１の下端までの高さをｔ２とし、ＩＤＴ電極８の膜厚をｈとし、ＩＤＴ電極８で励振される主要波であるＳＨ波の波長をλとしたとき、ｔ１≦０．２８λ、かつ０＜ｔ２≦１．５ｈ、又は０．２８＜ｔ１≦０．３λ、かつ０＜ｔ２≦０．５８ｈを満たす。また、弾性波素子６は、凸部１１の下端の幅をＬ１とし、凸部１１の上端の幅をＬ２としたとき、Ｌ２≦Ｌ１を満たす。これらの条件を満たす場合に、特に、主要波であるＳＨ波の電気機械結合係数が大きくなり、弾性波素子６を例えばＵＭＴＳのバンドＩ等の広い送信受信帯域ギャップを有するデュプレクサに適用する場合、良好なフィルタ特性を得ることが容易となる。このことを以下、図２〜図６を用いて説明する。
図２は本発明の実施の形態１に係る弾性波素子の特性の説明図である。すなわち、第１誘電体層９の膜厚ｔ１が０．２５λの場合に凸部１１の高さｔ２を変化させたときの弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数の変化を示した図である。図２において、横軸は、（凸部の高さｔ２）／（ＩＤＴ電極の膜厚ｈ）であり、縦軸は主要波の電気機械結合係数である。
ここで、圧電体７として、２５度回転Ｙ板のニオブ酸リチウムを用い、ＩＤＴ電極８の膜厚が０．１λの銅を用い、第１誘電体層９として、膜厚ｔ１が０．２５λの酸化ケイ素を用い、第２誘電体層１０として、膜厚がλの窒化シリコンを用いた。なお、凸部１１の下端の幅Ｌ１は、ＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１と等しい。なお、ＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１の方向は、主要波の伝播方向と同じ方向である。
図２に示すように、凸部１１によって、弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数が向上する。特に、凸部１１の高さｔ２が０．０３８λ以上０．１５λ以下の場合、即ち、ＩＤＴ電極８の膜厚ｈの０．３８倍以上１．５倍以下の場合に、弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数が更に向上する。
図３は本発明の実施の形態１に係る弾性波素子の特性の説明図である。すなわち、第１誘電体層９の膜厚ｔ１が０．２８λの場合に凸部１１の高さｔ２を変化させたときの弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数の変化を示した図である。図３において、横軸は、（凸部の高さｔ２）／（ＩＤＴ電極の膜厚ｈ）であり、縦軸は主要波の電気機械結合係数である。
ここで、図２の場合と同様に、圧電体７として、２５度回転Ｙ板のニオブ酸リチウムを用い、ＩＤＴ電極８の膜厚が０．１λの銅を用い、第１誘電体層９として、膜厚ｔ１が０．２８λの酸化ケイ素を用い、第２誘電体層１０として、膜厚がλの窒化シリコンを用いた。なお、凸部１１の下端の幅Ｌ１及び凸部１１の上端の幅Ｌ２は、ＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１と等しい。
図３に示すように、凸部１１の高さｔ２が０．１５λ以下の場合、即ち、ＩＤＴ電極８の膜厚ｈの１．５倍以下の場合に、弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数が向上する。
図４は、本発明の実施の形態１に係る弾性波素子の特性の説明図である。すなわち、第１誘電体層９の膜厚ｔ１が０．３λの場合に凸部１１の高さｔ２を変化させたときの弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数の変化を示した図である。図４において、横軸は、（凸部の高さｔ２）／（ＩＤＴ電極の膜厚ｈ）であり、縦軸は主要波の電気機械結合係数である。
ここで、図２の場合と同様に、圧電体７として、２５度回転Ｙ板のニオブ酸リチウムを用い、ＩＤＴ電極８の膜厚が０．１λの銅を用い、第１誘電体層９として、膜厚ｔ１が０．３λの酸化ケイ素を用い、第２誘電体層１０として、膜厚がλの窒化シリコンを用いた。なお、凸部１１の下端の幅Ｌ１及び凸部１１の上端の幅Ｌ２は、ＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１と等しい。
図４に示すように、凸部１１の高さｔ２が０．０５８λ以下の場合、即ち、ＩＤＴ電極８の膜厚ｈの０．５８倍以下の場合に、弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数が向上する。
図５は、本発明の実施の形態１に係る弾性波素子の特性の説明図である。すなわち、第１誘電体層９の膜厚ｔ１が０．４λの場合に凸部１１の高さｔ２を変化させたときの弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数の変化を示した図である。図５において、横軸は、（凸部の高さｔ２）／（ＩＤＴ電極の膜厚ｈ）であり、縦軸は主要波の電気機械結合係数である。
ここで、図２の場合と同様に、圧電体７として、２５度回転Ｙ板のニオブ酸リチウムを用い、ＩＤＴ電極８の膜厚が０．１λの銅を用い、第１誘電体層９として、膜厚ｔ１が０．４λの酸化ケイ素を用い、第２誘電体層１０として、膜厚がλの窒化シリコンを用いた。なお、凸部１１の下端の幅Ｌ１及び凸部１１の上端の幅Ｌ２は、ＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１と等しい。
図５に示すように、凸部１１の高さｔ２が如何なる値であろうとも、凸部１１によって、弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数は低下する。
図２〜図５からわかるように、圧電体７と第１誘電体層９との境界面と凸部１１の下端までの高さｔ１が０．２５λ以上０．２８λ以下の場合は、凸部の高さｔ２がＩＤＴ電極８の膜厚ｈの１．５倍以下のときに、又はｔ１が０．２８λより大きく０．３λ以下の場合は、ｔ２がｈの０．５８倍以下のときに、主要波であるＳＨ波の電気機械結合係数が向上する。
図６は、本発明の実施の形態１に係る弾性波素子の特性の説明図である。すなわち、第１誘電体層９の膜厚ｔ１が０．２５λであって、凸部１１の下端の幅Ｌ１及び凸部１１の上端の幅Ｌ２がＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１の０．３２倍、０．６倍、１倍、１．４倍、及び１．８倍の場合に、凸部１１の高さｔ２を変化させたときの弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数の変化を示した図である。図６において、横軸は、（凸部の高さｔ２）／（ＩＤＴ電極の膜厚ｈ）であり、縦軸は主要波の電気機械結合係数である。
ここで、図２の場合と同様に、圧電体７として、２５度回転Ｙ板のニオブ酸リチウムを用い、ＩＤＴ電極８の膜厚が０．１λの銅を用い、第１誘電体層９として、膜厚ｔ１が０．２５λの酸化ケイ素を用い、第２誘電体層１０として、膜厚がλの窒化シリコンを用いた。
図６に示すように、凸部１１の下端の幅Ｌ１がＩＤＴ電極の電極指の幅ｐ１より大きくとも小さくとも、０＜ｔ１≦０．２８λ、かつ０＜ｔ２≦１．５ｈ、又は、０．２８＜ｔ１≦０．３λ、かつ０＜ｔ２≦０．５８ｈという条件のもと、主要波であるＳＨ波の電気機械結合係数が向上する。なお、凸部１１の下端の幅Ｌ１がＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１の０．５倍より小さい場合、例えば、凸部１１の下端の幅Ｌ１がＩＤＴ電極の電極指の幅ｐ１の０．３２倍の場合、主要波であるＳＨ波の電気機械結合係数は低下する。
図７は、本発明の実施の形態１に係る弾性波素子の特性の説明図である。すなわち、凸部１１の下端の幅Ｌ１と上端の幅Ｌ２の関係がＬ２＜Ｌ１を満たすと凸部１１が上に向かい細くなる弾性波素子６の特性を示す。
図７において、第１誘電体層９の膜厚ｔ１が０．２５λであって、凸部１１の下端の幅Ｌ１がＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１の０．６倍かつ凸部１１の上端の幅Ｌ２がＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１の０．３倍、凸部１１の下端の幅Ｌ１がＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１の１倍かつ凸部１１の上端の幅Ｌ２がＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１の０．５倍、凸部１１の下端の幅Ｌ１がＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１の１．４倍かつ凸部１１の上端の幅Ｌ２がＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１の０．７倍、及び凸部１１の下端の幅Ｌ１がＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１の１．８倍かつ凸部１１の上端の幅Ｌ２がＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１の０．９倍の場合に、凸部１１の高さｔ２を変化させたときの弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数の変化を示す。図７の横軸は、（凸部の高さｔ２）／（ＩＤＴ電極の膜厚ｈ）であり、図７の縦軸は主要波の電気機械結合係数である。
ここで、図２の場合と同様に、圧電体７として、２５度回転Ｙ板のニオブ酸リチウムを用い、ＩＤＴ電極８の膜厚が０．１λの銅を用い、第１誘電体層９として、膜厚ｔ１が０．２５λの酸化ケイ素を用い、第２誘電体層１０として、膜厚がλの窒化シリコンを用いた。この場合、特に、凸部１１の下端の幅Ｌ１がＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１より大きい場合、凸部の形状がＬ２＜Ｌ１である弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数は、凸部の形状がＬ１＝Ｌ２である弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数より更に大きくなる。
なお、第１誘電体層９の上記形状を得る方法として、弾性波素子６の製造工程において、圧電体７側にバイアスを印加しながらスパッタリングで成膜を行う、いわゆるバイアス(Ｂｉａｓ)スパッタリング法が挙げられる。
例えば、酸化ケイ素のターゲットをスパッタリングすることにより圧電体７上に第１誘電体層９を堆積させると同時に、バイアスにより圧電体７上の第１誘電体層９の一部をスパッタリングする。すなわち、第１誘電体層９を堆積させながら一部を削ることにより、第１誘電体層９の形状をコントロールする。その際、第１誘電体層９の形状をコントロールする手段としては、第１誘電体層９を堆積させる途中で圧電体７に印加するバイアスとスパッタリング電力の比を変化させたり、成膜の初期は圧電体７にバイアスをかけずに成膜し、途中から成膜と同時にバイアスを印加したりすればよい。この際、圧電体２１の温度についても管理を行う。
図８は本発明の実施の形態１に係る弾性波素子の他の断面模式図である。図８において、凸部１１の上端の幅Ｌ２を、ＩＤＴ電極８の電極指の幅Ｐ１よりも小さくすることにより、弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数が更に大きくなる。また、第１誘電体層９の質量付加効果によるＩＤＴ電極８の反射率が高まり、弾性波素子６の電気的特性が向上する。
なお、その凸部１１の上端から下端にかけて下に凸な曲線となる凹凸形状を有することが望ましい。これにより、凸部１１における第１の誘電体層９の質量付加が連続的かつ緩やかに変化する。その結果、第１の誘電体層９の形状に起因する不要な反射を発生させることを抑制しつつ、弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数を向上することができる。
また、凸部１１の上端の幅は、さらにＩＤＴ電極８の電極指幅の１／２以下であることが望ましい。さらに、凸部１１の上端の中心位置は、ＩＤＴ電極８の電極指の中心位置の上方に略一致していることが望ましい。これにより、弾性波素子５の電気的特性が更に向上する。
また、凸部１１の高さをｔ２、ＩＤＴ電極８の膜厚をｈとしたときに、０．１８λ＜ｔ２≦ｈを満たすことが望ましい。これは、図７に示すように、０．６≦Ｌ１／ｐ１≦１．８の場合、ｔ２が０．１８λ以上で、第１誘電体層９の表面をフラットにしたものに対して主要波の電気機械結合係数が向上するからである。
一方、ＩＤＴ電極８の膜厚ｈより高くすると、さらに、この第１誘電体層９を作成するための新たな工程を追加することが必要となり、製造方法が煩雑となる。
上記ではＩＤＴ電極８を銅を主成分とする金属で説明したが、ＩＤＴ電極８は、銅に限るものではない。
図９は本発明の実施の形態１に係る弾性波素子の特性の説明図である。すなわち、ＩＤＴ電極８がモリブデン（比重１０．２２）である場合について、第１誘電体層９の膜厚ｔ１が０．２５λ、０．２８λ、０．３λの場合に凸部１１の高さｔ２を変化させたときの弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数の変化を示した図である。図９において、横軸は、（凸部の高さｔ２）／（ＩＤＴ電極の膜厚ｈ）であり、縦軸は主要波の電気機械結合係数である。
ここで、圧電体７として、２５度回転Ｙ板のニオブ酸リチウムを用い、ＩＤＴ電極８の膜厚が０．１λのモリブデンを用い、第１誘電体層９として、膜厚ｔ１が０．２８λの酸化ケイ素を用い、第２誘電体層１０として、膜厚がλの窒化シリコンを用いた。なお、凸部１１の下端の幅Ｌ１及び凸部１１の上端の幅Ｌ２は、ＩＤＴ電極８の電極指の幅ｐ１と等しい。このように、ＩＤＴ電極が銅以外の例えばモリブデンの場合も、弾性波素子６の主要波の電気機械結合係数が向上する。
なお、本実施の形態１の弾性波素子６を共振器（図示せず）に適用しても構わないし、ラダー型フィルタもしくはＤＭＳフィルタ等のフィルタ（図示せず）に適用しても構わない。さらに、弾性波素子６を、このフィルタと、フィルタに接続された半導体集積回路素子（図示せず）と、半導体集積回路素子（図示せず）に接続されたスピーカや表示部等の再生装置とを備えた電子機器に適用しても良い。これにより、共振器、フィルタ、及び電子機器における通信品質を向上することができる。
本発明に係る弾性波素子は、主要波の電気機械結合係数が大きくなるという特徴を有し、携帯電話等の電子機器に適用可能である。
６ 弾性波素子
７ 圧電体
８ ＩＤＴ電極
９ 第１誘電体層
１０ 第２誘電体層
１１ 凸部
７ 圧電体
８ ＩＤＴ電極
９ 第１誘電体層
１０ 第２誘電体層
１１ 凸部
Claims (6)
- 圧電体と、
前記圧電体の上に配置されたＩＤＴ電極と、
前記ＩＤＴ電極を覆うように前記圧電体の上に配置されて前記圧電体とは逆の周波数温度特性を有する媒質からなる第１誘電体層と、
前記第１誘電体層の上に配置されて前記第１誘電体層を伝搬する横波より速い横波が伝搬する媒質からなる第２誘電体層と、を備え、
前記第１誘電体層は、前記ＩＤＴ電極の上方における前記第１誘電体層の上面に凸部を有し、
前記圧電体と前記第１誘電体層との境界面と前記凸部の下端までの高さをｔ１とし、
前記凸部の上端から前記凸部の下端までの高さをｔ２とし、
前記ＩＤＴ電極の膜厚をｈとし、
前記ＩＤＴ電極で励振される主要波の波長をλとしたとき、
０．２５λ≦ｔ１≦０．２８λ、かつ、０＜ｔ２≦１．５ｈ、
又は、
０．２８λ＜ｔ１≦０．３λ、かつ、０＜ｔ２≦０．５８ｈ
を満たす弾性波素子。 - 圧電体と、
前記圧電体の上に配置されたＩＤＴ電極と、
前記ＩＤＴ電極を覆うように前記圧電体の上に配置された酸化ケイ素からなる第１誘電体層と、
前記第１誘電体層の上に配置されて前記第１誘電体層を伝搬する横波より速い横波が伝搬する媒質からなる第２誘電体層と、を備え、
前記第１誘電体層は、前記ＩＤＴ電極の上方における前記第１誘電体層の上面に凸部を有し、
前記圧電体と前記第１誘電体層との境界面と前記凸部の下端までの高さをｔ１とし、
前記凸部の上端から前記凸部の下端までの高さをｔ２とし、
前記ＩＤＴ電極の膜厚をｈとし、
前記ＩＤＴ電極で励振される主要波の波長をλとしたとき、
０．２５λ≦ｔ１≦０．２８λ、かつ、０＜ｔ２≦１．５ｈ、
又は、
０．２８λ＜ｔ１≦０．３λ、かつ、０＜ｔ２≦０．５８ｈ
を満たす弾性波素子。 - 前記第２誘電体層の膜厚は、ＩＤＴ電極のピッチ幅ｐの１．６倍以上である
請求項１又は請求項２に記載の弾性波素子。 - 前記ＩＤＴ電極の電極指の幅をｐ１とし、前記凸部の下端の幅をＬ１としたとき、
０．６≦Ｌ１／ｐ１≦１．８
を満たす
請求項１又は請求項２に記載の弾性波素子。 - 前記凸部の上端の幅をＬ２としたとき、Ｌ２＜Ｌ１を満たす
請求項１又は請求項２に記載の弾性波素子。 - 請求項１又は請求項２に記載の弾性波素子と、
前記弾性波素子に接続された半導体集積回路素子と、
前記半導体集積回路素子に接続された再生装置と、を備えた
電子機器。
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9441885B2 (en) | 2011-04-18 | 2016-09-13 | Bradley Fixtures Corporation | Lavatory with dual plenum hand dryer |
| US9758953B2 (en) | 2012-03-21 | 2017-09-12 | Bradley Fixtures Corporation | Basin and hand drying system |
| US10041236B2 (en) | 2016-06-08 | 2018-08-07 | Bradley Corporation | Multi-function fixture for a lavatory system |
| US10100501B2 (en) | 2012-08-24 | 2018-10-16 | Bradley Fixtures Corporation | Multi-purpose hand washing station |
| US11015329B2 (en) | 2016-06-08 | 2021-05-25 | Bradley Corporation | Lavatory drain system |
| JP7454794B2 (ja) | 2020-06-30 | 2024-03-25 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 水栓の吐水部構造およびそれを備える水栓 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5690711B2 (ja) * | 2011-12-28 | 2015-03-25 | スカイワークス・パナソニック フィルターソリューションズ ジャパン株式会社 | 弾性波素子 |
| DE102014118000A1 (de) * | 2014-12-05 | 2016-06-09 | Epcos Ag | Anordnung mit einem DMS Filter und steiler rechter Flanke |
| US10355668B2 (en) * | 2015-01-20 | 2019-07-16 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Acoustic wave device |
| CN107251428B (zh) * | 2015-03-27 | 2020-10-23 | 株式会社村田制作所 | 弹性波装置、通信模块设备以及弹性波装置的制造方法 |
| WO2018092470A1 (ja) * | 2016-11-17 | 2018-05-24 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置 |
| WO2018193830A1 (ja) * | 2017-04-17 | 2018-10-25 | 株式会社村田製作所 | 弾性波装置、高周波フロントエンド回路及び通信装置 |
| KR102431434B1 (ko) * | 2018-12-28 | 2022-08-11 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | 필터 장치 및 멀티플렉서 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998052279A1 (fr) * | 1997-05-12 | 1998-11-19 | Hitachi, Ltd. | Dispositif a onde elastique |
| JP2004207996A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品およびこの電子部品を用いた電子機器 |
| JP2004222267A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-08-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品およびこの電子部品を用いた電子機器 |
| WO2006003933A1 (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 電子部品およびその製造方法 |
| JP2007267366A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-10-11 | Fujitsu Media Device Kk | 弾性境界波素子、共振器およびフィルタ |
| JP2008079227A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Fujitsu Media Device Kk | フィルタおよび分波器 |
| WO2008078481A1 (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 弾性境界波装置 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996004713A1 (fr) * | 1994-08-05 | 1996-02-15 | Japan Energy Corporation | Dispositif a ondes acoustiques de surface et procede de production |
| CN100517963C (zh) * | 2002-12-25 | 2009-07-22 | 松下电器产业株式会社 | 电子部件以及采用该电子部件的电子器械 |
| US7538636B2 (en) | 2002-12-25 | 2009-05-26 | Panasonic Corporation | Electronic part with a comb electrode and protective film and electronic equipment including same |
| JP2004254291A (ja) * | 2003-01-27 | 2004-09-09 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波装置 |
| JP2007202087A (ja) * | 2005-05-11 | 2007-08-09 | Seiko Epson Corp | ラム波型高周波デバイス |
| US7619347B1 (en) * | 2005-05-24 | 2009-11-17 | Rf Micro Devices, Inc. | Layer acoustic wave device and method of making the same |
| US7471171B2 (en) | 2006-02-28 | 2008-12-30 | Fujitsu Media Devices Limited | Elastic boundary wave device, resonator, and filter |
| JP4975377B2 (ja) * | 2006-06-06 | 2012-07-11 | 太陽誘電株式会社 | 弾性境界波素子、共振器およびフィルタ |
| JP2008067289A (ja) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Fujitsu Media Device Kk | 弾性波デバイスおよびフィルタ |
| JP4943787B2 (ja) * | 2006-09-13 | 2012-05-30 | 太陽誘電株式会社 | 弾性波デバイス、共振器およびフィルタ |
| JP2008109413A (ja) * | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Fujitsu Media Device Kk | 弾性波デバイスおよびフィルタ |
| JP2010011440A (ja) * | 2008-05-30 | 2010-01-14 | Hitachi Ltd | 弾性波装置及びそれを用いた高周波フィルタ |
| JP2010193429A (ja) * | 2009-01-26 | 2010-09-02 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性波装置 |
| US8294330B1 (en) * | 2009-03-31 | 2012-10-23 | Triquint Semiconductor, Inc. | High coupling, low loss saw filter and associated method |
-
2009
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Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998052279A1 (fr) * | 1997-05-12 | 1998-11-19 | Hitachi, Ltd. | Dispositif a onde elastique |
| JP2004207996A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-07-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品およびこの電子部品を用いた電子機器 |
| JP2004222267A (ja) * | 2002-12-25 | 2004-08-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子部品およびこの電子部品を用いた電子機器 |
| WO2006003933A1 (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 電子部品およびその製造方法 |
| JP2007267366A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-10-11 | Fujitsu Media Device Kk | 弾性境界波素子、共振器およびフィルタ |
| JP2008079227A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Fujitsu Media Device Kk | フィルタおよび分波器 |
| WO2008078481A1 (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 弾性境界波装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9441885B2 (en) | 2011-04-18 | 2016-09-13 | Bradley Fixtures Corporation | Lavatory with dual plenum hand dryer |
| US9758953B2 (en) | 2012-03-21 | 2017-09-12 | Bradley Fixtures Corporation | Basin and hand drying system |
| US10100501B2 (en) | 2012-08-24 | 2018-10-16 | Bradley Fixtures Corporation | Multi-purpose hand washing station |
| US10041236B2 (en) | 2016-06-08 | 2018-08-07 | Bradley Corporation | Multi-function fixture for a lavatory system |
| US11015329B2 (en) | 2016-06-08 | 2021-05-25 | Bradley Corporation | Lavatory drain system |
| JP7454794B2 (ja) | 2020-06-30 | 2024-03-25 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 水栓の吐水部構造およびそれを備える水栓 |
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