JP5154991B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
すなわち、従来の装置は、上下ノズルの流量比によっては、液中のパーティクル排出能力が悪化することがあるという問題がある。
すなわち、請求項1に記載の発明は、処理液により基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、基板を保持する保持部を備え、前記処理槽の上方にあたる待機位置と、前記処理槽の内部にあたる処理位置とにわたって昇降可能なリフタと、前記処理槽の底部両側に配設され、処理液を供給する下ノズルと、前記下ノズルの上方、かつ、前記リフタが処理位置にある状態において前記保持部よりも上に配設され、前記リフタの保持部に向けて処理液を供給する上ノズルと、前記上ノズルと前記下ノズルとの流量比を処理に応じて調整する制御手段と、を備えていることを特徴とするものである。
図1は、本発明に係る基板処理装置の処理槽周りの概略構成を示す縦断面図であり、図2は、本発明に係る基板処理装置の処理槽中における処理液の流れを示した模式図である。
図5を参照して実施例に係る基板処理装置の構成について説明する。なお、図5は、実施例に係る基板処理装置の概略構成を示すブロック図である。
上述した基板処理装置を用いて基板Wを洗浄処理する例について以下に説明する。なお、図6は、洗浄処理例を示したフローチャートである。
制御部47は、処理対象の基板Wを保持したリフタ9を待機位置から処理位置に移動させる。
制御部47は、既にオペレータにより指示されたレシピに基づき処理を判断し、その処理に応じた流量比をメモリ49から読み出して、流量調整弁23,25を設定する。具体的には、上ノズル13と下ノズル11の流量比が1:2となるように設定する。
流量調整弁16を閉止したまま、流量調整弁36,37を調整して、硫酸と過酸化水素水の混合溶液(SPM)を生成して内槽3に供給する。このとき、内槽3に供給されるSPMは、上ノズル13と下ノズル11の流量比が1:2とされている。内槽3から溢れたSPMは、外槽5に回収されるとともに、排液管43を通して排出される。
レシピで規定された所定の時間が経過するまで、内槽3にSPMの供給を継続する。
SPMによる処理を終えると、制御部47は、流量調整弁36,37を閉止する。さらに、制御部47は、流量調整弁16を調整して純水を内槽3に供給する。このときの上ノズル13と下ノズル11の流量比は1:2のままである。この状態を処理時間だけ維持することにより、内槽3内のSPMが純水で押し上げられて置換され、純水によってSPMが除去される。
純水による処理を終えた場合には、制御部47はリフタ9を処理位置から待機位置へと上昇させて処理を終える。
上述した基板処理装置を用いて基板をエッチング処理する例について以下に説明する。なお、図7は、エッチング処理例を示したフローチャートである。
制御部47は、処理対象の基板Wを保持したリフタ9を待機位置から内槽3内の処理位置に移動させる。
制御部47は、既にオペレータにより指示されているレシピに基づいて処理を判断し、その処理に応じた流量比をメモリ49から読み出して、流量調整弁23,25を設定する。具体的には、上ノズル13と下ノズル11の流量比が5:1となるように設定する。
制御部47は、流量調整弁16を所定流量に調整するとともに、流量調整弁35を調整して、所定濃度のフッ化水素酸溶液(HF)を生成して内槽3に供給する。このとき、内槽3に供給されるHFは、上ノズル13と下ノズル11の流量比が5:1とされている。内槽3から溢れたHFは、外槽5に回収されるとともに、排液管43を通して排出される。この状態は、レシピに規定された処理時間だけ維持される。
HFによる処理を終えると、制御部47は、流量調整弁35を閉止する。さらに、制御部47は、流量調整弁16を調整して純水を内槽3に供給する。このときの上ノズル13と下ノズル11の流量比は5:1のままである。この状態を処理時間だけ維持することにより、内槽3内のHFが純水で攪拌されつつ置換され、純水によってHFが除去される。この状態は、レシピに規定された処理時間だけ維持される。
制御部47は、流量調整弁16を閉止するとともに、流量調整弁38を調整して、所定濃度のSC1を内槽3に供給する。このとき、内槽3に供給されるSC1は、上ノズル13と下ノズル11の流量比が5:1とされている。内槽3から溢れたSC1は、外槽5に回収されるとともに、排液管43を通して排出される。この状態は、レシピに規定された処理時間だけ維持される。
SC1による処理を終えると、制御部47は、流量調整弁38を閉止する。さらに、制御部47は、流量調整弁16を調整して純水を内槽3に供給する。この状態を処理時間だけ維持することにより、内槽3内のSC1が純水で攪拌されつつ置換され、純水によってSC1が除去される。この状態は、レシピに規定された処理時間だけ維持される。
制御部47は、流量調整弁16を所定流量に調整するとともに、流量調整弁39を調整して、所定濃度のSC2を内槽3に供給する。このとき、内槽3に供給されるSC2は、上ノズル13と下ノズル11の流量比が5:1とされている。内槽3から溢れたSC2は、外槽5に回収されるとともに、排液管43を通して排出される。この状態は、レシピに規定された処理時間だけ維持される。
SC2による処理を終えると、制御部47は、流量調整弁39を閉止するとともに、流量調整弁16を所定流量に調整して純水を内槽3に供給する。この状態を処理時間だけ維持することにより、内槽3内のSC2が純水で攪拌されつつ置換され、純水によりSC2が除去される。この状態は、レシピに規定された処理時間だけ維持される。
純水による処理を終えた場合には、制御部47はリフタ9を処理位置から待機位置へと上昇させて処理を終える。
1 … 処理槽
3 … 内槽
5 … 外槽
7 … 保持部
9 … リフタ
11 … 下ノズル
13 … 上ノズル
F1 … 液流
F2 … 液流
L … 距離
VT … 渦
23,25 … 流量調整弁
27 … ミキシングバルブ
47 … 制御部
49 … メモリ
Claims (5)
- 処理液により基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留する処理槽と、
基板を保持する保持部を備え、前記処理槽の上方にあたる待機位置と、前記処理槽の内部にあたる処理位置とにわたって昇降可能なリフタと、
前記処理槽の底部両側に配設され、処理液を供給する下ノズルと、
前記下ノズルの上方、かつ、前記リフタが処理位置にある状態において前記保持部よりも上に配設され、前記リフタの保持部に向けて処理液を供給する上ノズルと、
前記上ノズルと前記下ノズルとの流量比を処理に応じて調整する制御手段と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記制御手段は、処理液により基板に対して洗浄処理を行う場合には、前記流量比を1:5〜1:1の範囲で設定することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置において、
前記制御手段は、処理液により基板に対して洗浄処理を行う場合には、前記流量比を1:2に設定することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記制御手段は、処理液により基板に対してエッチング処理を行う場合には、前記流量比を5:1の範囲で設定することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記上ノズルは、液流が前記リフタの保持部に向かう姿勢で配設されていることを特徴とする基板処理装置。
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