JP5123605B2 - 透明電磁波シールド性シート - Google Patents
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Description
1)全光線透過率が10〜50%であること、及び
2)電界シールド性金属と磁界シールド性金属を個々に被覆した合成繊維により構成された織布、編布又は不織布からなる開口率5〜60%のシート状基布の両面に、難燃性付与剤を含む軟質塩化ビニル系樹脂からなる難燃性透明絶縁層を形成してなることを特徴とするものが報告されている(例えば、特許文献1参照。)。
しかし、上記ラミネートを行う際、凹凸のある金属が被覆された織布(厚みで50〜100μm)が積層されるため、合成樹脂フィルム表面にその凹凸が反映され、その結果、ある程度の光線透過率は維持されるものの、乱反射が多くなることから視認性が極めて悪くなるという問題があった。例えば、このシートを通して物体を観察した場合、シートより5cm以内に近接した物体の概要は把握できるものの、それ以上離れると、全く認識できない状態であった。即ち、透明な軟質合成樹脂フィルムが本来有する視認性の良さが損なわれるという欠点があった。
しかしこの場合、透視性を上げるためには金属蒸着膜の厚さを薄くする必要があるが、該金属蒸着膜の厚さを薄くすると電磁波シールド性が悪くなり、逆に、電磁波シールド性を上げるために金属蒸着膜の厚さを厚くすると、透視性が悪くなるという問題があった。
即ち、透視性と電磁波シールド性の両方を満足させる事が困難であった。
(1)第一の透明な軟質合成樹脂フィルムと、該フィルムの表面に設けた導電性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層の上に、無電解めっき法により形成されたパターニングされた金属めっき膜と、該金属めっき膜の上に重ね積層一体化された第二の透明な軟質合成樹脂フィルムとからなる透明電磁波シールド性シートであって、
上記パターニングされた金属めっき膜は、開口率が25ないし83%であり、厚さが0.1ないし3μmであることを特徴とする透明電磁波シールド性シート、
(2)自己粘着性を有する透明な軟質合成樹脂フィルムと、該フィルムの表面に設けた導電性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層の上に、無電解めっき法により形成されたパターニングされた金属めっき膜から構成されるめっきフィルムと、透明なガラス基板とが重ね合わされている透明電磁波シールド性構造体であって、
上記パターニングされた金属めっき膜は、開口率が25ないし83%であり、厚さが0.1ないし3μmであることを特徴とする透明電磁波シールド性構造体、
に関するものである。
また、透明な軟質合成樹脂フィルム上に形成されるパターニングされた金属めっき膜は、導電性高分子微粒子とバインダーを含むパターニングされた塗膜層に無電解めっきを行うことにより容易に形成することができる。
本発明の透明電磁波シールド性シートは、
第一の透明な軟質合成樹脂フィルムの表面に、還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層を設け、該塗膜層上に、無電解めっき法によりパターニングされた金属めっき膜を形成し、該金属めっき膜の上に第二の透明な軟質合成樹脂フィルムを重ねて積層一体化することにより製造する事ができる。
第一の透明な軟質合成樹脂フィルムの厚さは50ないし500μm程度とするのが望ましい。
尚、上記の製造方法により、塗膜層中に存在する還元性高分子微粒子は、上記触媒金属を還元・吸着させた際に導電性高分子微粒子となる。
また、還元性高分子微粒子としては、0.005S/cm以下の導電率を有する高分子微粒子が好ましい。
、酢酸ビニル、ABS樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等が挙げられる。
粒子に損傷を与えず、微粒子を分散させることができ、採用される印刷技術に使用し得る沸点、粘度等を有する有機溶媒であれば特に限定されるものではなく、高揮発性有機溶媒、低揮発性有機溶媒の何れの有機溶媒も使用し得る。
特に、低揮発性有機溶媒で粘度が30ないし1000cpsであるジヒドロターピネオール、ターピネオール等は、形成された塗膜層と基材フィルムとの密着強度を向上させやすいため好ましい。
上記増粘剤としては、有機溶媒との相溶性がよく、しかも、還元性高分子微粒子が有する触媒金属の吸着作用(還元作用)を阻害しないものであれば特に限定されるものではないが、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、ゴム等の高分子ポリマー等が好適に使用され得る。
具体的な方法としては、例えば、30ないし60℃の低い温度で長時間かけて乾燥したり、30ないし60℃の低い温度から徐々に温度を上げて乾燥したり、30ないし60℃の低い温度とこれより高い温度(例えば、100ないし130℃)の2段階、又はそれ以上の異なった温度(例えば、30ないし60℃→65ないし90℃→100ないし130℃)で乾燥することにより達成することができる。
塗膜層の厚さが20nm未満であると金属めっきが析出せず、また、塗膜層の厚みが500nmを超えると、第一の透明な軟質合成樹脂フィルムに対する密着性が悪くなり、フィルムの曲げ、屈曲に対して金属めっき膜(金属層)が追従せず、第一の透明な軟質合成樹脂フィルムから剥がれ易くなる。
尚、塗膜層の厚さは、塗料における固形成分の含有量を調節することにより調節することができるが、例えば、グラビア印刷を採用する場合は、その版目の深さによって調節することができる。
即ち、塗膜層が形成された第一の透明な軟質合成樹脂フィルムを塩化パラジウム等の触媒金属を付着させるための触媒液に浸漬した後、水洗等を行い、無電解めっき浴に浸漬することによりめっき物を得ることができる。
好ましい、具体的な触媒液としては、0.02%塩化パラジウム−0.01%塩酸水溶液(pH3)が挙げられる。
処理温度は、20ないし50℃、好ましくは30ないし40℃であり、処理時間は、0.1ないし20分、好ましくは、1ないし10分である。
上記の操作により、塗膜層中の還元性高分子微粒子は、結果的に、導電性高分子微粒子となる。
めっき液としては、通常、無電解めっきに使用されるめっき液であれば、特に限定されない。
即ち、無電解めっきに使用できる金属、銅、金、銀、ニッケル、クロム等、全て適用することができるが、銅が好ましい。
無電解銅めっき浴の具体例としては、例えば、ATSアドカッパーIW浴(奥野製薬工業(株)社製)等が挙げられる。
処理温度は、20ないし50℃、好ましくは30ないし40℃であり、処理時間は、1ないし30分、好ましくは、5ないし15分である。
金属めっき膜の厚さが0.1μm未満では、所望の電磁波シールド性が得られなくなり、3μmを超えると、第二の透明な軟質合成樹脂フィルムを積層して透明電磁波シールド性シートを製造した際、透明電磁波シールド性シートのラミネート強度が低下し、金属めっき膜による凹凸がフィルム表面に反映されて乱反射が多くなり、結果として視認性が悪くなる。
尚、金属めっき膜の厚さは、無電解めっき操作のめっき浴中における浸漬時間により容易にコントロールすることができる。
開口率が25%未満では、透明電磁波シールド性シートのラミネート強度が低下し且つ視認性が低下し、83%を超えると所望の電磁波シールド性が得られなくなる。
尚、パターニングされた金属めっき膜における開口率は、還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗料を用いて塗膜層を形成する際に設定される、印刷パターンのL/S(線幅/線間)により容易にコントロールすることができる。
積層される第二の透明な軟質合成樹脂フィルムは、金属めっき膜が形成された第一の透明な軟質合成樹脂フィルムと同一の材質でも異なる材質でもよく、透明な軟質の合成樹脂として一般に使用されているものであれば特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂などの共重合樹脂などが挙げられる。
積層される第二の透明な軟質合成樹脂フィルムの厚さは50ないし500μm程度とするのが望ましい。
上記接着剤としては、一般に使用されている接着剤であれば特に限定されないが、例えば、アクリル樹脂系、塩化ビニル樹脂系、ポリウレタン系、ポリエステル系の接着剤を使用する事ができる。
積層方法は、操作の簡便さの観点から加熱圧着が好ましい。
自己粘着性を有する透明な軟質合成樹脂フィルムの厚さは50ないし500μm程度とするのが望ましい。
パターニングされた金属めっき膜は、上述と同様の方法・条件・操作により形成する事ができる。
金属めっき膜の厚さが0.1μm未満では、所望の電磁波シールド性が得られなくなり、3μmを超えると、ガラス基板へ貼り付けた際の密着強度が低下し、更に、金属めっき膜による凹凸がフィルム表面に反映されて乱反射が多くなり、結果として視認性が悪くなる。
尚、金属めっき膜の厚さは、無電解めっき操作のめっき浴中における浸漬時間により容易にコントロールすることができる。
開口率が25%未満では、ガラス基板へ貼り付けた際の密着強度が低下し且つ視認性が低下し、83%を超えると所望の電磁波シールド性が得られなくなる。
尚、パターニングされた金属めっき膜における開口率は、還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗料を用いて塗膜層を形成する際に設定される、印刷パターンのL/S(線幅/線間)により容易にコントロールすることができる。
尚、上記パターニングされた金属めっき膜が形成された自己粘着性を有する透明な軟質合成樹脂フィルムは、透明なガラス基板以外にも種々の基材に貼り付けて使用することもできる。
高分子微粒子(ポリピロール)はイオン化される、即ち、パラジウムによりドーピングされた状態となり、結果として導電性を発現する。
このように導電性を発現した高分子微粒子(ポリピロール)の上層に金属めっき膜を形成することにより、より電磁波遮蔽性能が向上することが確認された。
これにより、本発明の透明電磁波シールド性シートは、著しく薄い金属めっき膜においても高度の電磁波遮蔽性を得る事ができる。
上記還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗料に使用する還元性高分子微粒子は、
1)有機溶媒と水とアニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤とを混合撹拌してなるO/W型の乳化液中に、π−共役二重結合を有するモノマーを添加し、該モノマーを酸化重合することにより製造する方法、又は
2)水性媒体中に可溶化できる量のπ−共役二重結合を有するモノマー、アニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤、および酸化剤を含む水性媒体において重合を開始し、そして、重合率が10〜60%となる時点で有機溶媒を該重合系に添加し更に重合を進行させることにより製造する方法等により達成することができる。
製法1)におけるπ−共役二重結合を有するモノマーとしては、還元性高分子微粒子を製造するために使用されるモノマーであれば特に限定されないが、例えば、ピロール、N−メチルピロール、N−エチルピロール、N−フェニルピロール、N−ナフチルピロール、N−メチル−3−メチルピロール、N−メチル−3−エチルピロール、N−フェニル−3−メチルピロール、N−フェニル−3−エチルピロール、3−メチルピロール、3−エチルピロール、3−n−ブチルピロール、3−メトキシピロール、3−エトキシピロール、3−n−プロポキシピロール、3−n−ブトキシピロール、3−フェニルピロール、3−トルイルピロール、3−ナフチルピロール、3−フェノキシピロール、3−メチルフェノキシピロール、3−アミノピロール、3−ジメチルアミノピロール、3−ジエチルアミノピロール、3−ジフェニルアミノピロール、3−メチルフェニルアミノピロール及び3−フェニルナフチルアミノピロール等のピロール誘導体、アニリン、o−クロロアニリン、m−クロロアニリン、p−クロロアニリン、o−メトキシアニリン、m−メトキシアニリン、p−メトキシアニリン、o−エトキシアニリン、m−エトキシアニリン、p−エトキシアニリン、o−メチルアニリン、m−メチルアニリン及びp−メチルアニリン等のアニリン誘導体、チオフェン、3−メチルチオフェン、3−n−ブチルチオフェン、3−n−ペンチルチオフェン、3−n−ヘキシルチオフェン、3−n−ヘプチルチオフェン、3−n−オクチルチオフェン、3−n−ノニルチオフェン、3−n−デシルチオフェン、3−n−ウンデシルチオフェン、3−n−ドデシルチオフェン、3−メトキシチオフェン、3−ナフトキシチオフェン及び3,4−エチレンジオキシチオフェン等のチオフェン誘導体が挙げられ、好ましくは、ピロール、アニリン、チオフェン及び3,4−エチレンジオキシチオフェン等が挙げられ、より好ましくはピロールが挙げられる。
特にポリピロールは、黒色であるため、フィルムの反射率を低下させて透視率を損なわないようにするために、塗料に別途黒色顔料、染料等を加える必要が無いという点でも好ましい。
疎水性末端を複数有するアニオン系界面活性剤の中でも、スルホコハク酸ジ−2−エチルヘキシルナトリウム(疎水性末端4つ)、スルホコハク酸ジ−2−エチルオクチルナトリウム(疎水性末端4つ)および分岐鎖型アルキルベンゼンスルホン酸塩(疎水性末端2つ)が好適に使用できる。
lに対し0.05mol未満であることが好ましく、さらに好ましくは0.005mol〜0.03molである。0.05mol以上では添加したアニオン性界面活性剤がドーパントとして作用し、得られる微粒子は導電性を発現するため、これを用いて無電解めっきを行うためには脱ドープの工程が必要となる。
(a)アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、有機溶媒および水を混合攪拌し乳化液を調製する工程、
(b)π−共役二重結合を有するモノマーを乳化液中に分散させる工程、
(c)モノマーを酸化重合させる工程、
(d)有機相を分液しポリマー微粒子を回収する工程。
製法2)は、水性媒体中に可溶化できる量のπ−共役二重結合を有するモノマー、アニオン系界面活性剤およびノニオン系界面活性剤、および酸化剤を含む水性媒体において重合を開始し、そして、重合率が10〜60%となる時点で有機溶媒を該重合系に添加し更に重合を進行させ、その後、層分離された2層のうちの有機溶媒層を回収することにより達成される。
特にポリピロールは、黒色であるため、フィルムの反射率を低下させて透視率を損なわ
ないようにするために、塗料に別途黒色顔料、染料等を加える必要が無いという点でも好ましい。
水性媒体中に可溶化できない量のπ−共役二重結合を有するモノマー(飽和濃度以上のπ−共役二重結合を有するモノマー)が添加されると、重合開始直後から塊状のポリマーが生成され、目的とする微粒子は得られない。また、π−共役二重結合を有するモノマーが1g/L以下では、重合反応が極めて遅くなり、所望する微粒子を得るまでの時間が長時間となることからあまり好ましくない。
疎水性末端を複数有するアニオン系界面活性剤の中でも、スルホコハク酸ジ−2−エチルヘキシルナトリウム(疎水性末端4つ)、スルホコハク酸ジ−2−エチルオクチルナトリウム(疎水性末端4つ)および分岐鎖型アルキルベンゼンスルホン酸塩(疎水性末端2つ)が好適に使用できる。
また、上記のアニオン界面活性剤は単独又は2種以上の混合物として使用することができる。
る。
使用する水性媒体の量は、使用するπ−共役二重結合を有するモノマーが可溶化できる量、即ち、前記で定義されたように、π−共役二重結合を有するモノマーの濃度が80g/L以下となる量であって、特に好ましくは、20g/Lないし1g/Lとなる量である。
尚、重合率は、ガスクロマトグラフィーを用いて残存モノマーを測定し、当初の添加モノマー量と残存モノマー量の比から容易に算出することができる。
即ち、ポリマーの粒径をあまり大きくせず、また、ポリマー粒子の凝集を起こさないためには、反応系中の残存モノマー(未反応のモノマー)量が、当初に添加したモノマー量の40〜90%が残存する時点で有機溶媒を添加することが重要であるといえる。
従って、有機溶媒の添加は、ポリマーの粒子径が100nm以下の時点で行うのが好ましい。
尚、ポリマーの平均粒子径は、レーザードップラー法により容易に測定することができる。
有機溶媒の使用量は、重合反応に使用する水の量に対して体積比で5ないし40%(v/v)が好ましく、特に好ましくは、10ないし25%(v/v)である。
5%(v/v)未満では、粒子密度が高くなるため分散性が悪くなり、結果として凝集が起こる。40%(v/v)を超える場合は相対的に粒子密度が低くなるため、粒子間の反発力が小さくなり、分散を保てなくなる。
(a)アニオン界面活性剤およびノニオン界面活性剤並びにπ−共役二重結合を有するモノマーを水に加えて混合攪拌する工程、
(b)酸化剤を加えて酸化重合を開始する工程、
(c)重合率が10〜60%となる時点で有機溶媒を添加する工程、
(d)混合攪拌して更に重合反応を進行させる工程、
(e)有機相を分液し有機溶媒層にナノ分散した還元性高分子微粒子を回収する工程。
製造例1:透明な軟質合成樹脂フィルム(基材フィルム)の製造
EVA ウルトラセン540(東ソー(株)社製)樹脂(エチレン酢酸ビニル共重合樹脂)を用いて、Tダイ押出機により、厚みが100μmのフィルムを得た。
アニオン性界面活性剤ペレックスOT−P(花王(株)社製)0.42mmol、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系ノニオン界面活性剤エマルゲン409P(花王(株)社製)2.1mmol、トルエン50mL、イオン交換水100mLを加えて20℃に保持しつつ乳化するまで撹拌した。得られた乳化液にピロールモノマー21.2mmolを加え、1時間撹拌し、次いで過硫酸アンモニウム6mmolを加えて2時間重合反応を行った。反応終了後、有機相を回収し、イオン交換水で数回洗浄して、トルエンに分散した還元性能を有する還元性ポリピロール微粒子を得た。
上記で得られたトルエン分散液中の還元性ポリピロール微粒子の固形分は、約1.3%であったが、ここに、バインダーA或いはバインダーBを加えて還元性ポリピロール微粒子を含む塗料を調製した。
また、ここでのバインダーA、Bは以下のものを意味し、また、バインダーの使用量は、還元性ポリピロール微粒子1質量部に対して、0.5質量部加えたものである。
A:スーパーベッカミンJ-820:メラミン系(大日本インキ化学工業(株)社製)・・・
架橋
B:バイロン240:ポリエステル系(東洋紡績(株)社製)・・・非架橋
製造例2で調製した塗料を、グラビア校正機(K303マルチコーター、松尾産業(株)社製)を用いて、幅30cm厚み100μmの製造例1で製造した基材フィルムに、格子状にL/S=0.2/0.5mm(開口率51%)、0.2/0.2mm(開口率25%)、0.2/2mm(開口率83%)、0.2/0.15mm(開口率18%)、0.2/3.2mm(開口率88%)になる様に印刷を施し、その後、120℃の乾燥オーブン中に10分間入れて乾燥し、乾燥膜厚が100nmの塗膜層が形成された基材フィルムを得た。
製造例3で製造した塗膜層が形成された種々の基材フィルムを、0.02%塩化パラジウム−0.01%塩酸水溶液中に35℃で5分間浸漬後、水道水で水洗した。次に、該フィルムを無電解銅めっき浴 ATSアドカッパーIW浴(奥野製薬工業(株)社製)に浸漬して、35℃で種々の時間浸漬して銅めっきを施し、種々の膜厚の金属めっき膜が形成された基材フィルムを得た。
製造例4で製造した種々の膜厚の金属めっき膜が形成された基材フィルムと、該フィルムとは別の製造例1で製造した透明な軟質合成樹脂フィルムとを、熱ラミネート法にてそれぞれ積層形成して、金属めっき膜厚及び開口率の異なる実施例1ないし9及び比較例1ないし4のシート(積層フィルム)を得た。
(実施例1ないし9及び比較例1ないし4のシートにおける金属めっき膜厚及び開口率は、表1に記載された通りである。)
上記で製造された実施例1ないし9及び比較例1ないし4のシートにおける、電磁波シールド性、視認性及びラミネート強度を測定し、その結果を表1に纏めた。各測定法を以下に示す。
<電磁波シールド性評価方法>
KEC法にて10MHzないし1GHzの周波数帯域で測定した結果の平均値を電磁波シールド性の値として示した。
<視認性のテスト方法>
MS明朝タイプの「あ」の文字をフォントサイズ500でA−4サイズの紙に印刷した。この印刷物の上に各シールドシートを載せ、この文字が明確に読み取れるまでの文字とシートの距離を測定した。
[判断基準]
10cm以内・・・・・×
1m以内・・・・・・・△
1m以上・・・・・・・○
<ラミネート強度>
ラミネートした後において、
浮き(air溜まり)がなく完全に一体化しているもの・・・・○
全体の1〜5%の部位に浮きがあるもの・・・・・・・・・・・△
全体の5%以上の浮きがあるもの・・・・・・・・・・・・・・×
表1
金属めっき膜の厚さが0.1μm未満である比較例1(0.05μm)のシートでは、所望の電磁波シールド性が得られなかった。
金属めっき膜の厚さが3μmを超える比較例2(4μm)のシートでは、視認性及びラミネート強度において優れるものではなかった。
開口率が25%未満である比較例3(18%)では、視認性及びラミネート強度において優れるものではなかった。
開口率が83%を超える比較例4(88%)では、電磁波シールド性に劣るものであった。
下記に示す組成の配合物をバンバリーミキサーで混練し、次いで最終ロール温度175℃のカレンダーで厚み0.2mmの自己粘着性塩化ビニル樹脂シートを製造した。
[組成]
塩化ビニル樹脂 100質量部
ジ−2−エチルヘキシルフタレート 55質量部
Ba−Zn系複合安定剤 2質量部
エポキシ化大豆油 2質量部
顔料 0.07質量部
製造例2で調製した塗料を、グラビア校正機(K303マルチコーター、松尾産業(株)社製)を用いて、幅30cm厚み200μmの製造例5で製造した自己粘着性塩化ビニ
ル樹脂シートに、格子状にL/S=0.2/0.5mm(開口率51%)、0.2/0.2mm(開口率25%)、0.2/2mm(開口率83%)、0.2/0.15mm(開口率18%)、0.2/3.2mm(開口率88%)になる様に印刷を施し、その後、120℃の乾燥オーブン中に10分間入れて乾燥し、乾燥膜厚が100nmの塗膜層が形成された自己粘着性塩化ビニル樹脂シートを得た。
製造例6で製造した塗膜層が形成された種々の自己粘着性塩化ビニル樹脂シートを、0.02%塩化パラジウム−0.01%塩酸水溶液中に35℃で5分間浸漬後、水道水で水洗した。次に、該フィルムを無電解銅めっき浴 ATSアドカッパーIW浴(奥野製薬工業(株)社製)に浸漬して、35℃で種々の時間浸漬して銅めっきを施し、種々の膜厚の金属めっき膜が形成された自己粘着性塩化ビニル樹脂シート(実施例10ないし18及び比較例5ないし8のシート)を得た。
(実施例10ないし18及び比較例5ないし8のシートにおける金属めっき膜厚及び開口率は、表2に記載された通りである。)
上記で製造された実施例10ないし18及び比較例5ないし8のシートを窓ガラスに貼り付けた際の、電磁波シールド性、視認性及び、ガラスへの密着強度を測定し、その結果を表2に纏めた。尚、電磁波シールド性及び視認性の測定法は、試験例1と同様である。
尚、ガラスへ貼り付けるシートの面は、めっき膜が形成された面、めっき膜が形成された面とは逆の面のいずれでもよいが、めっき膜が形成された面がこすれや空気による酸化から保護される観点に立つと、めっき膜が形成された面をガラスの表面に貼り付けることが望ましいため、下記のガラスへの密着強度の試験においては、めっき膜が形成された面をガラスの表面に貼り付けて評価した。
<ガラスへの密着強度>
×:浮きがあり、1時間以内に自重で落下もしくは剥がれが見られる。
△:やや浮きがあるが、自重では剥がれない。
○:浮きもなく自重では剥がれない。
表2
金属めっき膜の厚さが0.1μm未満である比較例5(0.05μm)のシートでは、所望の電磁波シールド性が得られなかった。
金属めっき膜の厚さが3μmを超える比較例6(4μm)のシートでは、視認性及びガラスへの密着強度において優れるものではなかった。
開口率が25%未満である比較例7(18%)では、視認性及びガラスへの密着強度において優れるものではなかった。
開口率が83%を超える比較例8(88%)では、電磁波シールド性に劣るものであった。
Claims (2)
- 第一の透明な軟質合成樹脂フィルムと、該フィルムの表面に設けた導電性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層の上に、無電解めっき法により形成されたパターニングされた金属めっき膜と、該金属めっき膜の上に重ね積層一体化された第二の透明な軟質合成樹脂フィルムとからなる透明電磁波シールド性シートであって、
前記塗膜層は、還元性高分子微粒子を含む塗膜層上に、触媒金属をそのイオンの還元により吸着させることにより得られる触媒金属が吸着された塗膜層であり、
上記パターニングされた金属めっき膜は、開口率が25ないし83%であり、厚さが0.1ないし3μmであることを特徴とする透明電磁波シールド性シート。 - 自己粘着性を有する透明な軟質合成樹脂フィルムと、該フィルムの表面に設けた導電性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層の上に、無電解めっき法により形成されたパターニングされた金属めっき膜から構成されるめっきフィルムと、透明なガラス基板とが重ね合わされている透明電磁波シールド性構造体であって、
前記塗膜層は、還元性高分子微粒子を含む塗膜層上に、触媒金属をそのイオンの還元により吸着させることにより得られる触媒金属が吸着された塗膜層であり、
上記パターニングされた金属めっき膜は、開口率が25ないし83%であり、厚さが0.1ないし3μmであることを特徴とする透明電磁波シールド性構造体。
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