JP5113016B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
2;チャンバ
3;載置台
5;基材
6;静電チャック
7;シールドリング
9;整流部材
9a;側壁
14;高周波電源
20;シャワーヘッド
28;処理ガス供給源
30;排気装置
33;覗き窓
41;セラミックス溶射皮膜
42;電極
44;直流電源
45;連結部材
47;回転軸
48;回転モータ
50;制御部
G;ガラス基板
62;抵抗部材
63:切り欠き部
67;クリアランス
80;回転ベローズ機構
82;フランジ部材
84;回転軸保持部材
85;回転軸47の屈曲部
86;ベローズ
88;回転軸
90;ハンドル部材
Claims (4)
- 基板を収容する処理容器と、
前記処理容器の側壁に形成された基板を搬入出する基板搬入出部と、
前記処理容器内で基板を載置する載置台と、
前記処理容器内に処理ガスを供給する処理ガス供給機構と、
前記処理容器内で処理ガスのプラズマを生成するプラズマ生成機構と、
前記処理容器内を排気する排気機構と、
前記載置台上に前記載置台上の基板を囲繞するように設けられた整流部材と
を具備し、
前記載置台上の基板に対してプラズマ処理を行う基板処理装置であって、
前記整流部材は、少なくとも前記基板搬入出部に対応する位置に、前記載置台に対する基板の搬入出が可能なように退避位置に移動可能に設けられた可動部材を有し、
前記整流部材は、4つの側板からなる角筒状をなし、これら側板のうち前記基板搬入出部に対応する位置にある側板、および前記基板搬入出部に対応する位置にある側板と対向する側板が、前記可動部材として機能し、
前記可動部材として機能する側板は、水平方向に延びる回転軸を回転させることにより、処理の際の処理位置と前記退避位置との間で垂直方向に回動するように構成されるとともに、
前記可動部材として機能する側板は、前記処理位置において隣接する側板との間に隙間が形成され、処理ガスが前記隙間を通過する経路は屈曲したラビリンス構造をとるように構成されていることを特徴とする基板処理装置。 - 前記可動部材として機能する側板は、前記処理位置において前記載置台と密着していることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記可動部材として機能する側板は、前記処理位置において前記載置台との間に隙間が形成され、前記載置台における前記可動部材として機能する側板の近傍位置に、その側板の幅方向に沿って基板の搬入出を妨げない高さの抵抗部材が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記基板搬入出部は、前記処理容器に設けられた基板搬入出口と、該基板搬入口を開閉するゲートバルブとを有し、
前記ゲートバルブの開放と、前記可動部材の退避位置への移動とを同期して実行させる制御部をさらに具備することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板処理装置。
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