JP5104174B2 - 洗浄乾燥装置及び洗浄乾燥方法 - Google Patents

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Description

本発明は洗浄乾燥装置及び洗浄乾燥方法に係り、特に被洗浄乾燥物を有機溶剤の蒸気エリア内に設置して洗浄及び乾燥処理を行う洗浄乾燥装置及び洗浄乾燥方法に関する。
一般にウェーハや磁気ヘッド等の電子部品の製造工程では、製造過程で電子部品に付着した接着剤などの付着物を除去するため、各製造工程間で超音波洗浄機などの洗浄装置を用いたウエット洗浄を行っている。また洗浄後、電子部品を収納した収納ケースを洗浄乾燥装置に設置し、電子部品の表面を乾燥させている（特許文献１参照）。
図１は、特許文献１に開示された従来の一例である洗浄乾燥装置（ベーパ乾燥装置という）を模式的に示している。図１に例示されたベーパ乾燥装置１は、装置の外郭を構成する装置本体２と、この装置本体２の内部に被洗浄物（ウェーハや磁気ヘッド等の電子部品）が収納された収納ケース１０を支持する昇降ステージ８と、収納ケース１０の表面において有機溶剤と置換された水等の洗浄液Ｓを回収する溶剤排出部９とを備えている。
図２は、磁気ヘッド用の収納ケース１０を示している。同図に示すように、磁気ヘッドはローバ１１として収納ケース１０内に複数個が列設された構成とされている。また、各ローバ１１は、枠形状とされた収納ケース１０の両端部（図では、上下端部）が保持され、その間の部分は収納ケース１０から露出した状態となっている。これにより、後述するようにローバ１１（磁気ヘッド）の表面に有機溶剤を結露させることができる。
前記装置本体２は、下部に有機溶剤３が充填されると共に、その下部にはヒータ４が設けられている。このヒータ４が加熱することにより有機溶剤３は蒸発し、蒸気エリア５を形成する。また、乾燥槽２の上端部内側には、蛇管からなって内部に冷却水を循環する冷却管６が設けられている。この冷却管６は内部に冷却水を循環させることにより乾燥槽２内に冷却エリア７が形成される。この冷却エリア７において、ヒータ４によって加熱された有機溶剤３のベーパは冷却されて液化し滴下する。これにより、乾燥槽２の外部にベーパが排出されて失われることを防止している。
特開平１１−０４０５３６号公報
上記した従来のベーパ乾燥機１では、高温の有機溶剤の蒸気が充満した乾燥槽２内に低い温度の収納ケース１０（被洗浄乾燥物）が投入されると、収納ケース１０内に収納された電子部品の表面に有機溶剤が結露し、この有機溶剤が表面に付着している汚れと共に流れ落ちる。これにより、電子部品表面の洗浄が行われる。その後、収納ケース１０が蒸気と同じ温度になると、収納ケース１０の表面の有機溶剤が蒸発し乾燥が行われる。
しかしながら、上記した従来の洗浄乾燥方法では、汚れを含んだ有機溶剤が流れ落ちる際に、磁気ヘッド等の電子部品を収納する収納ケース１０に汚れが残留してしまうという問題点があった。また洗浄効率の面からは、従来のように収納ケース１０の表面に結露した有機溶剤が流れ落ちることにより電子部品の洗浄を行う方法では、電子部品の表面の洗浄効果が低いという問題点もあった。
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、被洗浄乾燥物に対する洗浄品質及び洗浄効率の向上を図りうる洗浄乾燥装置及び洗浄乾燥方法を提供することを目的とする。
上記の課題は、本発明の第１の観点からは、
有機溶剤の蒸気が発生する蒸気エリア内に設置された被洗浄乾燥物を前記有機溶剤により洗浄すると共に、該有機溶剤を乾燥させる洗浄乾燥装置において、
噴射ノズルから前記有機溶剤と同一の有機溶剤を前記被洗浄乾燥物に向け噴射して、該被洗浄乾燥物を洗浄及び冷却する噴射手段と、
前記被洗浄乾燥物の温度が、前記蒸気エリア内の蒸気温度と等しい第１の温度になったか否かを検出する第１の検出手段と、
前記被洗浄乾燥物の温度が、前記被洗浄乾燥物の表面に前記有機溶剤が結露可能な第２の温度になったか否かを検出する第２の検出手段と、
前記第１の検出手段により前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度になったことが検出されたときに前記噴射手段を駆動して前記有機溶剤を前記被洗浄乾燥物に噴射すると共に、前記第２の検出手段により前記被洗浄乾燥物の温度が前記第２の温度になったことが検出されたときに前記噴射手段を駆動して前記有機溶剤の前記被洗浄乾燥物への噴射を停止する洗浄乾燥制御手段とを有することを特徴とする洗浄乾燥装置により解決することができる。
また、上記発明において、前記第１の検出手段は、前記被洗浄乾燥物が前記蒸気エリアに設置された時からの経過時間を計測し、該経過時間が前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度となる所定時間となったとき、前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度になったと判断する構成とすることが望ましい。
また、上記発明において、前記第１の検出手段は、前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置するときに該被洗浄乾燥物が装着されるステージに配設された単数或いは複数の温度センサーを有し、該温度センサーにより前記被洗浄乾燥物の温度を検出する構成とすることが望ましい。
また、上記発明において、前記第２の検出手段は、前記有機溶剤の前記被洗浄乾燥物への噴射が開始された時からの経過時間を計測し、該経過時間が前記被洗浄乾燥物の温度が前記第２の温度となる所定時間となったとき、前記被洗浄乾燥物の温度が前記第２の温度になったと判断する構成であることが望ましい。
また、上記発明において、前記第２の検出手段は、前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置するときに該被洗浄乾燥物が装着されるステージに配設された単数或いは複数の温度センサーを有し、該温度センサーにより前記被洗浄乾燥物の温度を検出する構成とすることが望ましい。
また、上記発明において、前記噴射ノズルは噴射位置を移動可能な構成とされていることが望ましい。
また、上記発明において、前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置するときに該被洗浄乾燥物が装着されるステージを設けると共に、該ステージを昇降させる昇降手段を設け、
該昇降手段により前記ステージを昇降させることにより前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置し、又前記蒸気エリア内から取り出す構成とすることが望ましい。
また、上記発明において、前記洗浄乾燥制御手段は、前記蒸気エリア内から前記被洗浄乾燥物を取り出すとき、前記蒸気エリア内では第１の速度で前記ステージを上昇させ、該蒸気エリアを離脱した後に前記第１の速度より速い第２の速度で前記ステージを上昇させることが望ましい。
また、上記発明において、前記被洗浄乾燥物が搭載されるバスケットに装着した上で前記ステージに装着する構成とすると共に、
該バスケットに前記被洗浄乾燥物の搭載角度を調整可能な角度調整機構を設けた構成とすることが望ましい。
また上記の課題は、本発明の他の観点からは、
有機溶剤の蒸気が発生する蒸気エリア内に設置された被洗浄物を前記有機溶剤により洗浄する洗浄方法において、
前記蒸気エリアに設置された前記被洗浄物の温度が前記蒸気エリア内の蒸気温度と等しい第１の温度となったときに、前記被洗浄物に対して有機溶剤を噴射するステップと、
前記被洗浄物の表面温度が、前記有機溶剤が結露する第２の温度となったときに前記有機溶剤の噴射を停止するステップと、
前記被洗浄物の温度が前記蒸気エリア内の蒸気温度と等しい第１の温度となったとき、前記被洗浄物を前記蒸気エリアから移動させ取り出すステップと、
を有することを特徴とする洗浄乾燥方法により解決することができる。
本発明によれば、第１の検出手段により被洗浄乾燥物の温度が第１の温度（被洗浄乾燥物の温度が蒸気エリア内の蒸気温度と等しい温度）になったことが検出されたときに噴射手段を駆動して有機溶剤を被洗浄乾燥物に噴射する。即ち、被洗浄乾燥物の表面に結露した有機溶剤による洗浄処理が終了した状態となったときに、有機溶剤は被洗浄乾燥物に噴射され、この噴射された有機溶剤により当該被洗浄乾燥物の洗浄及び冷却が行われる。
被洗浄乾燥物は、有機溶剤が噴射されることにより洗浄されると共に冷却される。そして、第２の検出手段により被洗浄乾燥物の温度が第２の温度（被洗浄乾燥物の温度が被洗浄乾燥物の表面に有機溶剤が結露可能な温度）になったことが検出されると、有機溶剤の被洗浄乾燥物への噴射は停止される。これにより、被洗浄乾燥物の表面に有機溶剤が結露し、この結露した有機溶剤により被洗浄乾燥物の洗浄処理及び乾燥処理が行われる。
このように、有機溶剤が結露することにより行われる洗浄乾燥処理と、有機溶剤が噴射されることにより行われる洗浄及び温度低下処理が一連の連続的な処理として行われるため、洗浄及び乾燥品質の向上を図ることができる。
次に、本発明を実施するための最良の形態について図面と共に説明する。
図３乃至図７は、本発明の一実施例である洗浄乾燥装置２０の全体構成を説明するための図である。図３は洗浄乾燥装置２０の構成図であり、図４は洗浄乾燥装置２０の配管系統図である。また、図５は装置本体２１の外観図であり、図６は制御装置３６の外観図であり、図７はタンクユニット３４の外観図である。
先ず、図３を用いて洗浄乾燥装置２０の全体構成について説明する。洗浄乾燥装置２０は、大略すると装置本体２１、タンクユニット３４、循環ユニット３５、及び制御装置３６等により構成されている。タンクユニット３４（外観を図７に示す）は、装置本体２１に供給する有機溶剤２３を貯留するものである。また、循環ユニット３５は、装置本体２１とタンクユニット３４との間で有機溶剤２３を循環させるものである。
装置本体２１は、洗浄乾燥槽２２、ヒータ２４、冷却管２６、昇降ステージ２８、溶剤回収部２９、及び噴射ノズル３０等を有した構成とされている。
洗浄乾燥槽２２（図５に外観を示す）は、内部に約１０リットルの有機溶剤２３を貯留できる構成とされている。本実施例では、有機溶剤２３としてイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を使用している。
洗浄乾燥槽２２の底面には、加熱部としてヒータ２４が配設されている。またヒータ２４には、加熱温度を監視するための温度センサーが設置されている。このヒータ２４によって洗浄乾燥槽２２内の有機溶剤２３は常時加熱されており、これにより有機溶剤２３の蒸気が発生し、洗浄乾燥槽２２内には蒸気エリア２５が形成される。この蒸気エリア２５の温度は、８０℃程度である。
昇降ステージ２８は、昇降駆動装置３３により駆動されることにより、洗浄乾燥槽２２内を上下方向（図中、矢印Ｚ１，Ｚ２方向）に移動可能な構成とされている。この昇降ステージ２８は、昇降駆動装置３３と接続されるアーム部２８ａと、後述する収納バスケット７０（図９参照）が設置されるステージ部２８ｂとにより構成されている。
昇降駆動装置３３はモータ及びモータの回転運動を直線運動に変換するラック・アンド・ピニオン等により構成されている（図示せず）。また、昇降ステージ２８のアーム部２８ａはこのラック・アンド・ピニオンに連結しており、よって昇降駆動装置３３が駆動することによりステージ部２８ｂは昇降動作を行う。
昇降ステージ２８には後述する収納バスケット７０（図９参照）が設置されるが、この収納バスケット７０の設置位置付近には４個の温度センサー３１Ａ〜３１Ｄが上下方向（Ｚ１，Ｚ２方向）に並んで配設されている。この温度センサー３１Ａ〜３１Ｄは、蒸気エリア２５内の温度分布を検出する。温度センサー３１Ａ〜３１Ｄは制御装置３６に接続されており、制御装置３６は温度センサー３１Ａ〜３１Ｄからの温度検出信号に基づき蒸気エリア２５内の温度分布を求める。
尚、温度センサー３１Ａ〜３１Ｄは必ずしも昇降ステージ２８に配設する必要はなく、蒸気エリア２５の温度分布が測定できる位置であれば他の位置に配設する構成としてもよい（例えば、洗浄乾燥槽２２に直接配設することも可能）。
昇降ステージ２８は、ステージ部２８ｂに対して収納バスケット７０を設置或いは回収する位置（以下、設置／回収位置という）と、収納バスケット７０に装着された被洗浄乾燥物に対して洗浄乾燥処理を行う位置（以下、洗浄乾燥位置という）との間で移動する。設置／回収位置は、洗浄乾燥槽２２の上部位置に設定されている。また、洗浄乾燥位置は、有機溶剤２３に近い洗浄乾燥槽２２の下部位置に設定されている。
従って、設置／回収位置及び洗浄乾燥位置で昇降ステージ２８の昇降動作を停止させる必要がある。このため、洗浄乾燥槽２２内の洗浄乾燥位置には位置センサー３２Ａが設置されると共に、洗浄乾燥槽２２内の設置／回収位置には位置センサー３２Ｃが配置されている。この各位置センサー３２Ａ，３２Ｃは制御装置３６に接続されており、よって制御装置３６は各位置センサー３２Ａ，３２Ｃの出力信号に基づき、ステージ部２８ｂ（収納バスケット７０）が設置／回収位置或いは洗浄乾燥位置に達したことを検知する。
また、位置センサー３２Ａと位置センサー３２Ｃとの間には、位置センサー３２Ｂが設置されている。後述するように、昇降ステージ２８は上昇する際、上昇速度の切替を行うが、位置センサー３２Ｂはこの速度切替位置に配置されている。この位置センサー３２Ｂも制御装置３６に接続されており、よって位置センサー３２Ｂからの出力により制御装置３６は昇降ステージ２８が速度切替位置に達したことを検知する。
噴射ノズル３０は、有機溶剤２３を噴射するノズルである。有機溶剤２３は、循環ユニット３５によりタンクユニット３４から噴射ノズル３０に供給される。本実施例では、２個の噴射ノズル３０が対向するよう洗浄乾燥槽２２内に配置されているが、噴射ノズル３０の配置位置や配置数はこれに限定されるものではない。
この噴射ノズル３０は、昇降ステージ２８が洗浄乾燥位置にあるときの収納バスケット７０に対して有機溶剤２３を噴射する構成とされている。また、本実施例では噴射ノズル３０の噴出口を扁平な形状とすることにより、図１０に示すように、有機溶剤２３が収納ケース１０（ローバ１１）に噴射される位置が、横長の楕円形状となるよう構成している。収納ケース１０の形状は矩形状であるため、この構成とすることにより噴射位置が円形である構成に比べ、収納ケース１０に対して有機溶剤２３を効率よく噴射することができる。
更に、本実施例では収納バスケット７０に対する有機溶剤２３の噴射効率を高めるため、噴射ノズル３０を図中矢印Ａ１，Ａ２方向に移動（回動）可能な構成としている。この噴射ノズル３０を移動させるノズル移動機構６０について、図８を用いて説明する。図８（Ａ）はノズル移動機構６０の側面図、図８（Ｂ）はノズル移動機構６０の動作説明図、図８（Ｃ）はノズル移動機構６０の正面図である。
ノズル移動機構６０は、シリンダ６１、回転ブロック６２、及び連結部６５等により構成されている。シリンダ６１は図８（Ａ）における右端部を洗浄乾燥槽２２に植設された回転支点６３に軸承されている。このシリンダ６１は、制御装置３６により駆動制御され、駆動されることによりシャフト６６を直線状に移動させる。
回転ブロック６２は、洗浄乾燥槽２２に回転可能に取り付けられている。この回転ブロック６２は、洗浄乾燥槽２２を貫通するよう配設された噴射用配管４２が同軸的に固定されている。この噴射用配管４２の洗浄乾燥槽２２の内側の端部には噴射ノズル３０が配設され、洗浄乾燥槽２２の外側の端部は循環ユニット３５に接続されて有機溶剤２３が供給される。噴射ノズル３０は、この噴射用配管４２の先端部に配設されている。
また、回転ブロック６２には外側に向け延出するアーム部６５ａが設けられており、このアーム部６５ａの先端部は連結部６５を介してシリンダ６１のシャフト６６に接続されている。従って、シリンダ６１が駆動することにより、回転ブロック６２を介して噴射用配管４２も回転し、よって噴射ノズル３０は図３に矢印Ａ１，Ａ２で示す方向に移動する。例えば、図８（Ａ）に示すように、シリンダ６１のシャフト６６が矢印Ｘ方向に移動すると、連結部６５を介して回転ブロック６２は噴射用配管４２を中心として時計方向に回転し、よって噴射ノズル３０は矢印Ａ２方向に移動（回動）する。
上記のように噴射ノズル３０の噴射口の形状を適宜設定することにより有機溶剤２３が収納ケース１０（ローバ１１）に噴射される位置を横長の楕円形状とし、かつ噴射ノズル３０が矢印Ａ１，Ａ２方向に回動する構成とすることにより、有機溶剤２３を効率良く収納ケース１０（ローバ１１）に噴射することができ、洗浄効率を高めることができる。
尚、噴射用配管４２が洗浄乾燥槽２２を貫通する位置には、Ｏリング６４及びパッキン６７が配設されており、この位置から有機溶剤２３の蒸気が装置本体２１の外部に漏洩するようなことはない。
再び、図３に戻り洗浄乾燥装置２０の説明を続ける。前記した洗浄乾燥位置より下方で有機溶剤２３の液面より上方位置には、溶剤回収部２９が配設されている。この溶剤回収部２９は、洗浄乾燥処理時に収納バスケット７０（ローバ１１）から滴下する有機溶剤２３、及び噴射ノズル３０から噴射される有機溶剤２３を回収するものである。ここで回収された有機溶剤２３は、浄化処理が行われた後にタンクユニット３４に戻される。
冷却管２６は、洗浄乾燥槽２２内の噴射ノズル３０が設置された上部位置に設置されている。この冷却管２６には、図示しない冷却水供給装置から、常時冷却水が供給されている。よって、冷却管２６の設置位置の内部は冷却エリア２７を形成し、冷却エリア２７において蒸発した有機溶剤２３は液化し滴下する。これにより、有機溶剤２３の蒸気が洗浄乾燥槽２２の外部への漏洩し、有機溶剤２３が減少することを防止している。
制御装置３６は上記した各種センサー３１Ａ〜３１Ｄ、３２Ａ〜３２Ｃ及び後述する配管系に配設される各種センサーと接続されており、これらのセンサーからの信号に基づき後述する洗浄乾燥制御処理を実施する。尚、図６は制御装置３６の外観を示しており、制御装置３６は入力パネル５７及び速度入力スイッチ５８Ａ，５８Ｂ等を設けている。
次に、ローバ１１（被洗浄乾燥物）を収納する収納バスケット７０について説明する。図９は、収納バスケット７０を示す斜視図である。収納バスケット７０は、バスケット本体７１、ケース装着部７２、及び把持部７３等を有した構成とされている。
バスケット本体７１は昇降ステージ２８のステージ部２８ｂに載置される部分であり、本実施例では２つの収納ケース１０を装着できる構成とされている。この収納ケース１０は、図２を用いて説明したように枠形状とされており、その内部に本実施例ではスティク状の複数のローバ１１が列設されている。各ローバ１１は、枠形状とされた収納ケース１０の両端部が保持され、その間の部分は収納ケース１０から露出した状態となっている。
尚、ローバ１１（Row Bar）とは、ウェーハから複数の磁気ヘッド素子が一列に配列されたものである。これをダイシングし個片化することにより、個々の磁気ヘッドが製造される。
また、バスケット本体７１には収納ケース１０を装着するためのケース装着部７２が設けられている。このケース装着部７２は、バスケット本体７１に対し収納ケース１０を任意の角度θで設置できる構成とされている。本実施例では、収納ケース１０の設置角度を７０°に設定している。このように、収納ケース１０の角度を任意に設定可能とすることにより、噴射ノズル３０からの有機溶剤２３を略直角の角度でローバ１１（磁気ヘッド）に噴射することができ、洗浄効率を高めることができる。
尚、把持部７３は収納バスケット７０を昇降ステージ２８に装着脱する際に作業者が把持する部分である。このように、把持部７３を設けることにより収納バスケット７０の昇降ステージ２８への装着脱作業を容易に短時間で行うことが可能となる。
次に、図４を用いて洗浄乾燥装置２０の配管系統について説明する。
供給配管４０は、有機溶剤２３の流れに対する上流側（以下、単に上流側という）の端部が循環ユニット３５に接続されており、また有機溶剤２３の流れに対する下流側（以下、単に下流側という）の端部が洗浄乾燥槽２２の下部に貯留された有機溶剤２３と連通している。この供給配管４０には、循環ユニット３５によりタンクユニット３４に貯留されていた有機溶剤２３が供給される。
この供給配管４０は、補充用配管４１と噴射用配管４２とに分岐する。補充用配管４１は、上流側からバルブ４３，流量センサー４８が設けられている。バルブ４３は制御装置３６に駆動制御される電磁弁であり、また流量センサー４８はバルブ４３の開弁時に供給配管４０を流れる有機溶剤２３の流量を検出する。また、供給配管４０の洗浄乾燥槽２２との接続位置と流量センサー４８との間には、分岐配管として連通配管５３が設けられている。この連通配管５３は、後述する液面センサー用配管５４に接続されている。
噴射用配管４２は下流側の端部に噴射ノズル３０が設けられており、また噴射ノズル３０に至る途中位置にはバルブ４４及び流量センサー４９が配設されている。バルブ４４は制御装置３６に駆動制御される電磁弁であり、また流量センサー４９はバルブ４４の開弁時に噴射ノズル３０から噴射される有機溶剤２３の流量を検出する。尚、バルブ４３，４４は常閉弁であり、制御装置３６から開弁信号が供給されるまで循環ユニット３５から補充用配管４１及び噴射用配管４２への有機溶剤２３の供給は停止されている。
液面センサー用配管５４と回収配管５５は、連結されて排出配管５６とされている。この排出配管５６の下流側の端部はタンクユニット３４に接続されている。液面センサー用配管５４は、その上流側に液面センサー３７が配設されている。
また、液面センサー用配管５４の液面センサー３７と排出配管５６との接合位置との間には、バルブ４５が配設されている。このバルブ４５は、制御装置３６に駆動制御される電磁弁である。このバルブ４５も常閉弁であり、制御装置３６から開弁信号が供給されるまで、洗浄乾燥槽２２に貯留された有機溶剤２３の装置本体２１からの排出は停止されている。
液面センサー３７は、洗浄乾燥槽２２の下部に貯留された有機溶剤２３の液面検出を行うセンサーである。バルブ４３，４５が閉弁した状態で、洗浄乾燥槽２２と有機溶剤２３は連通配管５３により連通した状態となっている。よって、有機溶剤２３内の有機溶剤２３の液面の高さは、洗浄乾燥槽２２内の有機溶剤２３の液面の高さと等しくなっている。
この液面センサー３７の内部には、液面検出位置の異なる検出部３７ａ〜３７ｃが配設されており、各検出部３７ａ〜３７ｃは制御装置３６に接続されている。よって、制御装置３６は、液面センサー３７（検出部３７ａ〜３７ｃ）からの検出信号により、洗浄乾燥槽２２内の有機溶剤２３の液面の高さ、即ち有機溶剤２３内における有機溶剤２３の貯留量を検知することができる。
尚、洗浄乾燥槽２２の有機溶剤２３が貯留される位置には、温度センサー５０が配設されている。この温度センサー５０は、洗浄乾燥槽２２に貯留された洗浄乾燥槽２２の温度を検出するセンサーである。この温度センサー５０で検出された有機溶剤２３の温度は、制御装置３６に送信される。
一方、冷却管２６は、例えば洗浄乾燥装置２０が設置される磁気ヘッド工場の冷却水供給口と接続されている。この冷却管２６には、温度監視用の温度センサー５１と、流量監視用の流量センサー５２が設置されている。
上記のように構成された洗浄乾燥装置２０において、噴射ノズル３０から有機溶剤２３を噴射するには、バルブ４３を閉弁すると共にバルブ４４を開弁する。これにより、循環ユニット３５から供給配管４０に供給された高圧の有機溶剤２３は、噴射用配管４２を通り噴射ノズル３０から噴射される。
また、液面センサー３７の液面検出により、洗浄乾燥槽２２内の有機溶剤２３の貯留量が減った場合には、バルブ４４，４５を閉弁すると共に、バルブ４３を開弁する。これにより、循環ユニット３５から供給配管４０に供給された高圧の有機溶剤２３は補充用配管４１を通り洗浄乾燥槽２２内に流入し、洗浄乾燥槽２２内の有機溶剤２３の貯留量は増大する。
一方、液面センサー３７の液面検出により、洗浄乾燥槽２２内の有機溶剤２３の貯留量が増大した場合には、バルブ４３，４４を閉弁すると共に、バルブ４５を開弁する。これにより、洗浄乾燥槽２２内に貯留されていた有機溶剤２３は連通配管５３及び排出配管５６を介してタンクユニット３４に排出され、洗浄乾燥槽２２内の有機溶剤２３の貯留量は減少する。
次に、図１１〜図１７を参照し、洗浄乾燥処理時における洗浄乾燥装置２０の動作、及び制御装置３６が実施する洗浄乾燥処理について説明する。尚、図１１〜図１６は洗浄乾燥装置２０の洗浄乾燥処理時における動作を示す図であり、図１７は制御装置３６が実施する洗浄乾燥処理のフローチャートである。また、図１１〜図１６において、図２〜図１０に示した構成と同一構成については、同一符号を付してその説明を省略する。
洗浄乾燥装置２０の洗浄乾燥処理が開始すると、ヒータ２４、循環ユニット３５、制御装置３６が起動すると共に、冷却管２６に対して冷却水の供給が開始される。そして、先ず制御装置３６に対して初期設定が行われる（図１７のステップ１０。尚、図ではステップをＳと略称している）。
このステップ１０では、昇降ステージ２８を昇降させる際の第１の速度Ｖ１，昇降ステージ２８を上昇させる際の第２の速度Ｖ２，及び後述する噴射ノズル３０からの有機溶剤２３の噴射開始及び停止のタイミングの決定に用いる第１の温度Ｔ１及び第２の温度Ｔ２が設定される。この設定処理は、図６に示す入力パネル５７及び速度入力スイッチ５８Ａ，５８Ｂを用いて行われる。
本実施例では、第１の速度Ｖ１を例えば9.5mm/secに設定し、第２の速度Ｖ２を2.5mm/secに設定している。また、第１の温度Ｔ１は蒸気エリア２５内の温度と略等しい温度に設定しており、本実施例では８０℃に設定している。また、第２の温度Ｔ２は蒸気エリア２５内に設置された収納ケース１０（ローバ１１）の表面に対し有機溶剤２３の結露が発生する温度に設定されており、本実施例では２４℃に設定されている。尚、この第１及び第２の速度Ｖ１，Ｖ２、及び第１及び第２の温度Ｔ１，Ｔ２は、使用する有機溶剤２３の種類や洗浄乾燥槽２２の容積、また収納ケース１０（ローバ１１）の種類や形状により変化するものであり、上記した例に限定されるものではない。
上記のようにステップ１０で初期設定が終了すると、制御装置３６は昇降ステージ２８を設置／回収位置に移動させる。具体的には、制御装置３６は各位置センサー３２Ａ〜３２Ｃからの信号に基づき昇降ステージ２８の現在の位置を検知し（ステップ１１）、昇降ステージ２８が設置／回収位置に位置していない場合には昇降駆動装置３３を駆動して昇降ステージ２８を設置／回収位置まで移動させる（ステップ１２）。
このステップ１１，１２の処理により昇降ステージ２８が設置／回収位置まで移動すると、昇降ステージ２８に収納ケース１０が収納された収納バスケット７０が装着される。図１１は、収納バスケット７０が昇降ステージ２８に装着された状態を示している。
昇降ステージ２８に収納バスケット７０が装着されると、制御装置３６は再び昇降駆動装置３３を駆動し、昇降ステージ２８を洗浄乾燥位置に向け移動する（ステップ１３）。この時の昇降ステージ２８の下降速度は、第１の速度Ｖ１とされている。制御装置３６は、洗浄乾燥位置に配設された位置センサー３２Ａが昇降ステージ２８を検知するまで、昇降ステージ２８の下降を継続する（ステップ１４，１５）。
位置センサー３２Ａにより昇降ステージ２８が洗浄乾燥位置まで移動したと判断されると、制御装置３６は昇降ステージ２８の移動を停止させる。図１２は、昇降ステージ２８が洗浄乾燥位置まで移動した状態を示している。
昇降ステージ２８が洗浄乾燥位置まで移動することにより、被洗浄乾燥物となるローバ１１は蒸気エリア２５内に装着された状態となり、よってローバ１１に対して第１の洗浄乾燥処理が行われる（ステップ１６）。また制御装置３６は、昇降ステージ２８が洗浄乾燥位置まで移動したと同時に、第１の洗浄乾燥処理の処理時間（以下、第１の経過時間）の計測を開始する。
この第１の洗浄乾燥処理では、蒸気エリア２５内に装着されたばかりのローバ１１は、蒸気エリア２５内の温度（約８０℃）に比べて温度が低い（例えば、２０℃〜２５℃）ため、ローバ１１の表面には有機溶剤２３が結露する。この結露した有機溶剤２３はローバ１１の表面を流れ落ち、この時にローバ１１の表面の汚れも流れされ、よってローバ１１の表面は洗浄される。また、時間の経過と共にローバ１１の温度が上昇すると、ローバ１１に結露が発生しなくなると共に、表面に付着していた有機溶剤２３が熱により気化し、よってローバ１１の表面は乾燥する。
制御装置３６は、ステップ１７において、温度センサー３１Ａ〜３１Ｄからローバ１１の温度（実際は、ローバ１１の近傍の温度）を検出し、ローバ１１の温度がステップ１０で設定した第１の温度（蒸気エリア２５内の温度と略等しい温度）になったかどうかを判断する。また制御装置３６は、この温度検出処理と共に、昇降ステージ２８が洗浄乾燥位置まで移動した以降の第１の経過時間が所定時間１を超えたかどうかを判断する。ここで、所定時間１は実験的に求められる時間であり、蒸気エリア２５にローバ１１を設置した後、ローバ１１の温度が前記した第１の温度となるまでに要する時間である（本実施例では、所定時間1は14minとしている）。
本実施例では、ローバ１１の温度が第１の温度以下であり、かつ、ローバ１１を蒸気エリア２５に設置した後の第１の経過時間が所定時間１を超えない間は、ステップ１６の第１の洗浄処理を継続する構成とした。
一方、ローバ１１の温度が第１の温度を超え、かつ第１の経過時間が所定時間１を超えたと判断すると、制御装置３６はバルブ４４（図４参照）を開弁し、これにより噴射ノズル３０からローバ１１に向け有機溶剤２３の噴射を開始する。また、これと同時に制御装置３６は、噴射ノズル３０からの有機溶剤２３の噴射時間（以下、第２の経過時間）の計測を開始する。
図１３は、噴射ノズル３０から有機溶剤２３が収納ケース１０（ローバ１１）に向け噴射されている状態を示している。噴射ノズル３０からは、２０℃程度に管理された有機溶剤２３（ＩＰＡ）が収納ケース１０（ローバ１１）に向け、図中θで示す角度が90°以上の角度を以って噴射される。また有機溶剤２３の噴射流量は、例えば毎秒1.4リットルに設定されている。また本実施例では、先に図８を用いて説明したように噴射ノズル３０は回動可能な構成となっており、かつ図１０を用いて説明したように噴射ノズル３０は楕円状に有機溶剤２３を噴射しうる構成とされている。このため、収納ケース１０（ローバ１１）に対して有機溶剤２３を効率よく噴射することができる。
有機溶剤２３が収納ケース１０（ローバ１１）に噴射されることにより、ローバ１１の表面は洗浄される。また、上記のように噴射される有機溶剤２３は２０℃程度であるため、ステップ１７で肯定判断がされた際に約８０℃であったローバ１１は徐々に冷却される。
制御装置３６は、ステップ１９において、温度センサー３１Ａ〜３１Ｄからローバ１１の温度（ローバ１１の近傍の温度）を検出し、ローバ１１の温度がステップ１０で設定した第２の温度（ローバ１１の表面に有機溶剤２３の結露が発生する温度。具体的には２４℃）になったかどうかを判断する。また制御装置３６は、この温度検出処理と共に、噴射ノズル３０からの有機溶剤２３の噴射時間が所定時間２を超えたかどうかを判断する。ここで、所定時間２は実験的に求められる時間であり、噴射ノズル３０の噴射開始後、ローバ１１の温度が前記した第２の温度となるまでに要する時間である（本実施例では、所定時間２は1minとしている）。
本実施例では、ローバ１１の温度が第２の温度（２４℃）以上であり、かつ、第２の経過時間が所定時間２を超えない間は、ステップ１８の噴射ノズル３０からの有機溶剤２３の噴射処理を継続する構成とした。
一方、ローバ１１の温度が第２の温度（２４℃）以下となり、かつ第２の経過時間が所定時間１を超えたと判断すると、制御装置３６はバルブ４４を閉弁し、これにより噴射ノズル３０からの有機溶剤２３の噴射を停止する。
噴射ノズル３０からの有機溶剤２３の噴射が停止された状態では、ローバ１１の温度は第２の温度以下であり、よって蒸気エリア２５内に位置したローバ１１の表面に再び有機溶剤２３の結露が発生しうる状態である。よって、ローバ１１に対して第２の洗浄乾燥処理が行われる（ステップ２０）。また制御装置３６は、噴射ノズル３０からの有機溶剤２３の噴射が停止されたと同時に、第２の洗浄乾燥処理の処理時間（以下、第３の経過時間）の計測を開始する。
このステップ２０の第２の洗浄乾燥処理で実施される処理は、ステップ１６で説明した第１の洗浄乾燥処理と略同一の処理である。即ち、ローバ１１の表面に有機溶剤２３が結露し、この結露した有機溶剤２３はローバ１１の表面を流れ落ち、この時にローバ１１の表面の汚れも流され、よってローバ１１の表面は洗浄される。また、時間の経過と共にローバ１１の温度が上昇すると、ローバ１１に結露が発生しなくなり、表面に付着していた有機溶剤２３が熱により気化し、よってローバ１１の表面は乾燥する。
制御装置３６は、ステップ２１において、温度センサー３１Ａ〜３１Ｄからローバ１１の温度（ローバ１１の近傍の温度）を検出し、ローバ１１の温度がステップ１０で設定した第１の温度（蒸気エリア２５内の温度と略等しい温度）になったかどうかを判断する。また制御装置３６は、この温度検出処理と共に、有機溶剤２３の噴射が停止された以降の第３の経過時間が所定時間３を超えたかどうかを判断する。ここで、所定時間３は実験的に求められる時間であり、有機溶剤２３の噴射が停止された後、ローバ１１の温度が前記した第１の温度となるまでに要する時間である（本実施例では、所定時間３は14minとしている）。
ステップ２１で肯定判断が行われると、処理はステップ２２に移り、制御装置３６は昇降駆動装置３３を駆動制御し、昇降ステージ２８をステップ１０で設定した第２の速度Ｖ２で上昇させる（第２の速度Ｖ２は、例えば2.5mm/sec）。
制御装置３６は、位置センサー３２Ｂからの信号に基づき、昇降ステージ２８が速度切替位置に達したかどうかを判断し（ステップ２３）、速度切替位置に至るまで昇降ステージ２８を第２の速度Ｖ２で上昇させる。そして、昇降ステージ２８が速度切替位置に達すると、ステップ２４において、制御装置３６は昇降ステージ２８の上昇速度を第１の速度Ｖ１に切替える（第２の速度Ｖ２は、例えば9.5mm/sec）。図１５は、昇降ステージ２８が上昇し、速度切替位置に達した状態を示している。
その後、制御装置３６は昇降ステージ２８が設置／回収位置に至るまで第１の速度Ｖ１で昇降ステージ２８を上昇させ、昇降ステージ２８が設置／回収位置まで移動した時点で洗浄乾燥の全工程を終了する。図１６は、昇降ステージ２８が設置／回収位置まで移動した状態を示している。
図１８は、本実施例に係る洗浄乾燥装置２０の洗浄効果を、図１に示した従来のベーパ乾燥機１による洗浄効果と比較して示す図である。同図に示す実験例では、５インチシリコンウェーハを洗浄乾燥装置２０及びベーパ乾燥機１でそれぞれ洗浄乾燥処理を実施し、その後にパーティクルカウンタを用いてウェーハ表面の0.2μm以上のコンタミ数をカウントした。同図に示すように、従来に比べて本実施例に係る洗浄乾燥装置２０による方がコンタミ数が低減されていることが分る。よって、本実施例に係る洗浄乾燥装置２０によれば、従来に比べて洗浄及び乾燥品質が向上することが実証された。
尚、上記した実施例ではステップ１６の第１の洗浄乾燥処理、ステップ１８の噴射ノズル３０から有機溶剤２３を噴射することによる洗浄処理、及びステップ２０の第１の洗浄乾燥処理をそれぞれ１回のみ実施する例について説明した。しかしながら、ステップ１６，１８，２０の各洗浄乾燥処理は繰り返し実施することが可能なものであり、繰り返し実施することにより更に洗浄乾燥効果を高めることができる。
また、本実施例ではステップ１６の第１の洗浄乾燥処理を実施した後に、ステップ１８の有機溶剤２３の噴射による洗浄を行う構成としたが、有機溶剤２３の噴射による洗浄を行った後、第１の洗浄乾燥処理を実施することも可能である。
以上、本発明の好ましい実施例について詳述したが、本発明は上記した特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能なものである。
例えば本願発明は、磁気ヘッドの洗浄乾燥処理への適用に限定されるものではなく、半導体ウェーハ、液晶表示装置用のガラス基盤、光記録ディスク、磁器記録ディスク等の種々の高精細加工が施される電子部品に対して適用が可能なものである。
以上の説明に関し、更に以下の項を開示する。
（付記１）
有機溶剤の蒸気が発生する蒸気エリア内に設置された被洗浄乾燥物を前記有機溶剤により洗浄すると共に、該有機溶剤を乾燥させる洗浄乾燥装置において、
噴射ノズルから前記有機溶剤と同一の有機溶剤を前記被洗浄乾燥物に向け噴射して、該被洗浄乾燥物を洗浄及び冷却する噴射手段と、
前記被洗浄乾燥物の温度が、前記蒸気エリア内の蒸気温度と等しい第１の温度になったか否かを検出する第１の検出手段と、
前記被洗浄乾燥物の温度が、前記被洗浄乾燥物の表面に前記有機溶剤が結露可能な第２の温度になったか否かを検出する第２の検出手段と、
前記第１の検出手段により前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度になったことが検出されたときに前記噴射手段を駆動して前記有機溶剤を前記被洗浄乾燥物に噴射すると共に、前記第２の検出手段により前記被洗浄乾燥物の温度が前記第２の温度になったことが検出されたときに前記噴射手段を駆動して前記有機溶剤の前記被洗浄乾燥物への噴射を停止する洗浄乾燥制御手段と
を有することを特徴とする洗浄乾燥装置。
（付記２）
前記第１の検出手段は、前記被洗浄乾燥物が前記蒸気エリアに設置された時からの経過時間を計測し、該経過時間が前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度となる所定時間となったとき、前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度になったと判断する構成であることを特徴とする付記１記載の洗浄乾燥装置。
（付記３）
前記第１の検出手段は、前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置するときに該被洗浄乾燥物が装着されるステージに配設された単数或いは複数の温度センサーを有し、該温度センサーにより前記被洗浄乾燥物の温度を検出する構成としたことを特徴とする付記１記載の洗浄乾燥装置。
（付記４）
前記第２の検出手段は、前記被洗浄乾燥物が前記蒸気エリアに設置された時からの経過時間を計測し、該経過時間が前記被洗浄乾燥物の温度が前記第２の温度となる所定時間となったとき、前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度になったと判断する構成であることを特徴とする付記１乃至３のいずれか一項に記載の洗浄乾燥装置。
（付記５）
前記第２の検出手段は、前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置するときに該被洗浄乾燥物が装着されるステージに配設された単数或いは複数の温度センサーを有し、該温度センサーにより前記被洗浄乾燥物の温度を検出する構成としたことを特徴とする付記１乃至３のいずれか一項に記載の洗浄乾燥装置。
（付記６）
前記噴射ノズルは噴射位置を移動可能な構成とされていることを特徴とする付記１乃至５のいずれか一項に記載の洗浄乾燥装置。
（付記７）
前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置するときに該被洗浄乾燥物が装着されるステージと、
該ステージを昇降させる昇降手段とを更に有し、
該昇降手段により前記ステージを昇降させることにより前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置し、又前記蒸気エリア内から取り出す構成としたことを特徴とする付記１乃至６のいずれか一項に記載の洗浄乾燥装置。
（付記８）
前記洗浄乾燥制御手段は、前記蒸気エリア内から前記被洗浄乾燥物を取り出すとき、前記蒸気エリア内では第１の速度で前記ステージを上昇させ、該蒸気エリアを離脱した後に前記第１の速度より速い第２の速度で前記ステージを上昇させることを特徴とする付記７に記載の洗浄乾燥装置。
（付記９）
前記被洗浄乾燥物が搭載されるバスケットに装着した上で前記ステージに装着する構成とすると共に、
該バスケットに前記被洗浄乾燥物の搭載角度を調整可能な角度調整機構を設けたことを特徴とする付記１乃至８のいずれか一項に記載の洗浄乾燥装置。
（付記１０）
有機溶剤の蒸気が発生する蒸気エリア内に設置された被洗浄物を前記有機溶剤により洗浄する洗浄方法において、
前記蒸気エリアに設置された前記被洗浄物の温度が前記蒸気エリア内の蒸気温度と等しい第１の温度となったときに、前記被洗浄物に対して有機溶剤を噴射するステップと、
前記被洗浄物の表面温度が、前記有機溶剤が結露する第２の温度となったときに前記有機溶剤の噴射を停止するステップと、
前記被洗浄物の温度が前記蒸気エリア内の蒸気温度と等しい第１の温度となったとき、前記被洗浄物を前記蒸気エリアから移動させ取り出すステップと、
を有することを特徴とする洗浄乾燥方法。
（付記１１）
前記第３のステップでは、前記被洗浄乾燥物が前記蒸気エリアに設置された時からの経過時間を計測し、該経過時間が前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度となる所定時間となったとき、前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度になったと判断することを特徴とする付記１０記載の洗浄乾燥方法。
（付記１２）
前記第３のステップでは、前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置するときに該被洗浄乾燥物が装着されるステージに配設された単数或いは複数の温度センサーを有し、該温度センサーにより前記被洗浄乾燥物の温度を検出することを特徴とする付記１０記載の洗浄乾燥方法。
（付記１３）
前記第３のステップでは、前記被洗浄乾燥物が前記蒸気エリアに設置された時からの経過時間を計測し、該経過時間が前記被洗浄乾燥物の温度が前記第２の温度となる所定時間となったとき、前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度になったと判断することを特徴とする付記１０乃至１２のいずれか一項に記載の洗浄乾燥方法。
（付記１４）
第５のステップでは、前記蒸気エリア内では第１の速度で前記被洗浄乾燥物を上昇させ、該蒸気エリアを離脱した後に前記第１の速度より速い第２の速度で前記被洗浄乾燥物を上昇させることを特徴とする付記１０乃至１３のいずれか一項に記載の洗浄乾燥方法。
図１は、従来の一例であるベーパ乾燥機を示す構成図である。 図２は、被洗浄乾燥物となる収納ケースを示す図である。 図３は、本発明の一実施例である洗浄乾燥装置の構成図である。 図４は、本発明の一実施例で洗浄燥装置の配管系統図である。 図５は、装置本体の外観図である。 図６は、制御装置の外観図である。 図７は、タンクユニットの外観図である。 図８は、ノズル移動機構を説明するための図である。 図９は、収納ケースが搭載される収納バスケットを示す図である 図１０は、収納ケースが搭載される収納バスケットに噴射ノズルから有機溶剤が噴射されている状態を示す図である。 図１１は、本発明の一実施例である洗浄乾燥装置の動作を説明するための図である（その１）。 図１２は、本発明の一実施例である洗浄乾燥装置の動作を説明するための図である（その２）。 図１３は、本発明の一実施例である洗浄乾燥装置の動作を説明するための図である（その３）。 図１４は、本発明の一実施例である洗浄乾燥装置の動作を説明するための図である（その４）。 図１５は、本発明の一実施例である洗浄乾燥装置の動作を説明するための図である（その５）。 図１６は、本発明の一実施例である洗浄乾燥装置の動作を説明するための図である（その６）。 図１７は、制御装置が実施する洗浄乾燥処理を示すフローチャートである。 図１８は、本発明の一実施例である洗浄乾燥装置の効果を説明するための図である。
符号の説明
２０ 洗浄乾燥装置
２１ 装置本体
２２ 洗浄乾燥槽
２３ 有機溶剤
２４ ヒータ
２５ 蒸気エリア
２６ 冷却管
２７ 冷却エリア
２８ 昇降ステージ
２９ 溶剤回収部
３１，３１Ａ〜３１Ｄ 温度センサー
３２Ａ〜３２Ｃ 位置センサー
３３ 昇降駆動装置
３６ 制御装置
３７ 液面センサー
４０ 供給配管
４１ 補充用配管
４２ 噴射用配管
５３ 連通配管
５５ 回収配管
５６ 排出配管
５８Ａ，５８Ｂ 速度入力スイッチ
６０ ノズル移動機構
６１ シリンダ
７０ 収納バスケット

Claims (11)

  1. 有機溶剤の蒸気が発生する蒸気エリア内に設置された被洗浄乾燥物を前記有機溶剤により洗浄すると共に、該有機溶剤を乾燥させる洗浄乾燥装置において、
    噴射ノズルから前記有機溶剤と同一の有機溶剤を前記被洗浄乾燥物に向け噴射して、該被洗浄乾燥物を洗浄及び冷却する噴射手段と、
    前記被洗浄乾燥物の温度が、前記蒸気エリア内の蒸気温度と等しい第１の温度になったか否かを検出する第１の検出手段と、
    前記被洗浄乾燥物の温度が、前記被洗浄乾燥物の表面に前記有機溶剤が結露可能な第２の温度になったか否かを検出する第２の検出手段と、
    前記第１の検出手段により前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度になったことが検出されたときに前記噴射手段を駆動して前記有機溶剤を前記被洗浄乾燥物に噴射すると共に、前記第２の検出手段により前記被洗浄乾燥物の温度が前記第２の温度になったことが検出されたときに前記噴射手段を駆動して前記有機溶剤の前記被洗浄乾燥物への噴射を停止する洗浄乾燥制御手段と
    を有することを特徴とする洗浄乾燥装置。
  2. 前記第１の検出手段は、前記被洗浄乾燥物が前記蒸気エリアに設置された時からの経過時間を計測し、該経過時間が前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度となる所定時間となったとき、前記被洗浄乾燥物の温度が前記第１の温度になったと判断する構成であることを特徴とする請求項１記載の洗浄乾燥装置。
  3. 前記第１の検出手段は、前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置するときに該被洗浄乾燥物が装着されるステージに配設された単数或いは複数の温度センサーを有し、該温度センサーにより前記被洗浄乾燥物の温度を検出する構成としたことを特徴とする請求項１記載の洗浄乾燥装置。
  4. 前記第２の検出手段は、前記有機溶剤の前記被洗浄乾燥物への噴射が開始された時からの経過時間を計測し、該経過時間が前記被洗浄乾燥物の温度が前記第２の温度となる所定時間となったとき、前記被洗浄乾燥物の温度が前記第２の温度になったと判断する構成であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の洗浄乾燥装置。
  5. 前記第２の検出手段は、前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置するときに該被洗浄乾燥物が装着されるステージに配設された単数或いは複数の温度センサーを有し、該温度センサーにより前記被洗浄乾燥物の温度を検出する構成としたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の洗浄乾燥装置。
  6. 前記噴射ノズルは噴射位置を移動可能な構成とされていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の洗浄乾燥装置。
  7. 前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置するときに該被洗浄乾燥物が装着されるステージと、
    該ステージを昇降させる昇降手段とを更に有し、
    該昇降手段により前記ステージを昇降させることにより前記被洗浄乾燥物を前記蒸気エリア内に設置し、又前記蒸気エリア内から取り出す構成としたことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の洗浄乾燥装置。
  8. 前記洗浄乾燥制御手段は、前記蒸気エリア内から前記被洗浄乾燥物を取り出すとき、前記蒸気エリア内では第１の速度で前記ステージを上昇させ、該蒸気エリアを離脱した後に前記第１の速度より速い第２の速度で前記ステージを上昇させることを特徴とする請求項７に記載の洗浄乾燥装置。
  9. 前記被洗浄乾燥物が搭載されるバスケットに装着した上で前記ステージに装着する構成とすると共に、
    該バスケットに前記被洗浄乾燥物の搭載角度を調整可能な角度調整機構を設けたことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の洗浄乾燥装置。
  10. 前記噴射ノズルは、前記被洗浄乾燥物に対して前記有機溶剤が噴射される位置が、前記被洗浄乾燥物表面上で水平方向に長い楕円形状となるように構成されていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の洗浄乾燥装置。
  11. 有機溶剤の蒸気が発生する蒸気エリア内に設置された被洗浄物を前記有機溶剤により洗浄する洗浄方法において、
    前記蒸気エリアに設置された前記被洗浄物の温度が前記蒸気エリア内の蒸気温度と等しい第１の温度となったときに、前記被洗浄物に対して有機溶剤を噴射するステップと、
    前記被洗浄物の表面温度が、前記有機溶剤が結露する第２の温度となったときに前記有機溶剤の噴射を停止するステップと、
    前記被洗浄物の温度が前記蒸気エリア内の蒸気温度と等しい第１の温度となったとき、前記被洗浄物を前記蒸気エリアから移動させ取り出すステップと、
    を有することを特徴とする洗浄乾燥方法。
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