JP3213654B2 - 蒸気乾燥方法及び蒸気乾燥装置 - Google Patents
蒸気乾燥方法及び蒸気乾燥装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、蒸気乾燥方法、蒸気
乾燥装置及び蒸気乾燥に用いる製品搬送用容器に関する
ものである。
乾燥装置及び蒸気乾燥に用いる製品搬送用容器に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】蒸気乾燥方法は、水等を洗浄液に用いて
超音波洗浄したシリコンウェハ等の精密部品を乾燥する
ために多く使用されている。この蒸気乾燥方法は、水等
の高表面張力、低蒸気圧の第１の溶媒により洗浄されて
この第１の溶媒で覆われた被洗浄物の表面を、低表面張
力、高蒸気圧の気化したＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）等の第２の溶媒で結露させることにより第１の溶媒
を第２の溶媒で置換し、その後速やかにＩＰＡ等の第２
の溶媒を蒸発させてシミを発生しないように被洗浄物表
面を乾燥させようとする方法である。
超音波洗浄したシリコンウェハ等の精密部品を乾燥する
ために多く使用されている。この蒸気乾燥方法は、水等
の高表面張力、低蒸気圧の第１の溶媒により洗浄されて
この第１の溶媒で覆われた被洗浄物の表面を、低表面張
力、高蒸気圧の気化したＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）等の第２の溶媒で結露させることにより第１の溶媒
を第２の溶媒で置換し、その後速やかにＩＰＡ等の第２
の溶媒を蒸発させてシミを発生しないように被洗浄物表
面を乾燥させようとする方法である。
【０００３】従来の蒸気乾燥方法を図３０及び図３１を
参照しながら説明する。乾燥槽本体１の下部にＩＰＡ等
の第２の溶媒２を溜め、これをヒーター３で加熱蒸発さ
せてＩＰＡ等の溶媒蒸気４を発生する。このＩＰＡ等の
溶媒蒸気４は速やかに槽本体１の中で飽和蒸気圧に達す
るまで蒸発し続ける。このとき発生した溶媒蒸気４はガ
イド容器６の外壁に沿ってガイド容器６の内部へと供給
される。１３はＩＰＡ等の溶媒蒸気４がガイド容器６の
内部で飽和蒸気圧に達したかどうかを判断するために設
けられた温度計である。なお、槽本体１上部にはその内
部に冷媒を通した凝縮コイル５が設置されており、ＩＰ
Ａ等の溶媒蒸気４はこの凝縮コイル５で速やかに冷却液
化されるため、凝縮コイル５を越えて槽本体１から外に
流出することはない。
参照しながら説明する。乾燥槽本体１の下部にＩＰＡ等
の第２の溶媒２を溜め、これをヒーター３で加熱蒸発さ
せてＩＰＡ等の溶媒蒸気４を発生する。このＩＰＡ等の
溶媒蒸気４は速やかに槽本体１の中で飽和蒸気圧に達す
るまで蒸発し続ける。このとき発生した溶媒蒸気４はガ
イド容器６の外壁に沿ってガイド容器６の内部へと供給
される。１３はＩＰＡ等の溶媒蒸気４がガイド容器６の
内部で飽和蒸気圧に達したかどうかを判断するために設
けられた温度計である。なお、槽本体１上部にはその内
部に冷媒を通した凝縮コイル５が設置されており、ＩＰ
Ａ等の溶媒蒸気４はこの凝縮コイル５で速やかに冷却液
化されるため、凝縮コイル５を越えて槽本体１から外に
流出することはない。
【０００４】このような槽本体１の上方から槽本体１の
中の飽和蒸気圧に達したＩＰＡ等の溶媒蒸気４の中に、
図３１に示されるような製品搬送用容器となるウエハカ
セット１０等に収納されたシリコンウエハ等の被洗浄物
７を搬送操作装置９により送り込む。なお、被洗浄物７
の表面は水等の第１の溶媒で濡れている。また、搬送操
作装置９は、ウエハカセット１０を支持する支持棒９Ａ
と、この支持棒９Ａの上端に連結されたアクチュエータ
９Ｂとを備えている。これにより、直ちにシリコンウエ
ハ等の被洗浄物７の表面にＩＰＡ等の溶媒蒸気４が結露
する。このＩＰＡ等の結露は被洗浄物７の表面の温度が
ＩＰＡ等の溶媒蒸気４の液化温度に達するまで持続す
る。結露したＩＰＡ等の第２の溶媒は被洗浄物７表面に
付着している水等の第１の溶媒と速やかに置換しながら
被洗浄物７の表面上を覆って下方に流れ、その後受け皿
１１に流れ落ちる。なお、この受け皿１１に流れ落ちた
ＩＰＡ等の第２の溶媒の中には置換した水等が含まれる
ため、排液口１２を介して槽本体１から外に排出され
る。このようにして表面をＩＰＡ等の第２の溶媒で置換
した被洗浄物７をアクチュエータ９Ｂを用いてゆっくり
とＩＰＡ等の溶媒蒸気４の中から引き出すと、低表面張
力、高蒸気圧であるＩＰＡ等の第２の溶媒は速やかに蒸
発するため被洗浄物７表面は直ちに乾燥される。
中の飽和蒸気圧に達したＩＰＡ等の溶媒蒸気４の中に、
図３１に示されるような製品搬送用容器となるウエハカ
セット１０等に収納されたシリコンウエハ等の被洗浄物
７を搬送操作装置９により送り込む。なお、被洗浄物７
の表面は水等の第１の溶媒で濡れている。また、搬送操
作装置９は、ウエハカセット１０を支持する支持棒９Ａ
と、この支持棒９Ａの上端に連結されたアクチュエータ
９Ｂとを備えている。これにより、直ちにシリコンウエ
ハ等の被洗浄物７の表面にＩＰＡ等の溶媒蒸気４が結露
する。このＩＰＡ等の結露は被洗浄物７の表面の温度が
ＩＰＡ等の溶媒蒸気４の液化温度に達するまで持続す
る。結露したＩＰＡ等の第２の溶媒は被洗浄物７表面に
付着している水等の第１の溶媒と速やかに置換しながら
被洗浄物７の表面上を覆って下方に流れ、その後受け皿
１１に流れ落ちる。なお、この受け皿１１に流れ落ちた
ＩＰＡ等の第２の溶媒の中には置換した水等が含まれる
ため、排液口１２を介して槽本体１から外に排出され
る。このようにして表面をＩＰＡ等の第２の溶媒で置換
した被洗浄物７をアクチュエータ９Ｂを用いてゆっくり
とＩＰＡ等の溶媒蒸気４の中から引き出すと、低表面張
力、高蒸気圧であるＩＰＡ等の第２の溶媒は速やかに蒸
発するため被洗浄物７表面は直ちに乾燥される。
【０００５】なお、図３０に示した従来の蒸気乾燥装置
としては、例えば特公昭第５８−２０１号公報に記載さ
れており、図３１に示したウエハカセット１０としては
例えば大日本商事株式会社発行のカタログＣＡＴ．Ｎ
ｏ．２０５Ｒ「フロロウエア９０−９１（２０５Ｒ）」
に記載されている。
としては、例えば特公昭第５８−２０１号公報に記載さ
れており、図３１に示したウエハカセット１０としては
例えば大日本商事株式会社発行のカタログＣＡＴ．Ｎ
ｏ．２０５Ｒ「フロロウエア９０−９１（２０５Ｒ）」
に記載されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ＩＰＡ蒸気乾燥装置においては、ウエハカセット１０及
びこれに収納された被洗浄物７の有する熱容量がガイド
容器６の内部に供給されたＩＰＡ等の蒸気４の持つ潜熱
より小さい場合、ガイド容器６内に送り込まれた被洗浄
物７の下部表面上に微細なゴミが残り、最終的にシミが
発生するという問題があった。例えば、ウエハカセット
１０に収納された被洗浄物７の枚数が少ない場合（例え
ば１枚）では被洗浄物７の下部表面上にシミが残るが、
収納された被洗浄物７の枚数が多い場合（例えば２５
枚）ではシミが残りにくいという違いが出ていた。この
現象について詳細に研究した結果、以下のメカニズムで
シミが発生していたことがわかった。
ＩＰＡ蒸気乾燥装置においては、ウエハカセット１０及
びこれに収納された被洗浄物７の有する熱容量がガイド
容器６の内部に供給されたＩＰＡ等の蒸気４の持つ潜熱
より小さい場合、ガイド容器６内に送り込まれた被洗浄
物７の下部表面上に微細なゴミが残り、最終的にシミが
発生するという問題があった。例えば、ウエハカセット
１０に収納された被洗浄物７の枚数が少ない場合（例え
ば１枚）では被洗浄物７の下部表面上にシミが残るが、
収納された被洗浄物７の枚数が多い場合（例えば２５
枚）ではシミが残りにくいという違いが出ていた。この
現象について詳細に研究した結果、以下のメカニズムで
シミが発生していたことがわかった。
【０００７】被洗浄物７上へ溶媒蒸気４が供給され結露
する現象は、被洗浄物７が溶媒蒸気４から潜熱を奪うた
めに生じる現象である。そのため、被洗浄物７の温度が
溶媒蒸気４の沸点近傍まで上昇すると、もはや被洗浄物
７上における溶媒蒸気４の結露は起こらない。また、溶
媒蒸気４の結露により被洗浄物７上の水及び異物を効率
良く流し落とすためには、最終的に溶媒蒸気４が結露す
る部分を被洗浄物７の最下部にする必要がある。これ
は、最終的な結露が被洗浄物７の上部で起こると、被洗
浄物７の上部に付着していた異物は被洗浄物７の途中ま
で流れ落ちるものの、完全に被洗浄物７の最下部にまで
流れるという保証がないからである。
する現象は、被洗浄物７が溶媒蒸気４から潜熱を奪うた
めに生じる現象である。そのため、被洗浄物７の温度が
溶媒蒸気４の沸点近傍まで上昇すると、もはや被洗浄物
７上における溶媒蒸気４の結露は起こらない。また、溶
媒蒸気４の結露により被洗浄物７上の水及び異物を効率
良く流し落とすためには、最終的に溶媒蒸気４が結露す
る部分を被洗浄物７の最下部にする必要がある。これ
は、最終的な結露が被洗浄物７の上部で起こると、被洗
浄物７の上部に付着していた異物は被洗浄物７の途中ま
で流れ落ちるものの、完全に被洗浄物７の最下部にまで
流れるという保証がないからである。
【０００８】ウエハカセット１０及び被洗浄物７の持つ
熱容量がガイド容器６内部に存在する溶媒蒸気４が保有
する潜熱より小さい場合、アクチュエータ９Ｂでウエハ
カセット１０及び被洗浄物７を槽本体１の上方からガイ
ド容器６の内部へ送り込む際には、まず被洗浄物７の最
下部がＩＰＡ等の溶媒蒸気４に接触する。その後、結露
はガイド容器６の内部で充満する溶媒蒸気４が消失しな
い限り、被洗浄物７の上部に向かって順次進む。このよ
うにして蒸気４は被洗浄物７の最上部において最後に結
露し、この結露により被洗浄物７の最上部に発生したＩ
ＰＡ等の第２の溶媒は被洗浄物７表面の水と置換し、こ
の置換した水はＩＰＡ等と混合した状態で被洗浄物７の
最上部に付着していた微細なゴミと共に被洗浄物７の表
面を下部へと流れる。このため、被洗浄物７の上部表面
に付着していた微細なゴミの一部は、清浄な状態であっ
た被洗浄物７の下部表面上に残り最終的にシミとして残
る。
熱容量がガイド容器６内部に存在する溶媒蒸気４が保有
する潜熱より小さい場合、アクチュエータ９Ｂでウエハ
カセット１０及び被洗浄物７を槽本体１の上方からガイ
ド容器６の内部へ送り込む際には、まず被洗浄物７の最
下部がＩＰＡ等の溶媒蒸気４に接触する。その後、結露
はガイド容器６の内部で充満する溶媒蒸気４が消失しな
い限り、被洗浄物７の上部に向かって順次進む。このよ
うにして蒸気４は被洗浄物７の最上部において最後に結
露し、この結露により被洗浄物７の最上部に発生したＩ
ＰＡ等の第２の溶媒は被洗浄物７表面の水と置換し、こ
の置換した水はＩＰＡ等と混合した状態で被洗浄物７の
最上部に付着していた微細なゴミと共に被洗浄物７の表
面を下部へと流れる。このため、被洗浄物７の上部表面
に付着していた微細なゴミの一部は、清浄な状態であっ
た被洗浄物７の下部表面上に残り最終的にシミとして残
る。
【０００９】一方、ウエハカセット１０及び被洗浄物７
の持つ熱容量がガイド容器６内部の溶媒蒸気４の持つ潜
熱より充分に大きい場合、アクチュエータ７でウエハカ
セット１０及び被洗浄物７をガイド容器６の内部へ送り
込む際には、まず被洗浄物７の最下部がＩＰＡ等の溶媒
蒸気４に接触するものの、ウエハカセット１０及び被洗
浄物７が溶媒蒸気４から奪う潜熱が大きいため、ガイド
容器６の内部に充満する溶媒蒸気４は間もなく消失す
る。そのため、被洗浄物７の下部以外の温度はそれほど
上昇しない。その後、ガイド容器６の外壁に沿って被洗
浄物７の上方からガイド容器６内に溶媒蒸気４が供給さ
れるため、被洗浄物７表面への溶媒蒸気４の供給は被洗
浄物７の上部から下部に向かって順次行われる。また、
最初温度上昇があった被洗浄物７の下部は上方から冷却
されながら流れてくる第２の溶媒（溶媒蒸気４が結露し
たもの）により冷却される。そのため、最終的に溶媒蒸
気４が結露する部分は被洗浄物７の最下部になる。従っ
て、ウエハカセット１０及び被洗浄物７の持つ熱容量が
大きい場合の方が、小さい場合より効率良く異物除去が
行えるのである。
の持つ熱容量がガイド容器６内部の溶媒蒸気４の持つ潜
熱より充分に大きい場合、アクチュエータ７でウエハカ
セット１０及び被洗浄物７をガイド容器６の内部へ送り
込む際には、まず被洗浄物７の最下部がＩＰＡ等の溶媒
蒸気４に接触するものの、ウエハカセット１０及び被洗
浄物７が溶媒蒸気４から奪う潜熱が大きいため、ガイド
容器６の内部に充満する溶媒蒸気４は間もなく消失す
る。そのため、被洗浄物７の下部以外の温度はそれほど
上昇しない。その後、ガイド容器６の外壁に沿って被洗
浄物７の上方からガイド容器６内に溶媒蒸気４が供給さ
れるため、被洗浄物７表面への溶媒蒸気４の供給は被洗
浄物７の上部から下部に向かって順次行われる。また、
最初温度上昇があった被洗浄物７の下部は上方から冷却
されながら流れてくる第２の溶媒（溶媒蒸気４が結露し
たもの）により冷却される。そのため、最終的に溶媒蒸
気４が結露する部分は被洗浄物７の最下部になる。従っ
て、ウエハカセット１０及び被洗浄物７の持つ熱容量が
大きい場合の方が、小さい場合より効率良く異物除去が
行えるのである。
【００１０】また、従来のＩＰＡ蒸気乾燥装置において
は、時として被洗浄物７の表面上に多量の異物が生成し
て残るという問題があった。この現象について詳細に研
究した結果、ＩＰＡ蒸気乾燥装置の槽本体１の下部に溜
められたＩＰＡ等の第２の溶媒２の中に水が１％以上混
入すると被洗浄物７上に多量の異物が生成することがわ
かった。
は、時として被洗浄物７の表面上に多量の異物が生成し
て残るという問題があった。この現象について詳細に研
究した結果、ＩＰＡ蒸気乾燥装置の槽本体１の下部に溜
められたＩＰＡ等の第２の溶媒２の中に水が１％以上混
入すると被洗浄物７上に多量の異物が生成することがわ
かった。
【００１１】さらに、従来のＩＰＡ蒸気乾燥装置におけ
るＩＰＡ等の第２の溶媒２への水の混入経路について詳
細に調査した結果、水とＩＰＡとの置換工程で水が混入
しやすいことが判明した。これは、凝縮コイル５で冷却
液化されたＩＰＡ等の第２の溶媒中の水分濃度の変化に
ついて連続的に計測した結果から得られる。ＩＰＡ等の
第２の溶媒２中の水分濃度の増加は、槽本体１内の飽和
蒸気圧に達したＩＰＡ等の溶媒蒸気４の中に、槽本体１
の外からウエハカセット１０等に収納され且つ水等で濡
れているシリコンウエハ等の被洗浄物７を支持棒９Ａを
介してアクチュエータ９Ｂで送り込んだ直後から観測さ
れ、槽本体１からシリコンウエハ等の被洗浄物７を取り
出すまで続いた。なお、そのＩＰＡ等の溶媒２中の濃度
は０．５％以下から最大約３０％にも増加することもあ
った。このように従来のＩＰＡ蒸気乾燥装置において
は、水とＩＰＡとの置換工程で水の混入があることがわ
かる。また、その量はＩＰＡ等の溶媒２の中に水を１％
以上混入させるには十分な量である。
るＩＰＡ等の第２の溶媒２への水の混入経路について詳
細に調査した結果、水とＩＰＡとの置換工程で水が混入
しやすいことが判明した。これは、凝縮コイル５で冷却
液化されたＩＰＡ等の第２の溶媒中の水分濃度の変化に
ついて連続的に計測した結果から得られる。ＩＰＡ等の
第２の溶媒２中の水分濃度の増加は、槽本体１内の飽和
蒸気圧に達したＩＰＡ等の溶媒蒸気４の中に、槽本体１
の外からウエハカセット１０等に収納され且つ水等で濡
れているシリコンウエハ等の被洗浄物７を支持棒９Ａを
介してアクチュエータ９Ｂで送り込んだ直後から観測さ
れ、槽本体１からシリコンウエハ等の被洗浄物７を取り
出すまで続いた。なお、そのＩＰＡ等の溶媒２中の濃度
は０．５％以下から最大約３０％にも増加することもあ
った。このように従来のＩＰＡ蒸気乾燥装置において
は、水とＩＰＡとの置換工程で水の混入があることがわ
かる。また、その量はＩＰＡ等の溶媒２の中に水を１％
以上混入させるには十分な量である。
【００１２】本発明は上記のような問題点を解決するた
めになされたもので、少ない枚数の被洗浄物を処理する
場合においても被洗浄物にシミを発生させること無く被
洗浄物表面を乾燥することができる蒸気乾燥方法及び蒸
気乾燥装置を提供することを目的とする。
めになされたもので、少ない枚数の被洗浄物を処理する
場合においても被洗浄物にシミを発生させること無く被
洗浄物表面を乾燥することができる蒸気乾燥方法及び蒸
気乾燥装置を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１に係
る蒸気乾燥方法は、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させるた
めの接触空間内に存在する溶媒蒸気が保有する潜熱の量
が被洗浄物を溶媒蒸気の沸点温度にまで加熱できない量
となるように予め接触空間内に存在する溶媒蒸気の絶対
量を制限し、被洗浄物を接触空間内に送り込み、溶媒蒸
気を被洗浄物の上方から接触空間内に供給することによ
り被洗浄物の表面で溶媒蒸気を結露させて被洗浄物を加
熱し、被洗浄物を接触空間から引き出して被洗浄物の表
面に結露した溶媒を蒸発させる方法である。
る蒸気乾燥方法は、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させるた
めの接触空間内に存在する溶媒蒸気が保有する潜熱の量
が被洗浄物を溶媒蒸気の沸点温度にまで加熱できない量
となるように予め接触空間内に存在する溶媒蒸気の絶対
量を制限し、被洗浄物を接触空間内に送り込み、溶媒蒸
気を被洗浄物の上方から接触空間内に供給することによ
り被洗浄物の表面で溶媒蒸気を結露させて被洗浄物を加
熱し、被洗浄物を接触空間から引き出して被洗浄物の表
面に結露した溶媒を蒸発させる方法である。
【００１４】
【００１５】請求項２に係る蒸気乾燥方法は、被洗浄物
及びこれを収納した製品搬送用容器の熱容量を被洗浄物
を溶媒蒸気に接触させるための接触空間内に存在する溶
媒蒸気が保有する潜熱の量より大きくし、製品搬送用容
器に収納された被洗浄物を接触空間内に送り込むことに
より被洗浄物の表面で溶媒蒸気を結露させて被洗浄物を
加熱し、被洗浄物を製品搬送用容器と共に接触空間から
引き出して被洗浄物の表面に結露した溶媒を蒸発させる
方法である。
及びこれを収納した製品搬送用容器の熱容量を被洗浄物
を溶媒蒸気に接触させるための接触空間内に存在する溶
媒蒸気が保有する潜熱の量より大きくし、製品搬送用容
器に収納された被洗浄物を接触空間内に送り込むことに
より被洗浄物の表面で溶媒蒸気を結露させて被洗浄物を
加熱し、被洗浄物を製品搬送用容器と共に接触空間から
引き出して被洗浄物の表面に結露した溶媒を蒸発させる
方法である。
【００１６】請求項３に係る蒸気乾燥方法は、上記請求
項２の方法において、製品搬送用容器に被洗浄物の他に
ダミー製品を収納することにより熱容量を大きくする方
法である。請求項４に係る蒸気乾燥方法は、上記請求項
２の方法において、製品搬送用容器に被洗浄物の他に被
洗浄物より熱容量の大きな吸熱性物品を収納することに
より熱容量を大きくする方法である。
項２の方法において、製品搬送用容器に被洗浄物の他に
ダミー製品を収納することにより熱容量を大きくする方
法である。請求項４に係る蒸気乾燥方法は、上記請求項
２の方法において、製品搬送用容器に被洗浄物の他に被
洗浄物より熱容量の大きな吸熱性物品を収納することに
より熱容量を大きくする方法である。
【００１７】請求項５に係る蒸気乾燥装置は、被洗浄物
を溶媒蒸気に接触させる接触空間内に存在する溶媒蒸気
が保有する潜熱の量が被洗浄物を溶媒蒸気の沸点温度に
まで加熱できない量となるように接触空間内の溶媒蒸気
の絶対量を制限する制限手段を設けたものである。
を溶媒蒸気に接触させる接触空間内に存在する溶媒蒸気
が保有する潜熱の量が被洗浄物を溶媒蒸気の沸点温度に
まで加熱できない量となるように接触空間内の溶媒蒸気
の絶対量を制限する制限手段を設けたものである。
【００１８】請求項６に係る蒸気乾燥装置は、上記請求
項５の装置において、制限手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に仕切を設けたものである。請求項７に係る蒸
気乾燥装置は、上記請求項５の装置において、制限手段
として、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接触空間と溶
媒蒸気を供給する供給空間との間に溶媒蒸気を冷却する
第１冷却手段を設けたものである。請求項８に係る蒸気
乾燥装置は、上記請求項５の装置において、制限手段と
して、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接触空間内に、
接触空間内の溶媒蒸気を接触空間外に排気する第１排気
手段を設けたものである。請求項９に係る蒸気乾燥装置
は、上記請求項５の装置において、制限手段として、被
洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接触空間の外部に、供給
空間から接触空間内へ供給される溶媒蒸気の一部を排気
する第２排気手段を設けたものである。
項５の装置において、制限手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に仕切を設けたものである。請求項７に係る蒸
気乾燥装置は、上記請求項５の装置において、制限手段
として、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接触空間と溶
媒蒸気を供給する供給空間との間に溶媒蒸気を冷却する
第１冷却手段を設けたものである。請求項８に係る蒸気
乾燥装置は、上記請求項５の装置において、制限手段と
して、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接触空間内に、
接触空間内の溶媒蒸気を接触空間外に排気する第１排気
手段を設けたものである。請求項９に係る蒸気乾燥装置
は、上記請求項５の装置において、制限手段として、被
洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接触空間の外部に、供給
空間から接触空間内へ供給される溶媒蒸気の一部を排気
する第２排気手段を設けたものである。
【００１９】請求項１０に係る蒸気乾燥装置は、被洗浄
物を溶媒蒸気に接触させるための接触空間内に存在する
溶媒蒸気を除去するための除去手段を設けたものであ
る。
物を溶媒蒸気に接触させるための接触空間内に存在する
溶媒蒸気を除去するための除去手段を設けたものであ
る。
【００２０】請求項１１に係る蒸気乾燥装置は、上記請
求項１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を
溶媒蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供
給空間との間に設けられた仕切と、接触空間内に設けら
れた溶媒蒸気を冷却する第２冷却手段とを備えたもので
ある。請求項１２に係る蒸気乾燥装置は、上記請求項１
０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒蒸
気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間
との間に設けられた第１冷却手段と、接触空間内に設け
られた第２冷却手段とを備えたものである。請求項１３
に係る蒸気乾燥装置は、上記請求項１０の装置におい
て、除去手段として、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる
接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間との間に設けら
れた仕切と、接触空間内に設けられた第１排気手段とを
備えたものである。請求項１４に係る蒸気乾燥装置は、
上記請求項１０の装置において、除去手段として、被洗
浄物を溶媒蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給
する供給空間との間に設けられた第１冷却手段と、接触
空間内に設けられた第１排気手段とを備えたものであ
る。請求項１５に係る蒸気乾燥装置は、上記請求項１０
の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒蒸気
に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間と
の間に設けられた仕切と、接触空間の外部に設けられた
第２排気手段とを備えたものである。請求項１６に係る
蒸気乾燥装置は、上記請求項１０の装置において、除去
手段として、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接触空間
と溶媒蒸気を供給する供給空間との間に設けられた第１
冷却手段と、接触空間の外部に設けられた第２排気手段
とを備えたものである。
求項１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を
溶媒蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供
給空間との間に設けられた仕切と、接触空間内に設けら
れた溶媒蒸気を冷却する第２冷却手段とを備えたもので
ある。請求項１２に係る蒸気乾燥装置は、上記請求項１
０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒蒸
気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間
との間に設けられた第１冷却手段と、接触空間内に設け
られた第２冷却手段とを備えたものである。請求項１３
に係る蒸気乾燥装置は、上記請求項１０の装置におい
て、除去手段として、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる
接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間との間に設けら
れた仕切と、接触空間内に設けられた第１排気手段とを
備えたものである。請求項１４に係る蒸気乾燥装置は、
上記請求項１０の装置において、除去手段として、被洗
浄物を溶媒蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給
する供給空間との間に設けられた第１冷却手段と、接触
空間内に設けられた第１排気手段とを備えたものであ
る。請求項１５に係る蒸気乾燥装置は、上記請求項１０
の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒蒸気
に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間と
の間に設けられた仕切と、接触空間の外部に設けられた
第２排気手段とを備えたものである。請求項１６に係る
蒸気乾燥装置は、上記請求項１０の装置において、除去
手段として、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接触空間
と溶媒蒸気を供給する供給空間との間に設けられた第１
冷却手段と、接触空間の外部に設けられた第２排気手段
とを備えたものである。
【００２１】請求項１７に係る蒸気乾燥装置は、上記請
求項５の装置において、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させ
る接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間とを区画する
と共に被洗浄物及び溶媒蒸気を接触空間内に導入するた
めの開口部を有するガイド容器を備えたものである。請
求項１８に係る蒸気乾燥装置は、上記請求項１７の装置
において、制限手段として、一端部がガイド容器の開口
部を囲むようにガイド容器に接触すると共に他端部が溶
媒蒸気の充満する領域の外に位置する筒形状の仕切と、
この仕切を移動させてガイド容器の開口部からガイド容
器内に溶媒蒸気を導入させる第１移動手段とを備えたも
のである。請求項１９に係る蒸気乾燥装置は、上記請求
項１８の装置において、ガイド容器に仕切の一端部を支
持するストッパを設けたものである。請求項２０に係る
蒸気乾燥装置は、上記請求項１７の装置において、制限
手段として、ガイド容器の開口部が溶媒蒸気が充満する
領域内に位置する第１の位置と溶媒蒸気が充満する領域
外に位置する第２の位置との間でガイド容器を移動させ
る第２移動手段を備えたものである。請求項２１に係る
蒸気乾燥装置は、上記請求項２０の装置において、ガイ
ド容器内に被洗浄物を保持するための保持台を設けたも
のである。
求項５の装置において、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させ
る接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間とを区画する
と共に被洗浄物及び溶媒蒸気を接触空間内に導入するた
めの開口部を有するガイド容器を備えたものである。請
求項１８に係る蒸気乾燥装置は、上記請求項１７の装置
において、制限手段として、一端部がガイド容器の開口
部を囲むようにガイド容器に接触すると共に他端部が溶
媒蒸気の充満する領域の外に位置する筒形状の仕切と、
この仕切を移動させてガイド容器の開口部からガイド容
器内に溶媒蒸気を導入させる第１移動手段とを備えたも
のである。請求項１９に係る蒸気乾燥装置は、上記請求
項１８の装置において、ガイド容器に仕切の一端部を支
持するストッパを設けたものである。請求項２０に係る
蒸気乾燥装置は、上記請求項１７の装置において、制限
手段として、ガイド容器の開口部が溶媒蒸気が充満する
領域内に位置する第１の位置と溶媒蒸気が充満する領域
外に位置する第２の位置との間でガイド容器を移動させ
る第２移動手段を備えたものである。請求項２１に係る
蒸気乾燥装置は、上記請求項２０の装置において、ガイ
ド容器内に被洗浄物を保持するための保持台を設けたも
のである。
【００２２】請求項２２に係る蒸気乾燥装置は、上記請
求項１７の装置において、溶媒蒸気がガイド容器内に挿
入された被洗浄物の表面で結露することにより得られる
結露液を蒸気乾燥装置の外部に排出するために上記ガイ
ド容器に接続された排液管と、ガイド容器内の溶媒蒸気
を排出するために上記排液管に接続された負圧ポンプと
を備えたものである。請求項２３に係る蒸気乾燥装置
は、上記請求項１７の装置において、ガイド容器外部の
溶媒蒸気を供給する供給空間に配置された蒸気検出用温
度計を備えたものである。
求項１７の装置において、溶媒蒸気がガイド容器内に挿
入された被洗浄物の表面で結露することにより得られる
結露液を蒸気乾燥装置の外部に排出するために上記ガイ
ド容器に接続された排液管と、ガイド容器内の溶媒蒸気
を排出するために上記排液管に接続された負圧ポンプと
を備えたものである。請求項２３に係る蒸気乾燥装置
は、上記請求項１７の装置において、ガイド容器外部の
溶媒蒸気を供給する供給空間に配置された蒸気検出用温
度計を備えたものである。
【００２３】請求項２４に係る蒸気乾燥装置は、溶媒を
加熱して溶媒蒸気を形成するヒーターと、被洗浄物を溶
媒蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給
空間とを区画するガイド容器と、ガイド容器内の接触空
間に被洗浄物を挿入させるための搬送手段と、ガイド容
器外部の供給空間に配置された蒸気検出用温度計とを備
え、蒸気検出用温度計の指示温度に基づいてヒーターへ
の通電を制御することにより接触空間内の溶媒蒸気の絶
対量を制限するものである。
加熱して溶媒蒸気を形成するヒーターと、被洗浄物を溶
媒蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給
空間とを区画するガイド容器と、ガイド容器内の接触空
間に被洗浄物を挿入させるための搬送手段と、ガイド容
器外部の供給空間に配置された蒸気検出用温度計とを備
え、蒸気検出用温度計の指示温度に基づいてヒーターへ
の通電を制御することにより接触空間内の溶媒蒸気の絶
対量を制限するものである。
【００２４】請求項２５に係る蒸気乾燥装置は、水分濃
度検出手段として溶媒蒸気を供給する供給空間における
溶媒蒸気の温度を測定することにより溶媒中の水分濃度
を検出する蒸気温度測定用温度計を備えたものである。
度検出手段として溶媒蒸気を供給する供給空間における
溶媒蒸気の温度を測定することにより溶媒中の水分濃度
を検出する蒸気温度測定用温度計を備えたものである。
【００２５】請求項２６に係る蒸気乾燥装置は、溶媒蒸
気を供給する供給空間の互いに異なる箇所に複数の蒸気
温度測定用温度計を備え、これら温度計の指示温度の平
均値から溶媒中の水分濃度を検出するものである。請求
項２７に係る蒸気乾燥装置は、溶媒蒸気を供給するため
に用いられる溶媒に含まれる水分濃度を検出するための
水分濃度検出手段と、水分濃度検出手段で検出された溶
媒中の水分濃度が０．８％を越えると蒸気供給に供与さ
れる溶媒を新しい溶媒と交換する交換手段を備えたもの
である。
気を供給する供給空間の互いに異なる箇所に複数の蒸気
温度測定用温度計を備え、これら温度計の指示温度の平
均値から溶媒中の水分濃度を検出するものである。請求
項２７に係る蒸気乾燥装置は、溶媒蒸気を供給するため
に用いられる溶媒に含まれる水分濃度を検出するための
水分濃度検出手段と、水分濃度検出手段で検出された溶
媒中の水分濃度が０．８％を越えると蒸気供給に供与さ
れる溶媒を新しい溶媒と交換する交換手段を備えたもの
である。
【００２６】請求項２８に係る蒸気乾燥装置は、被洗浄
物を保持するための容器本体と、この容器本体に設けら
れると共にこの容器の熱容量を大きくするための吸熱体
とを備えた製品搬送用容器を有するものである。
物を保持するための容器本体と、この容器本体に設けら
れると共にこの容器の熱容量を大きくするための吸熱体
とを備えた製品搬送用容器を有するものである。
【００２７】
【作用】請求項１に係る蒸気乾燥方法においては、被洗
浄物を溶媒蒸気中に挿入する前に接触空間内に存在する
溶媒蒸気が保有する潜熱の量が被洗浄物を溶媒蒸気の沸
点温度にまで加熱できない量となるように、接触空間内
に存在する溶媒蒸気の絶対量を制限するので、接触空間
内の溶媒蒸気を全て被洗浄物の一部で結露させることが
できる。このため、その後接触空間内に供給される溶媒
蒸気は被洗浄物の最上部から徐々に下部に向かって結露
し、その結露した溶媒とそれに含まれる異物は順次下方
に流れる。
浄物を溶媒蒸気中に挿入する前に接触空間内に存在する
溶媒蒸気が保有する潜熱の量が被洗浄物を溶媒蒸気の沸
点温度にまで加熱できない量となるように、接触空間内
に存在する溶媒蒸気の絶対量を制限するので、接触空間
内の溶媒蒸気を全て被洗浄物の一部で結露させることが
できる。このため、その後接触空間内に供給される溶媒
蒸気は被洗浄物の最上部から徐々に下部に向かって結露
し、その結露した溶媒とそれに含まれる異物は順次下方
に流れる。
【００２８】
【００２９】請求項２に係る蒸気乾燥方法においては、
被洗浄物及びこれを収納した製品搬送用容器の熱容量を
接触空間内に存在する溶媒蒸気が保有する潜熱の量より
大きくしたので、接触空間内に供給される溶媒蒸気は被
洗浄物の最上部から徐々に下部に向かって結露し、その
結露した溶媒とそれに含まれる異物は順次下方に流れ
る。
被洗浄物及びこれを収納した製品搬送用容器の熱容量を
接触空間内に存在する溶媒蒸気が保有する潜熱の量より
大きくしたので、接触空間内に供給される溶媒蒸気は被
洗浄物の最上部から徐々に下部に向かって結露し、その
結露した溶媒とそれに含まれる異物は順次下方に流れ
る。
【００３０】請求項３に係る蒸気乾燥方法においては、
ダミー製品の表面上においても溶媒蒸気が結露するた
め、接触空間内の全ての溶媒蒸気を容易に一旦結露させ
ることができる。請求項４に係る蒸気乾燥方法において
は、吸熱性物品の表面上においても溶媒蒸気が結露する
ため、接触空間内の全ての溶媒蒸気を容易に一旦結露さ
せることができる。
ダミー製品の表面上においても溶媒蒸気が結露するた
め、接触空間内の全ての溶媒蒸気を容易に一旦結露させ
ることができる。請求項４に係る蒸気乾燥方法において
は、吸熱性物品の表面上においても溶媒蒸気が結露する
ため、接触空間内の全ての溶媒蒸気を容易に一旦結露さ
せることができる。
【００３１】請求項５に係る蒸気乾燥装置においては、
制限手段が接触空間内の溶媒蒸気の絶対量を制限するこ
とにより、接触空間内の溶媒蒸気の持つ潜熱の量が、被
洗浄物を溶媒蒸気の沸点温度にまで加熱できない量に制
限される。
制限手段が接触空間内の溶媒蒸気の絶対量を制限するこ
とにより、接触空間内の溶媒蒸気の持つ潜熱の量が、被
洗浄物を溶媒蒸気の沸点温度にまで加熱できない量に制
限される。
【００３２】請求項６に係る蒸気乾燥装置においては、
仕切を閉じることにより供給空間から接触空間への溶媒
蒸気の供給量を制限する。請求項７に係る蒸気乾燥装置
においては、第１冷却手段が供給空間から供給される溶
媒蒸気を冷却することにより、接触空間への溶媒蒸気の
供給量が制限される。請求項８に係る蒸気乾燥装置にお
いては、第１排気手段が接触空間内の溶媒蒸気を接触空
間外に排気することにより、接触空間への溶媒蒸気の供
給量を制限する。請求項９に係る蒸気乾燥装置において
は、第２排気手段が供給空間から接触空間内へ供給され
る溶媒蒸気の一部を排気することにより、接触空間への
溶媒蒸気の供給量を制限する。
仕切を閉じることにより供給空間から接触空間への溶媒
蒸気の供給量を制限する。請求項７に係る蒸気乾燥装置
においては、第１冷却手段が供給空間から供給される溶
媒蒸気を冷却することにより、接触空間への溶媒蒸気の
供給量が制限される。請求項８に係る蒸気乾燥装置にお
いては、第１排気手段が接触空間内の溶媒蒸気を接触空
間外に排気することにより、接触空間への溶媒蒸気の供
給量を制限する。請求項９に係る蒸気乾燥装置において
は、第２排気手段が供給空間から接触空間内へ供給され
る溶媒蒸気の一部を排気することにより、接触空間への
溶媒蒸気の供給量を制限する。
【００３３】請求項１０に係る蒸気乾燥装置において
は、除去手段が接触空間内の溶媒蒸気を除去する。請求
項１１に係る蒸気乾燥装置においては、仕切と第２冷却
手段とにより接触空間内の溶媒蒸気が除去される。請求
項１２に係る蒸気乾燥装置においては、第１冷却手段と
第２冷却手段とにより接触空間内の溶媒蒸気が除去され
る。請求項１３に係る蒸気乾燥装置においては、仕切と
第１排気手段とにより接触空間内の溶媒蒸気が除去され
る。請求項１４に係る蒸気乾燥装置においては、第１冷
却手段と第１排気手段とにより接触空間内の溶媒蒸気が
除去される。請求項１５に係る蒸気乾燥装置において
は、仕切と第２排気手段とにより接触空間内の溶媒蒸気
が除去される。請求項１６に係る蒸気乾燥装置において
は、第１冷却手段と第２排気手段とにより接触空間内の
溶媒蒸気が除去される。
は、除去手段が接触空間内の溶媒蒸気を除去する。請求
項１１に係る蒸気乾燥装置においては、仕切と第２冷却
手段とにより接触空間内の溶媒蒸気が除去される。請求
項１２に係る蒸気乾燥装置においては、第１冷却手段と
第２冷却手段とにより接触空間内の溶媒蒸気が除去され
る。請求項１３に係る蒸気乾燥装置においては、仕切と
第１排気手段とにより接触空間内の溶媒蒸気が除去され
る。請求項１４に係る蒸気乾燥装置においては、第１冷
却手段と第１排気手段とにより接触空間内の溶媒蒸気が
除去される。請求項１５に係る蒸気乾燥装置において
は、仕切と第２排気手段とにより接触空間内の溶媒蒸気
が除去される。請求項１６に係る蒸気乾燥装置において
は、第１冷却手段と第２排気手段とにより接触空間内の
溶媒蒸気が除去される。
【００３４】請求項１７に係る蒸気乾燥装置において
は、ガイド容器が接触空間と供給空間とを区画し、被洗
浄物及び溶媒蒸気はガイド容器に設けられた開口部を介
して接触空間内に導入される。請求項１８に係る蒸気乾
燥装置においては、第１移動手段が仕切を移動させるこ
とによりガイド容器の開口部からガイド容器内への溶媒
蒸気の導入が制御される。請求項１９に係る蒸気乾燥装
置においては、ガイド容器に設けられたストッパが仕切
の一端部を支持する。請求項２０に係る蒸気乾燥装置に
おいては、第２移動手段がガイド容器を移動させること
によりガイド容器の開口部からガイド容器内への溶媒蒸
気の導入が制御される。請求項２１に係る蒸気乾燥装置
においては、ガイド容器内に設けられた保持台に被洗浄
物が保持される。
は、ガイド容器が接触空間と供給空間とを区画し、被洗
浄物及び溶媒蒸気はガイド容器に設けられた開口部を介
して接触空間内に導入される。請求項１８に係る蒸気乾
燥装置においては、第１移動手段が仕切を移動させるこ
とによりガイド容器の開口部からガイド容器内への溶媒
蒸気の導入が制御される。請求項１９に係る蒸気乾燥装
置においては、ガイド容器に設けられたストッパが仕切
の一端部を支持する。請求項２０に係る蒸気乾燥装置に
おいては、第２移動手段がガイド容器を移動させること
によりガイド容器の開口部からガイド容器内への溶媒蒸
気の導入が制御される。請求項２１に係る蒸気乾燥装置
においては、ガイド容器内に設けられた保持台に被洗浄
物が保持される。
【００３５】請求項２２に係る蒸気乾燥装置において
は、負圧ポンプが排液管を介してガイド容器内の溶媒蒸
気を排出することによりガイド容器内の溶媒蒸気の量が
制限される。請求項２３に係る蒸気乾燥装置において
は、ガイド容器外部の供給空間に配置された蒸気検出用
温度計の指示温度により溶媒蒸気がガイド容器内に供給
されているか否かを確認できる。
は、負圧ポンプが排液管を介してガイド容器内の溶媒蒸
気を排出することによりガイド容器内の溶媒蒸気の量が
制限される。請求項２３に係る蒸気乾燥装置において
は、ガイド容器外部の供給空間に配置された蒸気検出用
温度計の指示温度により溶媒蒸気がガイド容器内に供給
されているか否かを確認できる。
【００３６】請求項２４に係る蒸気乾燥装置において
は、ヒーターへの通電を制御することにより接触空間内
の溶媒蒸気の絶対量が制限される。請求項２５に係る蒸
気乾燥装置においては、蒸気温度測定用温度計により供
給空間における溶媒蒸気の温度を測定することにより溶
媒中の水分濃度が検出される。請求項２６に係る蒸気乾
燥装置においては、複数の蒸気温度測定用温度計の指示
温度の平均値から溶媒中の水分濃度を検出する。
は、ヒーターへの通電を制御することにより接触空間内
の溶媒蒸気の絶対量が制限される。請求項２５に係る蒸
気乾燥装置においては、蒸気温度測定用温度計により供
給空間における溶媒蒸気の温度を測定することにより溶
媒中の水分濃度が検出される。請求項２６に係る蒸気乾
燥装置においては、複数の蒸気温度測定用温度計の指示
温度の平均値から溶媒中の水分濃度を検出する。
【００３７】請求項２７に係る蒸気乾燥装置において
は、水分濃度検出手段で検出された溶媒中の水分濃度が
０．８％を越えると交換手段が蒸気供給に供与される溶
媒を新しい溶媒と交換する。
は、水分濃度検出手段で検出された溶媒中の水分濃度が
０．８％を越えると交換手段が蒸気供給に供与される溶
媒を新しい溶媒と交換する。
【００３８】請求項２８に係る蒸気乾燥装置において
は、製品搬送用容器の容器本体に設けられた吸熱体によ
りこの容器の熱容量を大きくすることができる。
は、製品搬送用容器の容器本体に設けられた吸熱体によ
りこの容器の熱容量を大きくすることができる。
【００３９】
【実施例】以下、図１〜図２９を参照してこの発明の実
施例を説明する。 実施例１．実施例１に係る蒸気乾燥装置は、図１に示さ
れるように、図３０の従来装置と同様に、蒸気乾燥槽
１、低表面張力及び高蒸気圧を有するＩＰＡ等の第２の
溶媒２、ヒータ３、ＩＰＡ等の溶媒蒸気４、凝縮コイル
５、ガイド容器６、接触空間８、搬送操作装置９、ウエ
ハカセット１０、受け皿１１、排液管１２及び温度計１
３を備えている。シリコンウエハ等の被洗浄物７を溶媒
蒸気４と接触させて被洗浄物７の表面に溶媒蒸気４を結
露させると共に溶媒蒸気４の潜熱で被洗浄物７の温度を
上昇させた後、被洗浄物７を溶媒蒸気４中から引き出す
ことにより被洗浄物７に結露した第２の溶媒２を蒸発さ
せて被洗浄物７をその温度で乾燥するように構成されて
いる。
施例を説明する。 実施例１．実施例１に係る蒸気乾燥装置は、図１に示さ
れるように、図３０の従来装置と同様に、蒸気乾燥槽
１、低表面張力及び高蒸気圧を有するＩＰＡ等の第２の
溶媒２、ヒータ３、ＩＰＡ等の溶媒蒸気４、凝縮コイル
５、ガイド容器６、接触空間８、搬送操作装置９、ウエ
ハカセット１０、受け皿１１、排液管１２及び温度計１
３を備えている。シリコンウエハ等の被洗浄物７を溶媒
蒸気４と接触させて被洗浄物７の表面に溶媒蒸気４を結
露させると共に溶媒蒸気４の潜熱で被洗浄物７の温度を
上昇させた後、被洗浄物７を溶媒蒸気４中から引き出す
ことにより被洗浄物７に結露した第２の溶媒２を蒸発さ
せて被洗浄物７をその温度で乾燥するように構成されて
いる。
【００４０】そして、実施例１では、図１に示されるよ
うに、被洗浄物７を溶媒蒸気４に接触させるための接触
空間８と第２の溶媒２の液面上で且つＩＰＡ等の溶媒蒸
気４が充満する供給空間１５との間に開閉可能な仕切１
４を設け、この仕切１４によって接触空間８への溶媒蒸
気４の供給量を制限し得るように構成されている。接触
空間８は、本質的にはガイド容器６内に形成されている
が、本実施例では、上述のように仕切１４によって区画
される第２の溶媒２側の溶媒蒸気４が充満する空間を供
給空間１５とし、仕切１４と凝縮コイル５との間に形成
される溶媒蒸気４が供給される空間を接触空間８として
いる。従って、本実施例の蒸気乾燥装置は、溶媒蒸気４
の充満した供給空間１５から溶媒蒸気４を接触空間８へ
供給する際に、仕切１４を開閉制御することによって接
触空間８への溶媒蒸気４の供給量を制御できるように構
成されている。そして、ガイド容器６内の接触空間８に
存在する溶媒蒸気４の量を制限することにより、被洗浄
物７及びウエハカセット１０の熱容量を接触空間８にお
ける溶媒蒸気４の潜熱よりも十分に大きくすることがで
きる。
うに、被洗浄物７を溶媒蒸気４に接触させるための接触
空間８と第２の溶媒２の液面上で且つＩＰＡ等の溶媒蒸
気４が充満する供給空間１５との間に開閉可能な仕切１
４を設け、この仕切１４によって接触空間８への溶媒蒸
気４の供給量を制限し得るように構成されている。接触
空間８は、本質的にはガイド容器６内に形成されている
が、本実施例では、上述のように仕切１４によって区画
される第２の溶媒２側の溶媒蒸気４が充満する空間を供
給空間１５とし、仕切１４と凝縮コイル５との間に形成
される溶媒蒸気４が供給される空間を接触空間８として
いる。従って、本実施例の蒸気乾燥装置は、溶媒蒸気４
の充満した供給空間１５から溶媒蒸気４を接触空間８へ
供給する際に、仕切１４を開閉制御することによって接
触空間８への溶媒蒸気４の供給量を制御できるように構
成されている。そして、ガイド容器６内の接触空間８に
存在する溶媒蒸気４の量を制限することにより、被洗浄
物７及びウエハカセット１０の熱容量を接触空間８にお
ける溶媒蒸気４の潜熱よりも十分に大きくすることがで
きる。
【００４１】次に、このような蒸気乾燥装置により、第
２の溶媒２としてＩＰＡを用いて被洗浄物７としてのシ
リコンウエハを蒸気乾燥する方法について説明する。こ
の蒸気乾燥方法は、シリコンウエハ７を乾燥させる際
に、予めガイド容器６内の接触空間８に供給するＩＰＡ
蒸気４の量を仕切１４によって制限する点に特徴を有し
ている。即ち、本実施例では、ガイド容器６内の接触空
間８に例えば水で洗浄したシリコンウエハ７をセットす
るに際し、シリコンウエハ７を乾燥させるに必要なＩＰ
Ａ蒸気４の絶対量（シリコンウエハ７の温度をＩＰＡ蒸
気４の液化温度にまで上げるに要するＩＰＡ蒸気４の
量）の一部を仕切１４を開放して供給空間１５から接触
空間８へ予め供給した後、仕切１４を閉じてＩＰＡ蒸気
４の接触空間８への供給を停止する。その後、搬送操作
装置９でシリコンウエハ７を保持したウエハカセット１
０をガイド容器６内へ挿入する際、まずシリコンウエハ
７の最下部がＩＰＡ蒸気４に接触するものの、シリコン
ウエハ７及びウエハカセット１０の熱容量がＩＰＡ蒸気
４の潜熱より大きいため、接触空間８内のＩＰＡ蒸気４
は間も無く消失する。そのためシリコンウエハ７の最下
部以外の温度はそれほど上昇しない。そしてその後、仕
切１４を開放すると供給空間１５から接触空間８へのＩ
ＰＡ蒸気４の供給はガイド容器６の外壁を介してシリコ
ンウエハ７の上部から行なわれる。このため、シリコン
ウエハ７の温度は上部から下部に向けて徐々に上昇する
ことになり、また最初に温度上昇があったシリコンウエ
ハ７の下部は、上部で結露して流れて来るＩＰＡ２によ
って冷却され、最終的にＩＰＡ蒸気４が結露する部分は
シリコンウエハ７の最下部になり、従来のように蒸気乾
燥の最終段階でシリコンウエハ７の上部にあった微細な
ゴミがシリコンウエハ７の下部へ流れることがなく、そ
の結果、シリコンウエハ７の微細なゴミは効率良く除去
され、シミの発生が防止されるという作用効果を奏す
る。
２の溶媒２としてＩＰＡを用いて被洗浄物７としてのシ
リコンウエハを蒸気乾燥する方法について説明する。こ
の蒸気乾燥方法は、シリコンウエハ７を乾燥させる際
に、予めガイド容器６内の接触空間８に供給するＩＰＡ
蒸気４の量を仕切１４によって制限する点に特徴を有し
ている。即ち、本実施例では、ガイド容器６内の接触空
間８に例えば水で洗浄したシリコンウエハ７をセットす
るに際し、シリコンウエハ７を乾燥させるに必要なＩＰ
Ａ蒸気４の絶対量（シリコンウエハ７の温度をＩＰＡ蒸
気４の液化温度にまで上げるに要するＩＰＡ蒸気４の
量）の一部を仕切１４を開放して供給空間１５から接触
空間８へ予め供給した後、仕切１４を閉じてＩＰＡ蒸気
４の接触空間８への供給を停止する。その後、搬送操作
装置９でシリコンウエハ７を保持したウエハカセット１
０をガイド容器６内へ挿入する際、まずシリコンウエハ
７の最下部がＩＰＡ蒸気４に接触するものの、シリコン
ウエハ７及びウエハカセット１０の熱容量がＩＰＡ蒸気
４の潜熱より大きいため、接触空間８内のＩＰＡ蒸気４
は間も無く消失する。そのためシリコンウエハ７の最下
部以外の温度はそれほど上昇しない。そしてその後、仕
切１４を開放すると供給空間１５から接触空間８へのＩ
ＰＡ蒸気４の供給はガイド容器６の外壁を介してシリコ
ンウエハ７の上部から行なわれる。このため、シリコン
ウエハ７の温度は上部から下部に向けて徐々に上昇する
ことになり、また最初に温度上昇があったシリコンウエ
ハ７の下部は、上部で結露して流れて来るＩＰＡ２によ
って冷却され、最終的にＩＰＡ蒸気４が結露する部分は
シリコンウエハ７の最下部になり、従来のように蒸気乾
燥の最終段階でシリコンウエハ７の上部にあった微細な
ゴミがシリコンウエハ７の下部へ流れることがなく、そ
の結果、シリコンウエハ７の微細なゴミは効率良く除去
され、シミの発生が防止されるという作用効果を奏す
る。
【００４２】図１の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６イ
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル３に２４
℃の冷水を流すと共にヒータ３に通電してＩＰＡ２を沸
騰させ、これによって発生したＩＰＡ蒸気４を蒸気乾燥
槽１内に満たした。このとき、仕切１４は開放したまま
である。次に、ガイド容器６内の温度計１３が８３℃を
示していることを確認した後、仕切１４を閉じる。する
と、ガイド容器６内の温度計１３の指示温度が徐々に下
がり、３分後には４２℃まで下がった。そして、ウエハ
カセット１０に封切り後の６インチシリコンウエハ７を
１枚セットし、これを搬送操作装置９によって３ｍ／秒
の速度でガイド容器６内の接触空間８へ挿入し、そのま
まの状態で１分放置した。このとき温度計１３の指示温
度が４２℃から２７℃まで下がった。次に、仕切１４を
再び開放した。これによってＩＰＡ蒸気４が接触空間８
へ供給され、温度計１３の指示温度が２７℃から急速に
上昇し始め、約２分後には８３℃を示した。その後、搬
送操作装置９を用いて０.０５ｍ／秒の速度でウエハカ
セット１０を蒸気乾燥槽１から引き出し、シリコンウエ
ハ７の蒸気乾燥を終了する。
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル３に２４
℃の冷水を流すと共にヒータ３に通電してＩＰＡ２を沸
騰させ、これによって発生したＩＰＡ蒸気４を蒸気乾燥
槽１内に満たした。このとき、仕切１４は開放したまま
である。次に、ガイド容器６内の温度計１３が８３℃を
示していることを確認した後、仕切１４を閉じる。する
と、ガイド容器６内の温度計１３の指示温度が徐々に下
がり、３分後には４２℃まで下がった。そして、ウエハ
カセット１０に封切り後の６インチシリコンウエハ７を
１枚セットし、これを搬送操作装置９によって３ｍ／秒
の速度でガイド容器６内の接触空間８へ挿入し、そのま
まの状態で１分放置した。このとき温度計１３の指示温
度が４２℃から２７℃まで下がった。次に、仕切１４を
再び開放した。これによってＩＰＡ蒸気４が接触空間８
へ供給され、温度計１３の指示温度が２７℃から急速に
上昇し始め、約２分後には８３℃を示した。その後、搬
送操作装置９を用いて０.０５ｍ／秒の速度でウエハカ
セット１０を蒸気乾燥槽１から引き出し、シリコンウエ
ハ７の蒸気乾燥を終了する。
【００４３】実施例２．実施例２に係る蒸気乾燥装置
は、図２に示されるように、実施例１の仕切１４に代え
て例えば外部冷却コイル１６からなる冷却手段を用いた
以外は実施例１と同様に構成されている。この外部冷却
コイル１６は、ガイド容器６の上部より低い位置でガイ
ド容器６を外側から囲み、蒸気乾燥槽１とガイド容器６
間の溶媒蒸気４の上面を覆うように配設されている。そ
して、この外部冷却コイル１６内の冷却水は、通水／止
水することができ、流量を適宜制御できるように構成さ
れている。従って、本実施例の蒸気乾燥装置は、ＩＰＡ
蒸気４の充満した供給空間１５からＩＰＡ蒸気４を接触
空間８へ供給する際に、外部冷却コイル１６内の冷却水
の流量を制御することによって接触空間８へのＩＰＡ蒸
気４の供給量を制御できるように構成されている。その
結果、実施例１と同様にシリコンウエハ７及びウエハカ
セット１０の熱容量を接触空間８におけるＩＰＡ蒸気４
の潜熱よりも十分に大きくすることができる。従って、
実施例１と同様の作用効果を奏することができる。
は、図２に示されるように、実施例１の仕切１４に代え
て例えば外部冷却コイル１６からなる冷却手段を用いた
以外は実施例１と同様に構成されている。この外部冷却
コイル１６は、ガイド容器６の上部より低い位置でガイ
ド容器６を外側から囲み、蒸気乾燥槽１とガイド容器６
間の溶媒蒸気４の上面を覆うように配設されている。そ
して、この外部冷却コイル１６内の冷却水は、通水／止
水することができ、流量を適宜制御できるように構成さ
れている。従って、本実施例の蒸気乾燥装置は、ＩＰＡ
蒸気４の充満した供給空間１５からＩＰＡ蒸気４を接触
空間８へ供給する際に、外部冷却コイル１６内の冷却水
の流量を制御することによって接触空間８へのＩＰＡ蒸
気４の供給量を制御できるように構成されている。その
結果、実施例１と同様にシリコンウエハ７及びウエハカ
セット１０の熱容量を接触空間８におけるＩＰＡ蒸気４
の潜熱よりも十分に大きくすることができる。従って、
実施例１と同様の作用効果を奏することができる。
【００４４】図２の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６イ
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル３に２４
℃の冷却水を流すと共にヒータ３に通電してＩＰＡ２を
沸騰させ、これによって発生したＩＰＡ蒸気４を蒸気乾
燥槽１内に満たした。このとき、外部冷却コイル１６は
止水状態にしてある。次に、ガイド容器６内の温度計１
３が８３℃を示していることを確認した後、外部冷却コ
イル１６に冷却水を流した。すると、ガイド容器６内の
温度計１３の指示温度が徐々に下がり、３分後には２７
℃まで下がった。そして、ウエハカセット１０に封切り
後のシリコンウエハ７を１枚セットし、これを搬送操作
装置９によって３ｍ／秒の速度でガイド容器６内の接触
空間８へ挿入し、そのままの状態で１分放置した。この
とき温度計１３の指示温度が２７℃から２５℃まで下が
った。次に、外部冷却コイル１６に流していた冷却水を
止めた。これによってＩＰＡ蒸気４の外部冷却コイル１
６での結露量が急速に減少してＩＰＡ蒸気４が接触空間
８へ供給され、温度計１３の指示温度が２７℃から急速
に上昇し始め、約３分後には８３℃を示した。その後、
搬送操作装置９を用いて０.０５ｍ／秒の速度でウエハ
カセット１０を蒸気乾燥槽１から引き出し、シリコンウ
エハ７の蒸気乾燥を終了する。
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル３に２４
℃の冷却水を流すと共にヒータ３に通電してＩＰＡ２を
沸騰させ、これによって発生したＩＰＡ蒸気４を蒸気乾
燥槽１内に満たした。このとき、外部冷却コイル１６は
止水状態にしてある。次に、ガイド容器６内の温度計１
３が８３℃を示していることを確認した後、外部冷却コ
イル１６に冷却水を流した。すると、ガイド容器６内の
温度計１３の指示温度が徐々に下がり、３分後には２７
℃まで下がった。そして、ウエハカセット１０に封切り
後のシリコンウエハ７を１枚セットし、これを搬送操作
装置９によって３ｍ／秒の速度でガイド容器６内の接触
空間８へ挿入し、そのままの状態で１分放置した。この
とき温度計１３の指示温度が２７℃から２５℃まで下が
った。次に、外部冷却コイル１６に流していた冷却水を
止めた。これによってＩＰＡ蒸気４の外部冷却コイル１
６での結露量が急速に減少してＩＰＡ蒸気４が接触空間
８へ供給され、温度計１３の指示温度が２７℃から急速
に上昇し始め、約３分後には８３℃を示した。その後、
搬送操作装置９を用いて０.０５ｍ／秒の速度でウエハ
カセット１０を蒸気乾燥槽１から引き出し、シリコンウ
エハ７の蒸気乾燥を終了する。
【００４５】実施例３．実施例３に係る蒸気乾燥装置
は、図３に示されるように、ガイド容器６内のＩＰＡ蒸
気４の量を制限する手段としてガイド容器６内の接触空
間８の底部に例えば内部排気ファン１７からなる排気手
段を設け、この内部排気ファン１７によってガイド容器
６内の接触空間８から外部へＩＰＡ蒸気４を排気するこ
とによってガイド容器６内の接触空間８へのＩＰＡ蒸気
４の流入量を制御できるように構成されている。その他
は上記各実施例と同様に構成されている。内部排気ファ
ン１７によってガイド容器６内のＩＰＡ蒸気４をその外
部へ排気してＩＰＡ蒸気４を減少するようにしたため、
上記各実施例と同様、シリコンウエハ７及びウエハカセ
ット１０の熱容量を接触空間８におけるＩＰＡ蒸気４の
潜熱よりも十分に大きくすることができ、上記各実施例
と同様の作用効果を奏することができる。
は、図３に示されるように、ガイド容器６内のＩＰＡ蒸
気４の量を制限する手段としてガイド容器６内の接触空
間８の底部に例えば内部排気ファン１７からなる排気手
段を設け、この内部排気ファン１７によってガイド容器
６内の接触空間８から外部へＩＰＡ蒸気４を排気するこ
とによってガイド容器６内の接触空間８へのＩＰＡ蒸気
４の流入量を制御できるように構成されている。その他
は上記各実施例と同様に構成されている。内部排気ファ
ン１７によってガイド容器６内のＩＰＡ蒸気４をその外
部へ排気してＩＰＡ蒸気４を減少するようにしたため、
上記各実施例と同様、シリコンウエハ７及びウエハカセ
ット１０の熱容量を接触空間８におけるＩＰＡ蒸気４の
潜熱よりも十分に大きくすることができ、上記各実施例
と同様の作用効果を奏することができる。
【００４６】図３の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６イ
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル３に２４
℃の冷却水を流すと共にヒータ３に通電してＩＰＡ２を
沸騰させ、これによって発生したＩＰＡ蒸気４を蒸気乾
燥槽１内に満たした。このとき、内部排気ファン１７は
停止している。次に、ガイド容器６内の温度計１３が８
３℃を示していることを確認した後、内部排気ファン１
７に通電して内部排気ファン１７を回転させた。する
と、ガイド容器６内の温度計１３の指示温度が急激に下
がり、３分後には２９℃まで下がった。そして、内部排
気ファン１７を停止させると共に、ウエハカセット１０
に封切り後の６インチシリコンウエハ７を１枚セット
し、これを搬送操作装置９によって３ｍ／秒の速度でガ
イド容器６内の接触空間８へ挿入し、そのままの状態で
約３分間保持した。このとき温度計１３の指示温度が８
３℃まで上がった。その後、搬送操作装置９を用いて
０.０５ｍ／秒の速度でウエハカセット１０を蒸気乾燥
槽１から引き出し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了
する。
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル３に２４
℃の冷却水を流すと共にヒータ３に通電してＩＰＡ２を
沸騰させ、これによって発生したＩＰＡ蒸気４を蒸気乾
燥槽１内に満たした。このとき、内部排気ファン１７は
停止している。次に、ガイド容器６内の温度計１３が８
３℃を示していることを確認した後、内部排気ファン１
７に通電して内部排気ファン１７を回転させた。する
と、ガイド容器６内の温度計１３の指示温度が急激に下
がり、３分後には２９℃まで下がった。そして、内部排
気ファン１７を停止させると共に、ウエハカセット１０
に封切り後の６インチシリコンウエハ７を１枚セット
し、これを搬送操作装置９によって３ｍ／秒の速度でガ
イド容器６内の接触空間８へ挿入し、そのままの状態で
約３分間保持した。このとき温度計１３の指示温度が８
３℃まで上がった。その後、搬送操作装置９を用いて
０.０５ｍ／秒の速度でウエハカセット１０を蒸気乾燥
槽１から引き出し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了
する。
【００４７】実施例４．実施例４に係る蒸気乾燥装置
は、図４に示されるように、ガイド容器６内のＩＰＡ蒸
気４の量を制限する手段としてガイド容器６の接触空間
８の外部、即ちガイド容器６のやや上方に例えば外部排
気ファン１８からなる排気手段を設け、この外部排気フ
ァン１８によって供給空間１５からのＩＰＡ蒸気４を一
部排気してガイド容器６内の接触空間８へのＩＰＡ蒸気
４の流入量を制御できるように構成されている。その他
は上記各実施例と同様に構成されている。外部排気ファ
ン１８によってガイド容器６内へのＩＰＡ蒸気４の供給
量を制限してＩＰＡ蒸気４を減少するようにしたため、
上記各実施例と同様、シリコンウエハ７及びウエハカセ
ット１０の熱容量を接触空間８におけるＩＰＡ蒸気４の
潜熱よりも十分に大きくすることができ、上記各実施例
と同様の作用効果を奏することができる。
は、図４に示されるように、ガイド容器６内のＩＰＡ蒸
気４の量を制限する手段としてガイド容器６の接触空間
８の外部、即ちガイド容器６のやや上方に例えば外部排
気ファン１８からなる排気手段を設け、この外部排気フ
ァン１８によって供給空間１５からのＩＰＡ蒸気４を一
部排気してガイド容器６内の接触空間８へのＩＰＡ蒸気
４の流入量を制御できるように構成されている。その他
は上記各実施例と同様に構成されている。外部排気ファ
ン１８によってガイド容器６内へのＩＰＡ蒸気４の供給
量を制限してＩＰＡ蒸気４を減少するようにしたため、
上記各実施例と同様、シリコンウエハ７及びウエハカセ
ット１０の熱容量を接触空間８におけるＩＰＡ蒸気４の
潜熱よりも十分に大きくすることができ、上記各実施例
と同様の作用効果を奏することができる。
【００４８】図４の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６イ
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル３に２４
℃の冷却水を流すと共にヒータ３に通電してＩＰＡ２を
沸騰させ、これによって発生したＩＰＡ蒸気４を蒸気乾
燥槽１内に満たした。このとき、外部排気ファン１８は
停止している。次に、ガイド容器６内の温度計１３が８
３℃を示していることを確認した後、外部排気ファン１
８に通電して外部排気ファン１８を回転させた。する
と、ガイド容器６内の温度計１３の指示温度が急激に下
がり、３分後には３５℃まで下がった。そして、外部排
気ファン１８を停止させると共に、ウエハカセット１０
に封切り後のシリコンウエハ７を１枚セットし、これを
搬送操作装置９によって３ｍ／秒の速度でガイド容器６
内の接触空間８へ挿入し、そのままの状態で約３分間保
持した。このとき温度計１３の指示温度が８３℃まで上
がった。その後、搬送操作装置９を用いて０.０５ｍ／
秒の速度でウエハカセット１０を蒸気乾燥槽１から引き
出し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了する。
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル３に２４
℃の冷却水を流すと共にヒータ３に通電してＩＰＡ２を
沸騰させ、これによって発生したＩＰＡ蒸気４を蒸気乾
燥槽１内に満たした。このとき、外部排気ファン１８は
停止している。次に、ガイド容器６内の温度計１３が８
３℃を示していることを確認した後、外部排気ファン１
８に通電して外部排気ファン１８を回転させた。する
と、ガイド容器６内の温度計１３の指示温度が急激に下
がり、３分後には３５℃まで下がった。そして、外部排
気ファン１８を停止させると共に、ウエハカセット１０
に封切り後のシリコンウエハ７を１枚セットし、これを
搬送操作装置９によって３ｍ／秒の速度でガイド容器６
内の接触空間８へ挿入し、そのままの状態で約３分間保
持した。このとき温度計１３の指示温度が８３℃まで上
がった。その後、搬送操作装置９を用いて０.０５ｍ／
秒の速度でウエハカセット１０を蒸気乾燥槽１から引き
出し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了する。
【００４９】実施例５．実施例５に係る蒸気乾燥装置
は、図５に示されるように、仕切１４を有する実施例１
の蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６内の接触
空間８の下方に例えば内部冷却コイル１９からなる冷却
手段を設けたものである。仕切１４によってガイド容器
６外側の接触空間８へのＩＰＡ蒸気４の供給量を制限し
た後、さらに内部冷却コイル１９によってガイド容器６
内の接触空間８に流入したＩＰＡ蒸気４を冷却して接触
空間８のＩＰＡ蒸気４を完全に除去し得るように構成さ
れている。ガイド容器６内のＩＰＡ蒸気４を完全に除去
した後、搬送操作装置９によってシリコンウエハ７を蒸
気乾燥槽１の上部からガイド容器６内の接触空間８へ挿
入する。その結果、シリコンウエハ７の上部から順次Ｉ
ＰＡ蒸気４の結露が起こるため、シリコンウエハ７の上
部にあった微細なゴミがシリコンウエハ７の下部へ流れ
ることがなく、シリコンウエハ７の微細なゴミを効率良
く除去してシミを残すことがなくなるという作用効果を
奏する。
は、図５に示されるように、仕切１４を有する実施例１
の蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６内の接触
空間８の下方に例えば内部冷却コイル１９からなる冷却
手段を設けたものである。仕切１４によってガイド容器
６外側の接触空間８へのＩＰＡ蒸気４の供給量を制限し
た後、さらに内部冷却コイル１９によってガイド容器６
内の接触空間８に流入したＩＰＡ蒸気４を冷却して接触
空間８のＩＰＡ蒸気４を完全に除去し得るように構成さ
れている。ガイド容器６内のＩＰＡ蒸気４を完全に除去
した後、搬送操作装置９によってシリコンウエハ７を蒸
気乾燥槽１の上部からガイド容器６内の接触空間８へ挿
入する。その結果、シリコンウエハ７の上部から順次Ｉ
ＰＡ蒸気４の結露が起こるため、シリコンウエハ７の上
部にあった微細なゴミがシリコンウエハ７の下部へ流れ
ることがなく、シリコンウエハ７の微細なゴミを効率良
く除去してシミを残すことがなくなるという作用効果を
奏する。
【００５０】図５の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６イ
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル３に２４
℃の冷却水を流すと共にヒータ３に通電してＩＰＡ２を
沸騰させ、これによって発生したＩＰＡ蒸気４を蒸気乾
燥槽１内に満たした。このとき、仕切１４は開放したま
まである。次に、ガイド容器６内の温度計１３が８３℃
を示していることを確認した後、仕切１４を閉じると共
に内部冷却コイル１９に冷却水を流した。すると、ガイ
ド容器６内の温度計１３の指示温度が徐々に下がり、２
分後には２３℃まで下がった。そして、ウエハカセット
１０に封切り後のシリコンウエハ７を１枚セットし、こ
れを搬送操作装置９によって３ｍ／秒の速度でガイド容
器６内の接触空間８へ挿入し、そのままの状態で１分放
置した。次に、内部冷却コイル１９に流していた冷却水
を止めると共に仕切１４を再び開放した。このとき温度
計１３の指示温度が２３℃から急速に上昇し始め、約３
分後には８３℃を示した。その後、搬送操作装置９を用
いて０.０５ｍ／秒の速度でウエハカセット１０を蒸気
乾燥槽１から引き出し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を
終了する。
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル３に２４
℃の冷却水を流すと共にヒータ３に通電してＩＰＡ２を
沸騰させ、これによって発生したＩＰＡ蒸気４を蒸気乾
燥槽１内に満たした。このとき、仕切１４は開放したま
まである。次に、ガイド容器６内の温度計１３が８３℃
を示していることを確認した後、仕切１４を閉じると共
に内部冷却コイル１９に冷却水を流した。すると、ガイ
ド容器６内の温度計１３の指示温度が徐々に下がり、２
分後には２３℃まで下がった。そして、ウエハカセット
１０に封切り後のシリコンウエハ７を１枚セットし、こ
れを搬送操作装置９によって３ｍ／秒の速度でガイド容
器６内の接触空間８へ挿入し、そのままの状態で１分放
置した。次に、内部冷却コイル１９に流していた冷却水
を止めると共に仕切１４を再び開放した。このとき温度
計１３の指示温度が２３℃から急速に上昇し始め、約３
分後には８３℃を示した。その後、搬送操作装置９を用
いて０.０５ｍ／秒の速度でウエハカセット１０を蒸気
乾燥槽１から引き出し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を
終了する。
【００５１】実施例６．実施例６に係る蒸気乾燥装置
は、図６に示されるように、外部冷却コイル１６を有す
る実施例２の蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器
６内の接触空間８の下方に内部冷却コイル１９を設けた
ものである。外部冷却コイル１６及び内部冷却コイル１
９がそれぞれ第１冷却手段及び第２冷却手段を形成して
いる。外部冷却コイル１６によってガイド容器６外側の
接触空間８へのＩＰＡ蒸気４の供給量を制限した後、さ
らに内部冷却コイル１９によってガイド容器６内の接触
空間８に流入したＩＰＡ蒸気４を冷却して接触空間８の
ＩＰＡ蒸気４を完全に除去するように構成されている。
内部冷却コイル１９によってガイド容器６内のＩＰＡ蒸
気４を除去できるため、実施例５と同様の作用効果を奏
することができる。
は、図６に示されるように、外部冷却コイル１６を有す
る実施例２の蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器
６内の接触空間８の下方に内部冷却コイル１９を設けた
ものである。外部冷却コイル１６及び内部冷却コイル１
９がそれぞれ第１冷却手段及び第２冷却手段を形成して
いる。外部冷却コイル１６によってガイド容器６外側の
接触空間８へのＩＰＡ蒸気４の供給量を制限した後、さ
らに内部冷却コイル１９によってガイド容器６内の接触
空間８に流入したＩＰＡ蒸気４を冷却して接触空間８の
ＩＰＡ蒸気４を完全に除去するように構成されている。
内部冷却コイル１９によってガイド容器６内のＩＰＡ蒸
気４を除去できるため、実施例５と同様の作用効果を奏
することができる。
【００５２】図６の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６イ
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル３に２４
℃の冷却水を流すと共にヒータ３に通電してＩＰＡ２を
沸騰させ、これによって発生したＩＰＡ蒸気４を蒸気乾
燥槽１内に満たした。このとき、外部冷却コイル１６及
び内部コイル１９はいずれも止水状態にしてある。次
に、ガイド容器６内の温度計１３が８３℃を示している
ことを確認した後、外部冷却コイル１６及び内部コイル
１９の双方に冷却水を流した。すると、ガイド容器６内
の温度計１３の指示温度が徐々に下がり、２分後には２
３℃まで下がった。そして、ウエハカセット１０に封切
り後のシリコンウエハ７を１枚セットし、これを搬送操
作装置９によって３ｍ／秒の速度でガイド容器６内の接
触空間８へ挿入し、そのままの状態で１分放置した。次
に、外部冷却コイル１６及び内部コイル１９に流してい
た冷却水を止めた。このとき温度計１３の指示温度が２
３℃から急速に上昇し始め、約３分後には８３℃を示し
た。その後、搬送操作装置９を用いて０.０５ｍ／秒の
速度でウエハカセット１０を蒸気乾燥槽１から引き出
し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了する。
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル３に２４
℃の冷却水を流すと共にヒータ３に通電してＩＰＡ２を
沸騰させ、これによって発生したＩＰＡ蒸気４を蒸気乾
燥槽１内に満たした。このとき、外部冷却コイル１６及
び内部コイル１９はいずれも止水状態にしてある。次
に、ガイド容器６内の温度計１３が８３℃を示している
ことを確認した後、外部冷却コイル１６及び内部コイル
１９の双方に冷却水を流した。すると、ガイド容器６内
の温度計１３の指示温度が徐々に下がり、２分後には２
３℃まで下がった。そして、ウエハカセット１０に封切
り後のシリコンウエハ７を１枚セットし、これを搬送操
作装置９によって３ｍ／秒の速度でガイド容器６内の接
触空間８へ挿入し、そのままの状態で１分放置した。次
に、外部冷却コイル１６及び内部コイル１９に流してい
た冷却水を止めた。このとき温度計１３の指示温度が２
３℃から急速に上昇し始め、約３分後には８３℃を示し
た。その後、搬送操作装置９を用いて０.０５ｍ／秒の
速度でウエハカセット１０を蒸気乾燥槽１から引き出
し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了する。
【００５３】実施例７．実施例７に係る蒸気乾燥装置
は、図７に示されるように、仕切１４を有する実施例１
の蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６内の接触
空間８の下方に例えば内部排気ファン１７からなる排気
手段を設けたものである。仕切１４によってガイド容器
６外側の接触空間８へのＩＰＡ蒸気４の供給量を制限し
た後、さらに内部排気ファン１７によってガイド容器６
内の接触空間８から外部へＩＰＡ蒸気４を排気してガイ
ド容器６内の接触空間８のＩＰＡ蒸気４を完全に除去す
るように構成されている。内部排気ファン１７によって
ガイド容器６内のＩＰＡ蒸気４を除去できるため、実施
例５及び６と同様の作用効果を奏することができる。
は、図７に示されるように、仕切１４を有する実施例１
の蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６内の接触
空間８の下方に例えば内部排気ファン１７からなる排気
手段を設けたものである。仕切１４によってガイド容器
６外側の接触空間８へのＩＰＡ蒸気４の供給量を制限し
た後、さらに内部排気ファン１７によってガイド容器６
内の接触空間８から外部へＩＰＡ蒸気４を排気してガイ
ド容器６内の接触空間８のＩＰＡ蒸気４を完全に除去す
るように構成されている。内部排気ファン１７によって
ガイド容器６内のＩＰＡ蒸気４を除去できるため、実施
例５及び６と同様の作用効果を奏することができる。
【００５４】図７の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６イ
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。図７に示す蒸
気乾燥装置は実施例３の蒸気乾燥装置に実施例１におけ
る仕切１４を付加したものである。従って、この蒸気乾
燥装置における蒸気乾燥の場合には、実施例３で説明し
た蒸気乾燥において、内部排気ファン１７に通電して内
部排気ファン１７を回転させるときに仕切１４を閉じ、
内部排気ファン１７を停止したときに仕切１４を開放す
る以外は、実施例３と同様に試験を行なってシリコンウ
エハ７を乾燥させた。
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。図７に示す蒸
気乾燥装置は実施例３の蒸気乾燥装置に実施例１におけ
る仕切１４を付加したものである。従って、この蒸気乾
燥装置における蒸気乾燥の場合には、実施例３で説明し
た蒸気乾燥において、内部排気ファン１７に通電して内
部排気ファン１７を回転させるときに仕切１４を閉じ、
内部排気ファン１７を停止したときに仕切１４を開放す
る以外は、実施例３と同様に試験を行なってシリコンウ
エハ７を乾燥させた。
【００５５】実施例８．実施例８に係る蒸気乾燥装置
は、図８に示されるように、外部冷却コイル１６を有す
る実施例２の蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器
６内の接触空間８の下方に例えば内部排気ファン１７か
らなる排気手段を設け、外部冷却コイル１６での冷却水
の流量を制御して接触空間８へのＩＰＡ蒸気４の供給量
を制限した後、さらに内部排気ファン１７によってガイ
ド容器６内の接触空間８から外部へＩＰＡ蒸気４を排気
してガイド容器６内の接触空間８のＩＰＡ蒸気４を完全
に除去するように構成されている。内部排気ファン１７
によってガイド容器６内のＩＰＡ蒸気４を除去できるた
め、実施例５ないし７と同様の作用効果を奏することが
できる。
は、図８に示されるように、外部冷却コイル１６を有す
る実施例２の蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器
６内の接触空間８の下方に例えば内部排気ファン１７か
らなる排気手段を設け、外部冷却コイル１６での冷却水
の流量を制御して接触空間８へのＩＰＡ蒸気４の供給量
を制限した後、さらに内部排気ファン１７によってガイ
ド容器６内の接触空間８から外部へＩＰＡ蒸気４を排気
してガイド容器６内の接触空間８のＩＰＡ蒸気４を完全
に除去するように構成されている。内部排気ファン１７
によってガイド容器６内のＩＰＡ蒸気４を除去できるた
め、実施例５ないし７と同様の作用効果を奏することが
できる。
【００５６】図８の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６イ
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。図８に示す蒸
気乾燥装置は実施例３の蒸気乾燥装置に実施例２におけ
る外部冷却コイル１６を付加したものである。従って、
この蒸気乾燥装置における蒸気乾燥の場合には、実施例
３で説明した蒸気乾燥において、内部排気ファン１７に
通電して内部排気ファン１７を回転させるときに外部冷
却コイル１６に冷却水を流してＩＰＡ蒸気４を冷却し、
内部排気ファン１７を停止したときに外部冷却コイル１
６を止水状態にする以外は、実施例３と同様に試験を行
なってシリコンウエハ７を乾燥させた。
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。図８に示す蒸
気乾燥装置は実施例３の蒸気乾燥装置に実施例２におけ
る外部冷却コイル１６を付加したものである。従って、
この蒸気乾燥装置における蒸気乾燥の場合には、実施例
３で説明した蒸気乾燥において、内部排気ファン１７に
通電して内部排気ファン１７を回転させるときに外部冷
却コイル１６に冷却水を流してＩＰＡ蒸気４を冷却し、
内部排気ファン１７を停止したときに外部冷却コイル１
６を止水状態にする以外は、実施例３と同様に試験を行
なってシリコンウエハ７を乾燥させた。
【００５７】実施例９．実施例９に係る蒸気乾燥装置
は、図９に示されるように、仕切１４を有する実施例１
の蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６のやや上
方に例えば外部排気ファン１８からなる排気手段を設け
たものである。仕切１４によってガイド容器６外側の接
触空間８へのＩＰＡ蒸気４の供給量を制限した後、外部
排気ファン１８によって供給空間１５からのＩＰＡ蒸気
４を一部排気することによりガイド容器６内の接触空間
８へのＩＰＡ蒸気４の流入量を制限するように構成され
ている。外部排気ファン１８によってガイド容器６内へ
のＩＰＡ蒸気４の流入量を制限し、ガイド容器６内の少
量のＩＰＡ蒸気４を完全にシリコンウエハ７で結露させ
て除去するようにしたため、実施例５ないし８と同様の
作用効果を奏することができる。
は、図９に示されるように、仕切１４を有する実施例１
の蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６のやや上
方に例えば外部排気ファン１８からなる排気手段を設け
たものである。仕切１４によってガイド容器６外側の接
触空間８へのＩＰＡ蒸気４の供給量を制限した後、外部
排気ファン１８によって供給空間１５からのＩＰＡ蒸気
４を一部排気することによりガイド容器６内の接触空間
８へのＩＰＡ蒸気４の流入量を制限するように構成され
ている。外部排気ファン１８によってガイド容器６内へ
のＩＰＡ蒸気４の流入量を制限し、ガイド容器６内の少
量のＩＰＡ蒸気４を完全にシリコンウエハ７で結露させ
て除去するようにしたため、実施例５ないし８と同様の
作用効果を奏することができる。
【００５８】図９の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６イ
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。図８に示す蒸
気乾燥装置は実施例４の蒸気乾燥装置に実施例１におけ
る仕切１４を付加したものである。従って、この蒸気乾
燥装置における蒸気乾燥の場合には、実施例４で説明し
た蒸気乾燥で、外部排気ファン１８に通電して外部排気
ファン１８を回転させるときに仕切１４を閉じ、外部排
気ファン１８を停止したときに仕切１４を開放する以外
は、実施例４と同様に試験を行なってシリコンウエハ７
を乾燥させた。
ンチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。図８に示す蒸
気乾燥装置は実施例４の蒸気乾燥装置に実施例１におけ
る仕切１４を付加したものである。従って、この蒸気乾
燥装置における蒸気乾燥の場合には、実施例４で説明し
た蒸気乾燥で、外部排気ファン１８に通電して外部排気
ファン１８を回転させるときに仕切１４を閉じ、外部排
気ファン１８を停止したときに仕切１４を開放する以外
は、実施例４と同様に試験を行なってシリコンウエハ７
を乾燥させた。
【００５９】実施例１０．実施例１０に係る蒸気乾燥装
置は、図１０に示されるように、外部冷却コイル１６を
有する実施例２の蒸気乾燥装置において、さらにガイド
容器６のやや上方に例えば外部排気ファン１８からなる
排気手段を設け、外部冷却コイル１６での冷却水の流量
を制御して接触空間８へのＩＰＡ蒸気４の供給量を制限
した後、さらに外部排気ファン１８によって供給空間１
５からのＩＰＡ蒸気４を一部排気してガイド容器６内の
接触空間８へのＩＰＡ蒸気４の流入量を制限するように
構成されている。従って、実施例５ないし９と同様の作
用効果を奏することができる。
置は、図１０に示されるように、外部冷却コイル１６を
有する実施例２の蒸気乾燥装置において、さらにガイド
容器６のやや上方に例えば外部排気ファン１８からなる
排気手段を設け、外部冷却コイル１６での冷却水の流量
を制御して接触空間８へのＩＰＡ蒸気４の供給量を制限
した後、さらに外部排気ファン１８によって供給空間１
５からのＩＰＡ蒸気４を一部排気してガイド容器６内の
接触空間８へのＩＰＡ蒸気４の流入量を制限するように
構成されている。従って、実施例５ないし９と同様の作
用効果を奏することができる。
【００６０】図１０の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６
インチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。図１０に示
す蒸気乾燥装置は実施例４の蒸気乾燥装置に実施例２に
おける外部冷却コイル１６を付加したものである。従っ
て、この蒸気乾燥装置における蒸気乾燥の場合には、実
施例４で説明した蒸気乾燥において、外部排気ファン１
８に通電して外部排気ファン１８を回転させるときに外
部冷却コイル１６に冷却水を流してＩＰＡ蒸気４を冷却
し、外部排気ファン１８を停止したときに外部冷却コイ
ル１６を止水状態にする以外は、実施例４と同様に試験
を行なってシリコンウエハ７を乾燥させた。
インチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。図１０に示
す蒸気乾燥装置は実施例４の蒸気乾燥装置に実施例２に
おける外部冷却コイル１６を付加したものである。従っ
て、この蒸気乾燥装置における蒸気乾燥の場合には、実
施例４で説明した蒸気乾燥において、外部排気ファン１
８に通電して外部排気ファン１８を回転させるときに外
部冷却コイル１６に冷却水を流してＩＰＡ蒸気４を冷却
し、外部排気ファン１８を停止したときに外部冷却コイ
ル１６を止水状態にする以外は、実施例４と同様に試験
を行なってシリコンウエハ７を乾燥させた。
【００６１】実施例１１．実施例１１に係る蒸気乾燥装
置は、図１１に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、ガイド容器６の外壁側と内壁側
とを区切る円筒型の仕切３９及び支持棒３８を介して仕
切３９を上下移動させるための上下移動アクチュエータ
３７を設けた装置である。この仕切３９の上端は、凝縮
コイル５の中央部に位置し、凝縮コイル５の冷却により
溶媒蒸気４の存在しない位置に位置する。そのため、蒸
気４は仕切３９の上端を越えて、ガイド容器６の内部へ
供給されることはない。一方、ガイド容器６の内壁と接
触する仕切３９の下端は、支持棒３８を介してアクチュ
エータ３７で仕切３９を上下移動することによりガイド
容器６の上端より下方にもまた上方にも位置し得る。仕
切３９の下端をガイド容器６の上端より下方に位置させ
ることにより外壁側と内壁側との区切りは閉じられ、ガ
イド容器６の上端より上方に位置させることにより外壁
側と内壁側との区切りは開かれる。そのため、ガイド容
器６の内部への溶媒蒸気４の供給量を容易に制御するこ
とができる。ガイド容器６内の接触空間８に存在する溶
媒蒸気４の量を減らすことで、ガイド容器６内の接触空
間８に存在する溶媒蒸気４の持つ潜熱を小さくすること
ができる。
置は、図１１に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、ガイド容器６の外壁側と内壁側
とを区切る円筒型の仕切３９及び支持棒３８を介して仕
切３９を上下移動させるための上下移動アクチュエータ
３７を設けた装置である。この仕切３９の上端は、凝縮
コイル５の中央部に位置し、凝縮コイル５の冷却により
溶媒蒸気４の存在しない位置に位置する。そのため、蒸
気４は仕切３９の上端を越えて、ガイド容器６の内部へ
供給されることはない。一方、ガイド容器６の内壁と接
触する仕切３９の下端は、支持棒３８を介してアクチュ
エータ３７で仕切３９を上下移動することによりガイド
容器６の上端より下方にもまた上方にも位置し得る。仕
切３９の下端をガイド容器６の上端より下方に位置させ
ることにより外壁側と内壁側との区切りは閉じられ、ガ
イド容器６の上端より上方に位置させることにより外壁
側と内壁側との区切りは開かれる。そのため、ガイド容
器６の内部への溶媒蒸気４の供給量を容易に制御するこ
とができる。ガイド容器６内の接触空間８に存在する溶
媒蒸気４の量を減らすことで、ガイド容器６内の接触空
間８に存在する溶媒蒸気４の持つ潜熱を小さくすること
ができる。
【００６２】例えば、ガイド容器６の内部にウエハカセ
ット１０等に収納されたシリコンウエハ７を支持棒９Ａ
を介してアクチュエータ９Ｂで挿入する前に仕切３９を
閉じることで、ガイド容器６内部への溶媒蒸気４の流入
を阻止できる。このため、ガイド容器６の内部に存在す
る溶媒蒸気４の持つ潜熱は小さくなる。このような状態
になったガイド容器６の内部に外からウエハカセット１
０に収納されたシリコンウエハ７を送り込む際、まずシ
リコンウエハ７表面が溶媒蒸気４に接触するのはシリコ
ンウエハ７の最下部であるものの、ウエハカセット１０
及びシリコンウエハ７が溶媒蒸気４から奪う潜熱の方が
大きくなるため、ガイド容器６内の接触空間８の溶媒蒸
気４は間もなく消失する。そのためシリコンウエハ７の
下部以外の温度はそれほど上昇しない。
ット１０等に収納されたシリコンウエハ７を支持棒９Ａ
を介してアクチュエータ９Ｂで挿入する前に仕切３９を
閉じることで、ガイド容器６内部への溶媒蒸気４の流入
を阻止できる。このため、ガイド容器６の内部に存在す
る溶媒蒸気４の持つ潜熱は小さくなる。このような状態
になったガイド容器６の内部に外からウエハカセット１
０に収納されたシリコンウエハ７を送り込む際、まずシ
リコンウエハ７表面が溶媒蒸気４に接触するのはシリコ
ンウエハ７の最下部であるものの、ウエハカセット１０
及びシリコンウエハ７が溶媒蒸気４から奪う潜熱の方が
大きくなるため、ガイド容器６内の接触空間８の溶媒蒸
気４は間もなく消失する。そのためシリコンウエハ７の
下部以外の温度はそれほど上昇しない。
【００６３】その後、アクチュエータ３７により仕切３
９を移動させてガイド容器６の外壁側と内壁側との区切
りを開き、ガイド容器６の外壁を介して接触空間８内に
シリコンウエハ７の上部から溶媒蒸気４を供給する。そ
の結果、シリコンウエハ７の温度は上部から下部に向か
って徐々に上昇することになる。また、最初に温度上昇
があったシリコンウエハ７の下部は、上部で結露して流
れて来るＩＰＡ２によって冷却され、最終的に溶媒蒸気
４が結露する部分はシリコンウエハ７の最下部になる。
そのため、シリコンウエハ７表面の上部にあった微細な
ゴミがシリコンウエハ７表面の下部へと流れることはな
くなり、結果的にシミの発生が防止される。
９を移動させてガイド容器６の外壁側と内壁側との区切
りを開き、ガイド容器６の外壁を介して接触空間８内に
シリコンウエハ７の上部から溶媒蒸気４を供給する。そ
の結果、シリコンウエハ７の温度は上部から下部に向か
って徐々に上昇することになる。また、最初に温度上昇
があったシリコンウエハ７の下部は、上部で結露して流
れて来るＩＰＡ２によって冷却され、最終的に溶媒蒸気
４が結露する部分はシリコンウエハ７の最下部になる。
そのため、シリコンウエハ７表面の上部にあった微細な
ゴミがシリコンウエハ７表面の下部へと流れることはな
くなり、結果的にシミの発生が防止される。
【００６４】図１１の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６
インチシリコンウエハを蒸気乾燥した。まず、蒸気乾燥
槽１にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル５に２４℃の
冷水を流すとともにヒータ３に通電を行いＩＰＡ２を沸
騰させ、蒸気乾燥槽１の内部をＩＰＡの蒸気４で満たし
た。なお、このとき仕切３９は開放されている。次に、
ガイド容器６の中に設けた温度計１３の温度が８２．４
℃になるのを確認した後、仕切３９を支持棒３８を介し
てアクチュエータ３７により閉じる。すると、ガイド容
器６の中に設けた温度計１３の温度は徐々に下がり、３
分後には４２℃まで下がった。そして、ウエハカセット
１０等に封切り後の６インチのシリコンウエハ７を１枚
セッティングしこれを搬送操作装置９を用いて秒速３ｍ
／ｓｅｃの速度で蒸気乾燥槽１の内部に設けたガイド容
器６の中に投入し、そのままの状態で１分放置した。こ
のときの温度計１３の指示温度は４２℃から２７℃まで
下がった。次に、仕切３９を再び支持棒３８を介してア
クチュエータ３７により開放した。温度計１３の指示温
度計は２７℃から急速に上昇し始め約２分後に８２．４
℃にまで上昇した。次に、搬送操作装置９を用いて秒速
０．０５ｍ／ｓｅｃの速度でウエハカセット１０を蒸気
乾燥槽１の内部から外に引き出し、シリコンウエハ７の
蒸気乾燥を終了する。
インチシリコンウエハを蒸気乾燥した。まず、蒸気乾燥
槽１にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル５に２４℃の
冷水を流すとともにヒータ３に通電を行いＩＰＡ２を沸
騰させ、蒸気乾燥槽１の内部をＩＰＡの蒸気４で満たし
た。なお、このとき仕切３９は開放されている。次に、
ガイド容器６の中に設けた温度計１３の温度が８２．４
℃になるのを確認した後、仕切３９を支持棒３８を介し
てアクチュエータ３７により閉じる。すると、ガイド容
器６の中に設けた温度計１３の温度は徐々に下がり、３
分後には４２℃まで下がった。そして、ウエハカセット
１０等に封切り後の６インチのシリコンウエハ７を１枚
セッティングしこれを搬送操作装置９を用いて秒速３ｍ
／ｓｅｃの速度で蒸気乾燥槽１の内部に設けたガイド容
器６の中に投入し、そのままの状態で１分放置した。こ
のときの温度計１３の指示温度は４２℃から２７℃まで
下がった。次に、仕切３９を再び支持棒３８を介してア
クチュエータ３７により開放した。温度計１３の指示温
度計は２７℃から急速に上昇し始め約２分後に８２．４
℃にまで上昇した。次に、搬送操作装置９を用いて秒速
０．０５ｍ／ｓｅｃの速度でウエハカセット１０を蒸気
乾燥槽１の内部から外に引き出し、シリコンウエハ７の
蒸気乾燥を終了する。
【００６５】実施例１２．実施例１２に係る蒸気乾燥装
置は、図１２に示されるように、第１１図に示した実施
例１１の蒸気乾燥装置において、円筒型の仕切３９の径
を大きくして仕切３９の下端の位置をガイド容器６の外
壁と接触するようにしたものである。その他は、実施例
１１の蒸気乾燥装置と全く同じ構造を有している。
置は、図１２に示されるように、第１１図に示した実施
例１１の蒸気乾燥装置において、円筒型の仕切３９の径
を大きくして仕切３９の下端の位置をガイド容器６の外
壁と接触するようにしたものである。その他は、実施例
１１の蒸気乾燥装置と全く同じ構造を有している。
【００６６】この実施例１２では、仕切３９の下端とガ
イド容器６の外壁とを接触するようにしたことで、仕切
３９の上下移動による仕切３９とガイド容器６の内壁と
のこすれによる発塵物をシリコンウエハ７が存在するガ
イド容器６の接触空間８内に送り込むことが無くなり、
発塵物によるシリコンウエハ７の汚染を避けることがで
きるようになった。
イド容器６の外壁とを接触するようにしたことで、仕切
３９の上下移動による仕切３９とガイド容器６の内壁と
のこすれによる発塵物をシリコンウエハ７が存在するガ
イド容器６の接触空間８内に送り込むことが無くなり、
発塵物によるシリコンウエハ７の汚染を避けることがで
きるようになった。
【００６７】図１２の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６
インチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。実施例１１
と全く同様の条件でシリコンウエハ７の蒸気乾燥を行う
ことができた。
インチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。実施例１１
と全く同様の条件でシリコンウエハ７の蒸気乾燥を行う
ことができた。
【００６８】実施例１３．実施例１３に係る蒸気乾燥装
置は、図１３に示されるように、図１２に示した実施例
１２の蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６の外
壁上に仕切ストッパ５６を設けたものである。ガイド容
器６の外壁上に仕切ストッパ５６を設けたことで、仕切
３９とガイド容器６の外壁との間に多少の隙間があって
も、このストッパ５６を介して、ガイド容器６の外壁側
と内壁側との区切りをより確実に行うことができると共
に、ガイド容器６の外壁への仕切３９の食い込みによる
故障を避けることができるようになった。
置は、図１３に示されるように、図１２に示した実施例
１２の蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６の外
壁上に仕切ストッパ５６を設けたものである。ガイド容
器６の外壁上に仕切ストッパ５６を設けたことで、仕切
３９とガイド容器６の外壁との間に多少の隙間があって
も、このストッパ５６を介して、ガイド容器６の外壁側
と内壁側との区切りをより確実に行うことができると共
に、ガイド容器６の外壁への仕切３９の食い込みによる
故障を避けることができるようになった。
【００６９】図１３の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６
インチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。実施例１１
と全く同様の条件でシリコンウエハ７の蒸気乾燥を行う
ことができた。
インチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。実施例１１
と全く同様の条件でシリコンウエハ７の蒸気乾燥を行う
ことができた。
【００７０】実施例１４．実施例１４に係る蒸気乾燥装
置は、図１４に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、ガイド容器６に支持棒３８を介
して上下移動アクチュエータ３７を取り付け、ガイド容
器６を上下移動できるような構造にしたものである。ガ
イド容器６の上端を凝縮コイル５の中央部から凝縮コイ
ル５の下部より下方の位置に自在に移動できるようにす
ることで、ガイド容器６の上端を溶媒蒸気４の存在しな
い位置から溶媒蒸気４の充満する位置まで自在に移動で
きるようにした蒸気乾燥装置であり、この他は、従来例
の蒸気乾燥装置と全く同じ構造を有している。
置は、図１４に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、ガイド容器６に支持棒３８を介
して上下移動アクチュエータ３７を取り付け、ガイド容
器６を上下移動できるような構造にしたものである。ガ
イド容器６の上端を凝縮コイル５の中央部から凝縮コイ
ル５の下部より下方の位置に自在に移動できるようにす
ることで、ガイド容器６の上端を溶媒蒸気４の存在しな
い位置から溶媒蒸気４の充満する位置まで自在に移動で
きるようにした蒸気乾燥装置であり、この他は、従来例
の蒸気乾燥装置と全く同じ構造を有している。
【００７１】ガイド容器６の上端を凝縮コイル５の中央
部に位置させた時には、溶媒蒸気４はガイド容器６の上
端を越えてガイド容器６内の接触空間８に供給されるこ
とはない。一方、ガイド容器６の上端を凝縮コイル５の
下部より下方に位置させた時には、溶媒蒸気４は速やか
にガイド容器６内の接触空間８に供給される。そのた
め、この実施例１４の蒸気乾燥装置は、実施例１１の蒸
気乾燥装置とほぼ同様の乾燥特性の実現に供することが
できる。
部に位置させた時には、溶媒蒸気４はガイド容器６の上
端を越えてガイド容器６内の接触空間８に供給されるこ
とはない。一方、ガイド容器６の上端を凝縮コイル５の
下部より下方に位置させた時には、溶媒蒸気４は速やか
にガイド容器６内の接触空間８に供給される。そのた
め、この実施例１４の蒸気乾燥装置は、実施例１１の蒸
気乾燥装置とほぼ同様の乾燥特性の実現に供することが
できる。
【００７２】図１４の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６
インチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。実施例１１
と全く同様の条件でシリコンウエハ７の蒸気乾燥を行う
ことができた。
インチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。実施例１１
と全く同様の条件でシリコンウエハ７の蒸気乾燥を行う
ことができた。
【００７３】実施例１５．実施例１５に係る蒸気乾燥装
置は、図１５に示されるように、図１４に示した実施例
１４の蒸気乾燥装置において、ガイド容器６内の受け皿
１１の上にウエハカセット１０を保持するためのカセッ
ト保持台４２を取り付けると共に支持棒９Ａ及びアクチ
ュエータ９Ｂを取り除いたものである。受け皿１１上に
カセット保持台４２を設けたことにより、支持棒９Ａ及
びアクチュエータ９Ｂを取り除くことができ、装置の簡
略化が行われている。
置は、図１５に示されるように、図１４に示した実施例
１４の蒸気乾燥装置において、ガイド容器６内の受け皿
１１の上にウエハカセット１０を保持するためのカセッ
ト保持台４２を取り付けると共に支持棒９Ａ及びアクチ
ュエータ９Ｂを取り除いたものである。受け皿１１上に
カセット保持台４２を設けたことにより、支持棒９Ａ及
びアクチュエータ９Ｂを取り除くことができ、装置の簡
略化が行われている。
【００７４】図１５の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６
インチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。実施例１１
と全く同様の条件でシリコンウエハ７の蒸気乾燥を行う
ことができた。
インチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。実施例１１
と全く同様の条件でシリコンウエハ７の蒸気乾燥を行う
ことができた。
【００７５】実施例１６．実施例１６に係る蒸気乾燥装
置は、図１６に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、排液管１２に負圧ポンプ４１を
接続したものである。排液管１２に負圧ポンプ４１を設
けたことにより、シリコンウエハ７をガイド容器６の内
部に投入する前に、負圧ポンプ４１を駆動してガイド容
器６内の接触空間８に残されるＩＰＡ等の溶媒蒸気４を
排出することができる。そのため、ガイド容器６の内部
に存在する溶媒蒸気４の量を減らすことが可能となり、
ガイド容器６内の接触空間８に存在する溶媒蒸気４の持
つ潜熱を小さくすることができる。
置は、図１６に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、排液管１２に負圧ポンプ４１を
接続したものである。排液管１２に負圧ポンプ４１を設
けたことにより、シリコンウエハ７をガイド容器６の内
部に投入する前に、負圧ポンプ４１を駆動してガイド容
器６内の接触空間８に残されるＩＰＡ等の溶媒蒸気４を
排出することができる。そのため、ガイド容器６の内部
に存在する溶媒蒸気４の量を減らすことが可能となり、
ガイド容器６内の接触空間８に存在する溶媒蒸気４の持
つ潜熱を小さくすることができる。
【００７６】例えば、ガイド容器６の内部にウエハカセ
ット１０にセッティングしたシリコンウエハ７を支持棒
９Ａを介してアクチュエータ９Ｂで挿入する前に負圧ポ
ンプ４１を駆動することで、接触空間８内の溶媒蒸気４
の量を減らすことができ、その結果、接触空間８に存在
する溶媒蒸気４の持つ潜熱は小さくなる。このような状
態になったガイド容器６の内部に外からウエハカセット
１０に収納されたシリコンウエハ７を送り込むと、まず
シリコンウエハ７表面が溶媒蒸気４に接触するのはシリ
コンウエハ７の最下部であるものの、ガイド容器６内部
の溶媒蒸気４が少なくなっているためにウエハカセット
１０及びシリコンウエハ７が溶媒蒸気４から奪う潜熱の
方が大きくなり、ガイド容器６内の接触空間８の溶媒蒸
気４は間もなく消失する。そのためシリコンウエハ７の
下部以外の温度はそれほど上昇しない。
ット１０にセッティングしたシリコンウエハ７を支持棒
９Ａを介してアクチュエータ９Ｂで挿入する前に負圧ポ
ンプ４１を駆動することで、接触空間８内の溶媒蒸気４
の量を減らすことができ、その結果、接触空間８に存在
する溶媒蒸気４の持つ潜熱は小さくなる。このような状
態になったガイド容器６の内部に外からウエハカセット
１０に収納されたシリコンウエハ７を送り込むと、まず
シリコンウエハ７表面が溶媒蒸気４に接触するのはシリ
コンウエハ７の最下部であるものの、ガイド容器６内部
の溶媒蒸気４が少なくなっているためにウエハカセット
１０及びシリコンウエハ７が溶媒蒸気４から奪う潜熱の
方が大きくなり、ガイド容器６内の接触空間８の溶媒蒸
気４は間もなく消失する。そのためシリコンウエハ７の
下部以外の温度はそれほど上昇しない。
【００７７】一方、その後の接触空間８への溶媒蒸気４
の供給はガイド容器６の外壁を介してシリコンウエハ７
の上部から行われるため、シリコンウエハ７の温度は上
部から下部に向かって徐々に上昇することになる。ま
た、最初に温度上昇があったシリコンウエハ７の下部
は、上部で結露して流れて来るＩＰＡ２によって冷却さ
れ、最終的に溶媒蒸気４が結露する部分はシリコンウエ
ハ７の最下部になる。そのため、シリコンウエハ７表面
の上部にあった微細なゴミがシリコンウエハ７表面の下
部へと流れることはなくなり、結果的にシミの発生が防
止される。
の供給はガイド容器６の外壁を介してシリコンウエハ７
の上部から行われるため、シリコンウエハ７の温度は上
部から下部に向かって徐々に上昇することになる。ま
た、最初に温度上昇があったシリコンウエハ７の下部
は、上部で結露して流れて来るＩＰＡ２によって冷却さ
れ、最終的に溶媒蒸気４が結露する部分はシリコンウエ
ハ７の最下部になる。そのため、シリコンウエハ７表面
の上部にあった微細なゴミがシリコンウエハ７表面の下
部へと流れることはなくなり、結果的にシミの発生が防
止される。
【００７８】図１６の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６
インチシリコンウエハを蒸気乾燥した。まず、蒸気乾燥
槽１にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル５に２４℃の
冷水を流すとともにヒータ３に通電を行いＩＰＡ２を沸
騰させ、蒸気乾燥槽１の内部をＩＰＡの溶媒蒸気４で満
たした。なお、このとき負圧ポンプ４１は停止してい
る。次に、ガイド容器６の中に設けた温度計１３の温度
が８２．４℃になるのを確認した後、負圧ポンプ４１を
駆動する。すると、ガイド容器６の中に設けた温度計１
３の温度は徐々に下がり、１分後には５２℃まで下が
り、その後５２℃を維持した。そして、ウエハカセット
１０に封切り後の６インチのシリコンウエハ７を１枚セ
ッティングしこれを搬送操作装置９を用いて秒速３ｍ／
ｓｅｃの速度でガイド容器６の中に投入し、そのままの
状態で１分放置した。このときの温度計１３の指示温度
は５２℃から４７℃まで下がった。次に負圧ポンプ４１
を停止した。温度計１３の指示温度計は５７℃から急速
に上昇し始め約２分後に８２．４℃にまで上昇した。次
に、搬送操作装置９を用いて秒速０．０５ｍ／ｓｅｃの
速度でウエハカセット１０を蒸気乾燥槽１の内部から外
に引き出し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了する。
インチシリコンウエハを蒸気乾燥した。まず、蒸気乾燥
槽１にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル５に２４℃の
冷水を流すとともにヒータ３に通電を行いＩＰＡ２を沸
騰させ、蒸気乾燥槽１の内部をＩＰＡの溶媒蒸気４で満
たした。なお、このとき負圧ポンプ４１は停止してい
る。次に、ガイド容器６の中に設けた温度計１３の温度
が８２．４℃になるのを確認した後、負圧ポンプ４１を
駆動する。すると、ガイド容器６の中に設けた温度計１
３の温度は徐々に下がり、１分後には５２℃まで下が
り、その後５２℃を維持した。そして、ウエハカセット
１０に封切り後の６インチのシリコンウエハ７を１枚セ
ッティングしこれを搬送操作装置９を用いて秒速３ｍ／
ｓｅｃの速度でガイド容器６の中に投入し、そのままの
状態で１分放置した。このときの温度計１３の指示温度
は５２℃から４７℃まで下がった。次に負圧ポンプ４１
を停止した。温度計１３の指示温度計は５７℃から急速
に上昇し始め約２分後に８２．４℃にまで上昇した。次
に、搬送操作装置９を用いて秒速０．０５ｍ／ｓｅｃの
速度でウエハカセット１０を蒸気乾燥槽１の内部から外
に引き出し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了する。
【００７９】実施例１７．実施例１７に係る蒸気乾燥装
置は、図１７に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６の外部に蒸
気検出用温度計４７を設けたものである。この蒸気検出
用温度計４７は、ガイド容器６の内部に蒸気４が供給さ
れているか否かを確認するためのものである。さらに、
ヒーター３を間欠的に通電することで、ＩＰＡ２の加熱
を制御できるようにしてある。なお、これ以外は、従来
例の蒸気乾燥装置と全く同じ構造を有している。
置は、図１７に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６の外部に蒸
気検出用温度計４７を設けたものである。この蒸気検出
用温度計４７は、ガイド容器６の内部に蒸気４が供給さ
れているか否かを確認するためのものである。さらに、
ヒーター３を間欠的に通電することで、ＩＰＡ２の加熱
を制御できるようにしてある。なお、これ以外は、従来
例の蒸気乾燥装置と全く同じ構造を有している。
【００８０】以下、ヒーター３を間欠的に通電すること
で、乾燥不良を軽減できる例を説明する。例えば、ガイ
ド容器６の内部にウエハカセット１０に収納されたシリ
コンウエハ７を搬送操作装置９で挿入する前にヒーター
３への通電を停止することで、ガイド容器６内部への溶
媒蒸気４の供給を抑制・停止し、ガイド容器６内部の溶
媒蒸気４の量を減らすことができる。その結果、ガイド
容器６内の接触空間８に存在する溶媒蒸気４の持つ潜熱
は小さくなる。なお、ガイド容器６内部への溶媒蒸気４
の供給の有無は蒸気検出用温度計４７の指示温度から判
断できる。例えば、溶媒蒸気４が供給されている場合、
蒸気検出用温度計４７はＩＰＡ２の沸点とほぼ同じ温度
を示す。しかし、溶媒蒸気４が供給されていない場合、
蒸気検出用温度計４７はＩＰＡ２の沸点よりはるかに低
い温度を示す。
で、乾燥不良を軽減できる例を説明する。例えば、ガイ
ド容器６の内部にウエハカセット１０に収納されたシリ
コンウエハ７を搬送操作装置９で挿入する前にヒーター
３への通電を停止することで、ガイド容器６内部への溶
媒蒸気４の供給を抑制・停止し、ガイド容器６内部の溶
媒蒸気４の量を減らすことができる。その結果、ガイド
容器６内の接触空間８に存在する溶媒蒸気４の持つ潜熱
は小さくなる。なお、ガイド容器６内部への溶媒蒸気４
の供給の有無は蒸気検出用温度計４７の指示温度から判
断できる。例えば、溶媒蒸気４が供給されている場合、
蒸気検出用温度計４７はＩＰＡ２の沸点とほぼ同じ温度
を示す。しかし、溶媒蒸気４が供給されていない場合、
蒸気検出用温度計４７はＩＰＡ２の沸点よりはるかに低
い温度を示す。
【００８１】このような状態になったガイド容器６の内
部に外からウエハカセット１０に収納されたシリコンウ
エハ７を搬送操作装置９で送り込むと、まずシリコンウ
エハ７表面が溶媒蒸気４に接触するのはシリコンウエハ
７の最下部であるものの、ガイド容器６内部の溶媒蒸気
４が少なくなっているためにウエハカセット１０及びシ
リコンウエハ７が溶媒蒸気４から奪う潜熱の方が大きく
なり、ガイド容器６内の接触空間８の溶媒蒸気４は間も
なく消失する。そのためシリコンウエハ７の下部以外の
温度はそれほど上昇しない。
部に外からウエハカセット１０に収納されたシリコンウ
エハ７を搬送操作装置９で送り込むと、まずシリコンウ
エハ７表面が溶媒蒸気４に接触するのはシリコンウエハ
７の最下部であるものの、ガイド容器６内部の溶媒蒸気
４が少なくなっているためにウエハカセット１０及びシ
リコンウエハ７が溶媒蒸気４から奪う潜熱の方が大きく
なり、ガイド容器６内の接触空間８の溶媒蒸気４は間も
なく消失する。そのためシリコンウエハ７の下部以外の
温度はそれほど上昇しない。
【００８２】次に、ヒーター３への通電を再開すること
でガイド容器６の内部へ溶媒蒸気４を再供給する。この
とき接触空間８への溶媒蒸気４の供給はガイド容器６の
外壁を介してシリコンウエハ７の上部から行われるた
め、シリコンウエハ７の温度は上部から下部に向かって
徐々に上昇することになる。また、最初に温度上昇があ
ったシリコンウエハ７の下部は、上部で結露して流れて
来るＩＰＡ２によって冷却され、最終的に溶媒蒸気４が
結露する部分はシリコンウエハ７の最下部になる。その
ため、シリコンウエハ７表面の上部にあった微細なゴミ
がシリコンウエハ７表面の下部へと流れることはなくな
り、結果的にシミの発生が防止される。
でガイド容器６の内部へ溶媒蒸気４を再供給する。この
とき接触空間８への溶媒蒸気４の供給はガイド容器６の
外壁を介してシリコンウエハ７の上部から行われるた
め、シリコンウエハ７の温度は上部から下部に向かって
徐々に上昇することになる。また、最初に温度上昇があ
ったシリコンウエハ７の下部は、上部で結露して流れて
来るＩＰＡ２によって冷却され、最終的に溶媒蒸気４が
結露する部分はシリコンウエハ７の最下部になる。その
ため、シリコンウエハ７表面の上部にあった微細なゴミ
がシリコンウエハ７表面の下部へと流れることはなくな
り、結果的にシミの発生が防止される。
【００８３】図１７の蒸気乾燥装置を用いて水洗後の６
インチのシリコンウエハを蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル５に２４℃
の冷水を流すとともにヒーター３に通電を行いＩＰＡ２
を沸騰させ、蒸気乾燥槽１の内部をＩＰＡの蒸気４で満
たした。このとき蒸気検出用温度計４７の指示温度は８
２．４℃であった。次に、ガイド容器６の中に設けた温
度計１３の温度が８２．４℃になるのを確認した後、ヒ
ーター３への通電を止めた、すると、蒸気検出用温度計
４７の指示温度は徐々に下がり、２分後には４７℃まで
下がり、この事から、ガイド容器６内部への溶媒蒸気４
の供給が停止したことを確認した。また、ガイド容器６
の中に設けた温度計１３の温度は徐々に下がり、１０分
後には７２℃まで下がった。そして、ウエハカセット１
０に封切り後の６インチのシリコンウエハ７を１枚セッ
ティングし、これを搬送操作装置９を用いて秒速３ｍ／
ｓｅｃの速度でガイド容器６の中に投入し、そのままの
状態で１分放置した。この時の温度計１３の指示温度は
７２℃から３５℃まで下がった。次にヒーター３への通
電を再開した。すると蒸気検出用温度計４７の指示温度
は、少しの遅延時間を置き、急速に上昇と始め約１分後
には８２．４℃にまで上昇した。また、温度計１３の指
示温度計も少しの遅延時間を置き、３５℃から急速に上
昇し始め約３分後には８２．４℃に達した。次に、搬送
操作装置９を用いて秒速０．０５ｍ／ｓｅｃの速度でウ
エハカセット１０を蒸気乾燥槽１の内部から外に引き出
し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了する。
インチのシリコンウエハを蒸気乾燥した。まず、蒸気乾
燥槽１にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイル５に２４℃
の冷水を流すとともにヒーター３に通電を行いＩＰＡ２
を沸騰させ、蒸気乾燥槽１の内部をＩＰＡの蒸気４で満
たした。このとき蒸気検出用温度計４７の指示温度は８
２．４℃であった。次に、ガイド容器６の中に設けた温
度計１３の温度が８２．４℃になるのを確認した後、ヒ
ーター３への通電を止めた、すると、蒸気検出用温度計
４７の指示温度は徐々に下がり、２分後には４７℃まで
下がり、この事から、ガイド容器６内部への溶媒蒸気４
の供給が停止したことを確認した。また、ガイド容器６
の中に設けた温度計１３の温度は徐々に下がり、１０分
後には７２℃まで下がった。そして、ウエハカセット１
０に封切り後の６インチのシリコンウエハ７を１枚セッ
ティングし、これを搬送操作装置９を用いて秒速３ｍ／
ｓｅｃの速度でガイド容器６の中に投入し、そのままの
状態で１分放置した。この時の温度計１３の指示温度は
７２℃から３５℃まで下がった。次にヒーター３への通
電を再開した。すると蒸気検出用温度計４７の指示温度
は、少しの遅延時間を置き、急速に上昇と始め約１分後
には８２．４℃にまで上昇した。また、温度計１３の指
示温度計も少しの遅延時間を置き、３５℃から急速に上
昇し始め約３分後には８２．４℃に達した。次に、搬送
操作装置９を用いて秒速０．０５ｍ／ｓｅｃの速度でウ
エハカセット１０を蒸気乾燥槽１の内部から外に引き出
し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了する。
【００８４】比較例１．上記の各実施例の効果を調べる
ために、図３０に示した従来の蒸気乾燥装置を用いて水
洗後の６インチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。ま
ず、蒸気乾燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイ
ル５に２４℃の冷却水を流すと共にヒータ３に通電して
ＩＰＡ２を沸騰させ、これによって発生した溶媒蒸気４
を蒸気乾燥槽１内に満たした。次に、ガイド容器６内の
温度計１３が８２．４℃を示していることを確認した
後、ウエハカセット１０に封切り後の６インチシリコン
ウエハ７を１枚セットし、これを搬送操作装置９によっ
て３ｍ／秒の速度で溶媒蒸気４が充満したガイド容器６
内の接触空間８へ挿入し、そのままの状態で５分間保持
した。この時温度計１３の指示温度が８２．４℃から６
８℃まで急激に下がった後、徐々に８２．４℃まで復帰
した。その後、搬送操作装置９を用いて０．０５ｍ／秒
の速度でウエハカセット１０を蒸気乾燥槽１から引き出
し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了する。
ために、図３０に示した従来の蒸気乾燥装置を用いて水
洗後の６インチのシリコンウエハ７を蒸気乾燥した。ま
ず、蒸気乾燥槽１内にＩＰＡ２を投入した後、凝縮コイ
ル５に２４℃の冷却水を流すと共にヒータ３に通電して
ＩＰＡ２を沸騰させ、これによって発生した溶媒蒸気４
を蒸気乾燥槽１内に満たした。次に、ガイド容器６内の
温度計１３が８２．４℃を示していることを確認した
後、ウエハカセット１０に封切り後の６インチシリコン
ウエハ７を１枚セットし、これを搬送操作装置９によっ
て３ｍ／秒の速度で溶媒蒸気４が充満したガイド容器６
内の接触空間８へ挿入し、そのままの状態で５分間保持
した。この時温度計１３の指示温度が８２．４℃から６
８℃まで急激に下がった後、徐々に８２．４℃まで復帰
した。その後、搬送操作装置９を用いて０．０５ｍ／秒
の速度でウエハカセット１０を蒸気乾燥槽１から引き出
し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了する。
【００８５】次に、上記実施例１〜１７及び比較例１に
基づいて洗浄していない６インチのシリコンウエハ（信
越シリコン社製）をそれぞれ蒸気乾燥した場合の蒸気乾
燥前後のゴミ（微粒子）の増減について具体的に試験を
行った。この際、表面検査装置ＩＳ−２０００（日立電
子エンジニアリング株式会社製）によりシリコンウエハ
７のウエハ端から内側８ｍｍの部分を除いた範囲につい
て０．３μｍ以上の微粒子数を測定し、その測定個数で
ゴミの増減評価を行なった。
基づいて洗浄していない６インチのシリコンウエハ（信
越シリコン社製）をそれぞれ蒸気乾燥した場合の蒸気乾
燥前後のゴミ（微粒子）の増減について具体的に試験を
行った。この際、表面検査装置ＩＳ−２０００（日立電
子エンジニアリング株式会社製）によりシリコンウエハ
７のウエハ端から内側８ｍｍの部分を除いた範囲につい
て０．３μｍ以上の微粒子数を測定し、その測定個数で
ゴミの増減評価を行なった。
【００８６】なお、信越シリコン社から搬入された封切
り後の６インチのシリコンウエハ７のウエハ端から内側
８ｍｍの部分を除いた範囲について表面検査装置ＩＳ−
２０００で０．３μｍ以上の微粒子数の測定を行なった
ところ、全てのシリコンウエハ７で６〜１０個の微粒子
が認められ、微粒子の個数の平均値は８個であった。ま
た、ウエハ端から内側８ｍｍの部分を含むシリコンウエ
ハ７全面について同様の測定を行なったところ、全ての
シリコンウエハ７で１００〜３００個の微粒子が認めら
れ、微粒子数の平均値は２００個であった。この結果か
ら、信越シリコン社から搬入された封切り後の６インチ
のシリコンウエハ７では、ウエハ端から内側８ｍｍの範
囲に微粒子が集中していることが判った。ウエハ端から
内側８ｍｍの範囲に集中する微粒子は、シリコンウエハ
７の搬入までに用いられるウエハケース１０の内壁とウ
エハ端との接触により生成したものと推定される。
り後の６インチのシリコンウエハ７のウエハ端から内側
８ｍｍの部分を除いた範囲について表面検査装置ＩＳ−
２０００で０．３μｍ以上の微粒子数の測定を行なった
ところ、全てのシリコンウエハ７で６〜１０個の微粒子
が認められ、微粒子の個数の平均値は８個であった。ま
た、ウエハ端から内側８ｍｍの部分を含むシリコンウエ
ハ７全面について同様の測定を行なったところ、全ての
シリコンウエハ７で１００〜３００個の微粒子が認めら
れ、微粒子数の平均値は２００個であった。この結果か
ら、信越シリコン社から搬入された封切り後の６インチ
のシリコンウエハ７では、ウエハ端から内側８ｍｍの範
囲に微粒子が集中していることが判った。ウエハ端から
内側８ｍｍの範囲に集中する微粒子は、シリコンウエハ
７の搬入までに用いられるウエハケース１０の内壁とウ
エハ端との接触により生成したものと推定される。
【００８７】そこで、実施例１〜１７及び比較例１に基
づいて蒸気乾燥されたシリコンウエハ７について表面検
査装置ＩＳ−２０００を用いてウエハ端から内側８ｍｍ
の部分を除く範囲で測定された微粒子数の平均値Ａ、及
び除外範囲のないウエハ全面で測定された微粒子数の平
均値Ｂを表１に示す。
づいて蒸気乾燥されたシリコンウエハ７について表面検
査装置ＩＳ−２０００を用いてウエハ端から内側８ｍｍ
の部分を除く範囲で測定された微粒子数の平均値Ａ、及
び除外範囲のないウエハ全面で測定された微粒子数の平
均値Ｂを表１に示す。
【００８８】 表１ 微粒子数Ａ 微粒子数Ｂ 実施例１ １ １０ 実施例２ ０ ７ 実施例３ １０ ３９ 実施例４ １２ ４５ 実施例５ ０ ４ 実施例６ ０ ３ 実施例７ ２ ２５ 実施例８ ３ ２１ 実施例９ ７ ３０ 実施例１０ ６ ２７ 実施例１１ ４ ２３ 実施例１２ １ ７ 実施例１３ １ ８ 実施例１４ １ １１ 実施例１５ １ ８ 実施例１６ ６ ５７ 実施例１７ ４ ３４ 比較例１ １８８ ３５６
【００８９】表１から明らかなように、実施例１〜１７
の蒸気乾燥装置を用いて蒸気乾燥したシリコンウエハ７
の方が、従来の蒸気乾燥装置を用いて蒸気乾燥したシリ
コンウエハ７よりも格段に微粒子が少ないことがわか
る。すなわち、上記の各実施例によれば、少ない枚数の
シリコンウエハ７を乾燥処理する場合であってもシミを
残すことなくシリコンウエハ７を乾燥することができ
る。
の蒸気乾燥装置を用いて蒸気乾燥したシリコンウエハ７
の方が、従来の蒸気乾燥装置を用いて蒸気乾燥したシリ
コンウエハ７よりも格段に微粒子が少ないことがわか
る。すなわち、上記の各実施例によれば、少ない枚数の
シリコンウエハ７を乾燥処理する場合であってもシミを
残すことなくシリコンウエハ７を乾燥することができ
る。
【００９０】実施例１８．実施例１８に係る蒸気乾燥装
置は、図１８に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、さらに蒸気乾燥槽１の下部に溜
められた第２の溶媒としてのＩＰＡ２中の水分濃度を測
定するための水分濃度計４５を設けたものである。
置は、図１８に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、さらに蒸気乾燥槽１の下部に溜
められた第２の溶媒としてのＩＰＡ２中の水分濃度を測
定するための水分濃度計４５を設けたものである。
【００９１】図１８に示す蒸気乾燥装置を用いて非洗浄
の信越シリコン社製６インチのシリコンウエハ７を蒸気
乾燥した場合の蒸気乾燥前後での微粒子数の増減につい
て実験を行った。実験は、ウエハカセット１０に封切り
後のシリコンウエハ７を２５枚セッティングし、蒸気乾
燥槽１下部に溜められたＩＰＡ２中に適当量の水を加え
ながら、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を行った。なお、
その他の条件は、実施例１１と全く同様の条件で行っ
た。
の信越シリコン社製６インチのシリコンウエハ７を蒸気
乾燥した場合の蒸気乾燥前後での微粒子数の増減につい
て実験を行った。実験は、ウエハカセット１０に封切り
後のシリコンウエハ７を２５枚セッティングし、蒸気乾
燥槽１下部に溜められたＩＰＡ２中に適当量の水を加え
ながら、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を行った。なお、
その他の条件は、実施例１１と全く同様の条件で行っ
た。
【００９２】図１９に水分濃度計４５から得られたＩＰ
Ａ２中の水分濃度とこの条件下で蒸気乾燥したときのシ
リコンウエハ７上の微粒子数の関係を示す。なお、微粒
子数は、表面検査装置ＩＳ−２０００を用いてウエハ端
から内側８ｍｍの部分を除く範囲で測定されたものであ
る。図１９の実験結果からＩＰＡ２中の水分濃度が１％
を越えると、微粒子数が急激に増加していることがわか
る。
Ａ２中の水分濃度とこの条件下で蒸気乾燥したときのシ
リコンウエハ７上の微粒子数の関係を示す。なお、微粒
子数は、表面検査装置ＩＳ−２０００を用いてウエハ端
から内側８ｍｍの部分を除く範囲で測定されたものであ
る。図１９の実験結果からＩＰＡ２中の水分濃度が１％
を越えると、微粒子数が急激に増加していることがわか
る。
【００９３】従って、この実施例１８の蒸気乾燥装置に
設けられた水分濃度計４５を監視することにより、最適
なシリコンウエハの蒸気乾燥が行われているか否かを判
断することができるようになった。
設けられた水分濃度計４５を監視することにより、最適
なシリコンウエハの蒸気乾燥が行われているか否かを判
断することができるようになった。
【００９４】実施例１９．実施例１９に係る蒸気乾燥装
置は、図２０に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、さらに蒸気乾燥槽１の下部に溜
められた第２の溶媒としてのＩＰＡ２の温度を測定する
ための溶媒温度測定用温度計４６を設けたものである。
置は、図２０に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、さらに蒸気乾燥槽１の下部に溜
められた第２の溶媒としてのＩＰＡ２の温度を測定する
ための溶媒温度測定用温度計４６を設けたものである。
【００９５】図２０に示す蒸気乾燥装置を用いて実施例
１８と全く同一の条件で蒸気乾燥槽１下部に溜められた
ＩＰＡ２中に適当量の水を加えながら、その条件下での
水を含むＩＰＡ２の沸点を測定した。図２１に、ＩＰＡ
２中の水分濃度と各水分濃度の下でＩＰＡ２を沸騰させ
たときの温度計４６が示した指示温度との関係を示す。
ＩＰＡ２中の水分濃度と温度計４６が示した指示温度と
の間に良い相関性が認められる。
１８と全く同一の条件で蒸気乾燥槽１下部に溜められた
ＩＰＡ２中に適当量の水を加えながら、その条件下での
水を含むＩＰＡ２の沸点を測定した。図２１に、ＩＰＡ
２中の水分濃度と各水分濃度の下でＩＰＡ２を沸騰させ
たときの温度計４６が示した指示温度との関係を示す。
ＩＰＡ２中の水分濃度と温度計４６が示した指示温度と
の間に良い相関性が認められる。
【００９６】従って、この実施例１９の蒸気乾燥装置に
設けられた溶媒温度測定用温度計４６の指示温度を監視
することにより、ＩＰＡ２中の水分濃度を監視すること
ができ、その結果、最適なシリコンウエハの蒸気乾燥が
行われているか否かを判断することができるようになっ
た。
設けられた溶媒温度測定用温度計４６の指示温度を監視
することにより、ＩＰＡ２中の水分濃度を監視すること
ができ、その結果、最適なシリコンウエハの蒸気乾燥が
行われているか否かを判断することができるようになっ
た。
【００９７】実施例２０．実施例２０に係る蒸気乾燥装
置は、図２２に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６の外部に蒸
気４の温度を測定するための蒸気温度測定用温度計４８
を設けたものである。
置は、図２２に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６の外部に蒸
気４の温度を測定するための蒸気温度測定用温度計４８
を設けたものである。
【００９８】図２２に示す蒸気乾燥装置を用いて実施例
１８と全く同一の条件で蒸気乾燥槽１下部に溜められた
ＩＰＡ２中に適当量の水を加えながら、その条件下で水
を含むＩＰＡ２を沸騰させたときの蒸気４の温度を測定
した。図２３に、ＩＰＡ２中の水分濃度と各水分濃度の
下でＩＰＡ２を沸騰させたときの蒸気温度測定用温度計
４８が示した指示温度との関係を示す。ＩＰＡ２中の水
分濃度と蒸気温度測定用温度計４８が示した指示温度と
の間に良い相関性が認められる。
１８と全く同一の条件で蒸気乾燥槽１下部に溜められた
ＩＰＡ２中に適当量の水を加えながら、その条件下で水
を含むＩＰＡ２を沸騰させたときの蒸気４の温度を測定
した。図２３に、ＩＰＡ２中の水分濃度と各水分濃度の
下でＩＰＡ２を沸騰させたときの蒸気温度測定用温度計
４８が示した指示温度との関係を示す。ＩＰＡ２中の水
分濃度と蒸気温度測定用温度計４８が示した指示温度と
の間に良い相関性が認められる。
【００９９】従って、この実施例２０の蒸気乾燥装置に
設けられた蒸気温度測定用温度計４８の指示温度を監視
することにより、溶媒２中の水分濃度を監視することが
でき、その結果、最適な蒸気乾燥が行われているか否か
を判断することができるようになった。
設けられた蒸気温度測定用温度計４８の指示温度を監視
することにより、溶媒２中の水分濃度を監視することが
でき、その結果、最適な蒸気乾燥が行われているか否か
を判断することができるようになった。
【０１００】実施例２１．実施例２１に係る蒸気乾燥装
置は、図２４に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６の外部にそ
れぞれ溶媒蒸気４の温度を測定するための複数の蒸気温
度測定用温度計４８を設けたものである。
置は、図２４に示されるように、図３０に示した従来の
蒸気乾燥装置において、さらにガイド容器６の外部にそ
れぞれ溶媒蒸気４の温度を測定するための複数の蒸気温
度測定用温度計４８を設けたものである。
【０１０１】図２４に示す蒸気乾燥装置を用いて実施例
１８と全く同一の条件で蒸気乾燥槽１下部に溜められた
ＩＰＡ２中に適当量の水を加えながら、その条件下で水
を含むＩＰＡ２を沸騰させたときの溶媒蒸気４の温度を
複数の蒸気温度測定用温度計４８により測定し、測定値
の平均をとった。図２５に、ＩＰＡ２中の水分濃度と各
水分濃度の下でＩＰＡ２を沸騰させたときの複数の蒸気
温度測定用温度計４８が示した指示温度の平均値との関
係を示す。ＩＰＡ２中の水分濃度と蒸気温度測定用温度
計４８が示した指示温度の平均値との間に良い相関性が
認められる。また、単独の蒸気温度測定用温度計４８が
示した指示温度より、複数の蒸気温度測定用温度計４８
が示した指示温度の平均値の方が、その温度のバラツキ
が小さくなっていることがわかる。
１８と全く同一の条件で蒸気乾燥槽１下部に溜められた
ＩＰＡ２中に適当量の水を加えながら、その条件下で水
を含むＩＰＡ２を沸騰させたときの溶媒蒸気４の温度を
複数の蒸気温度測定用温度計４８により測定し、測定値
の平均をとった。図２５に、ＩＰＡ２中の水分濃度と各
水分濃度の下でＩＰＡ２を沸騰させたときの複数の蒸気
温度測定用温度計４８が示した指示温度の平均値との関
係を示す。ＩＰＡ２中の水分濃度と蒸気温度測定用温度
計４８が示した指示温度の平均値との間に良い相関性が
認められる。また、単独の蒸気温度測定用温度計４８が
示した指示温度より、複数の蒸気温度測定用温度計４８
が示した指示温度の平均値の方が、その温度のバラツキ
が小さくなっていることがわかる。
【０１０２】このことから、複数個の蒸気温度測定用温
度計４８を用い、これらの温度計４８が示した指示温度
の平均値をとることにより、より高精度のＩＰＡ２中の
水分濃度管理ができることがわかる。また、この実施例
２１の蒸気乾燥装置に取り付けた複数個の蒸気温度測定
用温度計４８の指示温度の平均値を監視することで、Ｉ
ＰＡ２中の水分濃度をより良く監視することができ、そ
の結果、最適なシリコンウエハの蒸気乾燥が行われてい
るか否かをより精度良く判断することができるようにな
った。
度計４８を用い、これらの温度計４８が示した指示温度
の平均値をとることにより、より高精度のＩＰＡ２中の
水分濃度管理ができることがわかる。また、この実施例
２１の蒸気乾燥装置に取り付けた複数個の蒸気温度測定
用温度計４８の指示温度の平均値を監視することで、Ｉ
ＰＡ２中の水分濃度をより良く監視することができ、そ
の結果、最適なシリコンウエハの蒸気乾燥が行われてい
るか否かをより精度良く判断することができるようにな
った。
【０１０３】実施例２２．実施例２２に係る蒸気乾燥装
置は、図２６に示されるように、図１８に示した実施例
１８の蒸気乾燥装置において、さらに蒸気乾燥槽１内に
新しいＩＰＡ２等の溶媒を供給するための溶媒供給配管
５２と、この溶媒供給配管５２の開閉を行うバルブ５１
と、水が混入した蒸気乾燥槽１下部のＩＰＡ２の排出を
行うための溶媒排出配管６２と、この溶媒排出配管６２
の開閉を行うバルブ６１とを設けたものである。
置は、図２６に示されるように、図１８に示した実施例
１８の蒸気乾燥装置において、さらに蒸気乾燥槽１内に
新しいＩＰＡ２等の溶媒を供給するための溶媒供給配管
５２と、この溶媒供給配管５２の開閉を行うバルブ５１
と、水が混入した蒸気乾燥槽１下部のＩＰＡ２の排出を
行うための溶媒排出配管６２と、この溶媒排出配管６２
の開閉を行うバルブ６１とを設けたものである。
【０１０４】また、以下のようなシーケンスが組まれて
いる。まず、水分濃度計４５の検出水分濃度が０．８％
を越えると自動的にヒーター３の通電が止まるととも
に、バルブ６１が開かれ溶媒排出配管６２を介して蒸気
乾燥槽１下部に溜められたＩＰＡ２を排出する。次に、
ＩＰＡ２の排出が完了すると、バルブ６１は閉じられ、
これと同時にバルブ５１が開かれて溶媒供給配管５２を
介して所定量の新しいＩＰＡ２が蒸気乾燥槽１下部に供
給される。その後自動的にヒーター３に通電され、ＩＰ
Ａ２が沸騰してガイド容器６の中へ溶媒蒸気４が供給さ
れる。
いる。まず、水分濃度計４５の検出水分濃度が０．８％
を越えると自動的にヒーター３の通電が止まるととも
に、バルブ６１が開かれ溶媒排出配管６２を介して蒸気
乾燥槽１下部に溜められたＩＰＡ２を排出する。次に、
ＩＰＡ２の排出が完了すると、バルブ６１は閉じられ、
これと同時にバルブ５１が開かれて溶媒供給配管５２を
介して所定量の新しいＩＰＡ２が蒸気乾燥槽１下部に供
給される。その後自動的にヒーター３に通電され、ＩＰ
Ａ２が沸騰してガイド容器６の中へ溶媒蒸気４が供給さ
れる。
【０１０５】以上のように、図２６に示す蒸気乾燥装置
を用いると共に上記シーケンスを用いることで、ＩＰＡ
２に混入した水分濃度が低い条件下でシリコンウエハ７
表面の水とＩＰＡとの置換を行うことができ、最適なシ
リコンウエハの蒸気乾燥ができるようになった。なお、
図２６に示す蒸気乾燥装置では水分濃度計４５を用いた
が、これに限るものではなく、水分濃度計４５の代わり
に溶媒温度測定用温度計４６あるいは蒸気温度測定用温
度計４８を設けてＩＰＡ２中の水分濃度を監視してもよ
い。
を用いると共に上記シーケンスを用いることで、ＩＰＡ
２に混入した水分濃度が低い条件下でシリコンウエハ７
表面の水とＩＰＡとの置換を行うことができ、最適なシ
リコンウエハの蒸気乾燥ができるようになった。なお、
図２６に示す蒸気乾燥装置では水分濃度計４５を用いた
が、これに限るものではなく、水分濃度計４５の代わり
に溶媒温度測定用温度計４６あるいは蒸気温度測定用温
度計４８を設けてＩＰＡ２中の水分濃度を監視してもよ
い。
【０１０６】実施例２３．実施例２３に係る蒸気乾燥装
置は、図２７に示されるように、図２６に示した実施例
２２の蒸気乾燥装置において、水分濃度計４５の代わり
に、凝縮コイル５で結露したＩＰＡ溶液を受け止める結
露溶液用受皿７３と、受皿７３の中に受け止められた結
露したＩＰＡ溶液を蒸気乾燥槽１下部に戻すための溶媒
帰還配管７２と、溶媒帰還配管７２の開閉を行うバルブ
７１と、結露溶液用受皿７３の中に受け止められた結露
したＩＰＡ溶液を排液管１２を介して蒸気乾燥槽１の外
に排出するための廃棄配管８２と、廃棄配管８２の開閉
を行うバルブ８１とを設けたものである。
置は、図２７に示されるように、図２６に示した実施例
２２の蒸気乾燥装置において、水分濃度計４５の代わり
に、凝縮コイル５で結露したＩＰＡ溶液を受け止める結
露溶液用受皿７３と、受皿７３の中に受け止められた結
露したＩＰＡ溶液を蒸気乾燥槽１下部に戻すための溶媒
帰還配管７２と、溶媒帰還配管７２の開閉を行うバルブ
７１と、結露溶液用受皿７３の中に受け止められた結露
したＩＰＡ溶液を排液管１２を介して蒸気乾燥槽１の外
に排出するための廃棄配管８２と、廃棄配管８２の開閉
を行うバルブ８１とを設けたものである。
【０１０７】また、以下のようなシーケンスが組まれて
いる。まず、ガイド容器６の中にウエハカセット１０に
装着されたシリコンウエハ７が投入されている間は、バ
ルブ７１を閉じて凝縮コイル５で結露したＩＰＡ溶液を
溶媒帰還配管７２を介して蒸気乾燥槽１下部に溜められ
たＩＰＡ２に戻さないようにすると共に、バルブ８１を
解放して凝縮コイル５で結露したＩＰＡ溶液を廃棄配管
８２を介して蒸気乾燥槽１の外に排出する。一方、ガイ
ド容器６の中にウエハカセット１０に装着されたシリコ
ンウエハ７が投入されていない間は、バルブ７１を解放
して凝縮コイル５で結露したＩＰＡ溶液を溶媒帰還配管
７２を介して蒸気乾燥槽１下部に溜められたＩＰＡ２に
戻すようにすると共にバルブ８１を閉じて凝縮コイル５
で結露したＩＰＡ溶液を廃棄配管８２を介して蒸気乾燥
槽１の外に排出しないようにする。
いる。まず、ガイド容器６の中にウエハカセット１０に
装着されたシリコンウエハ７が投入されている間は、バ
ルブ７１を閉じて凝縮コイル５で結露したＩＰＡ溶液を
溶媒帰還配管７２を介して蒸気乾燥槽１下部に溜められ
たＩＰＡ２に戻さないようにすると共に、バルブ８１を
解放して凝縮コイル５で結露したＩＰＡ溶液を廃棄配管
８２を介して蒸気乾燥槽１の外に排出する。一方、ガイ
ド容器６の中にウエハカセット１０に装着されたシリコ
ンウエハ７が投入されていない間は、バルブ７１を解放
して凝縮コイル５で結露したＩＰＡ溶液を溶媒帰還配管
７２を介して蒸気乾燥槽１下部に溜められたＩＰＡ２に
戻すようにすると共にバルブ８１を閉じて凝縮コイル５
で結露したＩＰＡ溶液を廃棄配管８２を介して蒸気乾燥
槽１の外に排出しないようにする。
【０１０８】以上のように、図２７に示す蒸気乾燥装置
を用いると共に上記シーケンスを用いることで、ＩＰＡ
２に混入した水分濃度が低い条件下でシリコンウエハ７
表面の水とＩＰＡとの置換を行うことができ、最適なシ
リコンウエハの蒸気乾燥ができるようになった。
を用いると共に上記シーケンスを用いることで、ＩＰＡ
２に混入した水分濃度が低い条件下でシリコンウエハ７
表面の水とＩＰＡとの置換を行うことができ、最適なシ
リコンウエハの蒸気乾燥ができるようになった。
【０１０９】実施例２４．実施例２４に係る蒸気乾燥装
置は、図２８に示されるように、図２６に示した実施例
２２の蒸気乾燥装置において、水分濃度計４５の代わり
に、凝縮コイル５で結露したＩＰＡ溶液を受け止める結
露溶液用受皿７３と、結露したＩＰＡ溶液から水分を除
去する水分除去装置９１と、結露溶液用受皿７３で受け
止められたＩＰＡ溶液を水分除去装置９１に送る結露溶
液送り配管７５と、水分除去装置９１で水分が除去され
たＩＰＡを蒸気乾燥槽１下部に溜められたＩＰＡ２に戻
す溶媒帰還配管９３と、水分除去装置９１で除去した水
分を排出する水分排出管９２とを設けたものである。
置は、図２８に示されるように、図２６に示した実施例
２２の蒸気乾燥装置において、水分濃度計４５の代わり
に、凝縮コイル５で結露したＩＰＡ溶液を受け止める結
露溶液用受皿７３と、結露したＩＰＡ溶液から水分を除
去する水分除去装置９１と、結露溶液用受皿７３で受け
止められたＩＰＡ溶液を水分除去装置９１に送る結露溶
液送り配管７５と、水分除去装置９１で水分が除去され
たＩＰＡを蒸気乾燥槽１下部に溜められたＩＰＡ２に戻
す溶媒帰還配管９３と、水分除去装置９１で除去した水
分を排出する水分排出管９２とを設けたものである。
【０１１０】水分除去装置９１を用いることにより、凝
縮コイル５で結露した水分を含むＩＰＡ溶液から水分が
除去されるため、結果的に常に水分が除去されたＩＰＡ
を蒸気乾燥槽１下部に溜められたＩＰＡ２に戻すことが
できる。このため、ＩＰＡ２に混入した水分濃度が低い
条件下でシリコンウエハ７表面の水とＩＰＡとの置換を
行うことができ、最適なシリコンウエハの蒸気乾燥がで
きるようになった。
縮コイル５で結露した水分を含むＩＰＡ溶液から水分が
除去されるため、結果的に常に水分が除去されたＩＰＡ
を蒸気乾燥槽１下部に溜められたＩＰＡ２に戻すことが
できる。このため、ＩＰＡ２に混入した水分濃度が低い
条件下でシリコンウエハ７表面の水とＩＰＡとの置換を
行うことができ、最適なシリコンウエハの蒸気乾燥がで
きるようになった。
【０１１１】実施例２５．実施例２５に係る蒸気乾燥方
法は、図３０に示した従来の蒸気乾燥装置を用い、被洗
浄物としてのシリコンウエハ７及びこれを収納したウエ
ハカセット１０の熱容量を蒸気乾燥装置のガイド容器６
内に形成される接触空間８内の溶媒蒸気４の潜熱より大
きくして蒸気乾燥する方法である。この実施例２５の蒸
気乾燥方法では、シリコンウエハ７及びウエハカセット
１０の熱容量を接触空間８内の溶媒蒸気４の潜熱より大
きくする方法として、ウエハカセット１０にシリコンウ
エハ７の他にダミー製品を収納する方法を採用し、その
ダミー製品としてダミーウエハを用いた。なお、ウエハ
カセット１０として、２５枚のシリコンウエハ７を収納
可能なものを用いた。
法は、図３０に示した従来の蒸気乾燥装置を用い、被洗
浄物としてのシリコンウエハ７及びこれを収納したウエ
ハカセット１０の熱容量を蒸気乾燥装置のガイド容器６
内に形成される接触空間８内の溶媒蒸気４の潜熱より大
きくして蒸気乾燥する方法である。この実施例２５の蒸
気乾燥方法では、シリコンウエハ７及びウエハカセット
１０の熱容量を接触空間８内の溶媒蒸気４の潜熱より大
きくする方法として、ウエハカセット１０にシリコンウ
エハ７の他にダミー製品を収納する方法を採用し、その
ダミー製品としてダミーウエハを用いた。なお、ウエハ
カセット１０として、２５枚のシリコンウエハ７を収納
可能なものを用いた。
【０１１２】図３０に示した蒸気乾燥装置を用いてこの
実施例２５の方法により水洗後の６インチのシリコンウ
エハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾燥槽１内にＩＰＡ
２を投入した後、凝縮コイル５に２４℃の冷水を流すと
共にヒーター３に通電してＩＰＡ２を沸騰させ、これに
よって発生した溶媒蒸気４を蒸気乾燥槽１内に満たし
た。次に、ガイド容器６内の温度計１３が８３℃を示し
ていることを確認した後、図３１に示したウエハカセッ
ト１０に封切り後の６インチのシリコンウエハ７を１枚
セットすると共にダミーウエハを２４枚セットし、これ
を搬送操作装置９によって３ｍ／秒の速度で溶媒蒸気４
が充満したガイド容器６内の接触空間８へ挿入し、その
ままの状態で５分放置した。このとき、温度計１３の指
示温度が８３℃から５３℃まで急激に下がった後、徐々
に８３℃まで復帰した。次に、搬送操作装置９を用いて
０.０５ｍ／秒の速度でウエハカセット１０を蒸気乾燥
槽１から引き出し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了
した。
実施例２５の方法により水洗後の６インチのシリコンウ
エハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾燥槽１内にＩＰＡ
２を投入した後、凝縮コイル５に２４℃の冷水を流すと
共にヒーター３に通電してＩＰＡ２を沸騰させ、これに
よって発生した溶媒蒸気４を蒸気乾燥槽１内に満たし
た。次に、ガイド容器６内の温度計１３が８３℃を示し
ていることを確認した後、図３１に示したウエハカセッ
ト１０に封切り後の６インチのシリコンウエハ７を１枚
セットすると共にダミーウエハを２４枚セットし、これ
を搬送操作装置９によって３ｍ／秒の速度で溶媒蒸気４
が充満したガイド容器６内の接触空間８へ挿入し、その
ままの状態で５分放置した。このとき、温度計１３の指
示温度が８３℃から５３℃まで急激に下がった後、徐々
に８３℃まで復帰した。次に、搬送操作装置９を用いて
０.０５ｍ／秒の速度でウエハカセット１０を蒸気乾燥
槽１から引き出し、シリコンウエハ７の蒸気乾燥を終了
した。
【０１１３】実施例２６．実施例２６に係る蒸気乾燥方
法は、実施例２５と同様に、シリコンウエハ７及びこれ
を収納するウエハカセット１０の熱容量をガイド容器６
内に形成される接触空間８内の溶媒蒸気４の潜熱より大
きくして蒸気乾燥する方法である。そして、この実施例
２６の蒸気乾燥方法では、シリコンウエハ７及びウエハ
カセット１０での熱容量を接触空間８内の溶媒蒸気４の
潜熱より大きくする方法として、ウエハカセット１０に
シリコンウエハ７の他にシリコンウエハ７より熱容量の
大きな吸熱性物品を収納する方法を採用し、その吸熱性
物品としてシリコンウエハ７と同形状に成形したステン
レス製の吸熱板を用いた。
法は、実施例２５と同様に、シリコンウエハ７及びこれ
を収納するウエハカセット１０の熱容量をガイド容器６
内に形成される接触空間８内の溶媒蒸気４の潜熱より大
きくして蒸気乾燥する方法である。そして、この実施例
２６の蒸気乾燥方法では、シリコンウエハ７及びウエハ
カセット１０での熱容量を接触空間８内の溶媒蒸気４の
潜熱より大きくする方法として、ウエハカセット１０に
シリコンウエハ７の他にシリコンウエハ７より熱容量の
大きな吸熱性物品を収納する方法を採用し、その吸熱性
物品としてシリコンウエハ７と同形状に成形したステン
レス製の吸熱板を用いた。
【０１１４】図３０に示した蒸気乾燥装置を用いてこの
実施例２６の方法により水洗後の６インチのシリコンウ
エハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾燥槽１内にＩＰＡ
２を投入した後、凝縮コイル５に２４℃の冷水を流すと
共にヒーター３に通電してＩＰＡ２を沸騰させ、これに
よって発生した溶媒蒸気４を蒸気乾燥槽１内に満たし
た。次に、ガイド容器６内の温度計１３が８３℃を示し
ていることを確認した後、図３１に示したウエハカセッ
ト１０に封切り後の６インチのシリコンウエハ７を１枚
セットすると共にステンレス製の吸熱板を２４枚セット
し、これを搬送操作装置９によって３ｍ／秒の速度で溶
媒蒸気４が充満したガイド容器６内の接触空間８へ挿入
し、そのままの状態で５分放置した。このとき、温度計
１３の指示温度が８３℃から３５℃まで急激に下がった
後、徐々に８３℃まで復帰した。次に、搬送操作装置９
を用いて０.０５ｍ／秒の速度でウエハカセット１０を
蒸気乾燥槽１から引き出し、シリコンウエハ７の蒸気乾
燥を終了した。
実施例２６の方法により水洗後の６インチのシリコンウ
エハ７を蒸気乾燥した。まず、蒸気乾燥槽１内にＩＰＡ
２を投入した後、凝縮コイル５に２４℃の冷水を流すと
共にヒーター３に通電してＩＰＡ２を沸騰させ、これに
よって発生した溶媒蒸気４を蒸気乾燥槽１内に満たし
た。次に、ガイド容器６内の温度計１３が８３℃を示し
ていることを確認した後、図３１に示したウエハカセッ
ト１０に封切り後の６インチのシリコンウエハ７を１枚
セットすると共にステンレス製の吸熱板を２４枚セット
し、これを搬送操作装置９によって３ｍ／秒の速度で溶
媒蒸気４が充満したガイド容器６内の接触空間８へ挿入
し、そのままの状態で５分放置した。このとき、温度計
１３の指示温度が８３℃から３５℃まで急激に下がった
後、徐々に８３℃まで復帰した。次に、搬送操作装置９
を用いて０.０５ｍ／秒の速度でウエハカセット１０を
蒸気乾燥槽１から引き出し、シリコンウエハ７の蒸気乾
燥を終了した。
【０１１５】実施例２７．実施例２７に係る蒸気乾燥方
法は、実施例２５及び２６と同様に、シリコンウエハ７
を収納するウエハカセットの熱容量をガイド容器６内に
形成される接触空間８内の溶媒蒸気４の潜熱より大きく
して蒸気乾燥する方法である。そして、この実施例２７
の蒸気乾燥方法では、図２９に示されるような熱容量の
大きなウエハカセット２０を用いて蒸気乾燥を行なっ
た。
法は、実施例２５及び２６と同様に、シリコンウエハ７
を収納するウエハカセットの熱容量をガイド容器６内に
形成される接触空間８内の溶媒蒸気４の潜熱より大きく
して蒸気乾燥する方法である。そして、この実施例２７
の蒸気乾燥方法では、図２９に示されるような熱容量の
大きなウエハカセット２０を用いて蒸気乾燥を行なっ
た。
【０１１６】このウエハカセット２０は、カセット本体
と、カセット本体の外側部に設けられた吸熱体２４とを
備えている。カセット本体は、図３１に示した従来のウ
エハカセット１０と同様の構造を有している。すなわ
ち、カセット本体は、それぞれシリコンウエハ７をその
周縁部で支持する溝２１Ａを内側に有し且つ互いに対向
した一対の側面２１と、これら両側面２１を連結する連
結部２２及び２３とからなっている。このカセット本体
の両側面２１の脚部外側部にそれぞれ吸熱体２４が設け
られており、ウエハカセット２０自体の熱容量が吸熱体
２４によって大きくなるように構成されている。吸熱体
２４は、溶媒蒸気４の潜熱を奪って溶媒蒸気４を結露さ
せ易い物質によって形成されたものであればよく、この
ような物質としては例えば石英ガラス、セラミックス等
が好ましく用いられる。この実施例では、吸熱体２４と
して、重さが７００ｇの石英ガラス製の吸熱体を用い
た。なお、ウエハカセット２０のカセット本体は、図２
９に示す形態以外のものであってもよい。
と、カセット本体の外側部に設けられた吸熱体２４とを
備えている。カセット本体は、図３１に示した従来のウ
エハカセット１０と同様の構造を有している。すなわ
ち、カセット本体は、それぞれシリコンウエハ７をその
周縁部で支持する溝２１Ａを内側に有し且つ互いに対向
した一対の側面２１と、これら両側面２１を連結する連
結部２２及び２３とからなっている。このカセット本体
の両側面２１の脚部外側部にそれぞれ吸熱体２４が設け
られており、ウエハカセット２０自体の熱容量が吸熱体
２４によって大きくなるように構成されている。吸熱体
２４は、溶媒蒸気４の潜熱を奪って溶媒蒸気４を結露さ
せ易い物質によって形成されたものであればよく、この
ような物質としては例えば石英ガラス、セラミックス等
が好ましく用いられる。この実施例では、吸熱体２４と
して、重さが７００ｇの石英ガラス製の吸熱体を用い
た。なお、ウエハカセット２０のカセット本体は、図２
９に示す形態以外のものであってもよい。
【０１１７】図３０に示した蒸気乾燥装置を用いてこの
実施例２７の方法により水洗後の６インチシリコンウエ
ハを蒸気乾燥した。まず、蒸気乾燥槽１内にＩＰＡ２を
投入した後、凝縮コイル５に２４℃の冷水を流すと共に
ヒーター３に通電してＩＰＡ２を沸騰させ、これによっ
て発生した溶媒蒸気４を蒸気乾燥槽１内に満たした。次
に、ガイド容器６内の温度計１３が８３℃を示している
ことを確認した後、図２９に示したウエハカセット２０
に封切り後の６インチのシリコンウエハ７を１枚セット
し、これを搬送操作装置９によって３ｍ／秒の速度でＩ
ＰＡ蒸気４が充満したガイド容器６内の接触空間８へ挿
入し、そのままの状態で５分放置した。このとき、温度
計１３の指示温度が８３℃から５３℃まで急激に下がっ
た後、徐々に８３℃まで復帰した。次に、搬送操作装置
９を用いて０.０５ｍ／秒の速度でウエハカセット２０
を蒸気乾燥槽１から引き出し、シリコンウエハ７の蒸気
乾燥を終了した。
実施例２７の方法により水洗後の６インチシリコンウエ
ハを蒸気乾燥した。まず、蒸気乾燥槽１内にＩＰＡ２を
投入した後、凝縮コイル５に２４℃の冷水を流すと共に
ヒーター３に通電してＩＰＡ２を沸騰させ、これによっ
て発生した溶媒蒸気４を蒸気乾燥槽１内に満たした。次
に、ガイド容器６内の温度計１３が８３℃を示している
ことを確認した後、図２９に示したウエハカセット２０
に封切り後の６インチのシリコンウエハ７を１枚セット
し、これを搬送操作装置９によって３ｍ／秒の速度でＩ
ＰＡ蒸気４が充満したガイド容器６内の接触空間８へ挿
入し、そのままの状態で５分放置した。このとき、温度
計１３の指示温度が８３℃から５３℃まで急激に下がっ
た後、徐々に８３℃まで復帰した。次に、搬送操作装置
９を用いて０.０５ｍ／秒の速度でウエハカセット２０
を蒸気乾燥槽１から引き出し、シリコンウエハ７の蒸気
乾燥を終了した。
【０１１８】次に、上記実施例２５〜２７に基づいて洗
浄していない６インチのシリコンウエハ７（信越シリコ
ン社製）をそれぞれ蒸気乾燥した場合の蒸気乾燥前後の
ゴミ（微粒子）の増減について具体的に試験を行った。
この際、表面検査装置ＩＳ−２０００（日立電子エンジ
ニアリング株式会社製）によりシリコンウエハ７のウエ
ハ端から内側８ｍｍの部分を除いた範囲について０．３
μｍ以上の微粒子数を測定し、その測定個数でゴミの増
減評価を行なった。
浄していない６インチのシリコンウエハ７（信越シリコ
ン社製）をそれぞれ蒸気乾燥した場合の蒸気乾燥前後の
ゴミ（微粒子）の増減について具体的に試験を行った。
この際、表面検査装置ＩＳ−２０００（日立電子エンジ
ニアリング株式会社製）によりシリコンウエハ７のウエ
ハ端から内側８ｍｍの部分を除いた範囲について０．３
μｍ以上の微粒子数を測定し、その測定個数でゴミの増
減評価を行なった。
【０１１９】そこで、実施例２５〜２７に基づいて蒸気
乾燥されたシリコンウエハ７について表面検査装置ＩＳ
−２０００を用いてウエハ端から内側８ｍｍの部分を除
く範囲で測定された微粒子数の平均値Ａ、及び除外範囲
のないシリコンウエハ７全面で測定された微粒子数の平
均値Ｂを表２に示す。比較のため、上記比較例１で蒸気
乾燥されたシリコンウエハ７について測定した測定結果
を併せて記載する。
乾燥されたシリコンウエハ７について表面検査装置ＩＳ
−２０００を用いてウエハ端から内側８ｍｍの部分を除
く範囲で測定された微粒子数の平均値Ａ、及び除外範囲
のないシリコンウエハ７全面で測定された微粒子数の平
均値Ｂを表２に示す。比較のため、上記比較例１で蒸気
乾燥されたシリコンウエハ７について測定した測定結果
を併せて記載する。
【０１２０】 表２ 微粒子数Ａ 微粒子数Ｂ 実施例２５ １０ ４３ 実施例２６ １ １９ 実施例２７ ５ ３７ 比較例１ １８８ ３５６
【０１２１】表２から明らかなように、実施例２５〜２
７の蒸気乾燥方法により蒸気乾燥したシリコンウエハ７
の方が、従来の蒸気乾燥方法により蒸気乾燥したシリコ
ンウエハ７よりも格段に微粒子が少ないことがわかる。
すなわち、上記の各実施例によれば、少ない枚数のシリ
コンウエハ７を乾燥処理する場合であってもシミを残す
ことなくシリコンウエハ７を乾燥することができる。
７の蒸気乾燥方法により蒸気乾燥したシリコンウエハ７
の方が、従来の蒸気乾燥方法により蒸気乾燥したシリコ
ンウエハ７よりも格段に微粒子が少ないことがわかる。
すなわち、上記の各実施例によれば、少ない枚数のシリ
コンウエハ７を乾燥処理する場合であってもシミを残す
ことなくシリコンウエハ７を乾燥することができる。
【０１２２】なお、本発明の蒸気乾燥方法は、被洗浄物
及びこれを収納した製品搬送用容器の熱容量を蒸気乾燥
槽の接触空間内の溶媒蒸気の潜熱より大きくして被洗浄
物を乾燥する方法であれば、上記各実施例に何等制限さ
れるものではない。また、本発明の蒸気乾燥装置の製品
搬送用容器は吸熱体を付加して熱容量を大きくしたもの
であれば、上記各実施例に何等制限されるものではな
い。
及びこれを収納した製品搬送用容器の熱容量を蒸気乾燥
槽の接触空間内の溶媒蒸気の潜熱より大きくして被洗浄
物を乾燥する方法であれば、上記各実施例に何等制限さ
れるものではない。また、本発明の蒸気乾燥装置の製品
搬送用容器は吸熱体を付加して熱容量を大きくしたもの
であれば、上記各実施例に何等制限されるものではな
い。
【０１２３】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１に係る蒸
気乾燥方法は、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させるための
接触空間内に存在する溶媒蒸気が保有する潜熱の量が被
洗浄物を溶媒蒸気の沸点温度にまで加熱できない量とな
るように、予め接触空間内に存在する溶媒蒸気の絶対量
を制限し、被洗浄物を接触空間内に送り込み、溶媒蒸気
を被洗浄物の上方から接触空間内に供給することにより
被洗浄物の表面で溶媒蒸気を結露させて被洗浄物を加熱
し、被洗浄物を接触空間から引き出して被洗浄物の表面
に結露した溶媒を蒸発させるので、少ない枚数の被洗浄
物を処理する場合においても被洗浄物にシミを発生させ
ること無く被洗浄物表面を乾燥することができる。
気乾燥方法は、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させるための
接触空間内に存在する溶媒蒸気が保有する潜熱の量が被
洗浄物を溶媒蒸気の沸点温度にまで加熱できない量とな
るように、予め接触空間内に存在する溶媒蒸気の絶対量
を制限し、被洗浄物を接触空間内に送り込み、溶媒蒸気
を被洗浄物の上方から接触空間内に供給することにより
被洗浄物の表面で溶媒蒸気を結露させて被洗浄物を加熱
し、被洗浄物を接触空間から引き出して被洗浄物の表面
に結露した溶媒を蒸発させるので、少ない枚数の被洗浄
物を処理する場合においても被洗浄物にシミを発生させ
ること無く被洗浄物表面を乾燥することができる。
【０１２４】
【０１２５】請求項２に係る蒸気乾燥方法は、被洗浄物
及びこれを収納した製品搬送用容器の熱容量を被洗浄物
を溶媒蒸気に接触させるための接触空間内に存在する溶
媒蒸気が保有する潜熱の量より大きくし、製品搬送用容
器に収納された被洗浄物を接触空間内に送り込むことに
より被洗浄物の表面で溶媒蒸気を結露させて被洗浄物を
加熱し、被洗浄物を製品搬送用容器と共に接触空間から
引き出して被洗浄物の表面に結露した溶媒を蒸発させる
ので、少ない枚数の被洗浄物を処理する場合においても
被洗浄物にシミを発生させること無く被洗浄物表面を乾
燥することができる。
及びこれを収納した製品搬送用容器の熱容量を被洗浄物
を溶媒蒸気に接触させるための接触空間内に存在する溶
媒蒸気が保有する潜熱の量より大きくし、製品搬送用容
器に収納された被洗浄物を接触空間内に送り込むことに
より被洗浄物の表面で溶媒蒸気を結露させて被洗浄物を
加熱し、被洗浄物を製品搬送用容器と共に接触空間から
引き出して被洗浄物の表面に結露した溶媒を蒸発させる
ので、少ない枚数の被洗浄物を処理する場合においても
被洗浄物にシミを発生させること無く被洗浄物表面を乾
燥することができる。
【０１２６】請求項３に係る蒸気乾燥方法は、請求項２
の方法において、製品搬送用容器に被洗浄物の他にダミ
ー製品を収納するので、容易に製品搬送用容器の熱容量
を大きくすることができ、被洗浄物にシミを発生させる
こと無く被洗浄物表面を乾燥することができる。
の方法において、製品搬送用容器に被洗浄物の他にダミ
ー製品を収納するので、容易に製品搬送用容器の熱容量
を大きくすることができ、被洗浄物にシミを発生させる
こと無く被洗浄物表面を乾燥することができる。
【０１２７】請求項４に係る蒸気乾燥方法は、請求項２
の方法において、製品搬送用容器に被洗浄物の他に被洗
浄物より熱容量の大きな吸熱性物品を収納するので、容
易に製品搬送用容器の熱容量を大きくすることができ、
被洗浄物にシミを発生させること無く被洗浄物表面を乾
燥することができる。
の方法において、製品搬送用容器に被洗浄物の他に被洗
浄物より熱容量の大きな吸熱性物品を収納するので、容
易に製品搬送用容器の熱容量を大きくすることができ、
被洗浄物にシミを発生させること無く被洗浄物表面を乾
燥することができる。
【０１２８】請求項５に係る蒸気乾燥装置は、被洗浄物
を溶媒蒸気に接触させる接触空間内に存在する溶媒蒸気
が保有する潜熱の量が被洗浄物を溶媒蒸気の沸点温度に
まで加熱できない量となるように接触空間内の溶媒蒸気
の絶対量を制限する制限手段を設けたので、少ない枚数
の被洗浄物を処理する場合においても被洗浄物にシミを
発生させること無く被洗浄物表面を乾燥することができ
る。
を溶媒蒸気に接触させる接触空間内に存在する溶媒蒸気
が保有する潜熱の量が被洗浄物を溶媒蒸気の沸点温度に
まで加熱できない量となるように接触空間内の溶媒蒸気
の絶対量を制限する制限手段を設けたので、少ない枚数
の被洗浄物を処理する場合においても被洗浄物にシミを
発生させること無く被洗浄物表面を乾燥することができ
る。
【０１２９】請求項６に係る蒸気乾燥装置は、請求項５
の装置において、制限手段として、被洗浄物を溶媒蒸気
に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間と
の間に設けられた仕切を設けたので、接触空間へ被洗浄
物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気の絶対量を制限
して、シミを発生させること無く蒸気乾燥を行うことが
できる。
の装置において、制限手段として、被洗浄物を溶媒蒸気
に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間と
の間に設けられた仕切を設けたので、接触空間へ被洗浄
物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気の絶対量を制限
して、シミを発生させること無く蒸気乾燥を行うことが
できる。
【０１３０】請求項７に係る蒸気乾燥装置は、請求項５
の装置において、制限手段として、被洗浄物を溶媒蒸気
に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間と
の間に溶媒蒸気を冷却する第１冷却手段を設けたので、
接触空間へ被洗浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸
気の絶対量を制限して、シミを発生させること無く蒸気
乾燥を行うことができる。
の装置において、制限手段として、被洗浄物を溶媒蒸気
に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間と
の間に溶媒蒸気を冷却する第１冷却手段を設けたので、
接触空間へ被洗浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸
気の絶対量を制限して、シミを発生させること無く蒸気
乾燥を行うことができる。
【０１３１】請求項８に係る蒸気乾燥装置は、請求項５
の装置において、制限手段として、被洗浄物を溶媒蒸気
に接触させる接触空間内に、接触空間内の溶媒蒸気を接
触空間外に排気する第１排気手段を設けたので、接触空
間へ被洗浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気の絶
対量を制限して、シミを発生させること無く蒸気乾燥を
行うことができる。
の装置において、制限手段として、被洗浄物を溶媒蒸気
に接触させる接触空間内に、接触空間内の溶媒蒸気を接
触空間外に排気する第１排気手段を設けたので、接触空
間へ被洗浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気の絶
対量を制限して、シミを発生させること無く蒸気乾燥を
行うことができる。
【０１３２】請求項９に係る蒸気乾燥装置は、請求項５
の装置において、制限手段として、被洗浄物を溶媒蒸気
に接触させる接触空間の外部に、供給空間から接触空間
内へ供給される溶媒蒸気の一部を排気する第２排気手段
を設けたので、接触空間へ被洗浄物を挿入する前に接触
空間内の溶媒蒸気の絶対量を制限して、シミを発生させ
ること無く蒸気乾燥を行うことができる。
の装置において、制限手段として、被洗浄物を溶媒蒸気
に接触させる接触空間の外部に、供給空間から接触空間
内へ供給される溶媒蒸気の一部を排気する第２排気手段
を設けたので、接触空間へ被洗浄物を挿入する前に接触
空間内の溶媒蒸気の絶対量を制限して、シミを発生させ
ること無く蒸気乾燥を行うことができる。
【０１３３】請求項１０に係る蒸気乾燥装置は、被洗浄
物を溶媒蒸気に接触させるための接触空間内に存在する
溶媒蒸気を除去するための除去手段を設けたので、少な
い枚数の被洗浄物を処理する場合においても被洗浄物に
シミを発生させること無く被洗浄物表面を乾燥すること
ができる。
物を溶媒蒸気に接触させるための接触空間内に存在する
溶媒蒸気を除去するための除去手段を設けたので、少な
い枚数の被洗浄物を処理する場合においても被洗浄物に
シミを発生させること無く被洗浄物表面を乾燥すること
ができる。
【０１３４】請求項１１に係る蒸気乾燥装置は、請求項
１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた仕切と、接触空間内に設けられた
溶媒蒸気を冷却する第２冷却手段とを備えたので、接触
空間へ被洗浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気を
除去して、シミを発生させること無く蒸気乾燥を行うこ
とができる。
１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた仕切と、接触空間内に設けられた
溶媒蒸気を冷却する第２冷却手段とを備えたので、接触
空間へ被洗浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気を
除去して、シミを発生させること無く蒸気乾燥を行うこ
とができる。
【０１３５】請求項１２に係る蒸気乾燥装置は、請求項
１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた第１冷却手段と、接触空間内に設
けられた第２冷却手段とを備えたので、接触空間へ被洗
浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気を除去して、
シミを発生させること無く蒸気乾燥を行うことができ
る。
１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた第１冷却手段と、接触空間内に設
けられた第２冷却手段とを備えたので、接触空間へ被洗
浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気を除去して、
シミを発生させること無く蒸気乾燥を行うことができ
る。
【０１３６】請求項１３に係る蒸気乾燥装置は、請求項
１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた仕切と、接触空間内に設けられた
第１排気手段とを備えたので、接触空間へ被洗浄物を挿
入する前に接触空間内の溶媒蒸気を除去して、シミを発
生させること無く蒸気乾燥を行うことができる。
１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた仕切と、接触空間内に設けられた
第１排気手段とを備えたので、接触空間へ被洗浄物を挿
入する前に接触空間内の溶媒蒸気を除去して、シミを発
生させること無く蒸気乾燥を行うことができる。
【０１３７】請求項１４に係る蒸気乾燥装置は、請求項
１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた第１冷却手段と、接触空間内に設
けられた第１排気手段とを備えたので、接触空間へ被洗
浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気を除去して、
シミを発生させること無く蒸気乾燥を行うことができ
る。
１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた第１冷却手段と、接触空間内に設
けられた第１排気手段とを備えたので、接触空間へ被洗
浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気を除去して、
シミを発生させること無く蒸気乾燥を行うことができ
る。
【０１３８】請求項１５に係る蒸気乾燥装置は、請求項
１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた手段と、接触空間の外部に設けら
れた第２排気手段とを備えたので、接触空間へ被洗浄物
を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気を除去して、シミ
を発生させること無く蒸気乾燥を行うことができる。
１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた手段と、接触空間の外部に設けら
れた第２排気手段とを備えたので、接触空間へ被洗浄物
を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気を除去して、シミ
を発生させること無く蒸気乾燥を行うことができる。
【０１３９】請求項１６に係る蒸気乾燥装置は、請求項
１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた第１冷却手段と、接触空間の外部
に設けられた第２排気手段とを備えたので、接触空間へ
被洗浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気を除去し
て、シミを発生させること無く蒸気乾燥を行うことがで
きる。
１０の装置において、除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた第１冷却手段と、接触空間の外部
に設けられた第２排気手段とを備えたので、接触空間へ
被洗浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気を除去し
て、シミを発生させること無く蒸気乾燥を行うことがで
きる。
【０１４０】請求項１７に係る蒸気乾燥装置は、請求項
５の装置において、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接
触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間とを区画すると共
に被洗浄物及び溶媒蒸気を接触空間内に導入するための
開口部を有するガイド容器を備えたので、少ない枚数の
被洗浄物を処理する場合においても被洗浄物にシミを発
生させること無く被洗浄物表面を乾燥することができ
る。
５の装置において、被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接
触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間とを区画すると共
に被洗浄物及び溶媒蒸気を接触空間内に導入するための
開口部を有するガイド容器を備えたので、少ない枚数の
被洗浄物を処理する場合においても被洗浄物にシミを発
生させること無く被洗浄物表面を乾燥することができ
る。
【０１４１】請求項１８に係る蒸気乾燥装置は、請求項
１７の装置において、一端部がガイド容器の開口部を囲
むようにガイド容器に接触すると共に他端部が溶媒蒸気
の充満する領域の外に位置する筒形状の仕切と、この仕
切を移動させてガイド容器の開口部からガイド容器内に
溶媒蒸気を導入させる第１移動手段とを備えたので、接
触空間へ被洗浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気
の絶対量を制限して、シミを発生させること無く蒸気乾
燥を行うことができる。
１７の装置において、一端部がガイド容器の開口部を囲
むようにガイド容器に接触すると共に他端部が溶媒蒸気
の充満する領域の外に位置する筒形状の仕切と、この仕
切を移動させてガイド容器の開口部からガイド容器内に
溶媒蒸気を導入させる第１移動手段とを備えたので、接
触空間へ被洗浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気
の絶対量を制限して、シミを発生させること無く蒸気乾
燥を行うことができる。
【０１４２】請求項１９に係る蒸気乾燥装置は、請求項
１８の装置において、ガイド容器に仕切の一端部を支持
するストッパが設けられているので、ストッパにより仕
切を確実に支持することができる。
１８の装置において、ガイド容器に仕切の一端部を支持
するストッパが設けられているので、ストッパにより仕
切を確実に支持することができる。
【０１４３】請求項２０に係る蒸気乾燥装置は、請求項
１７の装置において、ガイド容器の開口部が溶媒蒸気が
充満する領域内に位置する第１の位置と溶媒蒸気が充満
する領域外に位置する第２の位置との間でガイド容器を
移動させる第２移動手段を備えたので、接触空間へ被洗
浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気の絶対量を制
限して、シミを発生させること無く蒸気乾燥を行うこと
ができる。
１７の装置において、ガイド容器の開口部が溶媒蒸気が
充満する領域内に位置する第１の位置と溶媒蒸気が充満
する領域外に位置する第２の位置との間でガイド容器を
移動させる第２移動手段を備えたので、接触空間へ被洗
浄物を挿入する前に接触空間内の溶媒蒸気の絶対量を制
限して、シミを発生させること無く蒸気乾燥を行うこと
ができる。
【０１４４】請求項２１に係る蒸気乾燥装置は、請求項
２０の装置において、ガイド容器内に被洗浄物を保持す
るための保持台を有するので、第２移動手段を用いてガ
イド容器を移動させることにより被洗浄物も同時に移動
し、被洗浄物を移動させる専用の移動手段が不要とな
る。
２０の装置において、ガイド容器内に被洗浄物を保持す
るための保持台を有するので、第２移動手段を用いてガ
イド容器を移動させることにより被洗浄物も同時に移動
し、被洗浄物を移動させる専用の移動手段が不要とな
る。
【０１４５】請求項２２に係る蒸気乾燥装置は、請求項
１７の装置において、溶媒蒸気がガイド容器内に挿入さ
れた被洗浄物の表面で結露することにより得られる結露
液を蒸気乾燥装置の外部に排出するためにガイド容器に
接続された排液管と、ガイド容器内の溶媒蒸気を排出す
るために排液管に接続された負圧ポンプとを備えたの
で、接触空間へ被洗浄物を挿入する前に接触空間内の溶
媒蒸気の絶対量を制限して、シミを発生させること無く
蒸気乾燥を行うことができる。
１７の装置において、溶媒蒸気がガイド容器内に挿入さ
れた被洗浄物の表面で結露することにより得られる結露
液を蒸気乾燥装置の外部に排出するためにガイド容器に
接続された排液管と、ガイド容器内の溶媒蒸気を排出す
るために排液管に接続された負圧ポンプとを備えたの
で、接触空間へ被洗浄物を挿入する前に接触空間内の溶
媒蒸気の絶対量を制限して、シミを発生させること無く
蒸気乾燥を行うことができる。
【０１４６】請求項２３に係る蒸気乾燥装置は、請求項
１７の装置において、ガイド容器外部の溶媒蒸気を供給
する供給空間に配置された蒸気検出用温度計を備えたの
で、接触空間への溶媒蒸気の供給が行われているか否か
を確認することができる。
１７の装置において、ガイド容器外部の溶媒蒸気を供給
する供給空間に配置された蒸気検出用温度計を備えたの
で、接触空間への溶媒蒸気の供給が行われているか否か
を確認することができる。
【０１４７】請求項２４に係る蒸気乾燥装置は、溶媒を
加熱して溶媒蒸気を形成するヒーターと、被洗浄物を溶
媒蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給
空間とを区画するガイド容器と、ガイド容器内の接触空
間に被洗浄物を挿入させるための搬送手段と、ガイド容
器外部の供給空間に配置された蒸気検出用温度計とを備
え、蒸気検出用温度計の指示温度に基づいてヒーターへ
の通電を制御することにより接触空間内の溶媒蒸気の絶
対量を制限するので、少ない枚数の被洗浄物を処理する
場合においても被洗浄物にシミを発生させること無く被
洗浄物表面を乾燥することができる。
加熱して溶媒蒸気を形成するヒーターと、被洗浄物を溶
媒蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給
空間とを区画するガイド容器と、ガイド容器内の接触空
間に被洗浄物を挿入させるための搬送手段と、ガイド容
器外部の供給空間に配置された蒸気検出用温度計とを備
え、蒸気検出用温度計の指示温度に基づいてヒーターへ
の通電を制御することにより接触空間内の溶媒蒸気の絶
対量を制限するので、少ない枚数の被洗浄物を処理する
場合においても被洗浄物にシミを発生させること無く被
洗浄物表面を乾燥することができる。
【０１４８】請求項２６に係る蒸気乾燥装置は、溶媒温
度測定用温度計を備えたので、溶媒の沸点を測定するこ
とにより溶媒中の水分濃度を検出することができる。
度測定用温度計を備えたので、溶媒の沸点を測定するこ
とにより溶媒中の水分濃度を検出することができる。
【０１４９】
【０１５０】
【０１５１】請求項２５に係る蒸気乾燥装置は、蒸気温
度測定用温度計を備えたので、溶媒蒸気を供給する供給
空間における溶媒蒸気の温度を測定することにより溶媒
中の水分濃度を検出することができる。
度測定用温度計を備えたので、溶媒蒸気を供給する供給
空間における溶媒蒸気の温度を測定することにより溶媒
中の水分濃度を検出することができる。
【０１５２】請求項２６に係る蒸気乾燥装置は、溶媒蒸
気を供給する供給空間の互いに異なる箇所に複数の蒸気
温度測定用温度計を配置したので、これら温度計の指示
温度の平均値から溶媒中の水分濃度を検出することがで
きる。
気を供給する供給空間の互いに異なる箇所に複数の蒸気
温度測定用温度計を配置したので、これら温度計の指示
温度の平均値から溶媒中の水分濃度を検出することがで
きる。
【０１５３】請求項２７に係る蒸気乾燥装置は、水分濃
度検出手段で検出された溶媒中の水分濃度が０．８％を
越えると蒸気供給に供与される溶媒を新しい溶媒と交換
する交換手段を備えたので、少ない枚数の被洗浄物を処
理する場合においても被洗浄物にシミを発生させること
無く被洗浄物表面を乾燥することができる。
度検出手段で検出された溶媒中の水分濃度が０．８％を
越えると蒸気供給に供与される溶媒を新しい溶媒と交換
する交換手段を備えたので、少ない枚数の被洗浄物を処
理する場合においても被洗浄物にシミを発生させること
無く被洗浄物表面を乾燥することができる。
【０１５４】
【０１５５】
【０１５６】請求項２８に係る蒸気乾燥装置は、製品搬
送用容器が被洗浄物を保持するための容器本体と、容器
本体に設けられると共にこの容器の熱容量を大きくする
ための吸熱体とを有するので、少ない枚数の被洗浄物を
処理する場合においても被洗浄物にシミを発生させるこ
と無く被洗浄物表面を乾燥することができる。
送用容器が被洗浄物を保持するための容器本体と、容器
本体に設けられると共にこの容器の熱容量を大きくする
ための吸熱体とを有するので、少ない枚数の被洗浄物を
処理する場合においても被洗浄物にシミを発生させるこ
と無く被洗浄物表面を乾燥することができる。
【図１】本発明の実施例１に係る蒸気乾燥装置を示す概
略図である。
略図である。
【図２】本発明の実施例２に係る蒸気乾燥装置を示す概
略図である。
略図である。
【図３】本発明の実施例３に係る蒸気乾燥装置を示す概
略図である。
略図である。
【図４】本発明の実施例４に係る蒸気乾燥装置を示す概
略図である。
略図である。
【図５】本発明の実施例５に係る蒸気乾燥装置を示す概
略図である。
略図である。
【図６】本発明の実施例６に係る蒸気乾燥装置を示す概
略図である。
略図である。
【図７】本発明の実施例７に係る蒸気乾燥装置を示す概
略図である。
略図である。
【図８】本発明の実施例８に係る蒸気乾燥装置を示す概
略図である。
略図である。
【図９】本発明の実施例９に係る蒸気乾燥装置を示す概
略図である。
略図である。
【図１０】本発明の実施例１０に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図１１】本発明の実施例１１に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図１２】本発明の実施例１２に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図１３】本発明の実施例１３に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図１４】本発明の実施例１４に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図１５】本発明の実施例１５に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図１６】本発明の実施例１６に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図１７】本発明の実施例１７に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図１８】本発明の実施例１８に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図１９】実施例１８における水分濃度計から得られた
水分濃度とこの条件下で蒸気乾燥されたシリコンウエハ
上の微粒子数との関係を示す図である。
水分濃度とこの条件下で蒸気乾燥されたシリコンウエハ
上の微粒子数との関係を示す図である。
【図２０】本発明の実施例１９に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図２１】水分濃度と実施例１９における溶媒温度測定
用温度計の指示温度との関係を示す図である。
用温度計の指示温度との関係を示す図である。
【図２２】本発明の実施例２０に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図２３】水分濃度と実施例２０における蒸気温度測定
用温度計の指示温度との関係を示す図である。
用温度計の指示温度との関係を示す図である。
【図２４】本発明の実施例２１に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図２５】水分濃度と実施例２１における複数の蒸気温
度測定用温度計の指示温度の平均値との関係を示す図で
ある。
度測定用温度計の指示温度の平均値との関係を示す図で
ある。
【図２６】本発明の実施例２２に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図２７】本発明の実施例２３に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図２８】本発明の実施例２４に係る蒸気乾燥装置を示
す概略図である。
す概略図である。
【図２９】本発明の実施例２７に係る蒸気乾燥方法で用
いられるウエハカセットを示す斜視図である。
いられるウエハカセットを示す斜視図である。
【図３０】従来の蒸気乾燥方法に用いられる従来の蒸気
乾燥装置の一例を示す概略図である。
乾燥装置の一例を示す概略図である。
【図３１】従来の蒸気乾燥方法で用いられるウエハカセ
ットを示す斜視図である。
ットを示す斜視図である。
１ 蒸気乾燥槽 ２ ＩＰＡ（溶媒） ３ ヒータ ４ ＩＰＡ蒸気（溶媒蒸気） ５ 凝縮コイル ６ ガイド容器 ７ シリコンウエハ（被洗浄物） ８ 接触空間 １４、３９ 仕切（仕切手段） １５ 供給空間 １６ 外部冷却コイル（第１冷却手段） １７ 内部排気ファン（第１排気手段） １８ 外部排気ファン（第２排気手段） １９ 内部冷却コイル（第２冷却手段） ２０ ウエハカセット ２４ 吸熱体 ３７ アクチュエータ ３８ 支持棒 ４１ 負圧ポンプ ４２ カセット保持台 ４５ 水分濃度計 ４６ 溶媒温度測定用温度計 ４７ 蒸気検出用温度計 ４８ 蒸気温度測定用温度計 ５１、６１、７１、８１ バルブ ５２ 溶媒供給配管 ５６ ストッパ ６２ 溶媒排出配管 ７２、９３ 溶媒帰還配管 ７３ 結露溶液用受皿 ７５ 結露溶液送り配管 ８２ 廃棄配管 ９１ 水分除去装置 ９２ 水分排出管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 博司 伊丹市瑞原４丁目１番地 三菱電機株式 会社 北伊丹製作所内 (72)発明者 古藤 悟 尼崎市塚口本町８丁目１番１号 三菱電 機株式会社 中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭62−195128（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−45127（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−201（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−53203（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−62042（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−142637（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−60124（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−160232（ＪＰ，Ａ) 実開 昭63−41759（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 651 F26B 3/00 F26B 21/14
Claims (28)
- 【請求項１】 被洗浄物を溶媒蒸気と接触させて被洗浄
物の表面に溶媒蒸気を結露させ、結露時の溶媒蒸気の潜
熱で被洗浄物を加熱した後、被洗浄物を溶媒蒸気中から
引き出すことにより被洗浄物に結露した溶媒を蒸発させ
て被洗浄物を乾燥させる蒸気乾燥方法において、 被洗浄物を溶媒蒸気に接触させるための接触空間内に存
在する溶媒蒸気が保有する潜熱の量が被洗浄物を溶媒蒸
気の沸点温度にまで加熱できない量となるように、予め
接触空間内に存在する溶媒蒸気の絶対量を制限し、 被洗浄物を接触空間内に送り込み、 溶媒蒸気を被洗浄物の上方から接触空間内に供給するこ
とにより被洗浄物の表面で溶媒蒸気を結露させて被洗浄
物を加熱し、 被洗浄物を接触空間から引き出して被洗浄物の表面に結
露した溶媒を蒸発させることを特徴とする蒸気乾燥方
法。 - 【請求項２】 被洗浄物を溶媒蒸気と接触させて被洗浄
物の表面に溶媒蒸気を結露させ、結露時の溶媒蒸気の潜
熱で被洗浄物を加熱した後、被洗浄物を溶媒蒸気中から
引き出すことにより被洗浄物に結露した溶媒を蒸発させ
て被洗浄物を乾燥させる蒸気乾燥方法において、 被洗浄物及びこれを収納した製品搬送用容器の熱容量を
被洗浄物を溶媒蒸気に接触させるための接触空間内に存
在する溶媒蒸気が保有する潜熱の量より大きくし、 製品搬送用容器に収納された被洗浄物を接触空間内に送
り込むことにより被洗浄物の表面で溶媒蒸気を結露させ
て被洗浄物を加熱し、 被洗浄物を製品搬送用容器と共に接触空間から引き出し
て被洗浄物の表面に結露した溶媒を蒸発させることを特
徴とする蒸気乾燥方法。 - 【請求項３】 製品搬送用容器に被洗浄物の他にダミー
製品を収納することにより熱容量を大きくする請求項２
に記載の蒸気乾燥方法。 - 【請求項４】 製品搬送用容器に被洗浄物の他に被洗浄
物より熱容量の大きな吸熱性物品を収納することにより
熱容量を大きくする請求項２に記載の蒸気乾燥方法。 - 【請求項５】 被洗浄物を溶媒蒸気と接触させて被洗浄
物の表面に溶媒蒸気を結露させ、結露時の溶媒蒸気の潜
熱で被洗浄物を加熱した後、被洗浄物を溶媒蒸気中から
引き出すことにより被洗浄物に結露した溶媒を蒸発させ
て被洗浄物を乾燥させる蒸気乾燥装置において、 被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接触空間内に存在する
溶媒蒸気が保有する潜熱の量が被洗浄物を溶媒蒸気の沸
点温度にまで加熱できない量となるように、接触空間内
に存在する溶媒蒸気の絶対量を制限する制限手段を設け
たことを特徴とする蒸気乾燥装置。 - 【請求項６】 上記制限手段として、被洗浄物を溶媒蒸
気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間
との間に仕切を設けたことを特徴とする請求項５に記載
の蒸気乾燥装置。 - 【請求項７】 上記制限手段として、被洗浄物を溶媒蒸
気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空間
との間に、溶媒蒸気を冷却する第１冷却手段を設けたこ
とを特徴とする請求項５に記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項８】 上記制限手段として、被洗浄物を溶媒蒸
気に接触させる接触空間内に、接触空間内の溶媒蒸気を
接触空間外に排気する第１排気手段を設けたことを特徴
とする請求項５に記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項９】 上記制限手段として、被洗浄物を溶媒蒸
気に接触させる接触空間の外部に、供給空間から接触空
間内へ供給される溶媒蒸気の一部を排気する第２排気手
段を設けたことを特徴とする請求項５に記載の蒸気乾燥
装置。 - 【請求項１０】 被洗浄物を溶媒蒸気と接触させて被洗
浄物の表面に溶媒蒸気を結露させ、結露時の溶媒蒸気の
潜熱で被洗浄物を加熱した後、被洗浄物を溶媒蒸気中か
ら引き出すことにより被洗浄物に結露した溶媒を蒸発さ
せて被洗浄物を乾燥させる蒸気乾燥装置において、 被洗浄物を溶媒蒸気に接触させるための接触空間内に存
在する溶媒蒸気を除去するための除去手段を設けたこと
を特徴とする蒸気乾燥装置。 - 【請求項１１】 上記除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた仕切と、接触空間内に設けられた
溶媒蒸気を冷却する第２冷却手段とを備えたことを特徴
とする請求項１０に記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項１２】 上記除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた第１冷却手段と、接触空間内に設
けられた第２冷却手段とを備えたことを特徴とする請求
項１０に記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項１３】 上記除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた仕切と、接触空間内に設けられた
第１排気手段とを備えたことを特徴とする請求項１０に
記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項１４】 上記除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた第１冷却手段と、接触空間内に設
けられた第１排気手段とを備えたことを特徴とする請求
項１０に記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項１５】 上記除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた仕切と、接触空間の外部に設けら
れた第２排気手段とを備えたことを特徴とする請求項１
０に記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項１６】 上記除去手段として、被洗浄物を溶媒
蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を供給する供給空
間との間に設けられた第１冷却手段と、接触空間の外部
に設けられた第２排気手段とを備えたことを特徴とする
請求項１０に記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項１７】 被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接触
空間と溶媒蒸気を供給する供給空間とを区画すると共に
被洗浄物及び溶媒蒸気を接触空間内に導入するための開
口部を有するガイド容器を備えたことを特徴とする請求
項５に記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項１８】 一端部が上記ガイド容器の開口部を囲
むように上記ガイド容器に接触すると共に他端部が溶媒
蒸気の充満する領域の外に位置する筒形状の仕切と、こ
の仕切を移動させて上記ガイド容器の開口部から上記ガ
イド容器内に溶媒蒸気を導入させる第１移動手段とを備
えたことを特徴とする請求項１７に記載の蒸気乾燥装
置。 - 【請求項１９】 上記ガイド容器に、上記仕切の一端部
を支持するストッパが設けられたことを特徴とする請求
項１８に記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項２０】 上記ガイド容器の開口部が溶媒蒸気が
充満する領域内に位置する第１の位置と溶媒蒸気が充満
する領域外に位置する第２の位置との間で上記ガイド容
器を移動させる第２移動手段を備えたことを特徴とする
請求項１７に記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項２１】 上記ガイド容器内に被洗浄物を保持す
るための保持台を有することを特徴とする請求項２０に
記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項２２】 溶媒蒸気が上記ガイド容器内に挿入さ
れた被洗浄物の表面で結露することにより得られる結露
液を上記蒸気乾燥装置の外部に排出するために上記ガイ
ド容器に接続された排液管と、上記ガイド容器内の溶媒
蒸気を排出するために上記排液管に接続された負圧ポン
プとを備えたことを特徴とする請求項１７に記載の蒸気
乾燥装置。 - 【請求項２３】 上記ガイド容器外部の溶媒蒸気を供給
する供給空間に配置された蒸気検出用温度計を備えたこ
とを特徴とする請求項１７に記載の蒸気乾燥装置。 - 【請求項２４】 被洗浄物を溶媒蒸気と接触させて被洗
浄物の表面に溶媒蒸気を結露させ、結露時の溶媒蒸気の
潜熱で被洗浄物を加熱した後、被洗浄物を溶媒蒸気中か
ら引き出すことにより被洗浄物に結露した溶媒を蒸発さ
せて被洗浄物を乾燥させる蒸気乾燥装置において、 溶媒を加熱して溶媒蒸気を形成するヒーターと、 被洗浄物を溶媒蒸気に接触させる接触空間と溶媒蒸気を
供給する供給空間とを区画するガイド容器と、 上記ガイド容器内の接触空間に被洗浄物を挿入させるた
めの搬送手段と、 上記ガイド容器外部の上記供給空間に配置された蒸気検
出用温度計とを備え、上記蒸気検出用温度計の指示温度
に基づいて上記ヒーターへの通電を制御することにより
接触空間内の溶媒蒸気の絶対量を制限することを特徴と
する蒸気乾燥装置。 - 【請求項２５】 被洗浄物を溶媒蒸気と接触させて被洗
浄物の表面に溶媒蒸気を結露させ、結露時の溶媒蒸気の
潜熱で被洗浄物を加熱した後、被洗浄物を溶媒蒸気中か
ら引き出すことにより被洗浄物に結露した溶媒を蒸発さ
せて被洗浄物を乾燥させる蒸気乾燥装置において、 溶媒蒸気を供給する供給空間における溶媒蒸気の温度を
測定することにより溶媒中の水分濃度を検出する蒸気温
度測定用温度計を備えたことを特徴とする蒸気乾燥装
置。 - 【請求項２６】 被洗浄物を溶媒蒸気と接触させて被洗
浄物の表面に溶媒蒸気を結露させ、結露時の溶媒蒸気の
潜熱で被洗浄物を加熱した後、被洗浄物を溶媒蒸気中か
ら引き出すことにより被洗浄物に結露した溶媒を蒸発さ
せて被洗浄物を乾燥させる蒸気乾燥装置において、 溶媒蒸気を供給する供給空間の互いに異なる箇所に複数
の蒸気温度測定用温度計を配置し、これら温度計の指示
温度の平均値から溶媒中の水分濃度を検出することを特
徴とする蒸気乾燥装置。 - 【請求項２７】 被洗浄物を溶媒蒸気と接触させて被洗
浄物の表面に溶媒蒸気を結露させ、結露時の溶媒蒸気の
潜熱で被洗浄物を加熱した後、被洗浄物を溶媒蒸気中か
ら引き出すことにより被洗浄物に結露した溶媒を蒸発さ
せて被洗浄物を乾燥させる蒸気乾燥装置において、 溶媒蒸気を供給するために用いられる溶媒に含まれる水
分濃度を検出するための水分濃度検出手段と、 上記水分濃度検出手段で検出された溶媒中の水分濃度が
０．８％を越えると蒸気供給に供与される溶媒を新しい
溶媒と交換する交換手段とを備えたことを特徴とする蒸
気乾燥装置。 - 【請求項２８】 被洗浄物を蒸気乾燥する蒸気乾燥装置
内に被洗浄物を挿入する際に用いられる製品搬送用容器
を有する蒸気乾燥装置において、 上記製品搬送用容器が、被洗浄物を保持するための容器
本体と、この容器本体に設けられると共にこの容器の熱
容量を大きくするための吸熱体とを備えたことを特徴と
する蒸気乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21293993A JP3213654B2 (ja) | 1992-10-30 | 1993-08-27 | 蒸気乾燥方法及び蒸気乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29352292 | 1992-10-30 | ||
| JP4-295135 | 1992-11-04 | ||
| JP29513592 | 1992-11-04 | ||
| JP4-293522 | 1992-11-04 | ||
| JP21293993A JP3213654B2 (ja) | 1992-10-30 | 1993-08-27 | 蒸気乾燥方法及び蒸気乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06196471A JPH06196471A (ja) | 1994-07-15 |
| JP3213654B2 true JP3213654B2 (ja) | 2001-10-02 |
Family
ID=27329433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21293993A Expired - Fee Related JP3213654B2 (ja) | 1992-10-30 | 1993-08-27 | 蒸気乾燥方法及び蒸気乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3213654B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000091413A (ja) * | 1998-09-16 | 2000-03-31 | Nec Kagoshima Ltd | カセット及び基板乾燥方法 |
| JP4795064B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2011-10-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラム |
| JP5104174B2 (ja) | 2007-10-01 | 2012-12-19 | 富士通株式会社 | 洗浄乾燥装置及び洗浄乾燥方法 |
-
1993
- 1993-08-27 JP JP21293993A patent/JP3213654B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH06196471A (ja) | 1994-07-15 |
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