JP2910402B2 - 蒸気乾燥方法及び蒸気乾燥槽 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は蒸気乾燥方法及び蒸気乾
燥槽の構造に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】蒸気乾燥は水等を洗浄液に用いて超音波
洗浄したシリコンウェハ等の精密部品の乾燥のために多
く使用されている。

【０００３】蒸気乾燥は、水等の高表面張力、低蒸気圧
の溶媒で表面を覆われた被洗浄物表面で、低表面張力、
高蒸気圧の溶媒となる気化したＩＰＡ等の気体を結露さ
せることにより水等の高表面張力、低蒸気圧溶媒とＩＰ
Ａ等の溶媒とを置換し、その後、速やかにＩＰＡ等の溶
媒を蒸発させ、シミの発生することなく被洗浄物表面を
乾燥させようとするものである。

【０００４】従来の蒸気乾燥槽は図２の構成図に示すよ
うに構成されている。以下、図２に基づき従来のＩＰＡ
蒸気乾燥方法について説明する。槽本体１の下部にＩＰ
Ａ等の溶媒を溜め、これをヒータ２で加熱蒸発させＩＰ
Ａ等の蒸気６を発生する。このＩＰＡ等の蒸気６は速や
かに槽本体１の中で飽和蒸気圧に達するまで蒸発し続け
る。１７はＩＰＡ等の蒸気６が飽和蒸気圧に達したかど
うかを判断するために設けた温度計である。なお、槽本
体１上部には冷媒を通した凝縮コイル３が設置されてい
るため、ＩＰＡ等の蒸気６はこの凝縮コイル３で速やか
に冷却液化されるため、凝縮コイル３を越えて槽本体１
から外に流出することはない。矢印はＩＰＡ等の蒸気６
の流れを示す。

【０００５】この様な槽本体１の飽和蒸気圧に達したＩ
ＰＡ等の蒸気６の中に、槽本体１の外からカセット９等
にセッティングしたシリコンウェハ等の被洗浄物５（な
お被洗浄物５の表面は水等で濡れている）を支持棒８を
介したアクチュエータ７で送り込むと、直ちにシリコン
ウェハ等の被洗浄物５表面にＩＰＡ等の蒸気６が結露す
る。このＩＰＡ等の結露は被洗浄物１の表面の温度がＩ
ＰＡ等の蒸気の液化温度に達するまで持続する。この蒸
気が結露したＩＰＡ等の溶媒は速やかに被洗浄物５表面
の水等と置換しながら被洗浄物５表面上を覆い下部に流
れ、その後受け皿１０に流れ落ちる。なお、この受け皿
１０に流れ落ちたＩＰＡ等の溶媒の中には置換した水等
が含まれるため、廃液口１１を介して槽本体１から外に
排出される。この様な工程で表面をＩＰＡ等の溶媒で置
換した被洗浄物５をアクチュエータ７を用いてゆっくり
とＩＰＡ等の蒸気６の中から引き出すと、低表面張力、
高蒸気圧であるＩＰＡ等の溶媒は速やかに蒸発するため
被洗浄物５表面は直ちに乾燥される。なお、上述の従来
技術としては特公昭５８−２０１号公報等に記載されて
いる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のＩＰＡ
蒸気乾燥においては、槽本体１の中の飽和蒸気圧に達し
たＩＰＡ等の蒸気６の中に、槽本体１の外からカセット
９等にセッティングしたシリコンウェハ等の被洗浄物５
（表面は水等で濡れている）を支持棒を介したアクチュ
エータ７で送り込む際に、被洗浄物５表面にＩＰＡ等の
蒸気がまず接触するのは被洗浄物５の最下部であり、そ
の後順次被洗浄物５の上部へと接触がおこる。そのた
め、被洗浄物５表面で結露は被洗浄物５の最下部から始
まり最後に最上部になる。そのため、最後に結露で発生
するＩＰＡ等の溶媒は被洗浄物５表面の最上部であり、
この最後に結露で発生したＩＰＡ等の溶媒は被洗浄物５
表面の水と置換し、この置換した水等を含む溶液（ＩＰ
Ａ等の溶媒と混合した状態である）は上部にあった微細
なゴミとともに清浄な状態であった被洗浄物５表面の下
部へと流れる。そのため、被洗浄物５表面の上部にあっ
た微細なゴミの一部は清浄な状態であった被洗浄物５表
面の下部上に残り、最終的にシミとして残るという問題
点があった。

【０００７】また、従来のＩＰＡ蒸気乾燥槽は、槽本体
１の下部に設けたＩＰＡ等の溶媒４を蒸発させ、槽本体
１の上部に設けた凝縮コイルで蒸気６を結露させるた
め、蒸気６の流れは槽本体１の下部から上部に向けて流
れる。そのため、被洗浄物５表面にＩＰＡ等の蒸気６が
供給されるのは被洗浄物５の最下部であり、その後順次
被洗浄物５の上部へと供給が起こる。よって、被洗浄物
５表面での結露は被洗浄物５の最下部から始まり最後に
最上部になる。そのため、最後に結露で発生するＩＰＡ
等の溶媒は被洗浄物５表面の最上部であり、この最後の
結露で発生したＩＰＡ等の溶媒と置換した水等を含む溶
液は被洗浄物５の上部にあった微細なゴミとともに清浄
な状態であった被洗浄物５表面の下部へと流れる。その
ため、被洗浄物５表面の上部にあった微細なゴミの一部
は清浄な状態であった被洗浄物５表面の下部上に残り、
最終的にシミとして残るという問題点があった。

【０００８】本発明は、上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、シミを発生させることなく被洗
浄物表面を乾燥することができる乾燥特性及び洗浄効果
に優れた蒸気乾燥方法及び蒸気乾燥槽を提供することを
目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の蒸気乾燥方法
は、溶媒蒸気が充満するダクト内に被洗浄物を入れ、上
記被洗浄物を上記溶媒蒸気と接触させるとともに、上記
ダクト内で、上記溶媒蒸気が上記被洗浄物上部から順に
下部にあたるようにして、上記被洗浄物表面で上記溶媒
蒸気を凝縮結露させる工程、上記溶媒蒸気の凝縮結露に
より昇温した被洗浄物を、上記ダクトの下部に設けられ
た冷却室に移動して冷却する工程、上記被洗浄物の冷却
後、再び上記被洗浄物を上記ダクト内に戻し、上記被洗
浄物表面で上記溶媒蒸気を凝縮結露させる工程、及び上
記被洗浄物を上記ダクト内から出し、上記被洗浄物表面
の結露した溶媒を蒸発させ、上記被洗浄物を乾燥させる
工程を施すものである。

【００１０】

【００１１】また、本発明の蒸気乾燥槽は、蒸気乾燥槽
本体、この槽本体下部に溜められる溶媒液、この溶媒液
を加熱蒸発させるヒータ、蒸発した溶媒蒸気が流入する
開口部を上部に有するダクト、及び上記ダクトの下部に
設けられ、上記ダクト内に入れられた被洗浄物表面で上
記溶媒蒸気を凝縮結露させる際に、上記溶媒蒸気が上記
被洗浄物上部から順に下部にあたるように上記溶媒蒸気
の流れをガイドするとともに、上記ダクト内より上記被
洗浄物を移動して上記被洗浄物を冷却する冷却室を備え
たものである。

【００１２】

【００１３】

【作用】本発明の蒸気乾燥方法においては、ダクト内
で、溶媒蒸気が被洗浄物上部から順に下部にあたる（供
給する）ようにしたので、溶媒蒸気の凝縮結露が被洗浄
物表面の上部から順に下部へと起こる。従って、最後に
結露で発生するＩＰＡ等の溶媒は被洗浄物表面の下部と
なり、被洗浄物表面の上部にあった微細なゴミが最後に
被洗浄物表面の下部へと流れることがなくなり、結果的
にシミの発生を抑制できる。

【００１４】また、一度昇温した被洗浄物を再び冷却す
ることにより、例えば１回では十分なＩＰＡ等の溶媒蒸
気の結露が行われず水との置換が不十分となる熱容量の
少ない被洗浄物に対しても、複数回の溶媒蒸気の結露、
置換が可能となり、結果的に十分な溶媒蒸気の結露、水
との置換が行われ、より良好にシミの発生を抑制でき
る。さらに、被洗浄物の冷却室がダクトの下部に設けら
れているため、被洗浄物を冷却室からダクトへ引き上げ
る場合、被洗浄物の表面に溶媒蒸気が供給されるのは必
ず被洗浄物の最上部からであり、その後順次被洗浄物の
下部へと供給が起こる。よって、被洗浄物表面での結露
は被洗浄物表面の最上部から始まり最後に最下部にな
る。そのため最後に結露で発生する溶媒は被洗浄物表面
の最下部となり、被洗浄物表面の上部にあった微細なゴ
ミが被洗浄物表面の下部へと流れることがなくなり、結
果的にシミとして残るという問題が起こらなくなる。

【００１５】そして、本発明の蒸気乾燥槽においては、
ダクトの形状あるいは拡散ポンプの設置等により、ＩＰ
Ａ等の溶媒蒸気が被洗浄物上部から順に下部にあたるよ
うにしているので、溶媒蒸気の凝縮結露が被洗浄物表面
の上部から順に下部へと起こり、シミの発生を防止でき
る。また拡散ポンプを用いると溶媒蒸気の供給量を多く
できる。

【００１６】また、ダクトの下部に冷却室を設けている
ので、一度昇温した被洗浄物を再び冷却することによ
り、再び被洗浄物表面でＩＰＡ等の溶媒蒸気を凝縮、結
露させることができ、シミの発生を防止できる。さら
に、被洗浄物を冷却室からダクトへ引き上げる場合、溶
媒蒸気が被洗浄物上部から順に下部にあたるので、溶媒
蒸気の凝縮結露が被洗浄物表面の上部から順に下部へと
起こり、シミの発生を防止できる。

【００１７】

【実施例】図１は本発明の一実施例の蒸気乾燥槽を示す
構成図である。図中、図２と同一符号は同一または相当
のものを示している。この実施例においては、蒸気乾燥
槽本体１内部にＩＰＡ等の蒸気が被洗浄物５の上部から
当たるように、上部に開口部を有するダクト１２を設け
るとともに、強制的にＩＰＡ等の蒸気６を供給するため
のポンプとして冷却コイル１３で構成される拡散ポンプ
を設けている。また、蒸気乾燥槽本体１内部、ダクト１
２の下部に一度昇温した被洗浄物５を冷却するために被
洗浄物冷却室１６を設けている。この被洗浄物冷却室１
６の外壁は熱効率を良くするために断熱構造材で構成さ
れている。１４は被洗浄物冷却室１６の室温を測定する
ために設けた温度計である。

【００１８】次にこの蒸気乾燥槽を用いた蒸気乾燥方法
について説明する。ダクト１２を設けたためＩＰＡ等の
蒸気が被洗浄物５の上部から当たるようになる。そのた
め矢印で示すように蒸気６の流れは槽本体１の上部から
下部に向けて流れる。そのため、最初に被洗浄物５表面
にＩＰＡ等の蒸気６が供給されるのは被洗浄物５の最上
部であり、その後順次被洗浄物１の下部へと供給が起こ
る。よって、被洗浄物５表面での結露は被洗浄物５表面
の最上部から始まり最後に最下部になる。最後に結露で
発生するＩＰＡ等の溶媒は被洗浄物５表面の最下部とな
るので、被洗浄物５表面の上部にあった微細なゴミが被
洗浄物５表面の下部へと流れることがなくなり、結果的
にシミとして残るという問題が起こりにくくなった。

【００１９】なお、従来のＩＰＡ蒸気乾燥は、槽本体１
の中の飽和蒸気圧に達したＩＰＡ等の蒸気６の中に、槽
本体１の外からカセット９等にセッティングしたシリコ
ンウェハ等の被洗浄物５を支持棒を介したアクチュエー
タ７で送り込むと、槽本体１の中の飽和蒸気圧に達した
ＩＰＡ等の蒸気６は被洗浄物５の表面で結露するため、
飽和蒸気圧以下になり、結果的に十分なＩＰＡ等の蒸気
６を被洗浄物の表面に供給することができなくなり水等
で濡れた被洗浄物５表面を十分にＩＰＡ等の溶媒で置換
することができない場合があった。そのため、被洗浄物
５表面の乾燥が速やかに起こらず最終的にシミとして残
る場合があった。

【００２０】ところが、この実施例ではダクト１２に加
えて槽本体１内部に冷却コイル１３からなる拡散ポンプ
を設けたため、強制的にＩＰＡ等の蒸気６を供給できる
ようになる。そのため、十分なＩＰＡ等の蒸気６を被洗
浄物５の表面に供給することができ、上記のような問題
も解消でき、水等で濡れた被洗浄物５表面を十分にＩＰ
Ａ等の溶媒で置換することができ、よりシミの発生が起
こりにくくなった。

【００２１】また、従来のＩＰＡ蒸気乾燥は被洗浄物５
表面がＩＰＡ等の溶媒蒸気から気化熱を奪い被洗浄物５
表面にＩＰＡ等の結露を行うものであるため、ＩＰＡ等
の結露が持続するのは被洗浄物５表面の温度がＩＰＡ等
の蒸気の液化温度に達するまでである。そのため、被洗
浄物５自体の持つ熱容量が小さい場合には十分なＩＰＡ
等の溶媒の結露が行われず、その結果、水との置換が行
われず、結果的にシミを発生させること無く被洗浄物表
面を乾燥することができないという問題点があった。

【００２２】ところが、この実施例では被洗浄物冷却室
１６を設けたので、一度昇温した被洗浄物５を再び冷却
する事ができるようになる。そのため、一回でＩＰＡ等
の蒸気６による置換がしにくい熱容量の少ない被洗浄物
５に対しても、被洗浄物５を被洗浄物冷却室１６の中に
保持することにより再び冷却することができ、そのため
複数回の置換が可能となり、結果的に十分なＩＰＡ等の
蒸気６を被洗浄物５の表面に供給することができシミの
発生が起こりにくくなる。

【００２３】さらに、被洗浄物冷却室１６はダクト１２
の下部に設けられているため、被洗浄物５を被洗浄物冷
却室１６からダクト１２へ引き上げる場合、被洗浄物５
の表面にＩＰＡ等の蒸気６が供給されるのは必ず被洗浄
物５の最上部からであり、その後順次被洗浄物５の下部
へと供給が起こる。よって、被洗浄物５表面での結露は
被洗浄物５表面の最上部から始まり最後に最下部にな
る。そのため最後に結露で発生するＩＰＡ等の溶媒は被
洗浄物５表面の最下部となり、被洗浄物５表面の上部に
あった微細なゴミが被洗浄物５表面の下部へと流れるこ
とがなくなり、結果的にシミとして残るという問題が起
こらなくなる。

【００２４】さらにまた、被洗浄物冷却室１６の外壁を
断熱構造材で構成しているので、被洗浄物冷却室１６の
外壁で結露が起こらないようにすることができ、結果的
にヒータ２の熱効率を良くすることができるようにな
る。ひいては加熱費の削減が可能となる。

【００２５】そして、冷却コイルからなる拡散ポンプの
持つ温度を凝縮コイル３の持つ温度以下にすることによ
り、蒸気６の結露量が凝縮コイル３より冷却コイルの方
が多くなるため、ダクト内部に流れるＩＰＡ等の蒸気６
の供給効率を良くすることができるようになる。このた
め、結果的にヒータ２の熱効率を良くすることができる
ようになり、加熱費の削減が可能となる。

【００２６】次に、この図１に示す蒸気乾燥槽を用いた
本発明の実施例の蒸気乾燥方法について具体的に説明す
る。被洗浄物として被洗浄信越シリコン社製６インチシ
リコンウェハを蒸気乾燥し、蒸気乾燥前後でのゴミ（微
粒子）の増減について実験した。

【００２７】ゴミ（異物）の増減評価については、日立
電子エンジニアリング製表面検査装置ＩＳ−２０００に
よるウェハ全面での０．３μｍ以上の微粒子を測定する
ことにより行った。

【００２８】なお、信越シリコン社から搬入された封切
り６インチシリコンウェハについて、そのウェハ端から
８ｍｍより外の部分を除いた範囲を表面検査装置ＩＳ−
２０００により０．３μｍ以上の微粒子測定を行ったと
ころ、すべてのウェハでその観測された微粒子数は６個
〜１０個で、その平均値は８個であった。一方、ウェハ
全面について微粒子測定を行ったところ、すべてのウェ
ハでその観測された微粒子数は１００個〜３００個で、
その平均値は２００個であった。このことから信越シリ
コン社から搬入された封切り６インチシリコンウェハは
ウェハ端から８ｍｍより外の部分に集中して微粒子が存
在することがわかる。恐らく、この微粒子はウェハ搬入
までに使用するウェハケースの内壁とウェハ端との接触
により生成したゴミと推定される。

【００２９】実施例１．図１に示す蒸気乾燥槽にＩＰＡ
４を投入した後、凝縮コイル３に２４℃の冷水を流すと
ともにヒータ２に通電を行いＩＰＡ４を沸騰させ、蒸気
乾燥槽本体１の内部をＩＰＡの蒸気６で満たした。次
に、ダクト１２の中に設けた温度計１７の温度が８３℃
になるのを確認した後、カセット９等に封切り６インチ
シリコンウェハ５を２５枚セッティングし、これを支持
棒８を介したアクチュエータ７を用いて秒速３ｍ／ｓｅ
ｃの速度でＩＰＡの蒸気６が充満した蒸気乾燥槽本体１
の内部に設けたダクト１２の中に投入し、そのままの状
態で５分間放置した。この時の温度計１７の指示温度は
８３℃から６５℃まで急激に下がった後、徐々に８３℃
になるまでに復帰した。次に、指示棒８を介したアクチ
ュエータ７を用いて秒速０．０５ｍ／ｓｅｃの速度でカ
セット９を蒸気乾燥槽本体１の内部から外に引き出し
た。この様な工程で蒸気乾燥した６インチシリコンウェ
ハ５を実施例１の試料とする。

【００３０】実施例２． 図１に示す蒸気乾燥槽にＩＰＡ４を投入した後、凝縮コ
イル３及び冷却コイル１３に２４℃の冷水を流すととも
にヒータ２に通電を行いＩＰＡ４を沸騰させ、蒸気乾燥
槽本体１の内部をＩＰＡの蒸気６で満たした。次に、ダ
クト１２の中に設けた温度計１７の温度が８３℃になる
のを確認した後、カセット９等に封切り６インチシリコ
ンウェハ５を２５枚セッティングし、これを支持棒８を
介したアクチュエータ７を用いて秒速３ｍ／ｓｅｃの速
度でＩＰＡの蒸気６が充満した蒸気乾燥槽本体１の内部
に設けたダクト１２の中に投入し、そのままの状態で５
分間放置した。この時の温度計１７の指示温度は８３℃
から一瞬７９℃まで下がった後、すぐに８３℃になるま
でに復帰した。次に、指示棒８を介したアクチュエータ
７を用いて秒速０．０５ｍ／ｓｅｃの速度でカセット９
を蒸気乾燥槽本体１の内部から外に引き出した。この様
な工程で蒸気乾燥した６インチシリコンウェハ５を実施
例２の試料とした。

【００３１】実施例３． 図１に示す蒸気乾燥槽にＩＰＡ４を投入した後、凝縮コ
イル３及び冷却コイル１３に２４℃の冷水を流すととも
にヒータ２に通電を行いＩＰＡ４を沸騰させ、蒸気乾燥
槽本体１の内部をＩＰＡの蒸気６で満たした。次に、ダ
クト１２の中に設けた温度計１７の温度が８３℃になる
のを確認した後、カセット９等に封切り６インチシリコ
ンウェハ５を２５枚セッティングし、これを支持棒８を
介したアクチュエータ７を用いて秒速３ｍ／ｓｅｃの速
度でＩＰＡの蒸気６が充満した蒸気乾燥槽本体１の内部
に設けたダクト１２の中に投入し、そのままの状態で５
分間放置した。この時の温度計１７の指示温度は８３℃
から一瞬７９℃まで下がった後、すぐに８３℃になるま
でに復帰した。次に、指示棒８を介したアクチュエータ
７を用いて秒速２ｍ／ｓｅｃの速度でカセット９を被洗
浄物冷却室１６の中に投入し、そのままの状態で５分間
放置してウェハ５を冷却した。次に、指示棒８を介した
アクチュエータ７を用いて秒速０．０５ｍ／ｓｅｃの速
度でカセット９を蒸気乾燥槽本体１の内部から外に引き
出した。この様な工程で蒸気乾燥した６インチシリコン
ウェハ５を実施例３の試料とした。

【００３２】実施例４． 図１に示す蒸気乾燥槽にＩＰＡ４を投入した後、凝縮コ
イル３に５０℃の冷水を流し、冷却コイル１３に２４℃
の冷水を流すとともにヒータ２に通電を行いＩＰＡ４を
沸騰させ、蒸気乾燥槽本体１の内部をＩＰＡの蒸気６で
満たした。次に、ダクト１２の中に設けた温度計１７の
温度が８３℃になるのを確認した後、カセット９等に封
切り６インチシリコンウェハ５を２５枚セッティング
し、これを支持棒８を介したアクチュエータ７を用いて
秒速３ｍ／ｓｅｃの速度でＩＰＡの蒸気６が充満した蒸
気乾燥槽本体１の内部に設けたダクト１２の中に投入
し、そのままの状態で５分間放置した。この時の温度計
１７の指示温度は８３℃から一瞬７９℃まで下がった
後、すぐに８３℃になるまでに復帰した。次に、指示棒
８を介したアクチュエータ７を用いて秒速２ｍ／ｓｅｃ
の速度でカセット９を被洗浄物冷却室１６の中に投入
し、そのままの状態で５分間放置してウェハ５を冷却し
た。次に、指示棒８を介したアクチュエータ７を用いて
秒速０．０５ｍ／ｓｅｃの速度でカセット９を蒸気乾燥
槽本体１の内部から外に引き出した。この様な工程で蒸
気乾燥した６インチシリコンウェハ５を実施例４の試料
とした。

【００３３】比較例１． 図２に示す蒸気乾燥槽にＩＰＡ４を投入した後、凝縮コ
イル３に２４℃の冷水を流すとともにヒータ２に通電を
行いＩＰＡ４を沸騰させ、蒸気乾燥槽本体１の内部をＩ
ＰＡの蒸気６で満たした。次に、蒸気乾燥槽本体１の中
に設けた温度計１７の温度が８３℃になるのを確認した
後、カセット９等に封切り６インチシリコンウェハ５を
２５枚セッティングし、これを支持棒８を介したアクチ
ュエータ７を用いて秒速３ｍ／ｓｅｃの速度でＩＰＡの
蒸気６が充満した蒸気乾燥槽本体１の中に投入し、その
ままの状態で５分間放置した。この時の温度計１７の指
示温度は８３℃から６８℃まで急激に下がった後、徐々
に８３℃になるまでに復帰した。次に、指示棒８を介し
たアクチュエータ７を用いて秒速０．０５ｍ／ｓｅｃの
速度でカセット９を蒸気乾燥槽本体１の内部から外に引
き出した。この様な工程で蒸気乾燥した６インチシリコ
ンウェハ５を比較例１の試料とした。

【００３４】表１に各実施例１〜４及び比較例１のウェ
ハ５について表面検査装置ＩＳ−２０００により０．３
μｍ以上の微粒子測定を行った結果の平均値を示す。

【００３５】

【表１】

【００３６】ウェハ全面測定において（ウェハ端から８
ｍｍより外の部分も含む）、若干微粒子が多く存在する
ように観測されたのは、恐らくウェハケースとの接触で
生じた傷があたかも微粒子が存在するように観測された
結果と推察される。

【００３７】表１から明らかに本発明の蒸気乾燥槽，蒸
気乾燥方法を用いて乾燥した６インチシリコンウェハ５
の方が従来の蒸気乾燥槽，蒸気乾燥方法を用いて乾燥し
た６インチシリコンウェハ５より微粒子数が少ないこと
がわかる。このことから本発明の蒸気乾燥槽，蒸気乾燥
方法の優秀性が確認された。また、ＩＰＡ等の蒸気が被
洗浄物５の上部から当たるようにした実施例１より、冷
却コイルからなる拡散ポンプを設け、強制的にＩＰＡ等
の蒸気６を供給するようにした実施例２の方が優れてい
ることがわかる。さらに結露により一度昇温した被洗浄
物を冷却する実施例３，４の方がより優れていることが
わかる。

【００３８】

【発明の効果】以上のように、本発明の蒸気乾燥方法に
おいては、溶媒蒸気が充満するダクト内に被洗浄物を入
れ、上記被洗浄物を上記溶媒蒸気と接触させるととも
に、上記ダクト内で、上記溶媒蒸気が上記被洗浄物上部
から順に下部にあたるようにして、上記被洗浄物表面で
上記溶媒蒸気を凝縮結露させる工程、上記溶媒蒸気の凝
縮結露により昇温した被洗浄物を、上記ダクトの下部に
設けられた冷却室に移動して冷却する工程、上記被洗浄
物の冷却後、再び上記被洗浄物を上記ダクト内に戻し、
上記被洗浄物表面で上記溶媒蒸気を凝縮結露させる工
程、及び上記被洗浄物を上記ダクト内から出し、上記被
洗浄物表面の結露した溶媒を蒸発させ、上記被洗浄物を
乾燥させる工程を施すので、被洗浄物表面の上部にあっ
た微細なゴミが最後に被洗浄物表面の下部へと流れるこ
とがなくなり、結果的にシミの発生を抑制できる乾燥特
性，洗浄特性に優れた蒸気乾燥方法が得られる効果があ
る。

【００３９】

【００４０】また、本発明の蒸気乾燥槽は、蒸気乾燥槽
本体、この槽本体下部に溜められる溶媒液、この溶媒液
を加熱蒸発させるヒータ、蒸発した溶媒蒸気が流入する
開口部を上部に有するダクト、及び上記ダクトの下部に
設けられ、上記ダクト内に入れられた被洗浄物表面で上
記溶媒蒸気を凝縮結露させる際に、上記溶媒蒸気が上記
被洗浄物上部から順に下部にあたるように上記溶媒蒸気
の流れをガイドするとともに、上記ダクト内より上記被
洗浄物を移動して上記被洗浄物を冷却する冷却室を備え
たので、被洗浄物表面の上部にあった微細なゴミが最後
に被洗浄物表面の下部へと流れることがなくなり、結果
的にシミの発生を抑制できる乾燥特性，洗浄特性に優れ
た蒸気乾燥方法が得られる効果がある。

【００４１】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の蒸気乾燥槽を示す構成図で
ある。

【図２】従来例の蒸気乾燥槽を示す構成図である。

【符号の説明】

１ 蒸気乾燥槽本体 ２ ヒータ ３ 凝縮コイル ４ 溶媒液 ５ 被洗浄物 ６ 溶媒蒸気 １２ ダクト １３ 冷却コイル １６ 被洗浄物冷却室

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H01L 21/304

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 溶媒蒸気が充満するダクト内に被洗浄物
   を入れ、上記被洗浄物を上記溶媒蒸気と接触させるとと
   もに、上記ダクト内で、上記溶媒蒸気が上記被洗浄物上
   部から順に下部にあたるようにして、上記被洗浄物表面
   で上記溶媒蒸気を凝縮結露させる工程、上記溶媒蒸気の
   凝縮結露により昇温した被洗浄物を、上記ダクトの下部
   に設けられた冷却室に移動して冷却する工程、上記被洗
   浄物の冷却後、再び上記被洗浄物を上記ダクト内に戻
   し、上記被洗浄物表面で上記溶媒蒸気を凝縮結露させる
   工程、及び上記被洗浄物を上記ダクト内から出し、上記
   被洗浄物表面の結露した溶媒を蒸発させ、上記被洗浄物
   を乾燥させる工程を施したことを特徴とする蒸気乾燥方
   法。
2. 【請求項２】 蒸気乾燥槽本体、この槽本体下部に溜め
   られる溶媒液、この溶媒液を加熱蒸発させるヒータ、蒸
   発した溶媒蒸気が流入する開口部を上部に有するダク
   ト、及び上記ダクトの下部に設けられ、上記ダクト内に
   入れられた被洗浄物表面で上記溶媒蒸気を凝縮結露させ
   る際に、上記溶媒蒸気が上記被洗浄物上部から順に下部
   にあたるように上記溶媒蒸気の流れをガイドするととも
   に、上記ダクト内より上記被洗浄物を移動して上記被洗
   浄物を冷却する冷却室を備えたことを特徴とする蒸気乾
   燥槽。