JPH07193036A - 蒸気乾燥装置 - Google Patents
蒸気乾燥装置Info
- Publication number
- JPH07193036A JPH07193036A JP33322493A JP33322493A JPH07193036A JP H07193036 A JPH07193036 A JP H07193036A JP 33322493 A JP33322493 A JP 33322493A JP 33322493 A JP33322493 A JP 33322493A JP H07193036 A JPH07193036 A JP H07193036A
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- Japan
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- chemical
- condenser
- vapor
- chemical liquid
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- Pending
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- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 下部に薬液蒸気供給源１、上部に薬液蒸気２
を凝縮させる薬液蒸気凝縮器と該凝縮器で凝縮した薬液
を受けるための凝縮器用受皿８、及び前記薬液蒸気供給
源１と薬液蒸気凝縮器との間に設けられた被洗浄物保持
空間を少なくとも有する蒸気乾燥装置において、薬液蒸
気凝縮器に用いる冷媒の温度を０℃以上、周辺雰囲気の
露点以下とし、かつ凝縮器受皿８で受けた凝縮液を脱水
装置にて脱水して再利用する。 【効果】 薬液槽内の凝縮機構によって完全に回収でき
なかった薬液蒸気を、低温冷媒を用いて回収することに
より、薬液の消費量を低減することができ、且つ当該凝
縮薬液中に侵入する水分を脱水装置により除去すること
で、再利用に適する薬液組成を得る。
を凝縮させる薬液蒸気凝縮器と該凝縮器で凝縮した薬液
を受けるための凝縮器用受皿８、及び前記薬液蒸気供給
源１と薬液蒸気凝縮器との間に設けられた被洗浄物保持
空間を少なくとも有する蒸気乾燥装置において、薬液蒸
気凝縮器に用いる冷媒の温度を０℃以上、周辺雰囲気の
露点以下とし、かつ凝縮器受皿８で受けた凝縮液を脱水
装置にて脱水して再利用する。 【効果】 薬液槽内の凝縮機構によって完全に回収でき
なかった薬液蒸気を、低温冷媒を用いて回収することに
より、薬液の消費量を低減することができ、且つ当該凝
縮薬液中に侵入する水分を脱水装置により除去すること
で、再利用に適する薬液組成を得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薬液蒸気により被洗浄
物を洗浄・乾燥する洗浄装置として用いられる蒸気乾燥
装置に関する。本発明の蒸気乾燥装置は、電子工業界に
おける精密部品等の洗浄などに利用される。
物を洗浄・乾燥する洗浄装置として用いられる蒸気乾燥
装置に関する。本発明の蒸気乾燥装置は、電子工業界に
おける精密部品等の洗浄などに利用される。
【０００２】
【従来技術】従来の洗浄装置の一例の概略を図３に示
す。従来の洗浄装置は、冷媒通路６をもつ薬液蒸気の凝
縮・液化のための薬液蒸気凝縮機構（以下、凝縮機構と
称す。）を薬液槽７内の上部に具備しており、そこで凝
縮・液化された薬液を直接槽内に回収している。また、
薬液槽上方にある排気口１１から残留蒸気として排気さ
れる薬液については通常は回収を行っていない。
す。従来の洗浄装置は、冷媒通路６をもつ薬液蒸気の凝
縮・液化のための薬液蒸気凝縮機構（以下、凝縮機構と
称す。）を薬液槽７内の上部に具備しており、そこで凝
縮・液化された薬液を直接槽内に回収している。また、
薬液槽上方にある排気口１１から残留蒸気として排気さ
れる薬液については通常は回収を行っていない。
【０００３】被洗浄物は、凝縮機構の下方で、かつ貯留
薬液９に接触しない位置で、薬液加熱用ヒータ１０によ
って発生した薬液蒸気で洗浄される。その後、薬液凝縮
潜熱により被洗浄物の表面温度が上昇し、該表面での薬
液凝縮がおさまり、被洗浄物が乾燥する。
薬液９に接触しない位置で、薬液加熱用ヒータ１０によ
って発生した薬液蒸気で洗浄される。その後、薬液凝縮
潜熱により被洗浄物の表面温度が上昇し、該表面での薬
液凝縮がおさまり、被洗浄物が乾燥する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】かかる従来の洗浄装置
の凝縮機構は、薬液蒸気の凝縮が不充分なため、残留蒸
気として排出される薬液が多く、薬液消費量が多いとい
う欠点がある。ここで、排気される薬液蒸気を十分凝縮
させることを目的に凝縮機構の冷媒温度を低下させる
と、冷媒通路の上下方向の中間にある薬液蒸気界面１６
より上方にある部分では、大気中の水分が凝縮し、凝縮
薬液７に混入する欠点がある。
の凝縮機構は、薬液蒸気の凝縮が不充分なため、残留蒸
気として排出される薬液が多く、薬液消費量が多いとい
う欠点がある。ここで、排気される薬液蒸気を十分凝縮
させることを目的に凝縮機構の冷媒温度を低下させる
と、冷媒通路の上下方向の中間にある薬液蒸気界面１６
より上方にある部分では、大気中の水分が凝縮し、凝縮
薬液７に混入する欠点がある。
【０００５】その結果、薬液中の水分濃度が上昇し、被
洗浄物の乾燥状態について、不良品が発生する。
洗浄物の乾燥状態について、不良品が発生する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる薬
液消費量の低減及び凝縮薬液に混入する水分を低減する
ことを目指し鋭意検討した結果、凝縮機構の冷媒温度を
０℃以上、周辺雰囲気の露点以下に設定し、且つ脱水装
置にて当該凝縮液から水を除去することにより、上記目
的を達成できることを見出し、本発明に到達した。
液消費量の低減及び凝縮薬液に混入する水分を低減する
ことを目指し鋭意検討した結果、凝縮機構の冷媒温度を
０℃以上、周辺雰囲気の露点以下に設定し、且つ脱水装
置にて当該凝縮液から水を除去することにより、上記目
的を達成できることを見出し、本発明に到達した。
【０００７】即ち、本発明の要旨は、下部に薬液蒸気供
給源、上部に薬液蒸気を凝縮させる薬液蒸気凝縮器と該
凝縮器で凝縮した薬液を受けるための凝縮器用受皿、及
び前記薬液蒸気供給源と薬液蒸気凝縮器との間に設けら
れた被洗浄物保持空間を少なくとも有する蒸気乾燥装置
において、薬液蒸気凝縮器に用いる冷媒の温度を０℃以
上、周辺雰囲気の露点以下とし、かつ凝縮器受皿で受け
た凝縮液を脱水装置にて脱水して再利用することを特徴
とする蒸気乾燥装置、に存する。
給源、上部に薬液蒸気を凝縮させる薬液蒸気凝縮器と該
凝縮器で凝縮した薬液を受けるための凝縮器用受皿、及
び前記薬液蒸気供給源と薬液蒸気凝縮器との間に設けら
れた被洗浄物保持空間を少なくとも有する蒸気乾燥装置
において、薬液蒸気凝縮器に用いる冷媒の温度を０℃以
上、周辺雰囲気の露点以下とし、かつ凝縮器受皿で受け
た凝縮液を脱水装置にて脱水して再利用することを特徴
とする蒸気乾燥装置、に存する。
【０００８】以下、本発明について、図面を参照して詳
細に説明する。図１は、本発明の実施例１の概略図であ
る。即ち、本発明の蒸気乾燥装置は、その下部に、蒸気
乾燥装置を構成する薬液槽へ薬液蒸気を供給する薬液蒸
気供給源を有するが、その供給源としては、図１に示す
ように、例えば薬液槽７の下部に薬液９を貯留し、その
槽底部に薬液加熱用ヒータ１０を設け、このヒータを用
いて貯留されている薬液９を加熱することによって、薬
液の蒸気２を発生させるようにしたものが挙げられる。
他には、薬液貯留部を別に設け、且つ薬液槽の下部に、
当該薬液貯留部で発生させた蒸気を供給する導入管を設
けたものもある。
細に説明する。図１は、本発明の実施例１の概略図であ
る。即ち、本発明の蒸気乾燥装置は、その下部に、蒸気
乾燥装置を構成する薬液槽へ薬液蒸気を供給する薬液蒸
気供給源を有するが、その供給源としては、図１に示す
ように、例えば薬液槽７の下部に薬液９を貯留し、その
槽底部に薬液加熱用ヒータ１０を設け、このヒータを用
いて貯留されている薬液９を加熱することによって、薬
液の蒸気２を発生させるようにしたものが挙げられる。
他には、薬液貯留部を別に設け、且つ薬液槽の下部に、
当該薬液貯留部で発生させた蒸気を供給する導入管を設
けたものもある。
【０００９】次に、本発明の蒸気乾燥装置は、薬液槽の
上部に、槽内壁に沿って数本の冷媒（通常は冷却水）通
路６を持つ薬液蒸気凝縮器からなる凝縮機構を有する。
そして、この凝縮器と前記貯留薬液９の薬液面との間
に、被洗浄物１５を保持する被洗浄物保持空間が設けら
れている。更に、該凝縮器における冷媒通路６の表面で
凝縮した薬液を受けるための凝縮器用受皿８を有する。
上部に、槽内壁に沿って数本の冷媒（通常は冷却水）通
路６を持つ薬液蒸気凝縮器からなる凝縮機構を有する。
そして、この凝縮器と前記貯留薬液９の薬液面との間
に、被洗浄物１５を保持する被洗浄物保持空間が設けら
れている。更に、該凝縮器における冷媒通路６の表面で
凝縮した薬液を受けるための凝縮器用受皿８を有する。
【００１０】これらによって、薬液槽の下部から供給さ
れる薬液蒸気により被洗浄物が洗浄され、一方、余分に
発生した薬液蒸気は凝縮機構において冷却・凝縮され、
再び貯留薬液内に回収される。本発明においては、上記
薬液蒸気凝縮器に用いる冷媒の温度を０℃以上、周辺雰
囲気の露点以下とし、且つ上記凝縮器用受皿８で受けた
薬液を脱水装置１４にて脱水して再利用する点に特徴が
ある。
れる薬液蒸気により被洗浄物が洗浄され、一方、余分に
発生した薬液蒸気は凝縮機構において冷却・凝縮され、
再び貯留薬液内に回収される。本発明においては、上記
薬液蒸気凝縮器に用いる冷媒の温度を０℃以上、周辺雰
囲気の露点以下とし、且つ上記凝縮器用受皿８で受けた
薬液を脱水装置１４にて脱水して再利用する点に特徴が
ある。
【００１１】即ち、従来の技術では、冷媒の温度は周辺
雰囲気の露点以上に維持するのが通例であるが、これで
は凝縮が不充分となり、排気口１１に残留蒸気として排
気される薬液が増加し、薬液消費量を低減させることが
できない。そこで、冷媒の温度を周辺雰囲気の露点以下
として凝縮効率を高め、それに伴って増加する大気等の
周辺雰囲気から侵入する水分を脱水装置で除去すること
によって、薬液を効率よく再利用することを可能とした
のである。
雰囲気の露点以上に維持するのが通例であるが、これで
は凝縮が不充分となり、排気口１１に残留蒸気として排
気される薬液が増加し、薬液消費量を低減させることが
できない。そこで、冷媒の温度を周辺雰囲気の露点以下
として凝縮効率を高め、それに伴って増加する大気等の
周辺雰囲気から侵入する水分を脱水装置で除去すること
によって、薬液を効率よく再利用することを可能とした
のである。
【００１２】尚、冷媒の温度を０℃より低くすると、薬
液蒸気界面１６より上方にある冷媒通路表面に周辺雰囲
気中の水分が凍結してしまい、好ましくない。脱水装置
１４にて脱水して再利用する方法としては、例えば、図
１に示すように、凝縮器用受皿８で受けた薬液をライン
４にて脱水装置１４に供給し、ここで脱水された薬液
を、回収ライン１３を通して貯留薬液９内に回収して再
び薬液蒸気として利用する。尚、脱水された薬液は、こ
のように薬液貯留部に直接戻してして再利用するのが通
常だが、他の方法で再利用してもよい。
液蒸気界面１６より上方にある冷媒通路表面に周辺雰囲
気中の水分が凍結してしまい、好ましくない。脱水装置
１４にて脱水して再利用する方法としては、例えば、図
１に示すように、凝縮器用受皿８で受けた薬液をライン
４にて脱水装置１４に供給し、ここで脱水された薬液
を、回収ライン１３を通して貯留薬液９内に回収して再
び薬液蒸気として利用する。尚、脱水された薬液は、こ
のように薬液貯留部に直接戻してして再利用するのが通
常だが、他の方法で再利用してもよい。
【００１３】脱水装置１４は、薬液等の水分を含有する
有機溶媒から水を有効に除去することができる装置であ
れば特に限定はないが、好ましくは浸透気化膜分離装置
によって構成される。本発明の蒸気乾燥装置は、上述し
た薬液蒸気供給源、薬液蒸気凝縮器及び被洗浄物保持空
間を少なくとも有するものであればよく、これらに加え
必要に応じて種々の機構、装置等を設けることができ
る。例えば、通常、凝縮機構の更に上方に排気口１１を
設け、これで残留薬液蒸気を含んだ雰囲気を排気する。
有機溶媒から水を有効に除去することができる装置であ
れば特に限定はないが、好ましくは浸透気化膜分離装置
によって構成される。本発明の蒸気乾燥装置は、上述し
た薬液蒸気供給源、薬液蒸気凝縮器及び被洗浄物保持空
間を少なくとも有するものであればよく、これらに加え
必要に応じて種々の機構、装置等を設けることができ
る。例えば、通常、凝縮機構の更に上方に排気口１１を
設け、これで残留薬液蒸気を含んだ雰囲気を排気する。
【００１４】本発明の蒸気乾燥装置は、特に電子工業界
における精密部品、例えば半導体等の洗浄に適用され
る。また、薬液としては、かかる洗浄に用いられるもの
であれば特に限定されないが、例えばイソプロピルアル
コール、エタノール、トリクロロエタン等が挙げられ、
好ましくはイソプロピルアルコールが挙げられる。本発
明の蒸気乾燥装置によれば、例えば薬液としてイソプロ
ピルアルコール（沸点：８２．７℃）を用いて凝縮機構
の冷媒通路６の冷媒温度を２℃とした場合、蒸気乾燥装
置の開口部の大きさにもよるが、通常は、従来排気され
ていた薬液蒸気の４０〜６０％を回収することが可能で
ある。
における精密部品、例えば半導体等の洗浄に適用され
る。また、薬液としては、かかる洗浄に用いられるもの
であれば特に限定されないが、例えばイソプロピルアル
コール、エタノール、トリクロロエタン等が挙げられ、
好ましくはイソプロピルアルコールが挙げられる。本発
明の蒸気乾燥装置によれば、例えば薬液としてイソプロ
ピルアルコール（沸点：８２．７℃）を用いて凝縮機構
の冷媒通路６の冷媒温度を２℃とした場合、蒸気乾燥装
置の開口部の大きさにもよるが、通常は、従来排気され
ていた薬液蒸気の４０〜６０％を回収することが可能で
ある。
【００１５】また、有害な薬液を使用する場合にも、本
発明の装置では、排気口１１近傍の薬液蒸気濃度を低く
することができるため、薬液槽内の点検作業等の暴露許
容濃度基準を、排気量を増やすことなく達成することが
できる。図２は、、本発明の実施例２の概略図である。
薬液槽７内における薬液蒸気の発生・回収のための構造
及び機能については、実施例１（図１）と同様である。
発明の装置では、排気口１１近傍の薬液蒸気濃度を低く
することができるため、薬液槽内の点検作業等の暴露許
容濃度基準を、排気量を増やすことなく達成することが
できる。図２は、、本発明の実施例２の概略図である。
薬液槽７内における薬液蒸気の発生・回収のための構造
及び機能については、実施例１（図１）と同様である。
【００１６】但し、実施例２では、薬液槽７内の被洗浄
物表面での凝縮薬液についても、受皿１２で受けて別ラ
イン３を通して排出している。この受皿１２で受けた凝
縮薬液は廃棄してもよいが、これも特願平５−７７６４
７等で示すように、脱水装置を経て再び貯留薬液９内に
回収し、または他の方法で、再利用するのが好ましい。
物表面での凝縮薬液についても、受皿１２で受けて別ラ
イン３を通して排出している。この受皿１２で受けた凝
縮薬液は廃棄してもよいが、これも特願平５−７７６４
７等で示すように、脱水装置を経て再び貯留薬液９内に
回収し、または他の方法で、再利用するのが好ましい。
【００１７】
【発明の効果】本発明の蒸気乾燥装置によれば、薬液槽
内の凝縮機構によって完全に回収できなかった薬液蒸気
を、低温冷媒を用いて回収することにより、薬液の消費
量を低減することができ、且つ当該凝縮薬液中に侵入す
る水分を脱水装置により除去することで、再利用に適す
る薬液組成を得ることができる。
内の凝縮機構によって完全に回収できなかった薬液蒸気
を、低温冷媒を用いて回収することにより、薬液の消費
量を低減することができ、且つ当該凝縮薬液中に侵入す
る水分を脱水装置により除去することで、再利用に適す
る薬液組成を得ることができる。
【図１】本発明の実施例１の概略図である。
【図２】本発明の実施例２の概略図である。
【図３】従来技術における蒸気乾燥装置の概略図であ
る。
る。
１．補給用薬液供給ライン ２．薬液蒸気 ３．被洗浄物表面の凝縮液受皿よりの凝縮薬液導出ライ
ン ４．凝縮器用受皿よりの凝縮薬液導出ライン ５．残留薬液蒸気の排気方向 ６．冷媒通路 ７．薬液槽 ８．凝縮器用受皿 ９．貯留薬液 １０．ヒータ １１．排気口 １２．被洗浄物表面の凝縮液受皿 １３．脱水後の薬液回収ライン １４．脱水装置 １５．被洗浄物 １６．薬液蒸気界面 １７．凝縮薬液
ン ４．凝縮器用受皿よりの凝縮薬液導出ライン ５．残留薬液蒸気の排気方向 ６．冷媒通路 ７．薬液槽 ８．凝縮器用受皿 ９．貯留薬液 １０．ヒータ １１．排気口 １２．被洗浄物表面の凝縮液受皿 １３．脱水後の薬液回収ライン １４．脱水装置 １５．被洗浄物 １６．薬液蒸気界面 １７．凝縮薬液
Claims (3)
- 【請求項１】 下部に薬液蒸気供給源、上部に薬液蒸気
を凝縮させる薬液蒸気凝縮器と該凝縮器で凝縮した薬液
を受けるための凝縮器用受皿、及び前記薬液蒸気供給源
と薬液蒸気凝縮器との間に設けられた被洗浄物保持空間
を少なくとも有する蒸気乾燥装置において、薬液蒸気凝
縮器に用いる冷媒の温度を０℃以上、周辺雰囲気の露点
以下とし、かつ凝縮器受皿で受けた凝縮液を脱水装置に
て脱水して再利用することを特徴とする蒸気乾燥装置。 - 【請求項２】 薬液がイソプロピルアルコールである、
請求項１記載の蒸気乾燥装置 - 【請求項３】 脱水装置が浸透気化膜を用いて水を除去
する装置であることを特徴とする請求項１又は２記載の
蒸気乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33322493A JPH07193036A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 蒸気乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33322493A JPH07193036A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 蒸気乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07193036A true JPH07193036A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18263711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33322493A Pending JPH07193036A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 蒸気乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07193036A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6055995A (en) * | 1997-04-04 | 2000-05-02 | Nec Corporation | Semiconductor manufacture apparatus |
| CN110455048A (zh) * | 2019-08-31 | 2019-11-15 | 贵州大学 | 一种化学实验室用化学试剂干燥装置 |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP33322493A patent/JPH07193036A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6055995A (en) * | 1997-04-04 | 2000-05-02 | Nec Corporation | Semiconductor manufacture apparatus |
| CN110455048A (zh) * | 2019-08-31 | 2019-11-15 | 贵州大学 | 一种化学实验室用化学试剂干燥装置 |
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