JPH1092787A - 蒸気乾燥装置 - Google Patents
蒸気乾燥装置Info
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- JPH1092787A JPH1092787A JP24517796A JP24517796A JPH1092787A JP H1092787 A JPH1092787 A JP H1092787A JP 24517796 A JP24517796 A JP 24517796A JP 24517796 A JP24517796 A JP 24517796A JP H1092787 A JPH1092787 A JP H1092787A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 蒸気せしめる液の突沸による被乾燥物である
半導体素子の汚染を防止することができる半導体素子の
蒸気乾燥装置を提供する。 【解決手段】 蒸気槽１低部にＩＰＡ液層２と接触する
面に凸状の突起物１５を設ける。凸状の突起物１５の材
質は、蒸気槽１と同一とし、蒸気槽１に溶接や融着等の
他の材質を用いない方法により接着されたものまたは、
蒸気槽１を凸状の突起物１５になるように削り出して形
成されたものであり、凸状の突起物１５上端は、針状に
形成し、しかも凸状の突起物１５上端は、液面より下部
に形成されたものである。これにより、沸騰の種となる
部分ができたので、加熱状態にならず突沸が防止でき
る。また、ＩＰＡ液層と蒸気槽との接触面積が従来より
広くなったため、加熱ヒータの熱を効率良く、ＩＰＡ液
層に伝えることができる。
半導体素子の汚染を防止することができる半導体素子の
蒸気乾燥装置を提供する。 【解決手段】 蒸気槽１低部にＩＰＡ液層２と接触する
面に凸状の突起物１５を設ける。凸状の突起物１５の材
質は、蒸気槽１と同一とし、蒸気槽１に溶接や融着等の
他の材質を用いない方法により接着されたものまたは、
蒸気槽１を凸状の突起物１５になるように削り出して形
成されたものであり、凸状の突起物１５上端は、針状に
形成し、しかも凸状の突起物１５上端は、液面より下部
に形成されたものである。これにより、沸騰の種となる
部分ができたので、加熱状態にならず突沸が防止でき
る。また、ＩＰＡ液層と蒸気槽との接触面積が従来より
広くなったため、加熱ヒータの熱を効率良く、ＩＰＡ液
層に伝えることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被乾燥物の乾燥を
行う蒸気乾燥装置に係り、特に洗浄およびウエットエッ
チング工程に用いる半導体素子の蒸気乾燥装置に関する
ものである。
行う蒸気乾燥装置に係り、特に洗浄およびウエットエッ
チング工程に用いる半導体素子の蒸気乾燥装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、このような分野の技術としては、
例えば、特公平６−２２６３号公報、特公平５−８６７
６号公報、特公平３−４４８３４号公報、特公平３−４
４８３５号公報、特公平６−８２６４７号公報、特公昭
６２−３３３１４号公報、特公平５−６６７２６号公
報、「最適精密洗浄技術」 ｐ１９１〜ｐ２０１，６．
３ＩＰＡによる蒸気乾燥装置、（株）テクノシステム発
行、１９９０年２月１２日に記載されるものがあった。
例えば、特公平６−２２６３号公報、特公平５−８６７
６号公報、特公平３−４４８３４号公報、特公平３−４
４８３５号公報、特公平６−８２６４７号公報、特公昭
６２−３３３１４号公報、特公平５−６６７２６号公
報、「最適精密洗浄技術」 ｐ１９１〜ｐ２０１，６．
３ＩＰＡによる蒸気乾燥装置、（株）テクノシステム発
行、１９９０年２月１２日に記載されるものがあった。
【０００３】一般に、従来のイソプロピルアルコール
（以下、ＩＰＡという）蒸気洗浄装置は、上記文献「最
適精密洗浄技術，ｐ１９１〜ｐ２０１，６．３項 ＩＰ
Ａによる蒸気乾燥装置」に開示されるものがある。図１
１はかかる従来の蒸気乾燥装置の構成図である。この図
に示すように、このウエハ蒸気乾燥装置は、蒸気槽１０
１、底面加熱ヒーター１０２、側壁加熱ヒーター１０
３、冷却管１０４、凝縮液受け皿１０５を含むＩＰＡ加
熱冷却系、被乾燥物（シリコンウエハ）１２１の搬送
系、ＩＰＡキャニスター缶１０６、ＩＰＡ供給管１０
７、フィルタ１０８、ＩＰＡ液１０９を含むＩＰＡ供給
系、ＩＰＡ廃液管１１０、排気口１１１を含むクリーン
ユニット、ファン１１２、フィルター１１３、比抵抗計
１１４等から構成されている。
（以下、ＩＰＡという）蒸気洗浄装置は、上記文献「最
適精密洗浄技術，ｐ１９１〜ｐ２０１，６．３項 ＩＰ
Ａによる蒸気乾燥装置」に開示されるものがある。図１
１はかかる従来の蒸気乾燥装置の構成図である。この図
に示すように、このウエハ蒸気乾燥装置は、蒸気槽１０
１、底面加熱ヒーター１０２、側壁加熱ヒーター１０
３、冷却管１０４、凝縮液受け皿１０５を含むＩＰＡ加
熱冷却系、被乾燥物（シリコンウエハ）１２１の搬送
系、ＩＰＡキャニスター缶１０６、ＩＰＡ供給管１０
７、フィルタ１０８、ＩＰＡ液１０９を含むＩＰＡ供給
系、ＩＰＡ廃液管１１０、排気口１１１を含むクリーン
ユニット、ファン１１２、フィルター１１３、比抵抗計
１１４等から構成されている。
【０００４】蒸気槽１０１中のＩＰＡ液１０９は底面加
熱ヒーター１０２、側壁加熱ヒーター１０３により昇温
され蒸発するが、蒸気槽１０１上部の冷却管１０４によ
って冷却され、凝縮し、再びＩＰＡ液１０９へ戻され
る。したがって、定常状態では、ＩＰＡ液１０９の上部
にベーパゾーンが形成される。洗浄／水洗工程の終了し
た被乾燥物（シリコンウエハ）は、搬送ロボットにより
蒸気槽１０１内の凝縮液受け皿１０５の真上近傍まで移
送される。ＩＰＡ液１０９の蒸気は直ちに被乾燥物１２
１表面で凝縮し、被乾燥物１２１表面に付着している水
分に溶け込み、凝縮液の溶け込んだ水分は自重により凝
縮液受け皿１０５に落下するとともに、ＩＰＡの溶け込
みにより沸点の低くなった水分は蒸発を始める。
熱ヒーター１０２、側壁加熱ヒーター１０３により昇温
され蒸発するが、蒸気槽１０１上部の冷却管１０４によ
って冷却され、凝縮し、再びＩＰＡ液１０９へ戻され
る。したがって、定常状態では、ＩＰＡ液１０９の上部
にベーパゾーンが形成される。洗浄／水洗工程の終了し
た被乾燥物（シリコンウエハ）は、搬送ロボットにより
蒸気槽１０１内の凝縮液受け皿１０５の真上近傍まで移
送される。ＩＰＡ液１０９の蒸気は直ちに被乾燥物１２
１表面で凝縮し、被乾燥物１２１表面に付着している水
分に溶け込み、凝縮液の溶け込んだ水分は自重により凝
縮液受け皿１０５に落下するとともに、ＩＰＡの溶け込
みにより沸点の低くなった水分は蒸発を始める。
【０００５】蒸気槽１０１内で蒸気の温度まで被乾燥物
１２１が十分昇温された後、被乾燥物１２１を冷却管１
０４より上方に搬送ロボットによって移送する。蒸気槽
１０１内に昇温された被乾燥物１２１にはＩＰＡが吸着
しており、冷却管１０４より上方に移送された被乾燥物
１２１から被乾燥物１２１の熱により吸着したＩＰＡが
蒸発を始める。ＩＰＡの蒸発した後、乾燥が終了する。
１２１が十分昇温された後、被乾燥物１２１を冷却管１
０４より上方に搬送ロボットによって移送する。蒸気槽
１０１内に昇温された被乾燥物１２１にはＩＰＡが吸着
しており、冷却管１０４より上方に移送された被乾燥物
１２１から被乾燥物１２１の熱により吸着したＩＰＡが
蒸発を始める。ＩＰＡの蒸発した後、乾燥が終了する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の装置では、蒸気槽内のＩＰＡは、加熱ヒータに
より昇温され沸騰状態となり、ＩＰＡ液上部にベーパゾ
ーンが形成されるが、半導体製造に用いるＩＰＡは半導
体集積回路を形成するシリコンウエハ（以下：ウエハと
略す）への汚染を極力低減する目的で、ＩＰＡ中の不純
物が極力低減されている。
た従来の装置では、蒸気槽内のＩＰＡは、加熱ヒータに
より昇温され沸騰状態となり、ＩＰＡ液上部にベーパゾ
ーンが形成されるが、半導体製造に用いるＩＰＡは半導
体集積回路を形成するシリコンウエハ（以下：ウエハと
略す）への汚染を極力低減する目的で、ＩＰＡ中の不純
物が極力低減されている。
【０００７】このように液体を昇温し沸騰状態にする場
合、容器側壁や液中のごみなどの沸騰の種がなく、種を
中心にした液体の気化およびそれによる圧力上昇で外圧
を上回ることにより始まる沸騰が起こらなくなり、液体
は加熱の状態になる。加熱の状態にある液体は突発的に
沸騰を起こし、液体が飛散する突沸状態になる。突沸時
に種となった少ない不純物は液体の飛散と同時に被乾燥
物に付着し、被乾燥物を汚染させるという問題点があ
る。
合、容器側壁や液中のごみなどの沸騰の種がなく、種を
中心にした液体の気化およびそれによる圧力上昇で外圧
を上回ることにより始まる沸騰が起こらなくなり、液体
は加熱の状態になる。加熱の状態にある液体は突発的に
沸騰を起こし、液体が飛散する突沸状態になる。突沸時
に種となった少ない不純物は液体の飛散と同時に被乾燥
物に付着し、被乾燥物を汚染させるという問題点があ
る。
【０００８】また、ＩＰＡ液面より上方に位置するよう
に前記凝縮液受け皿には、受け皿の下に足をつけ蒸気槽
に置かれている。突沸状態では前記凝縮液受け皿の足底
部と蒸気槽との接触部で摩擦が起こり発塵が起きる。こ
の塵埃が沸騰時の種となり、沸騰と同時にＩＰＡ液槽上
部に拡散され、被乾燥物を汚染させるという問題点もあ
る。
に前記凝縮液受け皿には、受け皿の下に足をつけ蒸気槽
に置かれている。突沸状態では前記凝縮液受け皿の足底
部と蒸気槽との接触部で摩擦が起こり発塵が起きる。こ
の塵埃が沸騰時の種となり、沸騰と同時にＩＰＡ液槽上
部に拡散され、被乾燥物を汚染させるという問題点もあ
る。
【０００９】本発明は、上記問題点を除去し、蒸気せし
める液の突沸による被乾燥物である半導体素子の汚染を
防止することができる半導体素子の蒸気乾燥装置を提供
することを目的とする。
める液の突沸による被乾燥物である半導体素子の汚染を
防止することができる半導体素子の蒸気乾燥装置を提供
することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、 （１）被乾燥物の乾燥を行う蒸気乾燥装置において、前
記蒸気槽の底面に上端が針状の凸状物を形成し、この凸
状物を浸すように蒸気せしめる液中に設けるようにした
ものである。
成するために、 （１）被乾燥物の乾燥を行う蒸気乾燥装置において、前
記蒸気槽の底面に上端が針状の凸状物を形成し、この凸
状物を浸すように蒸気せしめる液中に設けるようにした
ものである。
【００１１】このように、凸状の突起物を設けたことに
より、沸騰の種となる部分が形成されるので、加熱状態
にならず突沸を防止することができる。また、凸状の突
起物を設けたことにより、ＩＰＡ液と蒸気槽との接触面
積を従来より広くすることができ、加熱ヒータの熱を効
率良く、ＩＰＡ液に伝えることができる。
より、沸騰の種となる部分が形成されるので、加熱状態
にならず突沸を防止することができる。また、凸状の突
起物を設けたことにより、ＩＰＡ液と蒸気槽との接触面
積を従来より広くすることができ、加熱ヒータの熱を効
率良く、ＩＰＡ液に伝えることができる。
【００１２】（２）被乾燥物の乾燥を行う蒸気乾燥装置
において、蒸気槽内で、蒸気せしめる液中に不純物が少
ない不活性気体を均一に導入するため微細な穴が複数個
形成された管を複数本配置するようにしたものである。
このように、Ｎ2 ガスを均一にＩＰＡ液に導入できるよ
うにしたので、沸騰時にＮ2 ガスが種となり、加熱状態
にならず突沸を防止することができる。
において、蒸気槽内で、蒸気せしめる液中に不純物が少
ない不活性気体を均一に導入するため微細な穴が複数個
形成された管を複数本配置するようにしたものである。
このように、Ｎ2 ガスを均一にＩＰＡ液に導入できるよ
うにしたので、沸騰時にＮ2 ガスが種となり、加熱状態
にならず突沸を防止することができる。
【００１３】また、Ｎ2 によりＩＰＡ液界面で発生した
ＩＰＡ蒸気を上方に押し上げることが可能となり、被乾
燥物へ多量の蒸気を供給することができる。 （３）被乾燥物の乾燥を行う蒸気乾燥装置において、蒸
気槽内で、蒸気せしめる液より上部であって、かつ被乾
燥物がセットされる位置より下方に被乾燥物の中心線方
向に傾斜を持つ板状物を最低２枚以上設け、それぞれの
前記板状物は前記蒸気槽中央線を中心にして対称に設置
するようにしたものである。
ＩＰＡ蒸気を上方に押し上げることが可能となり、被乾
燥物へ多量の蒸気を供給することができる。 （３）被乾燥物の乾燥を行う蒸気乾燥装置において、蒸
気槽内で、蒸気せしめる液より上部であって、かつ被乾
燥物がセットされる位置より下方に被乾燥物の中心線方
向に傾斜を持つ板状物を最低２枚以上設け、それぞれの
前記板状物は前記蒸気槽中央線を中心にして対称に設置
するようにしたものである。
【００１４】したがって、突沸により飛散した液が、邪
魔板により邪魔され、邪魔板より上方に飛散しないた
め、突沸が発生しても、ウエハに突沸により発生した飛
散液の付着が起こらないため、ウエハが清浄な状態で乾
燥できる。なおかつ、邪魔板は蒸気槽の中心方向に傾斜
を持っているため、ウエハの方向に蒸気の流れが形成さ
れ、より早い乾燥が可能となる。
魔板により邪魔され、邪魔板より上方に飛散しないた
め、突沸が発生しても、ウエハに突沸により発生した飛
散液の付着が起こらないため、ウエハが清浄な状態で乾
燥できる。なおかつ、邪魔板は蒸気槽の中心方向に傾斜
を持っているため、ウエハの方向に蒸気の流れが形成さ
れ、より早い乾燥が可能となる。
【００１５】（４）被乾燥物の乾燥を行う蒸気乾燥装置
において、蒸気槽内で、蒸気せしめる液より上部であっ
て、かつ被乾燥物がセットされる位置より下方に前記蒸
気せしめる液面と平行に前記蒸気せしめる液より沸点の
高い液体を前記蒸気槽外部より内部を通過し、外部へ流
し得る管を蛇行状に往復させるように配置するようにし
たものである。
において、蒸気槽内で、蒸気せしめる液より上部であっ
て、かつ被乾燥物がセットされる位置より下方に前記蒸
気せしめる液面と平行に前記蒸気せしめる液より沸点の
高い液体を前記蒸気槽外部より内部を通過し、外部へ流
し得る管を蛇行状に往復させるように配置するようにし
たものである。
【００１６】このように、落下する液滴が上方に飛散す
る液滴の妨害をし、なおかつ落下する液摘は飛散する液
滴を取り込みながら落下しているため、突沸により飛散
する液滴はウエハに到達することができない。そのた
め、ウエハの清浄な乾燥が可能となる。更に、冷却管内
を流れる冷却液の流量を、流量コントロールバルブによ
って、コントロールすることにより、ウエハへの蒸気量
をコントロールできるので、ウエハを移動させることな
くＩＰＡの蒸気の供給停止を含む制御を行うことが可能
となる。したがって、蒸気槽外部に出してＩＰＡを蒸発
させる従来方法より安全である。
る液滴の妨害をし、なおかつ落下する液摘は飛散する液
滴を取り込みながら落下しているため、突沸により飛散
する液滴はウエハに到達することができない。そのた
め、ウエハの清浄な乾燥が可能となる。更に、冷却管内
を流れる冷却液の流量を、流量コントロールバルブによ
って、コントロールすることにより、ウエハへの蒸気量
をコントロールできるので、ウエハを移動させることな
くＩＰＡの蒸気の供給停止を含む制御を行うことが可能
となる。したがって、蒸気槽外部に出してＩＰＡを蒸発
させる従来方法より安全である。
【００１７】（５）被乾燥物の乾燥を行う蒸気乾燥装置
において、蒸気槽内で、被乾燥物の蒸気の凝縮により発
生する前記被乾燥物より落下する液滴を前記蒸気槽外に
排出するために設けた凝縮液受け皿を支えるための支持
足と、前記蒸気槽と接触することがないように、前記蒸
気槽及び前記受け皿を構成する材質より、曲げ弾性が低
く、なおかつ蒸気せしめる液に十分な化学的、熱的耐性
を持ち、なおかつ発塵の少ない材質からなる摩擦防止部
材を前記受け皿の支持足と前記蒸気槽との間に挿入する
ようにしたものである。
において、蒸気槽内で、被乾燥物の蒸気の凝縮により発
生する前記被乾燥物より落下する液滴を前記蒸気槽外に
排出するために設けた凝縮液受け皿を支えるための支持
足と、前記蒸気槽と接触することがないように、前記蒸
気槽及び前記受け皿を構成する材質より、曲げ弾性が低
く、なおかつ蒸気せしめる液に十分な化学的、熱的耐性
を持ち、なおかつ発塵の少ない材質からなる摩擦防止部
材を前記受け皿の支持足と前記蒸気槽との間に挿入する
ようにしたものである。
【００１８】したがって、蒸気槽と凝縮液受け皿の足と
の直接の摩擦が生じないため、発塵が抑えられ、ＩＰＡ
液中の塵埃が増加しない。なおかつ、蒸気槽と凝縮液受
け皿の足との間に板もしくはキャップを設置するのみで
あるため、現状装置の形状を変化させずに形成すること
が可能であり、容易に実施可能である。
の直接の摩擦が生じないため、発塵が抑えられ、ＩＰＡ
液中の塵埃が増加しない。なおかつ、蒸気槽と凝縮液受
け皿の足との間に板もしくはキャップを設置するのみで
あるため、現状装置の形状を変化させずに形成すること
が可能であり、容易に実施可能である。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の第１
実施例を示す蒸気乾燥装置の概略構成図、図２はその蒸
気乾燥装置のＩＰＡ液と蒸気槽との接触面を示す断面図
である。なお、ここでの乾燥は、溶媒蒸気の試料面〔こ
こでは、主な、乾燥対象は、半導体素子（ウエハ）であ
るが、半導体素子の容器であるカセットなどをも含み、
その意味で被乾燥物をさすものである。〕への凝縮によ
り水分除去を行う置換脱水乾燥方式である。
て図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の第１
実施例を示す蒸気乾燥装置の概略構成図、図２はその蒸
気乾燥装置のＩＰＡ液と蒸気槽との接触面を示す断面図
である。なお、ここでの乾燥は、溶媒蒸気の試料面〔こ
こでは、主な、乾燥対象は、半導体素子（ウエハ）であ
るが、半導体素子の容器であるカセットなどをも含み、
その意味で被乾燥物をさすものである。〕への凝縮によ
り水分除去を行う置換脱水乾燥方式である。
【００２０】図において、蒸気槽１は蒸気槽内にＩＰＡ
液を供給するためのＩＰＡ供給ライン９、ＩＰＡの廃液
時に用いるＩＰＡ廃液ライン１３、凝縮液を蒸気槽１外
に排出するための凝縮液受け皿５、ＩＰＡを昇温するた
めの底部加熱ヒータ（以下、単にヒータという）３、蒸
気化されたＩＰＡの蒸気を蒸気槽外内に留めるための冷
却管４で構成される。
液を供給するためのＩＰＡ供給ライン９、ＩＰＡの廃液
時に用いるＩＰＡ廃液ライン１３、凝縮液を蒸気槽１外
に排出するための凝縮液受け皿５、ＩＰＡを昇温するた
めの底部加熱ヒータ（以下、単にヒータという）３、蒸
気化されたＩＰＡの蒸気を蒸気槽外内に留めるための冷
却管４で構成される。
【００２１】なお、蒸気槽１の材質としては、例えば、
石英や電解複合研磨処理したステンレスなどを用いる。
また、凝縮液受け皿５の材質としても、同様に、石英や
電解複合研磨処理したステンレスなどを用いる。ＩＰＡ
供給ライン９はＩＰＡ中の塵埃を除去するためのフィル
タ７、ＩＰＡ供給を制御するための供給バルブ１２で構
成され、ＩＰＡ供給ライン９にはＩＰＡが入っているＩ
ＰＡキャニスタ缶６が接続され、ＩＰＡキャニスタ缶６
にはＩＰＡを圧送するための加圧ライン８が接続されて
いる。加圧ライン８は加圧ガスを制御するための加圧ガ
スバルブ１１が取り付けられている。凝縮液受け皿５に
は凝縮されたＩＰＡを蒸気槽１外に排出するための凝縮
液廃液ライン１０が接続される。
石英や電解複合研磨処理したステンレスなどを用いる。
また、凝縮液受け皿５の材質としても、同様に、石英や
電解複合研磨処理したステンレスなどを用いる。ＩＰＡ
供給ライン９はＩＰＡ中の塵埃を除去するためのフィル
タ７、ＩＰＡ供給を制御するための供給バルブ１２で構
成され、ＩＰＡ供給ライン９にはＩＰＡが入っているＩ
ＰＡキャニスタ缶６が接続され、ＩＰＡキャニスタ缶６
にはＩＰＡを圧送するための加圧ライン８が接続されて
いる。加圧ライン８は加圧ガスを制御するための加圧ガ
スバルブ１１が取り付けられている。凝縮液受け皿５に
は凝縮されたＩＰＡを蒸気槽１外に排出するための凝縮
液廃液ライン１０が接続される。
【００２２】ＩＰＡ廃液ライン１３には、ＩＰＡの廃液
を制御するための廃液バルブ１４が設けられており、廃
液バルブ１４より廃液ライン側で凝縮液廃液ライン１０
と接続される。第１実施例では、図１に示すように、蒸
気槽１底部にＩＰＡ液２と接触する面に凸状の突起物１
５を設ける。図２は前記接触面の拡大図であって、前記
凸状の突起物１５の材質は、蒸気槽１と同一とし、蒸気
槽１に溶接や融着等の他の材質を用いない方法により接
着されたものまたは、蒸気槽１を凸状の突起物１５にな
るように削り出して形成されたものであり、凸状の突起
物１５上端は、針状に形成し、しかも凸状の突起物１５
上端は、液面より下部に形成している。
を制御するための廃液バルブ１４が設けられており、廃
液バルブ１４より廃液ライン側で凝縮液廃液ライン１０
と接続される。第１実施例では、図１に示すように、蒸
気槽１底部にＩＰＡ液２と接触する面に凸状の突起物１
５を設ける。図２は前記接触面の拡大図であって、前記
凸状の突起物１５の材質は、蒸気槽１と同一とし、蒸気
槽１に溶接や融着等の他の材質を用いない方法により接
着されたものまたは、蒸気槽１を凸状の突起物１５にな
るように削り出して形成されたものであり、凸状の突起
物１５上端は、針状に形成し、しかも凸状の突起物１５
上端は、液面より下部に形成している。
【００２３】以下、この蒸気乾燥装置の動作について説
明する。まず、加圧ライン８の加圧ガスバルブ１１が開
き、ＩＰＡキャニスタ缶６が加圧される。その後、供給
バルブ１２を開き、ＩＰＡ供給ライン９によりフィルタ
７を通り蒸気槽１内にＩＰＡを供給する。蒸気槽１に供
給されたＩＰＡが所定の量になると、供給バルブ１２が
閉じＩＰＡの供給が停止される。停止された後、加熱ヒ
ータ３により蒸気槽１に供給されたＩＰＡ液２を昇温し
始める。沸点近傍まで昇温されたＩＰＡ液２は、凸状の
突起物１５の針状上端部を沸騰の種として沸騰し始め
る。
明する。まず、加圧ライン８の加圧ガスバルブ１１が開
き、ＩＰＡキャニスタ缶６が加圧される。その後、供給
バルブ１２を開き、ＩＰＡ供給ライン９によりフィルタ
７を通り蒸気槽１内にＩＰＡを供給する。蒸気槽１に供
給されたＩＰＡが所定の量になると、供給バルブ１２が
閉じＩＰＡの供給が停止される。停止された後、加熱ヒ
ータ３により蒸気槽１に供給されたＩＰＡ液２を昇温し
始める。沸点近傍まで昇温されたＩＰＡ液２は、凸状の
突起物１５の針状上端部を沸騰の種として沸騰し始め
る。
【００２４】このにように、第１実施例によれば、凸状
の突起物１５を設けたことにより、沸騰の種となる部分
が形成されるので、加熱状態にならず突沸を防止するこ
とができる。なおかつ凸状の突起物１５を設けたことに
より、ＩＰＡ液２と蒸気槽１との接触面積を従来より広
くすることができ、加熱ヒータ３の熱を効率良く、ＩＰ
Ａ液２に伝えることができる。
の突起物１５を設けたことにより、沸騰の種となる部分
が形成されるので、加熱状態にならず突沸を防止するこ
とができる。なおかつ凸状の突起物１５を設けたことに
より、ＩＰＡ液２と蒸気槽１との接触面積を従来より広
くすることができ、加熱ヒータ３の熱を効率良く、ＩＰ
Ａ液２に伝えることができる。
【００２５】次に、本発明の第２実施例について説明す
る。図３は本発明の第２実施例を示す蒸気乾燥装置の概
略構成図、図４はその蒸気乾燥装置のバブラの構成図で
あり、図４（ａ）はその裏面図，図４（ｂ）はその側面
図である。なお、第１実施例と同じ構成部分については
同じ番号を付してそれらについての説明は省略する。
る。図３は本発明の第２実施例を示す蒸気乾燥装置の概
略構成図、図４はその蒸気乾燥装置のバブラの構成図で
あり、図４（ａ）はその裏面図，図４（ｂ）はその側面
図である。なお、第１実施例と同じ構成部分については
同じ番号を付してそれらについての説明は省略する。
【００２６】この第２実施例では、図３及び図４に示す
ように、上記蒸気槽１内部でＩＰＡ液２内に気体を導入
するために、微細な穴１７を持つ管状のバブラ１６を蒸
気槽１内に設けたものである。ＩＰＡ液２内に導入され
る気体は、不純物が少なく不活性のガス、例えば、Ｎ2
ガス等の不純物を少なくすることが可能な気体である。
バブラ１６には、ガスバルブ１８が取り付けられており
導入するガスの制御が可能となっている。バブラ１６は
ＩＰＡ液２内に均一に気体を導入するために、１本以上
で構成され、バブラ１６に開けられる微細な穴１７は、
ＩＰＡ液が加熱状態にならないガスの量を、バブラ１６
のバブラ先端よりバブラ１６がＩＰＡ液に導入されてい
る部分までの間を均一になるように加工したものであ
る。
ように、上記蒸気槽１内部でＩＰＡ液２内に気体を導入
するために、微細な穴１７を持つ管状のバブラ１６を蒸
気槽１内に設けたものである。ＩＰＡ液２内に導入され
る気体は、不純物が少なく不活性のガス、例えば、Ｎ2
ガス等の不純物を少なくすることが可能な気体である。
バブラ１６には、ガスバルブ１８が取り付けられており
導入するガスの制御が可能となっている。バブラ１６は
ＩＰＡ液２内に均一に気体を導入するために、１本以上
で構成され、バブラ１６に開けられる微細な穴１７は、
ＩＰＡ液が加熱状態にならないガスの量を、バブラ１６
のバブラ先端よりバブラ１６がＩＰＡ液に導入されてい
る部分までの間を均一になるように加工したものであ
る。
【００２７】以下、この蒸気乾燥装置の動作について説
明する。まず、第１実施例と同様に、加圧ライン８の加
圧ガスバルブ１１が開き、ＩＰＡキャニスタ缶６が加圧
される。その後、供給バルブ１２を開き、ＩＰＡ供給ラ
イン９によりフィルタ７を通り蒸気槽１内にＩＰＡを供
給する。蒸気槽１に供給されたＩＰＡが所定の量になる
と、供給バルブ１２が閉じＩＰＡの供給が停止される。
停止された後、加熱ヒータ３により蒸気槽１に供給され
たＩＰＡ液２を昇温し始める。
明する。まず、第１実施例と同様に、加圧ライン８の加
圧ガスバルブ１１が開き、ＩＰＡキャニスタ缶６が加圧
される。その後、供給バルブ１２を開き、ＩＰＡ供給ラ
イン９によりフィルタ７を通り蒸気槽１内にＩＰＡを供
給する。蒸気槽１に供給されたＩＰＡが所定の量になる
と、供給バルブ１２が閉じＩＰＡの供給が停止される。
停止された後、加熱ヒータ３により蒸気槽１に供給され
たＩＰＡ液２を昇温し始める。
【００２８】この第２実施例では、沸点近傍まで昇温さ
れた後、ガスバルブ１８を開きＩＰＡ液２内部にバブラ
１６よりＮ2 ガスを導入する。ＩＰＡ液２中には導入さ
れたＮ2 ガスが拡散し、この拡散したＮ2 ガスが種とな
りＩＰＡ液２が沸騰を始める。このように、第２実施例
によれば、Ｎ2 ガスを均一にＩＰＡ液に導入できるよう
にしたために、沸騰時にＮ2 ガスが種となり、加熱状態
にならず突沸が防止できる。
れた後、ガスバルブ１８を開きＩＰＡ液２内部にバブラ
１６よりＮ2 ガスを導入する。ＩＰＡ液２中には導入さ
れたＮ2 ガスが拡散し、この拡散したＮ2 ガスが種とな
りＩＰＡ液２が沸騰を始める。このように、第２実施例
によれば、Ｎ2 ガスを均一にＩＰＡ液に導入できるよう
にしたために、沸騰時にＮ2 ガスが種となり、加熱状態
にならず突沸が防止できる。
【００２９】なおかつ、Ｎ2 によりＩＰＡ液２界面で発
生したＩＰＡ蒸気を上方に押し上げることが可能となり
被乾燥物へ多量の蒸気を供給することが可能となる。次
に、本発明の第３実施例について説明する。図５は本発
明の第３実施例を示す蒸気乾燥装置の概略構成図、図６
はその蒸気乾燥装置の邪魔板部の斜視図である。なお、
第１実施例と同じ構成部分については、同じ符号を付し
てそれらの説明は省略する。
生したＩＰＡ蒸気を上方に押し上げることが可能となり
被乾燥物へ多量の蒸気を供給することが可能となる。次
に、本発明の第３実施例について説明する。図５は本発
明の第３実施例を示す蒸気乾燥装置の概略構成図、図６
はその蒸気乾燥装置の邪魔板部の斜視図である。なお、
第１実施例と同じ構成部分については、同じ符号を付し
てそれらの説明は省略する。
【００３０】蒸気槽１内に被乾燥物であるシリコンウエ
ハ２０及びそれを収納し搬送を容易にするためのキャリ
ア２１は、洗浄／水洗工程が終了した後、蒸気槽１内の
凝縮液受け皿５の直上の位置まで移送される。この第３
実施例では蒸気槽１内部のＩＰＡ液２より上方で、シリ
コンウエハ２０より下方に、傾斜を持つ板状の邪魔板１
９を蒸気槽１の中心部を中心にして線対称な傾斜を持つ
ように平行に並べる。また、邪魔板１９は図６に示すよ
うに設置されている。
ハ２０及びそれを収納し搬送を容易にするためのキャリ
ア２１は、洗浄／水洗工程が終了した後、蒸気槽１内の
凝縮液受け皿５の直上の位置まで移送される。この第３
実施例では蒸気槽１内部のＩＰＡ液２より上方で、シリ
コンウエハ２０より下方に、傾斜を持つ板状の邪魔板１
９を蒸気槽１の中心部を中心にして線対称な傾斜を持つ
ように平行に並べる。また、邪魔板１９は図６に示すよ
うに設置されている。
【００３１】邪魔板１９の傾斜および大きさは、ＩＰＡ
液２を上方から見た場合、蒸気槽１の中央部の線対称中
心部を除き、その垂直上で完全に隠れるように形成され
たものである。例えば、厚さ５ｍｍ、幅４０ｍｍ、長さ
蒸気槽１と同じ邪魔板を４５度傾斜させて、ＩＰＡ液２
と平行面の大きさが５００ｍｍ角の蒸気槽１に蒸気槽内
中央部１０ｍｍのクリアランスを設け形成すると、邪魔
板１９の下辺の間隔を１７．５ｍｍとし２８枚設置す
る。
液２を上方から見た場合、蒸気槽１の中央部の線対称中
心部を除き、その垂直上で完全に隠れるように形成され
たものである。例えば、厚さ５ｍｍ、幅４０ｍｍ、長さ
蒸気槽１と同じ邪魔板を４５度傾斜させて、ＩＰＡ液２
と平行面の大きさが５００ｍｍ角の蒸気槽１に蒸気槽内
中央部１０ｍｍのクリアランスを設け形成すると、邪魔
板１９の下辺の間隔を１７．５ｍｍとし２８枚設置す
る。
【００３２】以下、この蒸気乾燥装置の動作について説
明する。第１、第２実施例と同様に、ＩＰＡ液２は加熱
ヒータ３により昇温される。ＩＰＡ液２は種が少ない液
であるため、昇温され加熱状態になる。加熱状態になっ
たＩＰＡ液２は突沸が発生する。突沸した液は、蒸気槽
１の上方へ飛散しようとする。ＩＰＡ液２上で飛散した
液はその上方の邪魔板１９に衝突する。
明する。第１、第２実施例と同様に、ＩＰＡ液２は加熱
ヒータ３により昇温される。ＩＰＡ液２は種が少ない液
であるため、昇温され加熱状態になる。加熱状態になっ
たＩＰＡ液２は突沸が発生する。突沸した液は、蒸気槽
１の上方へ飛散しようとする。ＩＰＡ液２上で飛散した
液はその上方の邪魔板１９に衝突する。
【００３３】このように、第３実施例によれば、突沸に
より飛散した液が、邪魔板１９により邪魔され、邪魔板
１９より上方に飛散しないため、突沸が発生しても、シ
リコンウエハ２０に突沸により発生した飛散液の付着が
起こらないため、シリコンウエハ２０が清浄な状態で乾
燥できる。なおかつ、邪魔板は蒸気槽１の中心方向に傾
斜を持っているため、シリコンウエハ２０の方向に蒸気
の流れが形成され、より早い乾燥が可能となる。
より飛散した液が、邪魔板１９により邪魔され、邪魔板
１９より上方に飛散しないため、突沸が発生しても、シ
リコンウエハ２０に突沸により発生した飛散液の付着が
起こらないため、シリコンウエハ２０が清浄な状態で乾
燥できる。なおかつ、邪魔板は蒸気槽１の中心方向に傾
斜を持っているため、シリコンウエハ２０の方向に蒸気
の流れが形成され、より早い乾燥が可能となる。
【００３４】次に、本発明の第４実施例について説明す
る。図７は本発明の第４実施例を示す蒸気乾燥装置の概
略構成図、図８は本発明の第４実施例を示す蒸気乾燥装
置の下部冷却板部の平面図である。なお、第１実施例及
び第３実施例と同じ構成部分については、同じ符号を付
してそれらの説明は省略する。
る。図７は本発明の第４実施例を示す蒸気乾燥装置の概
略構成図、図８は本発明の第４実施例を示す蒸気乾燥装
置の下部冷却板部の平面図である。なお、第１実施例及
び第３実施例と同じ構成部分については、同じ符号を付
してそれらの説明は省略する。
【００３５】この第４実施例では、蒸気槽１内部のＩＰ
Ａ液２面より上方で、シリコンウエハ２０より下方に、
ＩＰＡ液２面と平行に、蒸気槽１入口部から出口部へ蛇
行状に数往復させた下部冷却管２２を設けた。下部冷却
管２２は往復するときは往路および復路は各々が平行に
設置されており、下部冷却管２２の材質は蒸気槽１と同
一であって、管の内径は冷却液（例えば、水）を０．０
０５〜５Ｌ／ｍｉｎを流すことのできる径であり、下部
冷却管２２の入口側すなわち供給側に、冷却液の流量を
コントロールできる流量コントロールバルブ２３を蒸気
槽１外部に取り付ける。
Ａ液２面より上方で、シリコンウエハ２０より下方に、
ＩＰＡ液２面と平行に、蒸気槽１入口部から出口部へ蛇
行状に数往復させた下部冷却管２２を設けた。下部冷却
管２２は往復するときは往路および復路は各々が平行に
設置されており、下部冷却管２２の材質は蒸気槽１と同
一であって、管の内径は冷却液（例えば、水）を０．０
０５〜５Ｌ／ｍｉｎを流すことのできる径であり、下部
冷却管２２の入口側すなわち供給側に、冷却液の流量を
コントロールできる流量コントロールバルブ２３を蒸気
槽１外部に取り付ける。
【００３６】以下、この蒸気乾燥装置の動作について説
明する。第３実施例と同様に、ＩＰＡ液２は、加熱ヒー
タ３により昇温される。ＩＰＡ液２は種が少ない液であ
るため昇温され加熱状態になる。加熱状態になったＩＰ
Ａ液２は突沸が発生する。突沸した液は、蒸気槽１の上
方へ飛散しようとする。この第４実施例では蒸気槽１内
で発生した蒸気は、ＩＰＡ液２面上方に設置された下部
冷却管２２に流れる冷却液により一部冷却され凝縮を起
こし液滴になる。液滴になったＩＰＡは、ＩＰＡ液２上
に落下する。
明する。第３実施例と同様に、ＩＰＡ液２は、加熱ヒー
タ３により昇温される。ＩＰＡ液２は種が少ない液であ
るため昇温され加熱状態になる。加熱状態になったＩＰ
Ａ液２は突沸が発生する。突沸した液は、蒸気槽１の上
方へ飛散しようとする。この第４実施例では蒸気槽１内
で発生した蒸気は、ＩＰＡ液２面上方に設置された下部
冷却管２２に流れる冷却液により一部冷却され凝縮を起
こし液滴になる。液滴になったＩＰＡは、ＩＰＡ液２上
に落下する。
【００３７】また、凝縮する蒸気の量は、下部冷却管２
２の内部を流れる冷却液の流量でコントロールすること
ができ、従来例ではウエハ２０が蒸気槽１内で蒸気の温
度まで十分昇温された後、ウエハ２０を冷却管より上方
に搬送ロボットによって移送するが、この第４実施例で
は下部冷却管２２の冷却液の流量を増加させることによ
り、ウエハ２０への蒸気の供給を停止させることが可能
となる。
２の内部を流れる冷却液の流量でコントロールすること
ができ、従来例ではウエハ２０が蒸気槽１内で蒸気の温
度まで十分昇温された後、ウエハ２０を冷却管より上方
に搬送ロボットによって移送するが、この第４実施例で
は下部冷却管２２の冷却液の流量を増加させることによ
り、ウエハ２０への蒸気の供給を停止させることが可能
となる。
【００３８】このように、第４実施例では、ＩＰＡ液２
から蒸発した蒸気は、一部冷却されＩＰＡ液２上に落下
する。一方、加熱状態になっているＩＰＡ液２では突沸
が起こっており、液が上方に飛散している。しかし、第
４実施例では、落下する液滴が上方に飛散する液滴の妨
害をし、なおかつ落下する液摘は飛散する液滴を取り込
みながら落下しているため、突沸により飛散する液滴は
ウエハ２０に到達することができない。そのため、ウエ
ハ２０の清浄な乾燥が可能となる。
から蒸発した蒸気は、一部冷却されＩＰＡ液２上に落下
する。一方、加熱状態になっているＩＰＡ液２では突沸
が起こっており、液が上方に飛散している。しかし、第
４実施例では、落下する液滴が上方に飛散する液滴の妨
害をし、なおかつ落下する液摘は飛散する液滴を取り込
みながら落下しているため、突沸により飛散する液滴は
ウエハ２０に到達することができない。そのため、ウエ
ハ２０の清浄な乾燥が可能となる。
【００３９】なおかつ、冷却管内を流れる冷却液の流量
を流量コントロールバルブ２３によって、コントロール
することにより、ウエハ２０への蒸気量をコントロール
できるので、ウエハを移動させることなくＩＰＡの蒸気
の供給停止を含む制御を行うことが可能となる。したが
って、蒸気槽１外部に出してＩＰＡを蒸発させる従来方
法より安全である。
を流量コントロールバルブ２３によって、コントロール
することにより、ウエハ２０への蒸気量をコントロール
できるので、ウエハを移動させることなくＩＰＡの蒸気
の供給停止を含む制御を行うことが可能となる。したが
って、蒸気槽１外部に出してＩＰＡを蒸発させる従来方
法より安全である。
【００４０】次に、本発明の第５実施例について説明す
る。図９は本発明の第５実施例を示す蒸気乾燥装置の概
略構成図、図１０はその蒸気乾燥装置の変形例を示す概
略構成図である。なお、第１実施例と同じ構成部分につ
いては、同じ符号を付してそれらの説明は省略する。図
９に示すように、凝縮液受け皿５がＩＰＡ液２面より上
方に位置するように設けられている。この凝縮液受け皿
５に支持足２５を設けるが、蒸気槽１との接触部に曲げ
弾性率が低く、ＩＰＡ液に対する化学的耐性（たとえ
ば、化学的変化、腐蝕性など）及び熱的耐性（例えば、
熱変形、熱的破損）を示し、なおかつ発塵量の少ないＰ
ＦＡやＰＴＦＥ等によって直接、凝縮液受け皿の支持足
２５と蒸気槽１とが接触することのないよう、板状の摩
擦防止板（摩擦防止部材）２４を挿入するようにしてい
る。
る。図９は本発明の第５実施例を示す蒸気乾燥装置の概
略構成図、図１０はその蒸気乾燥装置の変形例を示す概
略構成図である。なお、第１実施例と同じ構成部分につ
いては、同じ符号を付してそれらの説明は省略する。図
９に示すように、凝縮液受け皿５がＩＰＡ液２面より上
方に位置するように設けられている。この凝縮液受け皿
５に支持足２５を設けるが、蒸気槽１との接触部に曲げ
弾性率が低く、ＩＰＡ液に対する化学的耐性（たとえ
ば、化学的変化、腐蝕性など）及び熱的耐性（例えば、
熱変形、熱的破損）を示し、なおかつ発塵量の少ないＰ
ＦＡやＰＴＦＥ等によって直接、凝縮液受け皿の支持足
２５と蒸気槽１とが接触することのないよう、板状の摩
擦防止板（摩擦防止部材）２４を挿入するようにしてい
る。
【００４１】また、図１０に示すように、凝縮液受け皿
の支持足２５の基部を覆う形で摩擦防止キャップ（摩擦
防止部材）２６を設けるようにしてもよい。以下、この
蒸気乾燥装置の動作について説明する。第１〜第４実施
例と同様に、ＩＰＡ液２は加熱ヒータ３により昇温され
る。ＩＰＡ液２は種が少ない液であるため昇温され加熱
状態になる。加熱状態になったＩＰＡ液２は突沸が発生
する。突沸は、凝縮受け皿の支持足２５と摩擦防止板２
４との摩擦を起こすか、もしくは凝縮液受け皿の支持足
２５に設置した摩擦防止キャップ２６と蒸気槽１との摩
擦を起こす。
の支持足２５の基部を覆う形で摩擦防止キャップ（摩擦
防止部材）２６を設けるようにしてもよい。以下、この
蒸気乾燥装置の動作について説明する。第１〜第４実施
例と同様に、ＩＰＡ液２は加熱ヒータ３により昇温され
る。ＩＰＡ液２は種が少ない液であるため昇温され加熱
状態になる。加熱状態になったＩＰＡ液２は突沸が発生
する。突沸は、凝縮受け皿の支持足２５と摩擦防止板２
４との摩擦を起こすか、もしくは凝縮液受け皿の支持足
２５に設置した摩擦防止キャップ２６と蒸気槽１との摩
擦を起こす。
【００４２】このように、第５実施例によれば、蒸気槽
１と凝縮液受け皿の足２５との直接の摩擦が生じないた
め、発塵が抑えられ、ＩＰＡ液中の塵埃が増加しない。
なおかつ、蒸気槽１と凝縮液受け皿の足２５との間に板
もしくはキャップを設置するのみであるため、現状装置
の形状を変化させずに形成することが可能であり、容易
に実施可能である。
１と凝縮液受け皿の足２５との直接の摩擦が生じないた
め、発塵が抑えられ、ＩＰＡ液中の塵埃が増加しない。
なおかつ、蒸気槽１と凝縮液受け皿の足２５との間に板
もしくはキャップを設置するのみであるため、現状装置
の形状を変化させずに形成することが可能であり、容易
に実施可能である。
【００４３】なお、上記各実施例においては、化学的乾
燥法に用いる溶媒としては、ＩＰＡを例示したが、広く
は蒸気化できる液であればよい。具体的には表面張力が
２０ｄｙｎ／ｃｍ程度の小さいものが使われる。例え
ば、ＩＰＡ等のアルコール類やフロン１１３等の塩素系
溶媒を用いることができる。また、本発明は上記実施例
に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種
々の変形が可能であり、これらを本発明の範囲から排除
するものではない。
燥法に用いる溶媒としては、ＩＰＡを例示したが、広く
は蒸気化できる液であればよい。具体的には表面張力が
２０ｄｙｎ／ｃｍ程度の小さいものが使われる。例え
ば、ＩＰＡ等のアルコール類やフロン１１３等の塩素系
溶媒を用いることができる。また、本発明は上記実施例
に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種
々の変形が可能であり、これらを本発明の範囲から排除
するものではない。
【００４４】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、次のような効果を奏することができる。 （１）請求項１記載の発明によれば、凸状の突起物を設
けたことにより、沸騰の種となる部分が形成されるの
で、加熱状態にならず突沸を防止することができる。
よれば、次のような効果を奏することができる。 （１）請求項１記載の発明によれば、凸状の突起物を設
けたことにより、沸騰の種となる部分が形成されるの
で、加熱状態にならず突沸を防止することができる。
【００４５】また、凸状の突起物を設けたことにより、
ＩＰＡ液と蒸気槽との接触面積を従来より広くすること
ができ、加熱ヒータの熱を効率良く、ＩＰＡ液に伝える
ことができる。 （２）請求項２記載の発明によれば、Ｎ2 ガスを均一に
ＩＰＡ液に導入できるようにしたので、沸騰時にＮ2 ガ
スが種となり、加熱状態にならず突沸を防止することが
できる。
ＩＰＡ液と蒸気槽との接触面積を従来より広くすること
ができ、加熱ヒータの熱を効率良く、ＩＰＡ液に伝える
ことができる。 （２）請求項２記載の発明によれば、Ｎ2 ガスを均一に
ＩＰＡ液に導入できるようにしたので、沸騰時にＮ2 ガ
スが種となり、加熱状態にならず突沸を防止することが
できる。
【００４６】また、Ｎ2 によりＩＰＡ液界面で発生した
ＩＰＡ蒸気を上方に押し上げることが可能となり、被乾
燥物へ多量の蒸気を供給することができる。 （３）請求項３記載の発明によれば、突沸により飛散し
た液が、邪魔板により邪魔され、邪魔板より上方に飛散
しないため、突沸が発生しても、ウエハに突沸により発
生した飛散液の付着が起こらないため、ウエハが清浄な
状態で乾燥できる。なおかつ、邪魔板は蒸気槽の中心方
向に傾斜を持っているため、ウエハの方向に蒸気の流れ
が形成され、より早い乾燥が可能となる。
ＩＰＡ蒸気を上方に押し上げることが可能となり、被乾
燥物へ多量の蒸気を供給することができる。 （３）請求項３記載の発明によれば、突沸により飛散し
た液が、邪魔板により邪魔され、邪魔板より上方に飛散
しないため、突沸が発生しても、ウエハに突沸により発
生した飛散液の付着が起こらないため、ウエハが清浄な
状態で乾燥できる。なおかつ、邪魔板は蒸気槽の中心方
向に傾斜を持っているため、ウエハの方向に蒸気の流れ
が形成され、より早い乾燥が可能となる。
【００４７】（４）請求項４記載の発明によれば、落下
する液滴が上方に飛散する液滴の妨害をし、なおかつ落
下する液摘は飛散する液滴を取り込みながら落下してい
るため、突沸により飛散する液滴はウエハに到達するこ
とができない。そのため、ウエハの清浄な乾燥が可能と
なる。更に、冷却管内を流れる冷却液の流量を、流量コ
ントロールバルブによって、コントロールすることによ
り、ウエハへの蒸気量をコントロールできるので、ウエ
ハを移動させることなくＩＰＡの蒸気の供給停止を含む
制御を行うことが可能となる。したがって、蒸気槽外部
に出してＩＰＡを蒸発させる従来方法より安全である。
する液滴が上方に飛散する液滴の妨害をし、なおかつ落
下する液摘は飛散する液滴を取り込みながら落下してい
るため、突沸により飛散する液滴はウエハに到達するこ
とができない。そのため、ウエハの清浄な乾燥が可能と
なる。更に、冷却管内を流れる冷却液の流量を、流量コ
ントロールバルブによって、コントロールすることによ
り、ウエハへの蒸気量をコントロールできるので、ウエ
ハを移動させることなくＩＰＡの蒸気の供給停止を含む
制御を行うことが可能となる。したがって、蒸気槽外部
に出してＩＰＡを蒸発させる従来方法より安全である。
【００４８】（５）請求項５記載の発明によれば、蒸気
槽と凝縮液受け皿の足との直接の摩擦が生じないため、
発塵が抑えられ、ＩＰＡ液中の塵埃が増加しない。なお
かつ、蒸気槽と凝縮液受け皿の足との間に板もしくはキ
ャップを設置するのみであるため、現状装置の形状を変
化させずに形成することが可能であり、容易に実施可能
である。
槽と凝縮液受け皿の足との直接の摩擦が生じないため、
発塵が抑えられ、ＩＰＡ液中の塵埃が増加しない。なお
かつ、蒸気槽と凝縮液受け皿の足との間に板もしくはキ
ャップを設置するのみであるため、現状装置の形状を変
化させずに形成することが可能であり、容易に実施可能
である。
【図１】本発明の第１実施例を示す蒸気乾燥装置の概略
構成図である。
構成図である。
【図２】本発明の第１実施例を示す蒸気乾燥装置のＩＰ
Ａ液と蒸気槽との接触面を示す断面図である。
Ａ液と蒸気槽との接触面を示す断面図である。
【図３】本発明の第２実施例を示す蒸気乾燥装置の概略
構成図である。
構成図である。
【図４】本発明の第２実施例を示す蒸気乾燥装置のバブ
ラの構成図である。
ラの構成図である。
【図５】本発明の第３実施例を示す蒸気乾燥装置の概略
構成図である。
構成図である。
【図６】本発明の第３実施例を示す蒸気乾燥装置の邪魔
板部の斜視図である。
板部の斜視図である。
【図７】本発明の第４実施例を示す蒸気乾燥装置の概略
構成図である。
構成図である。
【図８】本発明の第４実施例を示す蒸気乾燥装置の下部
冷却板部の平面図である。
冷却板部の平面図である。
【図９】本発明の第５実施例を示す蒸気乾燥装置の概略
構成図である。
構成図である。
【図１０】本発明の第５実施例の蒸気乾燥装置の変形例
を示す概略構成図である。
を示す概略構成図である。
【図１１】従来の蒸気乾燥装置の概略構成図である。
１ 蒸気槽 ２ ＩＰＡ液 ３ 加熱ヒータ ４ 冷却管 ５ 凝縮液受け皿 ６ ＩＰＡキャニスタ缶 ７ フィルタ ８ 加圧ライン ９ ＩＰＡ供給ライン １０ 凝縮液廃液ライン １１ 加圧ガスバルブ １２ 供給バルブ １３ ＩＰＡ廃液ライン １４ 廃液バルブ １５ 凸状の突起物 １６ バブラ １７ 穴 １８ ガスバルブ １９ 邪魔板 ２０ シリコンウエハ ２１ キャリア ２２ 下部冷却管 ２３ 流量コントロールバルブ ２４ 板状の摩擦防止板（摩擦防止部材） ２５ 支持足 ２６ 摩擦防止キャップ（摩擦防止部材）
Claims (5)
- 【請求項１】 被乾燥物の乾燥を行う蒸気乾燥装置にお
いて、 前記蒸気槽の底面に上端が針状の凸状物を形成し、該凸
状物を浸すように蒸気せしめる液中に設けるようにした
ことを特徴とする蒸気乾燥装置。 - 【請求項２】 被乾燥物の乾燥を行う蒸気乾燥装置にお
いて、 蒸気槽内で、蒸気せしめる液中に不純物が少ない不活性
気体を均一に導入するため微細な穴が複数個形成された
管を複数本配置するようにしたことを特徴とする蒸気乾
燥装置。 - 【請求項３】 被乾燥物の乾燥を行う蒸気乾燥装置にお
いて、 蒸気槽内で、蒸気せしめる液より上部であって、かつ被
乾燥物がセットされる位置より下方に被乾燥物の中心線
方向に傾斜を持つ板状物を最低２枚以上設け、それぞれ
の前記板状物は前記蒸気槽中央線を中心にして対称に設
置するようにしたことを特徴とする蒸気乾燥装置。 - 【請求項４】 被乾燥物の乾燥を行う蒸気乾燥装置にお
いて、 蒸気槽内で、蒸気せしめる液より上部であって、かつ被
乾燥物がセットされる位置より下方に前記蒸気せしめる
液面と平行に前記蒸気せしめる液より沸点の高い液体を
前記蒸気槽外部より内部を通過し、外部へ流し得る管を
蛇行状に往復させるように配置することを特徴とする蒸
気乾燥装置。 - 【請求項５】 被乾燥物の乾燥を行う蒸気乾燥装置にお
いて、 蒸気槽内で、被乾燥物の蒸気の凝縮により発生する前記
被乾燥物より落下する液滴を前記蒸気槽外に排出するた
めに設けた凝縮液受け皿を支えるための支持足と、前記
蒸気槽と接触することがないように、前記蒸気槽及び前
記受け皿を構成する材質より、曲げ弾性が低く、なおか
つ蒸気せしめる液に十分な化学的、熱的耐性を持ち、な
おかつ発塵の少ない材質からなる摩擦防止部材を前記受
け皿の支持足と前記蒸気槽との間に挿入することを特徴
とする蒸気乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24517796A JP3506851B2 (ja) | 1996-09-17 | 1996-09-17 | 蒸気乾燥装置及び半導体ウエハの乾燥方法 |
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|---|---|---|---|---|
| KR100447285B1 (ko) * | 2002-09-05 | 2004-09-07 | 삼성전자주식회사 | 기판 건조 장치 |
| JP2009245481A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Hoya Glass Disk Thailand Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 |
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1996
- 1996-09-17 JP JP24517796A patent/JP3506851B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100447285B1 (ko) * | 2002-09-05 | 2004-09-07 | 삼성전자주식회사 | 기판 건조 장치 |
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