JPH08181100A - 蒸気乾燥装置 - Google Patents

蒸気乾燥装置

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JPH08181100A
JPH08181100A JP33666294A JP33666294A JPH08181100A JP H08181100 A JPH08181100 A JP H08181100A JP 33666294 A JP33666294 A JP 33666294A JP 33666294 A JP33666294 A JP 33666294A JP H08181100 A JPH08181100 A JP H08181100A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic solvent
wafer
vapor
ipa
processing tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP33666294A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiko Sekiguchi
雅彦 関口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】受け皿からの有機溶媒の再蒸発に伴うウエハの
汚染を防止することができる蒸気乾燥装置を提供する。 【構成】受け皿31は略V字型の横断面形状と前面に向
かって傾斜する縦断面形状をなす底面部41を有する。
受け皿31の上部開放部は受け皿31の前面から背面に
わたって2枚の遮蔽板33、34で覆われている。一方
の遮蔽板33の側縁部は他方の遮蔽板34の側縁部の上
側に重なっている。2枚の遮蔽板33、34の間には、
隙間35が設けられている。また、2枚の遮蔽板33、
34は、受け皿31の横方向の中心に向かって傾斜して
いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハ洗浄工程で用い
られる蒸気乾燥装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ウエハ洗浄の最終工程として、蒸気乾燥
装置が用いられている。蒸気乾燥装置では、有機溶媒を
加熱して蒸発させ、処理槽内を有機溶媒の蒸気雰囲気に
する。この蒸気雰囲気中に前工程で表面に水分が付着し
たウエハを搬入し放置する。ウエハの表面温度は処理槽
内の蒸気温度よりも低いため、ウエハの表面に有機溶媒
が結露する。結露した有機溶媒は、ウエハの表面に付着
した水分を伴って液滴となり落下する。この後、ウエハ
は加熱されるため、ウエハ表面に有機溶媒は結露しなく
なり、乾燥状態となる。一般的な蒸気乾燥装置では、上
述のようにウエハから落下した有機溶媒の液滴を受け皿
で受け止め、回収している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
蒸気乾燥装置に設けられた受け皿61は、図6に示すよ
うに、上方が開放された形状になっている。このため、
受け皿61に受け止められた有機溶媒62が、受け皿6
1の底部に設けられた排出口63を経て排出されるま
で、一時的に受け皿61内に滞留する。この間、受け皿
61は高温の有機溶媒蒸気中にあるため、有機溶媒62
が加熱されて、再び蒸発する。この水分を豊富に含有す
る有機溶媒62の蒸気がウエハ64に達すると、ウエハ
64の周囲における有機溶媒蒸気の濃度にムラが生じ、
ウエハ64の乾燥の程度にムラが生じやすい。また、水
分を豊富に含有する有機溶媒蒸気がウエハ64に付着す
ると、いわゆるウォーターマークが形成される。このよ
うに従来の蒸気乾燥装置では受け皿61から再蒸発した
有機溶媒蒸気に基づくウエハ64の汚染が発生してい
る。
【0004】本発明は、かかる点に鑑みてなされたもの
であり、受け皿からの有機溶媒の再蒸発に伴うウエハの
汚染を防止することができる蒸気乾燥装置を提供する。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、有機溶媒が収
容される処理槽と、前記有機溶媒を加熱して蒸発させる
ヒータと、前記処理槽内で複数枚のウエハを保持するウ
エハ保持具と、前記ウエハ保持具の下方に設けられた有
機溶媒回収部と、前記有機溶媒回収部に接続された排液
手段とを具備する蒸気乾燥装置であって、前記有機溶媒
回収部が、前記ヒータで加熱されて蒸発した前記有機溶
媒が前記ウエハの表面で結露して落下した液滴を受け止
めるための受け皿部と、前記受け皿部の底面部に設けら
れ、受け止めた前記有機溶媒を前記排液手段に導入する
ための排出口と、前記受け皿部および前記ウエハ保持具
の間に配置され、前記受け皿部の底面部に滞留した有機
溶媒が再び蒸発して生じる蒸気が前記ウエハに達するの
を妨げる遮蔽部材とを具備することを特徴とする蒸気乾
燥装置を提供する。
【0006】
【作用】本発明の蒸気乾燥装置では、処理槽に収容され
た有機溶媒はヒータで加熱されて蒸発し、処理槽内部が
有機溶媒蒸気で満たされる。ウエハ保持具に保持された
ウエハの表面で有機溶媒の蒸気が結露し、液滴が生じ
る。この有機溶媒の液滴はウエハから落下して、有機溶
媒回収部の受け皿部で受け止められる。受け止められた
有機溶媒は排出口を経て排液手段に導入される。有機溶
媒は排出口から排出されるまで受け皿部の底面部で暫時
滞留する。この滞留した有機溶媒は、処理槽に収容され
た有機溶媒をヒータが加熱する際の熱により加熱され、
再び蒸発する。発生した蒸気は、受け皿部とウエハ保持
具の間に設けられた遮蔽部材により遮られ、ウエハ保持
具に保持されたウエハまで達しない。このため、水分を
豊富に含有する有機溶媒の蒸気により、ウエハの周囲に
おける有機溶媒蒸気の濃度にムラが生じてウエハの乾燥
の程度にムラが生じるのが防止される。また、水分を豊
富に含有する有機溶媒蒸気がウエハの表面に付着してウ
ォーターマークを形成するのが防止される。
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細
に説明する。
【0008】図1は、本発明の蒸気乾燥装置の一実施例
を示す概略図である。また、図2は、図1中のAA線に
沿って切断された蒸気乾燥装置10の一部破断断面図で
ある。
【0009】図中11は処理槽である。処理槽11の下
方底面側には、横幅が狭くなった底面部11aが形成さ
れている。処理槽11の底面部11aの下面にはヒータ
12が設けられている。処理槽11の底面部11aの側
壁には、供給パイプ13の一端部が接続されている。供
給パイプ13の他端部には、有機溶媒としてイソプロピ
ルアルコール(IPA)を貯留したタンク15が接続さ
れている。供給パイプ13には、IPAの供給を開始ま
たは停止するための開閉弁17と、IPAの供給量を調
節するための調節弁16が設けられている。
【0010】処理槽11の上端側の内壁部には、冷却パ
イプ17が複数巻き回して取り付けられている。冷却パ
イプ17には冷媒供給源(図示せず)から例えば、冷却
水が循環される。
【0011】処理槽11の上方には、ウエハ搬送用ロボ
ット18が設けられている。ウエハ搬送ロボット18
は、その下方に垂下し、かつ、自在に昇降可能なアーム
部19を備えている。アーム部19の下端部には、複数
枚のウエハ20を保持するウエハ保持具21が取り付け
らている。ウエハ保持具21は、図2に示すように、ア
ーム部19の下端部にアーム部19に対して実質的に直
角をなすように取り付けられた3本のフォーク22から
なる。
【0012】一方、処理槽11の内部のウエハ保持具2
1の下方には、有機溶媒回収部23が設けられている。
この有機溶媒回収部23は、その四隅に突出して取り付
けらた被支持板23aを、処理槽11の底面部11bの
内壁面の、保持板23aに対応した箇所に突出して取り
付けられた支持板29により支持されている。
【0013】図3に有機溶媒回収部23の斜視図を示
す。有機溶媒回収部23は、受け皿31を具備する。受
け皿31は、図4(A)に示すように、略V字型の横断
面形状と、かつ、前面31aに向かって傾斜する縦断面
形状をなす底面部41と、底面部41の四方を囲むよう
に設けられた側壁面42a〜42dを有する。
【0014】この受け皿31の上部開放部32は、図3
に示すように、受け皿31の前面31aから背面31b
にわたって2枚の遮蔽板33、34で覆われている。一
方の遮蔽板33の側縁部は、他方の遮蔽板34の側縁部
の上側に重なっている。2枚の遮蔽板33、34の間に
は、隙間35が設けられている。また、2枚の遮蔽板3
3、34は、受け皿31の横方向の中心に向かって傾斜
している。
【0015】一方、図3に示すように、受け皿31の底
面部41の最も低い箇所、すなわち、前面31a側であ
って略V字型の横断面の頂点に排出口36が設けられて
いる。排出口36には、排液パイプ24の一端部が接続
されている。排液パイプ24の他端部は、図1に示すよ
うに、排液回収槽25に接続されている。また、排液パ
イプ24は、処理槽11の底面部11aの側壁部と排液
パイプ26を介して接続されている。排液パイプ26の
途中には、処理槽11からの排液を開始または停止する
ための開閉弁27が設けられている。なお、有機溶媒回
収部23の各部材は、例えば、石英ガラス等からなる。
【0016】上述のような構成からなる蒸気乾燥装置1
0において、次のように、ウエハ20の蒸気乾燥処理が
行われる。
【0017】まず、開閉弁15を開き、タンク14から
IPAを処理槽11へ供給する。処理槽11へのIPA
の供給量は、調節弁16により調節する。処理槽11に
供給されたIPA28を、ヒータ12により加熱し、8
3℃のIPA蒸気を発生させる。IPA蒸気は、処理槽
11の上部に設けられた冷却パイプ17の内部を循環す
る冷却水により冷却されて液化し、処理槽11の底面部
11aに戻される。従って、処理槽11内部のIPA2
8の液面から冷却パイプ17の下端部近傍の間の領域
は、IPAの蒸気雰囲気になる。
【0018】次いで、別の処理装置から他のウエハ搬送
ロボット(図示せず)により受け渡された複数枚(例え
ば50枚)のウエハ20を、ウエハ保持具21に保持さ
せる。この後、ウエハ搬送ロボット18がアーム部19
を下降させて、ウエハ保持具21に保持されたウエハ2
0を、処理槽11の内部に搬入する。ウエハ20は、有
機溶媒回収部23の上方に配置される。従って、ウエハ
20は、IPA蒸気雰囲気に晒される。ウエハ20の表
面温度は処理槽11の外部の周囲温度(例えば23℃)
である。これに対して、IPA蒸気は83℃であるた
め、IPA蒸気はウエハ20の表面で結露して液滴とな
って落下する。このとき、ウエハ20は前工程で表面に
水分が付着しているため、この水分は結露したIPAの
液滴に取り込まれて一緒に落下する。ウエハ20を暫く
の間処理槽11の内部に放置し、ウエハ20の表面温度
がIPA蒸気の温度と等しくなって、ウエハ20の表面
にIPAが結露しなくなったら、ウエハ搬送ロボット1
8がアーム部19を上昇させて、ウエハ20を処理槽1
1の外部に搬出する。
【0019】上述のウエハ20の蒸気乾燥処理におい
て、ウエハ20から落下したIPAの液滴は、上述の有
機溶媒回収部23の遮蔽板33、34の上に落ち、遮蔽
板33、34の傾斜に従って、隙間35を介して受け皿
31の底面部41に流入する。底面部41に流入したI
PAは、底面部41に一時的に滞留した後、排出口36
および排液パイプ24を介して排出され、排液回収槽2
5に回収される。
【0020】上述のように受け皿31の底面部41に一
時的に滞留したIPAは、高温のIPA蒸気により加熱
されるため、再び蒸発する。しかしながら、再び蒸発し
たIPA蒸気は、遮蔽板33、34で遮られるため、ウ
エハ20の近傍まで達することはない。このため、水分
を豊富に含有するIPAの蒸気により、ウエハ20の周
囲におけるIPA蒸気の濃度にムラが生じてウエハ20
の乾燥の程度にムラが生じるのが防止される。また、水
分を豊富に含有するIPA蒸気がウエハ20の表面に付
着してウォーターマークを形成するのが防止される。こ
の結果、ウエハ20の汚染を著しく低減することができ
る。
【0021】次に、図5に、遮蔽部材の変形例を示す。
この変形例では、断面が逆V字型の遮蔽部材51が、断
面がV字型の底面部41の中央線Oを中心として、受け
皿31の前面31aから背面31bにわたって設けられ
ている。遮蔽部材51の両側縁部51a、51bは、ス
ペーサー52a〜52dにより、底面部41の表面上に
隙間53a、53bが形成されるように取り付けられて
いる。このような構造からなる遮蔽部材51によれば、
ウエハ20の表面で結露したIPAが、液滴となって遮
蔽部材51の上に落下する。この液滴は遮蔽部材51の
表面の傾斜に沿って底面部41に流れ落ち、隙間53
a、53bを介して排出口36に流入して排出される。
排出口36から排出される前に底面部41に一時的に滞
留したIPAはIPA蒸気で加熱されて再蒸発するが、
このIPA蒸気は遮蔽部材51に遮られるため、ウエハ
20の近傍まで達することはない。このため、水分を豊
富に含有するIPAの蒸気により、ウエハ20の周囲に
おけるIPA蒸気の濃度にムラが生じてウエハ20の乾
燥の程度にムラが生じるのが防止される。また、水分を
豊富に含有するIPA蒸気がウエハ20の表面に付着し
てウォーターマークを形成するのが防止される。この結
果、ウエハ20の汚染を著しく低減することができる。
【0022】このように、本発明の蒸気乾燥装置におけ
る有機溶媒回収部の遮蔽部材は、少なくとも排出口36
を含む底面部41の表面領域上を覆うように設けられて
いれば良く、好ましくは、ウエハ20に対応する底面部
41の表面領域上を覆うように設けられる。このような
条件が満されれば、遮蔽部材の形状および大きさは特に
限定されるものではない。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の蒸気乾燥
装置によれば、ウエハの表面で結露して落下した有機溶
媒を受け止めて回収する有機溶媒回収部が、有機溶媒を
受け止める受け皿部とウエハ保持具との間に、受け皿部
の底面部に滞留した有機溶媒が再び蒸発して生じる蒸気
がウエハに達するのを妨げる遮蔽部材を具備する。この
ため、再蒸発した有機溶媒蒸気がウエハ保持具に保持さ
れたウエハの近傍に達することがなく、水分を豊富に含
有する有機溶媒の蒸気により、ウエハの周囲における有
機溶媒蒸気の濃度にムラが生じてウエハの乾燥の程度に
ムラが生じたり、水分を豊富に含有する有機溶媒蒸気が
ウエハの表面に付着してウォーターマークを形成するの
が防止される。この結果、ウエハの汚染を著しく減少す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の蒸気乾燥装置の一実施例を示す概略
図。
【図2】図1中のAA線に沿って切断された蒸気乾燥装
置の一部破断断面図。
【図3】図1に示す蒸気乾燥措置の有機溶媒回収部を示
す斜視図。
【図4】(A)および(B)は、夫々、図3に示す有機
溶媒回収部の受け皿部を示す横断面図および縦断面図。
【図5】本発明の蒸気乾燥装置における有機溶媒回収部
の遮蔽部材の変形例を示す一部破断断面図。
【図6】従来の蒸気乾燥装置における受け皿部を示す断
面図。
【符号の説明】
10…蒸気乾燥装置、11…処理槽、12…ヒータ、1
4…タンク、18…ウエハ搬送ロボット、19…アーム
部、20…ウエハ、21…ウエハ保持具21、23…有
機溶媒回収部、31…受け皿、33、34…遮蔽板、3
6…排出口。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 有機溶媒が収容される処理槽と、前記有
    機溶媒を加熱して蒸発させるヒータと、前記処理槽内で
    複数枚のウエハを保持するウエハ保持具と、前記ウエハ
    保持具の下方に設けられた有機溶媒回収部と、前記有機
    溶媒回収部に接続された排液手段とを具備する蒸気乾燥
    装置であって、前記有機溶媒回収部が、前記ヒータで加
    熱されて蒸発した前記有機溶媒が前記ウエハの表面で結
    露して落下した液滴を受け止めるための受け皿部と、前
    記受け皿部の底面部に設けられ、受け止めた前記有機溶
    媒を前記排液手段に導入するための排出口と、前記受け
    皿部および前記ウエハ保持具の間に配置され、前記受け
    皿部の底面部に滞留した有機溶媒が再び蒸発して生じる
    蒸気が前記ウエハに達するのを妨げる遮蔽部材とを具備
    することを特徴とする蒸気乾燥装置。
JP33666294A 1994-12-26 1994-12-26 蒸気乾燥装置 Pending JPH08181100A (ja)

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JP33666294A JPH08181100A (ja) 1994-12-26 1994-12-26 蒸気乾燥装置

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JP33666294A JPH08181100A (ja) 1994-12-26 1994-12-26 蒸気乾燥装置

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JP33666294A Pending JPH08181100A (ja) 1994-12-26 1994-12-26 蒸気乾燥装置

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