JPH07153735A - Ｉｐａ蒸気乾燥装置 - Google Patents
Ｉｐａ蒸気乾燥装置Info
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- JPH07153735A JPH07153735A JP32967893A JP32967893A JPH07153735A JP H07153735 A JPH07153735 A JP H07153735A JP 32967893 A JP32967893 A JP 32967893A JP 32967893 A JP32967893 A JP 32967893A JP H07153735 A JPH07153735 A JP H07153735A
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- tank
- processing tank
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 安全性・経済性・清浄性・機動性に優れたＩ
ＰＡ蒸気乾燥装置を提供する。 【構成】 処理槽２０のワーク装入口２１に気密性の蓋
２２を設ける。処理槽２０の内部にワーク台３０を設け
る。処理槽２０の上部に蒸発手段５０を付設する。処理
槽２０内にワーク１０を封入した状態で、必要量のＩＰ
Ａ液を蒸発手段５０で蒸発させ、その蒸気を処理槽２０
内に上方から導入する。処理槽２０内にＩＰＡ液を溜め
込まず、そのＩＰＡ液を乾燥毎に使い切る。
ＰＡ蒸気乾燥装置を提供する。 【構成】 処理槽２０のワーク装入口２１に気密性の蓋
２２を設ける。処理槽２０の内部にワーク台３０を設け
る。処理槽２０の上部に蒸発手段５０を付設する。処理
槽２０内にワーク１０を封入した状態で、必要量のＩＰ
Ａ液を蒸発手段５０で蒸発させ、その蒸気を処理槽２０
内に上方から導入する。処理槽２０内にＩＰＡ液を溜め
込まず、そのＩＰＡ液を乾燥毎に使い切る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハ、マスク
等の乾燥に使用されるＩＰＡ蒸気乾燥装置に関する。
等の乾燥に使用されるＩＰＡ蒸気乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】製造された半導体ウエハは、数工程にわ
たる洗浄を受け、最後の洗浄の後に表面が乾燥される。
この乾燥に使用される乾燥装置の一つがイソプロピルア
ルコール（ＩＰＡ）を用いたＩＰＡ蒸気乾燥装置であ
る。従来のＩＰＡ蒸気乾燥装置の構成を図２に示す。
たる洗浄を受け、最後の洗浄の後に表面が乾燥される。
この乾燥に使用される乾燥装置の一つがイソプロピルア
ルコール（ＩＰＡ）を用いたＩＰＡ蒸気乾燥装置であ
る。従来のＩＰＡ蒸気乾燥装置の構成を図２に示す。
【０００３】従来のＩＰＡ蒸気乾燥装置は、特公平５−
２８４９１号公報、特開平５−７４７５３号公報等に示
されるように、上面にワーク装入口が設けられたオープ
ンタイプの処理槽１を有し、その中に適量のＩＰＡ液Ａ
を入れ、そのＩＰＡ液Ａをヒーター２により加熱蒸発さ
せて、その蒸気Ｂを処理槽１内に充満させる。ワークで
あるウエハ１０は、キャリア１１に収納されて、処理槽
１内に吊り下げられる。そして、蒸気がウエハ１０の表
面で凝縮し、表面の水分と置換されることにより、その
表面から水分が除去される。水分を含む凝縮液Ｃは受皿
３内に滴下して回収される。また、処理槽１の上部内面
に沿って配設した冷却器４により蒸気が凝縮されて、槽
上方への蒸気の流出が防止される。
２８４９１号公報、特開平５−７４７５３号公報等に示
されるように、上面にワーク装入口が設けられたオープ
ンタイプの処理槽１を有し、その中に適量のＩＰＡ液Ａ
を入れ、そのＩＰＡ液Ａをヒーター２により加熱蒸発さ
せて、その蒸気Ｂを処理槽１内に充満させる。ワークで
あるウエハ１０は、キャリア１１に収納されて、処理槽
１内に吊り下げられる。そして、蒸気がウエハ１０の表
面で凝縮し、表面の水分と置換されることにより、その
表面から水分が除去される。水分を含む凝縮液Ｃは受皿
３内に滴下して回収される。また、処理槽１の上部内面
に沿って配設した冷却器４により蒸気が凝縮されて、槽
上方への蒸気の流出が防止される。
【０００４】すなわち、ＩＰＡは槽底の蒸発部からその
上方のワークを経由して又下方に戻るという往復系路を
通ってワークを乾燥処理する。
上方のワークを経由して又下方に戻るという往復系路を
通ってワークを乾燥処理する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ＩＰＡは大変引火し易
く、しかも引火した場合は爆発的に大きな炎を吹き上げ
る極めて危険な物質である。
く、しかも引火した場合は爆発的に大きな炎を吹き上げ
る極めて危険な物質である。
【０００６】従来のＩＰＡ蒸気乾燥装置は、処理槽１と
して例えば石英槽を用いるが、その処理槽１にＩＰＡ液
を常時ため込む構成のため、処理槽が破損した場合はＩ
ＰＡ液が外部へ漏れ、槽下方に設けたヒータ２等より引
火して火災を発生させる危険がある。更に、この溜め込
み式の構成によると、乾燥処理の繰り返しにより槽内の
ＩＰＡ液が汚れると共に、ウエハ１０に付着した水分等
が持ち込まれ、ウエハ１０の洗浄度が低下する。そのた
め、ＩＰＡ液Ａの濃度管理を行い、適宜ＩＰＡ液を交換
する必要性があり、経済性も良くない。
して例えば石英槽を用いるが、その処理槽１にＩＰＡ液
を常時ため込む構成のため、処理槽が破損した場合はＩ
ＰＡ液が外部へ漏れ、槽下方に設けたヒータ２等より引
火して火災を発生させる危険がある。更に、この溜め込
み式の構成によると、乾燥処理の繰り返しにより槽内の
ＩＰＡ液が汚れると共に、ウエハ１０に付着した水分等
が持ち込まれ、ウエハ１０の洗浄度が低下する。そのた
め、ＩＰＡ液Ａの濃度管理を行い、適宜ＩＰＡ液を交換
する必要性があり、経済性も良くない。
【０００７】また、従来のＩＰＡ蒸気乾燥装置に用いら
れる処理槽１は、乾燥処理中、ワーク装入口が開放され
た状態で使用されるので、ＩＰＡの流出の危険がある。
そのため、窒素ガス等によるエアカーテンでワーク装入
口が遮蔽されるが、ワーク装入口が開放している以上、
ＩＰＡの流出の危険は払拭されず、この点でも安全性が
充分とは言えない。
れる処理槽１は、乾燥処理中、ワーク装入口が開放され
た状態で使用されるので、ＩＰＡの流出の危険がある。
そのため、窒素ガス等によるエアカーテンでワーク装入
口が遮蔽されるが、ワーク装入口が開放している以上、
ＩＰＡの流出の危険は払拭されず、この点でも安全性が
充分とは言えない。
【０００８】更に、乾燥処理中にワークを処理槽の外か
ら吊り下げ支持しておかなければならない。そのため、
この間、ロボットが占有され、他の処理を行うことがで
きない。すなわち、機動性も良好でない。
ら吊り下げ支持しておかなければならない。そのため、
この間、ロボットが占有され、他の処理を行うことがで
きない。すなわち、機動性も良好でない。
【０００９】本発明の目的は、上記従来の問題を全て解
決した安全性、経済性、洗浄性、機動性に優れたＩＰＡ
蒸気乾燥装置を提供することにある。
決した安全性、経済性、洗浄性、機動性に優れたＩＰＡ
蒸気乾燥装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のＩＰＡ蒸気乾燥
装置は、乾燥すべきワークが上方より装入され、そのワ
ーク装入口が蓋により気密に閉止される密封式の処理槽
と、前記処理槽の上部に付設され、供給された必要量の
ＩＰＡ液を加熱蒸発させて、その蒸気を処理槽内に上部
から導入する蒸発手段と、前記処理槽内に設けられたワ
ーク台と、前記処理槽内のワーク台より下方に設けられ
て、ＩＰＡの凝縮液を回収する受皿と、前記処理槽内を
吸引排気し、また処理槽内にクリーンガスを供給する給
排気手段とを具備する。
装置は、乾燥すべきワークが上方より装入され、そのワ
ーク装入口が蓋により気密に閉止される密封式の処理槽
と、前記処理槽の上部に付設され、供給された必要量の
ＩＰＡ液を加熱蒸発させて、その蒸気を処理槽内に上部
から導入する蒸発手段と、前記処理槽内に設けられたワ
ーク台と、前記処理槽内のワーク台より下方に設けられ
て、ＩＰＡの凝縮液を回収する受皿と、前記処理槽内を
吸引排気し、また処理槽内にクリーンガスを供給する給
排気手段とを具備する。
【００１１】
【作用】ワークを乾燥処理するには、まず、そのワーク
を処理槽内に装入して槽内のワーク台に載せる。次い
で、処理槽のワーク装入口を蓋で密閉し、槽内を吸引排
気する。そして、乾燥槽の上部に付設した蒸発手段に必
要量のＩＰＡ液を供給し、そのＩＰＡ液を蒸発させる。
その蒸気は、槽内に上部から導入され、槽内を下降して
槽内に充満し、ワーク表面の水分を置換除去する。ワー
ク表面で凝縮したＩＰＡは下方の受皿内に滴下して回収
される。ワークの乾燥が終わると、槽内を再び吸引排気
しながら、その槽内に窒素ガス等のクリーンガスを供給
し、槽内からＩＰＡ蒸気を排出する。
を処理槽内に装入して槽内のワーク台に載せる。次い
で、処理槽のワーク装入口を蓋で密閉し、槽内を吸引排
気する。そして、乾燥槽の上部に付設した蒸発手段に必
要量のＩＰＡ液を供給し、そのＩＰＡ液を蒸発させる。
その蒸気は、槽内に上部から導入され、槽内を下降して
槽内に充満し、ワーク表面の水分を置換除去する。ワー
ク表面で凝縮したＩＰＡは下方の受皿内に滴下して回収
される。ワークの乾燥が終わると、槽内を再び吸引排気
しながら、その槽内に窒素ガス等のクリーンガスを供給
し、槽内からＩＰＡ蒸気を排出する。
【００１２】
【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。
【００１３】図１に本発明を実施したＩＰＡ蒸気乾燥装
置の１例を示す。本ＩＰＡ蒸気乾燥装置は、ウエハ１０
の乾燥に使用されるものであり、そのウエハ１０はキャ
リア１１に収納されて処理槽２０内に上方から装入され
る。
置の１例を示す。本ＩＰＡ蒸気乾燥装置は、ウエハ１０
の乾燥に使用されるものであり、そのウエハ１０はキャ
リア１１に収納されて処理槽２０内に上方から装入され
る。
【００１４】処理槽２０は、例えばステンレス鋼製の密
封容器であり、そのワーク装入口２１がスライド式の蓋
２２によって気密に閉止される。処理槽２０の底面およ
び外側面には、ヒーター２３が取り付けられている。処
理槽２０の内部は後述する排気手段７１および給気手段
７３により強制的に給排気される。処理槽２０の内部に
は、キャリア１１が載置されるワーク台３０が設けられ
ると共に、ワーク台３０の下方に位置して受皿４０が設
けられている。ワーク台３０は、凝縮液を下方へ自由に
通過させることができるように例えば格子型とされてい
る。
封容器であり、そのワーク装入口２１がスライド式の蓋
２２によって気密に閉止される。処理槽２０の底面およ
び外側面には、ヒーター２３が取り付けられている。処
理槽２０の内部は後述する排気手段７１および給気手段
７３により強制的に給排気される。処理槽２０の内部に
は、キャリア１１が載置されるワーク台３０が設けられ
ると共に、ワーク台３０の下方に位置して受皿４０が設
けられている。ワーク台３０は、凝縮液を下方へ自由に
通過させることができるように例えば格子型とされてい
る。
【００１５】処理槽２０の最上部には、蒸発手段５０が
付設されている。蒸発手段５０は、処理槽２０の上縁部
周囲に取り付けられた蒸発槽５１と、蒸発槽５１の底面
および外側面に取り付けられたヒータ５２と、蒸発槽５
１の内部に配設された主スプレー管５３とを有する。主
スプレー管５３には、図示されない供給管によりＩＰＡ
液が供給される。そのＩＰＡ液は、供給管外面に巻き付
けたヒーターにより予熱されて、主スプレー管５３から
蒸発槽５１の底面上に散布される。
付設されている。蒸発手段５０は、処理槽２０の上縁部
周囲に取り付けられた蒸発槽５１と、蒸発槽５１の底面
および外側面に取り付けられたヒータ５２と、蒸発槽５
１の内部に配設された主スプレー管５３とを有する。主
スプレー管５３には、図示されない供給管によりＩＰＡ
液が供給される。そのＩＰＡ液は、供給管外面に巻き付
けたヒーターにより予熱されて、主スプレー管５３から
蒸発槽５１の底面上に散布される。
【００１６】受皿４０の下方には、処理槽２０の底面上
にＩＰＡ液を初期散布するために、前記主スプレー管５
３とは別の副スプレー管６０が配設されている。そのＩ
ＰＡ液も前記ＩＰＡ液と同様に、供給管外面に巻き付け
たヒーターにより予熱される。
にＩＰＡ液を初期散布するために、前記主スプレー管５
３とは別の副スプレー管６０が配設されている。そのＩ
ＰＡ液も前記ＩＰＡ液と同様に、供給管外面に巻き付け
たヒーターにより予熱される。
【００１７】排気手段７１は、図示されないポンプによ
り処理槽２０内を給排気する。そして、蒸気を排気した
ときに、その蒸気を冷却してＩＰＡ液を分離するため
に、排気手段７１には冷却器７２が設けられている。給
気手段７３は、窒素ガス等のクリーンガスを処理槽２０
内に供給する。
り処理槽２０内を給排気する。そして、蒸気を排気した
ときに、その蒸気を冷却してＩＰＡ液を分離するため
に、排気手段７１には冷却器７２が設けられている。給
気手段７３は、窒素ガス等のクリーンガスを処理槽２０
内に供給する。
【００１８】ウエハ１０の乾燥処理を行うには、ヒータ
ー２３により処理槽２０の底面および外側面をＩＰＡの
沸点より高い例えば９５℃程度に加熱する。また、蒸発
手段５０のヒーター５２により蒸発槽５１の底面および
外側面をやはり９５℃程度に加熱する。この状態でウエ
ハ１０を処理槽２０内に装入してワーク台３０上に載
せ、その後、蓋２２を閉じてワーク装入口２１を密閉す
る。
ー２３により処理槽２０の底面および外側面をＩＰＡの
沸点より高い例えば９５℃程度に加熱する。また、蒸発
手段５０のヒーター５２により蒸発槽５１の底面および
外側面をやはり９５℃程度に加熱する。この状態でウエ
ハ１０を処理槽２０内に装入してワーク台３０上に載
せ、その後、蓋２２を閉じてワーク装入口２１を密閉す
る。
【００１９】処理槽２０内にウエハ１０が封入される
と、排気手段７１により、槽内を吸引して槽内の空気を
排出する。排気が終了すると、まず、少量のＩＰＡ液Ａ
をＩＰＡの沸点より低い例えば７５℃程度に予熱して副
スプレー管６０から処理槽２０の底面上に散布する。処
理槽２０の底面はＩＰＡの沸点より高い温度に加熱され
ているので、散布されたＩＰＡ液Ａは直ちに蒸気Ｂとな
る。その蒸気Ｂは、受皿４０の外側に設けられた隙間か
ら受皿４０の上方へ移動し、キャリア１１、ウエハ１０
の順で水分置換を行って、キャリア１１の予備乾燥を行
う。
と、排気手段７１により、槽内を吸引して槽内の空気を
排出する。排気が終了すると、まず、少量のＩＰＡ液Ａ
をＩＰＡの沸点より低い例えば７５℃程度に予熱して副
スプレー管６０から処理槽２０の底面上に散布する。処
理槽２０の底面はＩＰＡの沸点より高い温度に加熱され
ているので、散布されたＩＰＡ液Ａは直ちに蒸気Ｂとな
る。その蒸気Ｂは、受皿４０の外側に設けられた隙間か
ら受皿４０の上方へ移動し、キャリア１１、ウエハ１０
の順で水分置換を行って、キャリア１１の予備乾燥を行
う。
【００２０】キャリア１１の予備乾燥処理が終わると、
今回の乾燥に必要な量のＩＰＡ液Ａを予熱して主スプレ
ー管５３から蒸発槽５１の底面上に散布する。この散布
は例えば３回に分けて行う。
今回の乾燥に必要な量のＩＰＡ液Ａを予熱して主スプレ
ー管５３から蒸発槽５１の底面上に散布する。この散布
は例えば３回に分けて行う。
【００２１】蒸発槽５１の底面上に散布されたＩＰＡ液
Ａは、直ちに蒸発し、蒸気Ｂとなって、処理槽２０の側
壁上方に設けられた隙間から槽内に流入する。処理槽２
０内に導入されたＩＰＡ蒸気Ｂは、槽内を下降して槽内
に充満し、ウエハ１０の表面に付着する水分と置換され
てこれを除去する。水分を含んだ凝縮液Ｃは、ウエハ１
０から滴下し、ワーク台３０を通って受皿４０内に回収
される。
Ａは、直ちに蒸発し、蒸気Ｂとなって、処理槽２０の側
壁上方に設けられた隙間から槽内に流入する。処理槽２
０内に導入されたＩＰＡ蒸気Ｂは、槽内を下降して槽内
に充満し、ウエハ１０の表面に付着する水分と置換され
てこれを除去する。水分を含んだ凝縮液Ｃは、ウエハ１
０から滴下し、ワーク台３０を通って受皿４０内に回収
される。
【００２２】すなわち、本ＩＰＡ蒸気乾燥装置では、Ｉ
ＰＡ蒸気は主に上方から下方への一方通行となる。
ＰＡ蒸気は主に上方から下方への一方通行となる。
【００２３】ウエハ１０の乾燥が終わると、排気手段７
１により処理槽２０内を吸引し、槽内に残留するＩＰＡ
蒸気を排出しながら、給気手段７３により窒素ガス等の
クリーンガスを槽内に供給する。これにより、残留蒸気
の排出時に槽内を大気圧に保持して、外部空気の流入を
防ぐ。
１により処理槽２０内を吸引し、槽内に残留するＩＰＡ
蒸気を排出しながら、給気手段７３により窒素ガス等の
クリーンガスを槽内に供給する。これにより、残留蒸気
の排出時に槽内を大気圧に保持して、外部空気の流入を
防ぐ。
【００２４】残留蒸気の排出が終わり、処理槽２０内が
窒素ガス等のクリーンガスで大気圧に保持されると、蓋
２２を開けて、ウエハ１０をキャリア１１と共に槽外に
取り出す。蓋２２はスライド式としているので、槽内へ
の外部空気の侵入を最小限に抑える。
窒素ガス等のクリーンガスで大気圧に保持されると、蓋
２２を開けて、ウエハ１０をキャリア１１と共に槽外に
取り出す。蓋２２はスライド式としているので、槽内へ
の外部空気の侵入を最小限に抑える。
【００２５】本ＩＰＡ蒸気乾燥装置は、以下の特徴を有
する。 処理槽２０内にＩＰＡ液を溜め込まないので、処理
槽２０が破損しても、ＩＰＡ液が槽外へ流出する危険が
ない。乾燥中はもとより乾燥後の残留蒸気排出時も、処
理槽２０内を密封するので、ＩＰＡ蒸気が槽外へ流出す
る危険もない。従って、安全性に著しく優れる。
する。 処理槽２０内にＩＰＡ液を溜め込まないので、処理
槽２０が破損しても、ＩＰＡ液が槽外へ流出する危険が
ない。乾燥中はもとより乾燥後の残留蒸気排出時も、処
理槽２０内を密封するので、ＩＰＡ蒸気が槽外へ流出す
る危険もない。従って、安全性に著しく優れる。
【００２６】 乾燥毎にＩＰＡ液を使い切るので、Ｉ
ＰＡ液の溜め込みに伴う純度低下がない。従って、処理
槽２０内のＩＰＡ液の交換が不要になり、経済性に優れ
る。
ＰＡ液の溜め込みに伴う純度低下がない。従って、処理
槽２０内のＩＰＡ液の交換が不要になり、経済性に優れ
る。
【００２７】 蒸発槽５１内に必要量のＩＰＡ液を散
布し、且つその散布を複数回に分けて行うので、散布さ
れたＩＰＡ液が瞬時に蒸発する。その蒸気は空気より重
く、処理槽２０内を急速に降下する。従って、処理槽２
０内にＩＰＡ蒸気が充満するのに必要な時間（リカバリ
ー時間）が短い。
布し、且つその散布を複数回に分けて行うので、散布さ
れたＩＰＡ液が瞬時に蒸発する。その蒸気は空気より重
く、処理槽２０内を急速に降下する。従って、処理槽２
０内にＩＰＡ蒸気が充満するのに必要な時間（リカバリ
ー時間）が短い。
【００２８】 処理槽２０内に残留するＩＰＡ蒸気を
強制的に排出しながら、その槽内にクリーンガスを供給
する。すなわち、洗浄処理後に槽内をクリーンガスによ
り強制置換する。従って、乾燥処理後の排気に時間がか
からず、前述したリカバリー時間の短いこととあいまっ
て、処理速度が比較的速い。すなわち、処理毎に蒸気の
充満・排出を行うにもかかわらず、充分な処理能力が確
保される。
強制的に排出しながら、その槽内にクリーンガスを供給
する。すなわち、洗浄処理後に槽内をクリーンガスによ
り強制置換する。従って、乾燥処理後の排気に時間がか
からず、前述したリカバリー時間の短いこととあいまっ
て、処理速度が比較的速い。すなわち、処理毎に蒸気の
充満・排出を行うにもかかわらず、充分な処理能力が確
保される。
【００２９】 乾燥処理の開始時に、処理槽２０の底
面に少量ＩＰＡ液を散布し、その蒸気によりキャリア１
１、ウエハ１０の順に予備乾燥を行うので、メインのＩ
ＰＡ蒸気が上から下へ一方通行の系路をとるにもかかわ
らず、キャリア１１とウエハ１０の接触部にウオーター
マークが残らない。
面に少量ＩＰＡ液を散布し、その蒸気によりキャリア１
１、ウエハ１０の順に予備乾燥を行うので、メインのＩ
ＰＡ蒸気が上から下へ一方通行の系路をとるにもかかわ
らず、キャリア１１とウエハ１０の接触部にウオーター
マークが残らない。
【００３０】 ＩＰＡ液が使い切りで、乾燥毎に新液
が使用されるので、ＩＰＡ液自体の純度も高い。従っ
て、ウエハ１０の清浄性が向上する。
が使用されるので、ＩＰＡ液自体の純度も高い。従っ
て、ウエハ１０の清浄性が向上する。
【００３１】 乾燥処理時にウエハ１０を処理槽２０
内に封入してしまうので、これを槽外から支持する必要
がない。従って、乾燥処理時にロボットが解放され、他
の処理や作業を行うことができる。
内に封入してしまうので、これを槽外から支持する必要
がない。従って、乾燥処理時にロボットが解放され、他
の処理や作業を行うことができる。
【００３２】
【発明の効果】以上に説明した通り、本発明のＩＰＡ蒸
気乾燥装置は、処理槽の上部に付設した蒸発手段で必要
量のＩＰＡ液を蒸発させ、処理槽内にＩＰＡ液を溜め込
まない使い切りのタイプとしたので、処理槽が破損して
もＩＰＡ液の漏出がない。また、槽内にワークを封入し
た状態で乾燥から残留蒸気の排出までを行うクローズド
タイプとしたので、ＩＰＡ蒸気の流出がない。従って、
従来の溜め込み・オープンタイプと比べて安全性に著し
く優れる。
気乾燥装置は、処理槽の上部に付設した蒸発手段で必要
量のＩＰＡ液を蒸発させ、処理槽内にＩＰＡ液を溜め込
まない使い切りのタイプとしたので、処理槽が破損して
もＩＰＡ液の漏出がない。また、槽内にワークを封入し
た状態で乾燥から残留蒸気の排出までを行うクローズド
タイプとしたので、ＩＰＡ蒸気の流出がない。従って、
従来の溜め込み・オープンタイプと比べて安全性に著し
く優れる。
【００３３】ＩＰＡ液が使い切りのため、常に新液によ
り乾燥が行われる。従って、ワークの清浄性が向上す
る。
り乾燥が行われる。従って、ワークの清浄性が向上す
る。
【００３４】乾燥中にワークを槽外から支持しておく必
要がないので、この間、ロボットが解放され、機動性が
改善される。
要がないので、この間、ロボットが解放され、機動性が
改善される。
【００３５】ＩＰＡ液を乾燥毎に使い切るので、溜め込
みに伴うＩＰＡ液の汚染がない。従って、処理槽内のＩ
ＰＡ液の交換等が不要になり、経済性が向上する。
みに伴うＩＰＡ液の汚染がない。従って、処理槽内のＩ
ＰＡ液の交換等が不要になり、経済性が向上する。
【００３６】蒸発手段へのＩＰＡ液の供給量が少ないの
で蒸発に時間がかからない。また、ＩＰＡ蒸気は空気よ
り重く、その重い蒸気を槽内に上部から導入するので、
短時間で槽内に蒸気が充満する。更に、強制排気とクリ
ーンガスの供給により、残留蒸気の排出も短時間で行わ
れる。従って、処理毎に蒸気の充満排出を行うにもかか
わらず、処理能力は低くない。
で蒸発に時間がかからない。また、ＩＰＡ蒸気は空気よ
り重く、その重い蒸気を槽内に上部から導入するので、
短時間で槽内に蒸気が充満する。更に、強制排気とクリ
ーンガスの供給により、残留蒸気の排出も短時間で行わ
れる。従って、処理毎に蒸気の充満排出を行うにもかか
わらず、処理能力は低くない。
【００３７】このように、本発明のＩＰＡ蒸気乾燥装置
は、危険なＩＰＡを使用するにもかかわらず、安全性に
優れ、しかも、経済性、清浄性、機動性に優れ、総合性
の非常に高いＩＰＡ蒸気乾燥装置ということができる。
は、危険なＩＰＡを使用するにもかかわらず、安全性に
優れ、しかも、経済性、清浄性、機動性に優れ、総合性
の非常に高いＩＰＡ蒸気乾燥装置ということができる。
【図１】本発明を実施したＩＰＡ蒸気乾燥装置の１例に
ついてその構成を示す縦断面図である。
ついてその構成を示す縦断面図である。
【図２】従来のＩＰＡ蒸気乾燥装置の構成を示す縦断面
図である。
図である。
１０ ウエハ（ワーク） ２０ 処理槽 ２１ ワーク装入口 ２２ 蓋 ２３ ヒーター ３０ ワーク台 ４０ 受皿 ５０ 蒸発手段 ５１ ヒーター ５３ 主スプレー管 ６０ 副スプレー管 ７１ 排気手段 ７２ 冷却器 ７３ 給気手段
Claims (3)
- 【請求項１】 乾燥すべきワークが上方より装入され、
そのワーク装入口が蓋により気密に閉止される密封式の
処理槽と、 前記処理槽の上部に付設され、供給された必要量のＩＰ
Ａ液を加熱蒸発させて、その蒸気を処理槽内に上部から
導入する蒸発手段と、 前記処理槽内に設けられたワーク台と、 前記処理槽内のワーク台より下方に設けられて、ＩＰＡ
の凝縮液を回収する受皿と、 前記処理槽内を吸引排気し、また処理槽内にクリーンガ
スを供給する給排気手段とを具備することを特徴とする
ＩＰＡ蒸気乾燥装置。 - 【請求項２】 前記蒸発手段が、前記処理槽の上部周囲
に付設された蒸発槽と、蒸発槽をＩＰＡの沸点以上に加
熱する槽ヒーターと、蒸発槽内に配設されてＩＰＡ液を
散布する主スプレー管と、主スプレー管から散布するＩ
ＰＡ液を予熱するヒーターとを有することを特徴とする
請求項１に記載のＩＰＡ蒸気乾燥装置。 - 【請求項３】 前記処理槽内の受皿より下方に配設され
て、加熱された槽底面にＩＰＡ液を散布する副スプレー
管を具備することを特徴とする請求項１または２に記載
のＩＰＡ蒸気乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32967893A JPH07153735A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | Ｉｐａ蒸気乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32967893A JPH07153735A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | Ｉｐａ蒸気乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07153735A true JPH07153735A (ja) | 1995-06-16 |
Family
ID=18224048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32967893A Pending JPH07153735A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | Ｉｐａ蒸気乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07153735A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1242778A1 (en) * | 1999-10-06 | 2002-09-25 | Semitool, Inc. | Vapor assisted rotary drying method and apparatus |
| KR100454242B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2004-10-26 | 한국디엔에스 주식회사 | 웨이퍼 건조 방법 |
-
1993
- 1993-11-30 JP JP32967893A patent/JPH07153735A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1242778A1 (en) * | 1999-10-06 | 2002-09-25 | Semitool, Inc. | Vapor assisted rotary drying method and apparatus |
| EP1242778A4 (en) * | 1999-10-06 | 2007-01-03 | Semitool Inc | STEAM-ASSISTED DRYING PROCESS AND METHOD THEREOF |
| KR100454242B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2004-10-26 | 한국디엔에스 주식회사 | 웨이퍼 건조 방법 |
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