JP3040306B2 - 蒸気洗浄装置 - Google Patents
蒸気洗浄装置Info
- Publication number
- JP3040306B2 JP3040306B2 JP6099228A JP9922894A JP3040306B2 JP 3040306 B2 JP3040306 B2 JP 3040306B2 JP 6099228 A JP6099228 A JP 6099228A JP 9922894 A JP9922894 A JP 9922894A JP 3040306 B2 JP3040306 B2 JP 3040306B2
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- Japan
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- pan
- cleaning
- steam
- casing
- cleaning liquid
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- Expired - Lifetime
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被洗浄体表面を蒸気洗
浄するための蒸気洗浄装置に関する。
浄するための蒸気洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、シリコンウェハやマスクなどの半
導体基板の表面には、その加工工程に於いて種々の不純
物が付着しており、それらを除去する洗浄法に蒸気洗浄
法がある（例えば特開平１−２３１３２９号・特開平５
−４１１３９号公報）。このような蒸気洗浄法では、そ
の洗浄液に例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を
用いており、気化したガスの半導体基板表面での結露滴
を回収するための回収パンを基板直下に配設している。
従って、不純物を含んで滴下した結露液が回収パンに溜
まり、回収パンに連結された排出管を介して排出される
が、回収パンに一旦溜まったものが下からの蒸気熱で再
び温められて不純物を含んだまま再蒸発し、基板に不純
物が再付着する虞がある。
導体基板の表面には、その加工工程に於いて種々の不純
物が付着しており、それらを除去する洗浄法に蒸気洗浄
法がある（例えば特開平１−２３１３２９号・特開平５
−４１１３９号公報）。このような蒸気洗浄法では、そ
の洗浄液に例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を
用いており、気化したガスの半導体基板表面での結露滴
を回収するための回収パンを基板直下に配設している。
従って、不純物を含んで滴下した結露液が回収パンに溜
まり、回収パンに連結された排出管を介して排出される
が、回収パンに一旦溜まったものが下からの蒸気熱で再
び温められて不純物を含んだまま再蒸発し、基板に不純
物が再付着する虞がある。
【０００３】また、特開平２−１８５０３１号公報には
水蒸気乾燥装置が示されており、その装置では、一度発
生させた水蒸気を蒸気ノズルで吹き付けるようにしてい
るが、この装置でも結露水を直下の温浴槽に溜めてい
る。従って、不純物を含み滴下した結露水が温浴槽にて
再蒸発し、基板に不純物が再付着する虞がある。
水蒸気乾燥装置が示されており、その装置では、一度発
生させた水蒸気を蒸気ノズルで吹き付けるようにしてい
るが、この装置でも結露水を直下の温浴槽に溜めてい
る。従って、不純物を含み滴下した結露水が温浴槽にて
再蒸発し、基板に不純物が再付着する虞がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような従来技術の
問題点に鑑み、本発明の主な目的は、被洗浄体から回収
パンに滴下した液が再蒸発することを防止し得る蒸気洗
浄装置を提供することにある。
問題点に鑑み、本発明の主な目的は、被洗浄体から回収
パンに滴下した液が再蒸発することを防止し得る蒸気洗
浄装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】このような目的は、本発
明によれば、ケーシングの上部空間に保持された被洗浄
体を蒸気洗浄するための洗浄液の蒸気を発生する洗浄液
蒸発室を該ケーシングの下部に設け、前記基板と前記洗
浄液蒸発室との間に前記被洗浄体から滴下する洗浄液を
回収するための回収パンを設けた蒸気洗浄装置であっ
て、前記回収パンが、中央部を上に向けて突状に形成さ
れ、かつその突出頂部に前記洗浄液蒸発室から前記基板
収容室に蒸気を通すための開口を有すると共に、該開口
の上方を覆いかつ上に突状をなす屋根部を設けられてい
ることを特徴とする蒸気洗浄装置を提供することにより
達成される。特に、前記ケーシングの前記基板収容室の
周壁部であって前記回収パンの周縁の直上部分に、前記
回収パンにより回収された前記滴下液を前記ケーシング
の外方に排出するための排出孔が設けられていると良
い。
明によれば、ケーシングの上部空間に保持された被洗浄
体を蒸気洗浄するための洗浄液の蒸気を発生する洗浄液
蒸発室を該ケーシングの下部に設け、前記基板と前記洗
浄液蒸発室との間に前記被洗浄体から滴下する洗浄液を
回収するための回収パンを設けた蒸気洗浄装置であっ
て、前記回収パンが、中央部を上に向けて突状に形成さ
れ、かつその突出頂部に前記洗浄液蒸発室から前記基板
収容室に蒸気を通すための開口を有すると共に、該開口
の上方を覆いかつ上に突状をなす屋根部を設けられてい
ることを特徴とする蒸気洗浄装置を提供することにより
達成される。特に、前記ケーシングの前記基板収容室の
周壁部であって前記回収パンの周縁の直上部分に、前記
回収パンにより回収された前記滴下液を前記ケーシング
の外方に排出するための排出孔が設けられていると良
い。
【０００６】
【作用】このようにすれば、回収パンに滴下した不純物
を含んだ液は、傘状に形成された回収パンの周縁部に向
けて流れ落ちるため、蒸気発生室からの蒸気の通る開口
部周辺である基板直下部分に留まることがないため、再
蒸発することがない。また、回収パンの周縁部に向けて
流れ落ちた液を、ケーシングの周壁部であって前記回収
パンの周縁の直上部分に設けられ排出孔を介して速やか
に排出することができる。
を含んだ液は、傘状に形成された回収パンの周縁部に向
けて流れ落ちるため、蒸気発生室からの蒸気の通る開口
部周辺である基板直下部分に留まることがないため、再
蒸発することがない。また、回収パンの周縁部に向けて
流れ落ちた液を、ケーシングの周壁部であって前記回収
パンの周縁の直上部分に設けられ排出孔を介して速やか
に排出することができる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の好適実施例を添付の図面につ
いて詳しく説明する。
いて詳しく説明する。
【０００８】図１は、本発明が適用された蒸気洗浄装置
を示す模式的縦断面図である。本装置では、図に示され
るように全面を覆われた容器状のケーシング１の上部空
間に被洗浄体としての半導体基板２が保持され、ケーシ
ング１の底部に洗浄液Ｓが貯留されている。その洗浄液
Ｓが図示されないヒータや温水などの加熱手段により所
定温度に温められて蒸気となって、半導体基板２の表面
を蒸気洗浄するようにされている。そして、ケーシング
１の上下方向中間部には、半導体基板２表面にて結露し
て落下してくる滴下液を回収するための回収パン３が設
けられており、ケーシング１内が、回収パン３により、
上部の基板収容室４と、下部の洗浄液蒸発室５とに区切
るように中間部に回収パン３を設けられている。
を示す模式的縦断面図である。本装置では、図に示され
るように全面を覆われた容器状のケーシング１の上部空
間に被洗浄体としての半導体基板２が保持され、ケーシ
ング１の底部に洗浄液Ｓが貯留されている。その洗浄液
Ｓが図示されないヒータや温水などの加熱手段により所
定温度に温められて蒸気となって、半導体基板２の表面
を蒸気洗浄するようにされている。そして、ケーシング
１の上下方向中間部には、半導体基板２表面にて結露し
て落下してくる滴下液を回収するための回収パン３が設
けられており、ケーシング１内が、回収パン３により、
上部の基板収容室４と、下部の洗浄液蒸発室５とに区切
るように中間部に回収パン３を設けられている。
【０００９】基板収容室４の天部であるケーシング１の
上面が開閉可能にされており、前工程から搬送されてき
た半導体基板２が、キャリア６により支持されつつケー
シング１上面から基板収容室４内に収められるようにな
っている。洗浄液蒸発室５の底部には洗浄液が貯留され
ており、図示されないヒータや温水などの加熱手段によ
り所定温度に温められるようになっている。なお、洗浄
液には、有機溶剤や純水に限らず、洗浄対象に応じて、
酸または塩または塩基あるいはそれらの組み合わせ、さ
らに過酸化水素を含む液を用いると良い。
上面が開閉可能にされており、前工程から搬送されてき
た半導体基板２が、キャリア６により支持されつつケー
シング１上面から基板収容室４内に収められるようにな
っている。洗浄液蒸発室５の底部には洗浄液が貯留され
ており、図示されないヒータや温水などの加熱手段によ
り所定温度に温められるようになっている。なお、洗浄
液には、有機溶剤や純水に限らず、洗浄対象に応じて、
酸または塩または塩基あるいはそれらの組み合わせ、さ
らに過酸化水素を含む液を用いると良い。
【００１０】また、回収パン３は、板材を、基板２の直
下を含む中央部を上に向けて突状に形成されており、そ
の周縁をケーシング１の内周面に接続されている。回収
パン３の突出頂部には、洗浄液蒸発室５から蒸発する洗
浄液の蒸気を基板収容室４に通すための開口７が設けら
れている。従って、両室４・５は、開口７を除いて、回
収パン３により区切られている。
下を含む中央部を上に向けて突状に形成されており、そ
の周縁をケーシング１の内周面に接続されている。回収
パン３の突出頂部には、洗浄液蒸発室５から蒸発する洗
浄液の蒸気を基板収容室４に通すための開口７が設けら
れている。従って、両室４・５は、開口７を除いて、回
収パン３により区切られている。
【００１１】回収パン３の上方には、開口７の上方部分
を覆うように開口７の断面積よりある程度広くされかつ
上に突状をなす屋根部８が、回収パン３の上面であって
開口７の外周部に立設された支柱９により支持されて設
けられている。従って、回収パン３の上面と屋根部８と
の間には、開口７から上昇してきた蒸気を側方から逃が
すための隙間が設けられている。なお、回収パン３及び
屋根部８は、疎水性の材料により例えばふっ素樹脂材に
より表面加工されている。
を覆うように開口７の断面積よりある程度広くされかつ
上に突状をなす屋根部８が、回収パン３の上面であって
開口７の外周部に立設された支柱９により支持されて設
けられている。従って、回収パン３の上面と屋根部８と
の間には、開口７から上昇してきた蒸気を側方から逃が
すための隙間が設けられている。なお、回収パン３及び
屋根部８は、疎水性の材料により例えばふっ素樹脂材に
より表面加工されている。
【００１２】ケーシング１の外周面であって基板収容室
４の拡幅された下半部の回りには、冷却器１０が設けら
れている。そして、ケーシング１の基板収容室４の周壁
部であって回収パン３の周縁との接続部の直上部分の適
所には排出孔１１が設けられており、排出孔１１には排
出管１２が接続されている。
４の拡幅された下半部の回りには、冷却器１０が設けら
れている。そして、ケーシング１の基板収容室４の周壁
部であって回収パン３の周縁との接続部の直上部分の適
所には排出孔１１が設けられており、排出孔１１には排
出管１２が接続されている。
【００１３】このようにして構成された蒸気洗浄装置に
あっては、洗浄液蒸発室５に貯留されている洗浄液が温
められて蒸気となり、その蒸気が図の破線の矢印のよう
に、回収パン３の開口７を通って、回収パン３と屋根部
８との間から抜け出て基板収容室４内に入って上昇し、
基板２の表面にて結露する。そのとき、基板２表面の不
純物を取り除き、結露液が滴下する。その滴下液は、図
の実線の矢印に示されるように、屋根部８の上面に落ち
るが、屋根部８が上に突状をなすように形成されている
ことから、屋根部８を流れ落ち、回収パン３の上面に落
下する。
あっては、洗浄液蒸発室５に貯留されている洗浄液が温
められて蒸気となり、その蒸気が図の破線の矢印のよう
に、回収パン３の開口７を通って、回収パン３と屋根部
８との間から抜け出て基板収容室４内に入って上昇し、
基板２の表面にて結露する。そのとき、基板２表面の不
純物を取り除き、結露液が滴下する。その滴下液は、図
の実線の矢印に示されるように、屋根部８の上面に落ち
るが、屋根部８が上に突状をなすように形成されている
ことから、屋根部８を流れ落ち、回収パン３の上面に落
下する。
【００１４】回収パン３も、前記したように上に突状を
なすことから、その上面に落下した滴下液は、実線の矢
印に示されるようにより低い周縁に向けて移動し、ケー
シング１の内周面と回収パン３の周縁との接続部に集め
られる。上記したようにして回収パン３の周縁部に集め
られた滴下液は、排出孔１１から排出管１２を介して外
部に排出される。
なすことから、その上面に落下した滴下液は、実線の矢
印に示されるようにより低い周縁に向けて移動し、ケー
シング１の内周面と回収パン３の周縁との接続部に集め
られる。上記したようにして回収パン３の周縁部に集め
られた滴下液は、排出孔１１から排出管１２を介して外
部に排出される。
【００１５】このように、下方の蒸気により温められ易
い回収パン３の開口７近傍には滴下液が留まることがな
いため、回収パンに５に落下した滴下液が再蒸発するこ
とを防止できる。特に、上記したように回収パン３及び
屋根部８の表面を疎水性に表面加工しておくことによ
り、滴下液を回収パン３の周縁部に向けてより一層速や
かに流れ落とすことができる。さらに、回収パン３の周
縁部に集められた滴下液は、ケーシング１の外周に設け
られた冷却器１０により冷却されるため、下方の蒸気に
より温められて再蒸発することをより一層確実に防止さ
れる。
い回収パン３の開口７近傍には滴下液が留まることがな
いため、回収パンに５に落下した滴下液が再蒸発するこ
とを防止できる。特に、上記したように回収パン３及び
屋根部８の表面を疎水性に表面加工しておくことによ
り、滴下液を回収パン３の周縁部に向けてより一層速や
かに流れ落とすことができる。さらに、回収パン３の周
縁部に集められた滴下液は、ケーシング１の外周に設け
られた冷却器１０により冷却されるため、下方の蒸気に
より温められて再蒸発することをより一層確実に防止さ
れる。
【００１６】なお、ケーシング１を、回収パン３を境に
して上下に分割可能な構造にしておくことにより、回収
パン３を容易に取り替え可能にすることができる。この
ようにすることにより、回収パン３のメンテナンスなど
を容易に行い得る。
して上下に分割可能な構造にしておくことにより、回収
パン３を容易に取り替え可能にすることができる。この
ようにすることにより、回収パン３のメンテナンスなど
を容易に行い得る。
【００１７】
【発明の効果】このように本発明によれば、中央部を上
に突状に形成した回収パンを設けたことにより、蒸気洗
浄により基板にて結露して滴下した液を回収パンの周縁
部に集めて排出でき、蒸気により比較的暖まり易い回収
パンの中央部に滴下液が留まることが無く、不純物を含
んだ滴下液の再蒸発を防止し得る。
に突状に形成した回収パンを設けたことにより、蒸気洗
浄により基板にて結露して滴下した液を回収パンの周縁
部に集めて排出でき、蒸気により比較的暖まり易い回収
パンの中央部に滴下液が留まることが無く、不純物を含
んだ滴下液の再蒸発を防止し得る。
【図１】本発明が適用された蒸気洗浄装置を示す模式的
縦断面図。
縦断面図。
１ ケーシング ２ 半導体基板 ３ 回収パン ４ 基板収容室 ５ 洗浄液蒸発室 ６ キャリア ７ 開口 ８ 屋根部 ９ 支柱 １０ 冷却器 １１ 排出孔 １２ 排出管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上村 賢一 光市大字島田3434番地 新日本製鐵株式 会社 光製鐵所内 (72)発明者 森 良弘 光市大字島田3434番地 新日本製鐵株式 会社 光製鐵所内 (56)参考文献 特開 平４−280632（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/304 B08B 3/00 - 3/14
Claims (2)
- 【請求項１】 ケーシングの上部空間に保持された被洗
浄体を蒸気洗浄するための洗浄液の蒸気を発生する洗浄
液蒸発室を該ケーシングの下部に設け、前記基板と前記
洗浄液蒸発室との間に前記被洗浄体から滴下する洗浄液
を回収するための回収パンを設けた蒸気洗浄装置であっ
て、 前記回収パンが、中央部を上に向けて突状に形成され、
かつその突出頂部に前記洗浄液蒸発室から前記基板収容
室に蒸気を通すための開口を有すると共に、該開口の上
方を覆いかつ上に突状をなす屋根部を設けられているこ
とを特徴とする蒸気洗浄装置。 - 【請求項２】 前記ケーシングの周壁部であって前記回
収パンの周縁の直上部分に、前記回収パンにより回収さ
れた前記滴下液を前記ケーシングの外方に排出するため
の排出孔が設けられていることを特徴とする請求項１に
記載の蒸気洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6099228A JP3040306B2 (ja) | 1994-04-12 | 1994-04-12 | 蒸気洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6099228A JP3040306B2 (ja) | 1994-04-12 | 1994-04-12 | 蒸気洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07283190A JPH07283190A (ja) | 1995-10-27 |
| JP3040306B2 true JP3040306B2 (ja) | 2000-05-15 |
Family
ID=14241820
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6099228A Expired - Lifetime JP3040306B2 (ja) | 1994-04-12 | 1994-04-12 | 蒸気洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3040306B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7775977B2 (en) | 2002-09-27 | 2010-08-17 | Olympus Corporation | Ultrasonic tomographic diagnostic apparatus |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3148201B2 (ja) * | 1999-06-03 | 2001-03-19 | 株式会社半導体先端テクノロジーズ | パーティクル量評価装置ならびにディップ式洗浄システムおよびパーティクル付着量評価方法 |
-
1994
- 1994-04-12 JP JP6099228A patent/JP3040306B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7775977B2 (en) | 2002-09-27 | 2010-08-17 | Olympus Corporation | Ultrasonic tomographic diagnostic apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07283190A (ja) | 1995-10-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000222 |