JP5098648B2 - プリント配線板の製造方法及び製造装置 - Google Patents
プリント配線板の製造方法及び製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5098648B2 JP5098648B2 JP2007551882A JP2007551882A JP5098648B2 JP 5098648 B2 JP5098648 B2 JP 5098648B2 JP 2007551882 A JP2007551882 A JP 2007551882A JP 2007551882 A JP2007551882 A JP 2007551882A JP 5098648 B2 JP5098648 B2 JP 5098648B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bump
- low
- height
- solder
- wiring board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 219
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 59
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 48
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 44
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 44
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 42
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 21
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 16
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3457—Solder materials or compositions; Methods of application thereof
- H05K3/3478—Applying solder preforms; Transferring prefabricated solder patterns
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0556—Disposition
- H01L2224/05568—Disposition the whole external layer protruding from the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05573—Single external layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/11—Manufacturing methods
- H01L2224/113—Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector
- H01L2224/1133—Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector in solid form
- H01L2224/11334—Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector in solid form using preformed bumps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/1517—Multilayer substrate
- H01L2924/15172—Fan-out arrangement of the internal vias
- H01L2924/15174—Fan-out arrangement of the internal vias in different layers of the multilayer substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/0266—Marks, test patterns or identification means
- H05K1/0269—Marks, test patterns or identification means for visual or optical inspection
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/04—Soldering or other types of metallurgic bonding
- H05K2203/041—Solder preforms in the shape of solder balls
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/04—Soldering or other types of metallurgic bonding
- H05K2203/043—Reflowing of solder coated conductors, not during connection of components, e.g. reflowing solder paste
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/225—Correcting or repairing of printed circuits
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Description
(1)パッケージ基板にソルダーレジスト層の開口に形成された接続パッドに半田ペーストを印刷する工程。
(2)リフローを行い半田ペーストから半田バンプを形成する工程。
パッケージ基板に半田バンプを形成した後、半田バンプ上にICチップを載置し、リフローにより半田バンプとICチップのパッド(端子)とを接続することで、パッケージ基板にICチップを実装している。
(a)ソルダーレジスト層の開口に低融点金属を供給し、リフローを行いバンプを形成する工程;
(b)形成したバンプの高さを測定して、高さの低いバンプ又はバンプが形成されていない箇所を検出する工程;
(c)検出した低いバンプ又はバンプが形成されていない箇所に高さ不足を調整するための低融点金属球を搭載する工程;
(d)低融点金属球を加熱溶融して低いバンプの高さを高める工程;
を少なくとも備え、
前記(b)の形成したバンプの高さを測定して、低いバンプを検出する工程に於いて、低いバンプの体積を算出し、
前記(c)の工程において、検出した低いバンプ又はバンプが形成されていない箇所に、複数種類の径の低融点金属球の内、算出した体積に対応する径の低融点金属球を選択して搭載することを技術的特徴とする。
また、検出した低いバンプの高さを計測し、当該低いバンプ又はバンプが形成されていない箇所に、計測した高さを要求される高さにするために必要な低融点金属球の径を求め、複数種類の径の低融点金属球の内で求めた径の低融点金属球を選択して搭載する。このため、高さの非常に低いバンプと、高さの少し低いバンプとが混在していても、全てのバンプの高さを要求される誤差範囲に揃えることができる。
[半田ボール搭載装置]
多層プリント配線板の接続パッド上に微少(直径200μm未満)な半田ボールを搭載する半田ボール搭載装置について、図3を参照して説明する。
図3(A)は、本発明の第1実施例に係る半田ボール搭載装置の構成を示す構成図であり、図3(B)は、図3(A)の半田ボール搭載装置を矢印B側から見た矢視図である。
(1)先ず、多層プリント配線板10のソルダーレジスト層70にフラックス(粘度30000Pa・s)73を塗布する(図4(A)。
(2)次に、ソルダーレジスト層70の開口71に対応する開口部77aを有するマスク77を介して、Sn/Pb半田から成る半田ペースト78αを印刷する(図4(B))。
先ず、検査用カメラ141で規定よりも低い半田バンプが無いか検査し(S12)、規定よりも低い半田バンプ(又は半田バンプ未形成)が有る場合には(S14:Yes)、当該半田バンプ78Sの位置を記憶する(S16)。そして、図5(B)に示すように該半田バンプ78Sにフラックス82を塗布した後(S20)、半田ボール80を搭載する(S22)。このとき、フラックス82を介して半田ボール80が半田バンプ78Sに仮止めされる。その後、該半田ボール80にレーザを照射器122(図3参照)して溶融し(S24)、図5(C)に示すように規定高さの半田バンプ78を形成する。そして、全ての半田バンプの検査が終了するまでは(S26:No)、S12に戻り半田バンプの検査を続け、全ての半田バンプの検査の完了により(S26:Yes)、修正処理を終了する。
図3を参照して上述したフラックス搬送筒140をフラックス供給板142の上まで移送する(図6(A)参照)。フラックス搬送筒140は、吸引等を行わず、接触することのみでフラックスの付着、塗布を行う。フラックス供給板142の表面には、図4(A)を参照した均一に塗布したフラックス73よりも粘度の高い(粘度約60000Pa・s)、低揮発性のフラックス82が均一に塗られている。実施形態では、粘度約60000Pa・sのフラックスを用いたが、粘度は、60000±20000Pa・sの範囲が望ましい。この範囲であれば、フラックス中の溶剤の揮発が抑制され、バンプ78Sに対する半田ボール80の好適な仮固定を行い得る。フラックスは、水溶性であっても用いることが出来るが、ロジン系が望ましい。そして、フラックス搬送筒140をフラックス供給板142側へ押し下げ、該フラックス搬送筒140の先端にフラックス82を付着させる(図6(B))。そして、フラックス搬送筒140をフラックス供給板142から引き上げる(図6(C))。
第1実施例では、高さの低い半田バンプに半田バンプを搭載して嵩上げを行った。これに対して、第2実施例では、半田バンプの高さ(半田量)を測り、その体積を決定したうえで、高さの非常に低い半田バンプに相対的に大きな半田ボールを搭載し、高さの少し低い半田バンプ78に対しては相対的に小さな半田ボールを搭載することで、半田バンプの高さを狭い許容範囲内に収める。
図12に示すように、例えば半田バンプ78Sが半円状ではなく、平板状に広がっている場合の体積Vは、半田バンプの半径をr、導体パッド158Pからの高さをhとしたとき次式から求められる。
まず、図4を参照して上述した第1実施例と同様に、リフローにより半田バンプを形成する。ここで、検査の結果(S12)、図13(A)に示すように、高さの非常に低い半田バンプ78Sが検出された場合(S14:Yes)、位置を記憶し(S16)、当該半田バンプ78Sに対応する相対的に大きな半田ボール80Lを選択し(S18)、フラックスの塗布後(S20)、当該半田ボール80Lを半田バンプ78Sに搭載する(図13(B))。同様にして、図13(A)に示すように、高さのやや低い半田バンプ78Mが検出された場合(S14:Yes)、位置を記憶し(S16)、当該半田バンプ78Mに対応する相対的に小さな半田ボール80Sを選択し(S18)、フラックスの塗布後(S20)、当該半田ボール80Sを半田バンプ78Mに搭載する(図13(B))。以降の処理は第1実施例と同様であるので説明を省略する。なお、この第2実施例では、半田ボールを個々にレーザで溶融するのでは無く、リフローにより一括して溶融する。また、第2実施例では、2種類の径の半田ボールを用いたが、3種類以上の径の半田ボールを用いることも可能である。さらに、複数径のソルダーレジスト層の開口71が存在する場合に、半田バンプの高さと共に開口径に応じて半田ボールを選択することもできる。
引き続き、本発明の第3実施例に係るプリント配線板の製造方法について説明する。
第2実施例では、数1の式により決定した半田バンプの体積に対応する半田ボールを選択した。これに対して、第3実施例では、所定ソルダーレジスト層の開口径毎に修正前のバンプ高さと修正後のバンプ高さとの関係を示す検量線を実験又はシュミレーションによって予め作成し、バンプの修正時には、この検量線に基づいて適応系の半田ボールを選択する。
図19及び図20は、横軸に修正前の半田バンプ高さを、縦軸に修正後の半田バンプ高さを示すをグラフである。図19は、ソルダーレジスト層の開口径105μmに対して、80μm、75μm、70μm径の半田ボールを用いて修正した試験結果を示す。図20は、ソルダーレジスト層の開口径90μmに対して、80μm、70μm、60μm径の半田ボールを用いて修正した試験結果を示す。ここで、横軸がプラスとマイナスとが有るのは、ソルダーレジスト層の表面よりも低い場合をマイナス、高い場合をプラスとしているためである。例えば、図19に示すように、開口径105μmで、80μm、75μm、70μm径の3種類の半田ボールを用いることで、修正前マイナス20からプラス10の範囲にあるバンプを高さ20〜30μmの範囲に修正できることが分かる。同様に、図20に示すように、開口径90μmで、70μm、60μm径の2種類の半田ボールを用いることで、修正前マイナス15からプラス10の範囲にあるバンプを高さ20〜30μmの範囲に修正できることが分かる。ここで、修正結果から求めた図中の線が検量線である。第3実施例では、図3を参照して上述した半田ボール搭載装置が検量線をマップとして保持し、当該マップを用いて計測した半田バンプに適応する必要な半田ボール径を求める。
まず、図4を参照して上述した第1実施例と同様に、リフローにより半田バンプを形成する。ここで、検査の結果(S12)、図15(A)に示すように、高さの非常に低い半田バンプ78Sが検出された場合(S14:Yes)、位置を記憶し(S16)、当該半田バンプ78Sが相対的に大径の開口内か小径の開口内かを判断し(図中では小径の開口内:導体パッド158S上)、半田バンプ78Sの高さ及び導体パッド径から当該半田バンプ78Sに対応する半田ボール80Mを検量線から選択する(S18)。そして、フラックスの塗布後(S20)、当該半田ボール80Mを半田バンプ78Sに搭載する(図15(B))。同様にして、図15(A)に示すように、高さのやや低い半田バンプ78Mが検出された場合(S14:Yes)、位置を記憶し(S16)、当該半田バンプ78Mの高さを半田バンプ78Sと同様に測定し、対応する相対的に小さな半田ボール80Sを選択し(S18)、フラックスの塗布後(S20)、当該半田ボール80Sを半田バンプ78Mに搭載する(図13(B))。以降の処理は第1実施例と同様であるので説明を省略する。なお、第3実施例では、高さを合わせた半田バンプ78を更に板材190を押し当てることでフラッタニングを行うのが好ましい(図15(D)。
引き続き、本発明の第4実施例に係るプリント配線板の製造方法について説明する。
第1〜第3実施例では、半田バンプ上に再度、フラックスを塗布して半田ボールを搭載した。これに対して、第4実施例では、半田バンプに窪みを設けることでフラックスを塗布することなく半田ボールを搭載する。
図17(A)に示すように高さの低い半田バンプ78を検出すると、図17(B)に示すようにレーザを照射して中央部に窪み87hを形成する。その後、該半田バンプ78Sの窪み87hに半田ボール80を搭載し(図17(C))、レーザで半田ボールを溶融して半田バンプ78の嵩上げを行う(図17(D))。第4実施例では、レーザを用いたが、加熱したプローブを押し当てる、又は、近づけることで窪みを形成することも可能である。第4実施例では、非常に正確な位置に半田ボールを搭載できる利点がある。
図18(A)を参照して、第5実施例に係る半田ボール搭載装置100の構成について説明する。図3を参照して上述した第1実施例の半田ボール搭載装置100は、搭載筒120とフラックス搬送筒140とが1本ずつ設けられていた。これに対して、第5実施例では、搭載筒120とフラックス搬送筒140とが複数本設けられている。第5実施例では、修正作業を短時間で行い得る利点がある。
図18(B)を参照して、第6実施例に係る半田ボール搭載装置100の構成について説明する。図3を参照して上述した第1実施例の半田ボール搭載装置100は、フラックス搬送筒140でフラックスを転写した。これに対して、第6実施例では、フラックス搬送筒140Jの先端からフラックスが噴射できるように構成されている。第6実施例では、修正作業を短時間で行い得る利点がある。
36 スルーホール
50 層間樹脂絶縁層
58 導体回路
60 バイアホール
70 ソルダーレジスト層
71 開口
73 フラックス
78 半田バンプ
80 半田ボール
82 フラックス
100 半田ボール搭載装置(プリント配線板の製造装置)
120 搭載筒
140 フラックス搬送筒
Claims (10)
- (a)ソルダーレジスト層の開口に低融点金属を供給し、リフローを行いバンプを形成する工程;
(b)形成したバンプの高さを測定して、高さの低いバンプ又はバンプが形成されていない箇所を検出する工程;
(c)検出した低いバンプ又はバンプが形成されていない箇所に高さ不足を調整するための低融点金属球を搭載する工程;
(d)低融点金属球を加熱溶融して低いバンプの高さを高める工程;
を少なくとも備えるバンプを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記(b)の形成したバンプの高さを測定して、低いバンプを検出する工程に於いて、低いバンプの体積を算出し、
前記(c)の工程において、検出した低いバンプ又はバンプが形成されていない箇所に、複数種類の径の低融点金属球の内、算出した体積に対応する径の低融点金属球を選択して搭載することを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 前記低いバンプの体積Vを、半田バンプの半径をr、導体パッドからの半田バンプの高さをhとしたとき次式から算出することを特徴とする請求項1のプリント配線板の製造方法。
[数1] V=4/3×π×r×r×h×1/2 - (a)ソルダーレジスト層の開口に低融点金属を供給し、リフローを行いバンプを形成する工程;
(b)形成したバンプの高さを測定して、高さの低いバンプ又はバンプが形成されていない箇所を検出する工程;
(c)検出した低いバンプ又はバンプが形成されていない箇所に高さ不足を調整するための低融点金属球を搭載する工程;
(d)低融点金属球を加熱溶融して低いバンプの高さを高める工程;
を少なくとも備えるバンプを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記(b)の形成したバンプの高さを測定して、低いバンプを検出する工程に於いて、低いバンプの高さを計測し、
前記(c)の工程において、検出した低いバンプ又はバンプが形成されていない箇所に、計測した高さを要求される高さにするために必要な低融点金属球の径を求め、複数種類の径の低融点金属球の内で求めた径の低融点金属球を選択して搭載することを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 予め修正前及び修正後のバンプ高さと、搭載すべき所望の低融点金属球の径との関係を示す検量線を作成し、これに基づいて所定径の低融点金属球を選択する工程を備えることを特徴とする請求項3のプリント配線板の製造方法。
- 前記検量線は、異なる複数のソルダーレジスト層の開口径に対応するように作成されていることを特徴とする請求項4のプリント配線板の製造方法。
- 前記検出した低いバンプ又はバンプが形成されていない箇所に低融点金属球を搭載する工程の前に、当該低いバンプにフラックスを塗布することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1のプリント配線板の製造方法。
- 前記低いバンプ又はバンプが形成されていない箇所に塗布するフラックスとして、前記ソルダーレジスト層の開口に低融点金属を供給する前に塗布するフラックスの粘度よりも高い粘度のフラックスを用いることを特徴とする請求項6のプリント配線板の製造方法。
- 前記検出した低いバンプに低融点金属球を搭載する工程の前に、当該低いバンプを局部加熱して凹部を設けることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1のプリント配線板の製造方法。
- 前記低融点金属球の加熱溶融をレーザで行うことを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか1のプリント配線板の製造方法。
- 請求項1〜請求項9のいずれか1に記載のプリント配線板の製造方法に用いるプリント
配線板の製造装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/528,539 | 2006-09-28 | ||
US11/528,539 US7823762B2 (en) | 2006-09-28 | 2006-09-28 | Manufacturing method and manufacturing apparatus of printed wiring board |
PCT/JP2007/066437 WO2008038482A1 (en) | 2006-09-28 | 2007-08-24 | Production method and production equipment of printed wiring board |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008038482A1 JPWO2008038482A1 (ja) | 2010-01-28 |
JP5098648B2 true JP5098648B2 (ja) | 2012-12-12 |
Family
ID=39229921
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007551882A Active JP5098648B2 (ja) | 2006-09-28 | 2007-08-24 | プリント配線板の製造方法及び製造装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7823762B2 (ja) |
JP (1) | JP5098648B2 (ja) |
KR (1) | KR100972766B1 (ja) |
CN (1) | CN101347056B (ja) |
TW (1) | TWI364248B (ja) |
WO (1) | WO2008038482A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5021473B2 (ja) * | 2005-06-30 | 2012-09-05 | イビデン株式会社 | プリント配線板の製造方法 |
TW200810647A (en) | 2005-12-20 | 2008-02-16 | Ibiden Co Ltd | Method for manufacturing printed wiring board |
TW200810646A (en) * | 2005-12-20 | 2008-02-16 | Ibiden Co Ltd | Method for manufacturing printed wiring board |
TW200746964A (en) * | 2006-01-27 | 2007-12-16 | Ibiden Co Ltd | Method of manufacturing printed wiring board |
WO2007086551A1 (ja) * | 2006-01-27 | 2007-08-02 | Ibiden Co., Ltd. | プリント配線板及びプリント配線板の製造方法 |
WO2010064467A1 (ja) | 2008-12-05 | 2010-06-10 | イビデン株式会社 | 多層プリント配線板、及び、多層プリント配線板の製造方法 |
JP5640892B2 (ja) * | 2011-05-23 | 2014-12-17 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
CN102990183B (zh) * | 2011-09-09 | 2014-10-01 | 中国航天科工集团第三研究院第八三五七研究所 | 一种bga器件返修过程中转移膏状助焊剂的方法 |
US8778738B1 (en) | 2013-02-19 | 2014-07-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Packaged semiconductor devices and packaging devices and methods |
US9613933B2 (en) | 2014-03-05 | 2017-04-04 | Intel Corporation | Package structure to enhance yield of TMI interconnections |
US10231338B2 (en) | 2015-06-24 | 2019-03-12 | Intel Corporation | Methods of forming trenches in packages structures and structures formed thereby |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0864602A (ja) * | 1994-08-19 | 1996-03-08 | Nippon Steel Corp | バンプ付き半導体装置の製造方法 |
JPH0964046A (ja) * | 1995-08-18 | 1997-03-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 不良バンプの検出方法およびリペア方法 |
JPH10116927A (ja) * | 1996-10-09 | 1998-05-06 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 接続端子及びその形成方法 |
JPH11274706A (ja) * | 1998-03-20 | 1999-10-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半田バンプ形成用のクリーム半田印刷装置および半田バンプ形成方法 |
JP2001257225A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-21 | Seiko Epson Corp | 端子のリペア方法及びリペア装置 |
JP2003309139A (ja) * | 2002-04-12 | 2003-10-31 | Nippon Steel Corp | バンプ形成方法、リペア方法及び装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5282565A (en) * | 1992-12-29 | 1994-02-01 | Motorola, Inc. | Solder bump interconnection formed using spaced solder deposit and consumable path |
JP3271461B2 (ja) * | 1995-02-07 | 2002-04-02 | 松下電器産業株式会社 | 半田ボールの搭載装置および搭載方法 |
SE518640C2 (sv) * | 2000-07-11 | 2002-11-05 | Mydata Automation Ab | Förfarande, anordning för applicering av ett visköst medium på ett substrat, anordning för applicering av ytterligare visköst medium samt användningen av screentryckning |
US20050274770A1 (en) * | 2004-06-07 | 2005-12-15 | Henderson Marvin A Sr | Method for the precise and reliable placement of solid metallic and non-metallic particles |
WO2006126361A1 (ja) * | 2005-05-24 | 2006-11-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | ハンダバンプ形成方法および半導体素子の実装方法 |
-
2006
- 2006-09-28 US US11/528,539 patent/US7823762B2/en active Active
-
2007
- 2007-08-24 WO PCT/JP2007/066437 patent/WO2008038482A1/ja active Application Filing
- 2007-08-24 KR KR1020087000615A patent/KR100972766B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-08-24 JP JP2007551882A patent/JP5098648B2/ja active Active
- 2007-08-24 CN CN2007800008923A patent/CN101347056B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-08-30 TW TW096132249A patent/TWI364248B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0864602A (ja) * | 1994-08-19 | 1996-03-08 | Nippon Steel Corp | バンプ付き半導体装置の製造方法 |
JPH0964046A (ja) * | 1995-08-18 | 1997-03-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 不良バンプの検出方法およびリペア方法 |
JPH10116927A (ja) * | 1996-10-09 | 1998-05-06 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 接続端子及びその形成方法 |
JPH11274706A (ja) * | 1998-03-20 | 1999-10-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半田バンプ形成用のクリーム半田印刷装置および半田バンプ形成方法 |
JP2001257225A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-21 | Seiko Epson Corp | 端子のリペア方法及びリペア装置 |
JP2003309139A (ja) * | 2002-04-12 | 2003-10-31 | Nippon Steel Corp | バンプ形成方法、リペア方法及び装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080043298A (ko) | 2008-05-16 |
CN101347056B (zh) | 2012-02-01 |
CN101347056A (zh) | 2009-01-14 |
WO2008038482A1 (en) | 2008-04-03 |
US7823762B2 (en) | 2010-11-02 |
TWI364248B (en) | 2012-05-11 |
TW200820852A (en) | 2008-05-01 |
US20080078810A1 (en) | 2008-04-03 |
KR100972766B1 (ko) | 2010-07-28 |
JPWO2008038482A1 (ja) | 2010-01-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5098648B2 (ja) | プリント配線板の製造方法及び製造装置 | |
JP5021473B2 (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
US7714233B2 (en) | Printed wiring board | |
KR101260429B1 (ko) | 전자 부품 실장 시스템, 전자 부품 탑재 장치 및 전자 부품실장 방법 | |
JP4793187B2 (ja) | 電子部品実装システムおよび電子部品実装方法 | |
US7475803B2 (en) | Solder ball loading method and solder ball loading unit background of the invention | |
US7472473B2 (en) | Solder ball loading apparatus | |
US10667387B2 (en) | Accurate positioning and alignment of a component during processes such as reflow soldering | |
WO2008032641A1 (en) | Component-mounted board production apparatus and position control method for electronic components in component-mounted board production apparatus | |
JP4592762B2 (ja) | 半田ボール搭載方法及び半田ボール搭載装置 | |
JP4118283B2 (ja) | 半田ボール搭載方法及び半田ボール搭載装置 | |
JP2010177253A (ja) | はんだボール搭載方法 | |
JP4118286B2 (ja) | 半田ボール搭載方法 | |
JP4743059B2 (ja) | 電子部品実装システムおよび電子部品実装方法 | |
JP4702237B2 (ja) | 電子部品搭載装置および電子部品実装方法 | |
JP4118285B2 (ja) | 半田ボール搭載装置及び半田ボール搭載方法 | |
JP4118284B2 (ja) | 半田ボール搭載装置及び半田ボール搭載方法 | |
JP5062899B2 (ja) | 配線基板の検査方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100802 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120619 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120802 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120828 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120910 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151005 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5098648 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |