JP5062993B2 - 担持型触媒の製造およびその使用 - Google Patents
担持型触媒の製造およびその使用 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5062993B2 JP5062993B2 JP2005351889A JP2005351889A JP5062993B2 JP 5062993 B2 JP5062993 B2 JP 5062993B2 JP 2005351889 A JP2005351889 A JP 2005351889A JP 2005351889 A JP2005351889 A JP 2005351889A JP 5062993 B2 JP5062993 B2 JP 5062993B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- group
- supported catalyst
- acid
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
これらの触媒は、次の工程順で調製される。
第1工程:担体にパラジウムを含む化合物を担持させる工程
第2工程:パラジウムを含む化合物を還元処理して金属パラジウムとする工程
第3工程:アルカリ処理を行う工程
第4工程:周期表第14、15または16族元素を担持させる工程
なお、本発明において、「周期表」とはIUPAC無機化学命名法改訂版(1989)の周期表をいう。
[1] 以下の工程をその順で含むことを特徴とする担持型触媒の製造方法。
第1工程
担体に(a)群化合物の少なくとも1種を含む溶液を含浸させて、含浸担体(A)を得る工程
第2工程
含浸担体(A)を、アルカリ性物質および(b)群化合物と接触させて、含浸担体(B)を得る工程(ただし、アルカリ性物質と(b)群化合物は含浸担体(A)と同時に接触させても、別々に接触させてもよい)
第3工程
含浸担体(B)を還元性物質と接触させて、担持型触媒(C)を得る工程
[3] さらに(d)周期表の第11および12族元素およびクロムから選ばれる少なくとも1種の元素を含む化合物(以下、(d)群化合物という)の少なくとも1種を担体と接触させる工程を含む上記[1]または[2]に記載の担持型触媒の製造方法。
[4] (a)群化合物が、ルテニウム、オスミウム、ロジウム、イリジウム、パラジウムおよび白金から選ばれる少なくとも1種の元素を含む化合物である上記[1]〜[3]のいずれかに記載の担持型触媒の製造方法。
[6] (c)ヘテロポリ酸および/またはその塩のポリ原子がタングステンおよび/またはモリブデンである上記[1]〜[5]のいずれかに記載の担持型触媒の製造方法。
[7] (c)ヘテロポリ酸および/またはその塩のヘテロ原子がリン、ケイ素およびホウ素から選ばれる少なくとも1種の元素である上記[2]〜[6]のいずれかに記載の担持型触媒の製造方法。
[9] (d)群化合物の第11および12族元素が銅、銀、金および亜鉛から選ばれる元素である上記[2]〜[8]のいずれかに記載の担持型触媒の製造方法。
[10] 担持型触媒が低級オレフィンと酸素から低級脂肪族カルボン酸を得る反応に使用するものである上記[1]〜[9]のいずれかに記載の担持型触媒の製造方法。
[12] 上記[1]〜[9]のいずれかに記載の製造方法によって得られた担持型触媒。
[13] 低級オレフィンと酸素から低級脂肪族カルボン酸を得る反応において上記[12]に記載の担持型触媒を使用することを特徴とする低級脂肪族カルボン酸の製造方法。
[14] 低級オレフィンと酸素との反応が気相で行われるものである上記[13]に記載の低級脂肪族カルボン酸の製造方法。
[15] エチレンと酸素から酢酸を得る反応において上記[12]に記載の担持型触媒を使用することを特徴とする酢酸の製造方法。
[16] エチレンと酸素との反応が気相で行われるものである上記[15]に記載の酢酸の製造方法。
本発明の製造方法で得られる担持型触媒は、特に低級オレフィン(好ましくはエチレン)と酸素とを気相で反応させる低級脂肪族カルボン酸(好ましくは酢酸)の製造用触媒として好適に用いることができる。
第1工程
担体に(a)群化合物の少なくとも1種を含む溶液を含浸させて、含浸担体(A)を得る工程
第2工程
含浸担体(A)を、アルカリ性物質および(b)群化合物と接触させて、含浸担体(B)を得る工程
第3工程
含浸担体(B)を還元性物質と接触させて、担持型触媒(C)を得る工程
なお、本発明方法の各工程内または各工程の前後に別の工程が含まれてもよい。
第1工程
担体に(a)群化合物(例えば、Pdを含む化合物)および(d)群化合物(例えば、AuまたはZnを含む化合物)の溶液を含浸させ、含浸担体(A)を得る工程
第2工程
含浸担体(A)を、アルカリ性物質および(b)群化合物(例えば、Teを含む化合物)と接触させ、含浸担体(B)を得る工程
第3工程
含浸担体(B)を還元性物質(例えば、ヒドラジン)と接触させ、(a)群化合物を還元処理し、担持型触媒(C)を得る工程
第4工程
担持型触媒(C)に(c)ヘテロポリ酸(例えば、ケイタングステン酸)またはその塩を担持する工程
<担体>
本発明の担持型触媒の製造に用いる担体には制限はないが、一般に担体として用いられている多孔質物質が好ましい。具体的にはシリカ、シリカ−アルミナ、珪藻土、モンモリロナイトまたはチタニア等が挙げられる。より好ましくはシリカである。
また、担体の形状には特に制限はない。具体的には、粉末状、球状、ペレット状等が挙げられる。用いられる反応形式、反応器などに対応させ、最適な形状を選択すればよい。
(a)群化合物は、周期表の第8、9および10族元素から選ばれる少なくとも1種の元素を含む化合物である。周期表の第8、9および10族元素とは、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウムおよび白金であるが、パラジウム、白金、ニッケルが好ましく、パラジウムが特に好ましい。
(a)群化合物は、いかなる状態のものでもよい。第8、9、10族元素を含む化合物や元素そのままの状態であっても構わない。すなわち、前記元素が化合物中でイオン性であってもよく、0価のいわゆる金属状態であってもよい。
<アルカリ性物質>
第2工程で用いるアルカリ性物質は、溶液もしくはガスのいずれの形態で供給されてもかまわない。好ましくは、水、アルコールの溶液である。溶質は、アルカリ金属の水酸化物、ケイ酸化合物等であってよく、好ましくは水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムおよび/または水酸化バリウム等である。この工程においては、パラジウム化合物の一部または全部を酸化物または水酸化物に変換することができる。
(b)群化合物は、ガリウム、インジウム、タリウム、ゲルマニウム、スズ、鉛、リン、ヒ素、アンチモン、ビスマス、硫黄、セレン、テルルおよびポロニウムから選ばれる少なくとも1種の元素を含む化合物である。この「少なくとも1種の元素を含む化合物」としては該元素そのもの(金属)、あるいは該元素を含有する塩化物、硝酸塩、酢酸塩、リン酸塩、硫酸塩、酸化物等が挙げられ、さらにアセチルアセトナート、ニトリル等の有機物を配位子に持つ錯体等も挙げられる。
(b)群化合物の具体例としては、亜テルル酸ナトリウム(Na2TeO3)、亜テルル酸カリウム(Ka2TeO3)、テルル酸ナトリウム(Na2TeO4)、テルル酸カリウム(Ka2TeO4)が挙げられる。
第3工程では、含浸担体(B)に還元性物質を接触させて還元処理を施す。
その際、還元処理は、(a)群化合物および(b)群化合物が担体に担持されている状態のものに対して行うことが好ましい。この操作により、(a)群化合物がイオン状態である時点で、(b)群化合物と相互作用を図ることが可能となる。
また、還元処理は、含浸担体(B)に対し、先に(c)ヘテロポリ酸および/またはその塩を担持した後に行っても構わない。すなわち、第4工程と第3工程を入れ替えてもよい。以下に一例を示す。
第2工程 含浸担体(A)をアルカリ性物質と(b)群化合物を含む溶液と接触させ、含浸担体(B)を得る工程
第4工程 含浸担体(B)に、(c)ヘテリポリ酸を含む溶液を含浸させ、担持型触媒(D)を得る工程
第3工程 担持型触媒(D)に、還元処理を行う工程。
液相法で還元処理を行う場合は、その温度に特に制限はないが、含浸担体(B)あるいは担持型触媒(C)を、10〜200℃前後とすることが好ましい。さらに好ましくは、20〜100℃である。
気相法還元処理の処理圧力は、設備の点から0.0〜3.0MPaG(ゲージ圧)であることが実用上有利であるが、特に制限はない。より好ましくは0.1〜1.5MPaG(ゲージ圧)の範囲である。
ガス状還元性物質を含む混合ガスは、標準状態において、空間速度(以下、SVと記す)10〜15000hr-1、特に100〜8000hr-1で触媒と接触させるのが好ましい。
処理形式としては、特に制限はないが、好ましくは耐蝕性を有する反応管に前述の触媒を充填した固定床を採用することが実用上有利である。
<(c)ヘテロポリ酸>
本発明に用いられる(c)ヘテロポリ酸は、ポリ原子としてタングステンまたはモリブデンからなるヘテロポリ酸が好ましい。ヘテロ原子としては、リン、ケイ素、ホウ素、アルミニウム、ゲルマニウム、チタニウム、ジルコニウム、セリウム、コバルト、クロム等が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。好ましくは、リン、ケイ素およびホウ素である。
ヘテロポリ酸の具体例としては、ケイタングステン酸、リンタングステン酸、ケイモリブデン酸、リンモリブデン酸およびホウタングステン酸が挙げられる。好ましくは、下記式で示されるケイタングステン酸、リンタングステン酸、ケイモリブデン酸、リンモリブデン酸である。ポリ酸の構造は、特に限定されるものではないが、ケギン型構造を持つヘテロポリ酸が好ましい。
ケイタングステン酸:H4SiW12O40・nH2O
リンタングステン酸:H3PW12O40・nH2O
ケイモリブデン酸:H4SiMo12O40・nH2O
リンモリブデン酸:H 3 PMo12O40・nH2O
(式中、nは0または1〜40の整数を表す)
触媒性能上好ましいヘテロポリ酸の塩としては、リンタングステン酸のリチウム塩、リンタングステン酸のナトリウム塩、リンタングステン酸の銅塩、ケイタングステン酸のリチウム塩、ケイタングステン酸のナトリウム塩およびケイタングステン酸の銅塩を挙げることができる。
(c)ヘテロポリ酸および/またはそれらの塩の担体への担持工程は第3工程(還元処理)の後が好ましいが、先に述べたように第3工程の前であってもよい。あるいは、第1工程に含めることも可能である。すなわち、第1工程において、(a)群化合物と(c)ヘテロポリ酸および/またはそれらの塩を同時に担持してもよい。さらには、第1工程の前または直後に(a)群化合物とは別に担持してもよい。
(d)群化合物の担持工程の段階については、特に制限はない。例えば、(a)群化合物または(b)群化合物と同時に、または(c)ヘテロポリ酸および/またはその塩と同時に担持してもよいし、独立に担持してもよい。より好ましい担持方法は、(a)群化合物と同時に担持する方法である。
(d)群化合物としては、周期表の第11、12族元素およびクロムを含む化合物であれば特に制限はない。例えば、該元素そのもの(金属状態)、あるいは該元素を含有する塩化物塩、硝酸塩、酢酸塩、リン酸塩、硫酸塩、酸化物等が挙げられ、さらにアセチルアセトナート、ニトリル等の有機物を配位子に持つ錯体等も挙げられる。最も好ましくは、塩化亜鉛、塩化金酸が挙げられる。
本発明の担持型触媒の製造方法で得られる低級脂肪族カルボン酸製造用触媒において、(a)群化合物、(b)群化合物、(c)ヘテロポリ酸(および/またはその塩)、(d)群化合物が担体に保持されている触媒中の(a)、(b)、(c)および(d)の組成は、特に制限はない。好ましくは、担持型触媒全体中における質量%として、(a):(b):(c):(d)=0.5〜5質量%:0.05〜3.0質量%:5〜50質量%:0.05〜3.0質量%であり、特に好ましくは(a):(b):(c)=1.0〜2.5質量%:0.08〜1.0質量%:10〜40質量%:0.08〜1.0質量%である。なお、各化合物群が複数の化合物からなる場合はそれらの合計量を各成分の組成比とする。また、(a)、(b)、(c)、(d)成分以外には、担体その他の成分がある。
かかる供給ガス全量に対して、例えば、エチレンは5〜80容量%、好ましくは8〜50容量%の割合となる量で、また酸素は1〜15容量%、好ましくは3〜12容量%の割合となる量で反応系に供給される。
反応混合ガスは、標準状態において、SV=10〜15000h−1、特に300〜8000h−1で触媒に通されるのが好ましい。
<担体の前処理>
実施例で用いた全ての担体は、前処理として、110℃、空気下で、4時間乾燥を行ったものである。
実施例で用いた水は、全て脱イオン水である。
<担体>
実施例で用いた担体は、全てシリカ担体[BET比表面積148m2/g、嵩密度405g/l、5mmφ、海源社製]である。
塩化パラジウム酸ナトリウム[Na2PdCl4]の塩酸水溶液(エヌイーケムキャット株式会社製)
ケイタングステン酸26水和物[H4SiW12O40・26H2O](日本無機化学工業株式会社製)
塩化亜鉛[ZnCl2](和光純薬製)
塩化金酸[HAuCl4・4H2O](和光純薬製)
メタケイ酸ナトリウム9水和物[Na2SiO3・9H2O](和光純薬製)
亜テルル酸ナトリウム[Na2TeO3](和光純薬製)
ヒドラジン1水和物[N2H4・H2O](和光純薬製)
ケイタングステン酸26水和物(日本無機化学工業製)
リンモリブデン酸30水和物(日本無機化学工業製)
20.24質量%に調整した塩化パラジウム酸ナトリウム溶液:2.47g、4.5質量%に調整した塩化亜鉛水溶液:1.3g、10質量%に調整した塩化金酸水溶液4.0gを混合し、イオン交換水でメスアップし、水溶液20mlを調製した(A−1溶液)。このA溶液をシリカ担体(50g)に含浸させ、全量吸収させた。次に、メタケイ酸ナトリウム9水和物:8.0gと亜テルル酸ナトリウム:200mgを、90mlの水に溶解して得た水溶液(B−1)をシリカ担体に含浸させ、室温で20時間静置した。その後、さらにヒドラジン1水和物:6.5gを添加し、緩やかに攪拌した後、室温で4時間静置した。触媒を濾取後、ストップコック付きのガラスカラムに移し、40時間純水を流通させて洗浄した。次いで、空気気流下、110℃で4時間乾燥し、含浸担体を得た。
20.24質量%に調整した塩化パラジウム酸ナトリウム溶液:2.47g、4.5質量%に調整した塩化亜鉛水溶液:1.3g、10質量%に調整した塩化金酸水溶液:4.0gを混合し、イオン交換水でメスアップし、水溶液20mlを調製した(A−2溶液)。このA−2溶液をシリカ担体(50g)に含浸させ、全量吸収させた。次に、メタケイ酸ナトリウム9水和物:8.0gを、90mlの水に溶解して得た水溶液(B−2)をシリカ担体に含浸させ、室温で20時間静置した。その後、さらにヒドラジン1水和物:6.5gを添加し、緩やかに攪拌した後、室温で4時間静置した。触媒を濾取後、ストップコック付きのガラスカラムに移し、40時間純水を流通させて洗浄した。次いで、空気気流下、110℃で4時間乾燥し、含浸担体(A−2)を得た。
さらに、ケイタングステン酸26水和物:20.7gを均一水溶液とし、45mlにメスアップした(D−2溶液)。このD−2溶液を、先に調製した含浸担体(B−2)に含浸させ、全量吸収させた。次いで、空気気流下に、110℃で4時間乾燥することで、酢酸製造用触媒2を得た。
実施例1で用いたC−1溶液の代わりにケイタングステン酸26水和物:20.7gおよびリンモリブデン酸30水和物:0.13g(合計20.83g)を均一水溶液とし、45mlにメスアップした溶液(C−3溶液)を用いた以外は実施例1と同様にして触媒の調製を行い、酢酸製造用触媒3を得た。
比較例1で用いたD−2溶液の代わりにケイタングステン酸26水和物:20.7gおよびリンモリブデン酸30水和物:0.13g(合計20.83g)を均一水溶液とし、45mlにメスアップした溶液(D−3溶液)を用いた以外は比較例1と同様にして触媒の調製を行い、酢酸製造用触媒4を得た。
実施例1で得た酢酸製造用触媒1および比較例1で得た酢酸製造用触媒2のそれぞれ5mlを、11mlのシリカで均一に希釈した後、SUS316L製反応管(内径25mm)に充填し、触媒層の反応ピーク温度200℃、反応圧力0.8MPaG(ゲージ圧)で、エチレン:酸素:水:窒素の容量比=10:6:25:59の割合で混合したガスを、空間速度9000h-1にて導入して、エチレンと酸素から酢酸を得る反応を行った。
触媒の活性度を、時間当たりの触媒体積(リットル)当たりで製造された酢酸の質量(空間時間収率:STY、単位:g/hLcat)として計算した。二酸化炭素選択率は、以下の算出式によって求めた。
実施例2および比較例1、2で得た酢酸製造用触媒3、4、2のそれぞれ50mlを、150mlのシリカで均一に希釈した後、SUS316L製反応管(内径27mm)に充填し、触媒層の反応ピーク温度210℃、反応圧力0.68MPaG(ゲージ圧)で、エチレン:酸素:水:窒素の容量比=10:6:25:59の割合で混合したガスを、空間速度4000h-1にて導入して、エチレンと酸素から酢酸を得る反応を行った。
Claims (9)
- 以下の工程
第1工程
担体に(a)周期表の第8、9および10族元素から選ばれる少なくとも1種の元素を含む化合物(以下、(a)群化合物という)の少なくとも1種を含む溶液を含浸させて、含浸担体(A)を得る工程
第2工程
含浸担体(A)を、アルカリ性物質および(b)ガリウム、インジウム、タリウム、ゲルマニウム、スズ、鉛、リン、ヒ素、アンチモン、ビスマス、硫黄、セレン、テルルおよびポロニウムから選ばれる少なくとも1種の元素を含む化合物(以下、(b)群化合物という)と接触させて、含浸担体(B)を得る工程(ただし、アルカリ性物質と(b)群化合物は含浸担体(A)と同時に接触させても、別々に接触させてもよい)
第3工程
含浸担体(B)を還元性物質と接触させて、担持型触媒(C)を得る工程
をその順で含み、さらに(c)ヘテロポリ酸および/またはその塩から選ばれる少なくとも1種の化合物を担体に担持させる工程を含むことを特徴とする担持型触媒の製造方法。 - さらに(d)周期表の第11および12族元素およびクロムから選ばれる少なくとも1種の元素を含む化合物(以下、(d)群化合物という)の少なくとも1種を担体と接触させる工程を含む請求項1に記載の担持型触媒の製造方法。
- (a)群化合物が、ルテニウム、オスミウム、ロジウム、イリジウム、パラジウムおよび白金から選ばれる少なくとも1種の元素を含む化合物である請求項1または2に記載の担持型触媒の製造方法。
- (b)群化合物が、ガリウム、ゲルマニウム、スズ、鉛、ビスマス、セレンおよびテルルから選ばれる少なくとも1種の元素を含む化合物である請求項1〜3のいずれかに記載の担持型触媒の製造方法。
- (c)ヘテロポリ酸および/またはその塩のポリ原子がタングステンおよび/またはモリブデンである請求項1〜4のいずれかに記載の担持型触媒の製造方法。
- (c)ヘテロポリ酸および/またはその塩のヘテロ原子がリン、ケイ素およびホウ素から選ばれる少なくとも1種の元素である請求項1〜5のいずれかに記載の担持型触媒の製造方法。
- (c)ヘテロポリ酸および/またはその塩がケイタングステン酸、リンタングステン酸、ケイモリブデン酸、リンモリブデン酸およびそれらの塩から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜6のいずれかに記載の担持型触媒の製造方法。
- (d)群化合物の第11および12族元素が銅、銀、金および亜鉛から選ばれる元素である請求項2に記載の担持型触媒の製造方法。
- 担持型触媒がエチレンと酸素から酢酸を得る反応に使用するものである請求項1〜8のいずれかに記載の担持型触媒の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005351889A JP5062993B2 (ja) | 2005-01-18 | 2005-12-06 | 担持型触媒の製造およびその使用 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005010229 | 2005-01-18 | ||
JP2005010229 | 2005-01-18 | ||
JP2005351889A JP5062993B2 (ja) | 2005-01-18 | 2005-12-06 | 担持型触媒の製造およびその使用 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006224091A JP2006224091A (ja) | 2006-08-31 |
JP2006224091A5 JP2006224091A5 (ja) | 2008-07-24 |
JP5062993B2 true JP5062993B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=36985905
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005351889A Expired - Fee Related JP5062993B2 (ja) | 2005-01-18 | 2005-12-06 | 担持型触媒の製造およびその使用 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5062993B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4859742B2 (ja) * | 2006-06-13 | 2012-01-25 | 昭和電工株式会社 | 酢酸製造用担持型触媒の製造方法 |
JP5247081B2 (ja) * | 2007-07-25 | 2013-07-24 | 三菱レイヨン株式会社 | α,β−不飽和カルボン酸の製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3556397B2 (ja) * | 1996-07-18 | 2004-08-18 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | カルボン酸エステル製造用触媒の改良製法 |
JP3637774B2 (ja) * | 1998-06-11 | 2005-04-13 | 昭和電工株式会社 | 酢酸製造用触媒、該触媒の製造方法、及び該触媒を用いた酢酸の製造方法 |
JP4258199B2 (ja) * | 2002-10-01 | 2009-04-30 | 昭和電工株式会社 | 酢酸製造用触媒の製造方法 |
-
2005
- 2005-12-06 JP JP2005351889A patent/JP5062993B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006224091A (ja) | 2006-08-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3803254B2 (ja) | 酢酸又は酢酸及び酢酸エチル製造用触媒、その製造方法並びにそれを用いた酢酸又は酢酸及び酢酸エチルの製造方法 | |
JP4969501B2 (ja) | 酢酸アリル製造用触媒の製造方法 | |
JPH0789896A (ja) | 酢酸の製造方法 | |
JP6366841B2 (ja) | 酢酸アリルの製造方法 | |
KR101017905B1 (ko) | 아세트산 제조용 담지촉매의 제조방법 | |
JP3748820B2 (ja) | 酢酸製造用触媒、その製造方法及びそれを用いた酢酸の製造方法 | |
JP5062993B2 (ja) | 担持型触媒の製造およびその使用 | |
US20070173663A1 (en) | Production and use of supported catalysts | |
JP3232971B2 (ja) | 酢酸製造用触媒、該触媒の製造方法及び該触媒を用いた酢酸の製造方法 | |
JP4488834B2 (ja) | 酢酸製造用触媒の製造方法 | |
JP4859742B2 (ja) | 酢酸製造用担持型触媒の製造方法 | |
JP4258199B2 (ja) | 酢酸製造用触媒の製造方法 | |
JP2021030127A (ja) | 酢酸アリル製造用触媒の製造方法 | |
JP2009220099A (ja) | 低級脂肪族カルボン酸製造用触媒の製造方法 | |
JP4218122B2 (ja) | 酢酸製造用触媒の製造方法、及び該触媒を用いた酢酸の製造方法 | |
US6706919B1 (en) | Catalyst for use in producing acetic acid, process for producing the catalyst, and process for producing acetic acid using the catalyst | |
US20060234859A1 (en) | Process for producing catalyst for production of acetic acid, catalyst for production of acetic acid obtained by the production process and process for producing acetic acid using the catalyst | |
JP4679202B2 (ja) | 含酸素化合物製造用触媒、該触媒の製造方法および該触媒を用いた含酸素化合物の製造方法 | |
JP2021037429A (ja) | 酢酸アルケニル製造用触媒の選択方法 | |
JP2003212824A (ja) | 酢酸ビニルの製造方法及び該製造方法により製造された酢酸ビニル | |
JP2003277320A (ja) | 酢酸アリルの製造方法及び該製造方法により製造された酢酸アリル | |
JP2010247104A (ja) | 酢酸アルケニル製造用触媒の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080611 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080611 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100408 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120106 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120327 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120412 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120529 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120615 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120710 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120807 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5062993 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150817 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |